JP2005076610A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. 軟質基材に硬質粒子を分散させた軟質材料と表面が軟質基材リッチである傾斜層により摺動部材を構成するとともに、前記摺動部材における少なくとも摺動面部分の前記硬質粒子を前記摺動面部分以外の部分よりも多く分布させたことを特徴とするスクロール圧縮機。
2. 軟質基材に硬質粒子を分散させた軟質材料と表面が軟質基材リッチである傾斜層により旋回スクロールを構成するとともに、前記旋回スクロールの羽根における少なくとも先端部の前記硬質粒子を前記先端部以外の部分よりも多く分布させたことを特徴とするスクロール圧縮機。
3. 摺動部材または旋回スクロールが軟質材料を用いた鋳造品であり、前記摺動部材の摺動面または前記旋回スクロールの羽根の先端部が、表面研磨を施して硬質粒子が露出されていることにより、前記硬質粒子が他の部分に比較して多く分布されている請求項１に記載の圧縮機または請求項２に記載のスクロール圧縮機。
4. 旋回スクロールの羽根の先端部は、研削、バレル、バフまたは流体による機械的研磨あるいはエッチングなどによる化学的研磨が施されて、硬質粒子が他の部分に比較して多く露出されている請求項３に記載のスクロール圧縮機。
5. 軟質基材としてアルミニウムを用いた請求項２ないし４の何れかに記載のスクロール圧縮機。
6. 軟質材料は、硬質粒子としてのシリコンを軟質基材としてのアルミニウムに分散させたアルミニウム−シリコン系合金である請求項２ないし５の何れかに記載のスクロール圧縮機。
7. 硬質粒子としてのシリコンは共晶シリコンまたは初晶シリコンである請求項６に記載のスクロール圧縮機。
8. 旋回スクロールの羽根の先端部でシリコンが面積率で４．７％以上に設定して露出されている請求項６または７に記載のスクロール圧縮機。
9. 旋回スクロールの羽根先端部は、加速電圧を１５ｋＶに設定して電子ビームを所定深さまで入射させ、且つサンプリング電流を１０ｎＡに設定して電子ビーム径を絞ったときの所定面積における電子プローブマイクロアナライザでの測定結果の平均シリコン強度が１７カウント以上になるように設定して研磨されている請求項４ないし８の何れかに記載のスクロール圧縮機。
10. 軟質材料は鉄系材料である請求項２ないし４の何れかに記載のスクロール圧縮機。
11. 軟質材料はマグネシウム系材料である請求項２ないし４の何れかに記載のスクロール圧縮機。
12. 軟質材料は樹脂系材料である請求項２ないし４の何れかに記載のスクロール圧縮機。