JP2005022960A - 非酸化物系粒子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】気相中で連続的に粒状物質を製造する方法であって、原料を還元、窒化又は炭化反応させることにより窒化物、酸窒化物又は炭化物を製造するプロセスにおいて、還元、窒化又は炭化反応の自由エネルギーを下げるために、これらの製造温度で正の標準生成自由エネルギーを有する炭化水素系ガス、アンモニア、水素、窒素のいずれかのガス状物質をそれらの反応場へ添加することを特徴とする窒化物、酸窒化物又は炭化物から成る非酸化物系粒子の製造方法。
【選択図】図2
Description
更に、高精度な雰囲気調整と、減圧状態が可能な真空容器が必須であり、高コストを招く(実際問題として産業界に現在普及していない)新規な設備導入が不可避であることに加え、ラジカルを発生させたプラズマの保持には、例えば、膨大な冷却水(毎分数100リッター等)を必要とし、ランニングコストの突出は避けられない。このため、この方法を用いた製造現場では、非酸化物が製造可能であり、しかも、非減圧状態(大気圧状態)で運転可能であり、易操作性の製造方法の確立が切望されていた。
(1)気相中で連続的に粒状物質を製造する方法であって、原料を還元、窒化又は炭化反応させることにより窒化物、酸窒化物又は炭化物を製造するプロセスにおいて、還元、窒化又は炭化反応の自由エネルギーを下げるために、これらの製造温度で正の標準生成自由エネルギーを有する炭化水素系ガス、アンモニア、水素、窒素のいずれかのガス状物質をそれらの反応場へ添加することを特徴とする窒化物、酸窒化物又は炭化物から成る非酸化物系粒子の製造方法。
(2)製造温度で正の標準生成自由エネルギーを有する炭化水素系ガス、アンモニア、水素、窒素のいずれかのガス状物質を予め製造し、添加することを特徴とする前記(1)記載の製造方法。
(3)500〜10000℃の温度を与えたガス状物質を製造し、添加することを特徴とする前記(1)又は(2)に記載の製造方法。
(4)原料を窒化物、酸窒化物又は炭化物の反応場へ落下せしめることを特徴とする前記(1)から(3)のいずれかに記載の製造方法。
(5)平均粒子径1〜500ミクロン、及び形状が長径/短径比1〜1.5である粒状物質を製造することを特徴とする前記(1)から(4)のいずれかに記載の製造方法。
(6)前記(1)から(5)のいずれかに記載の製造方法で得られた窒化物、酸窒化物又は炭化物から成る非酸化物系粒状物質。
(7)前記(6)記載の粒状物質を成形したことを特徴とする非酸化物系粒子の成形体。
(8)前記(6)記載の粒状物質を任意に成形し、焼結したことを特徴とする非酸化物系粒子の焼結体。
(9)気相中の連続的な粒状物質の製造法に使用する製造装置であって、製造温度で正の標準生成自由エネルギーを有する炭化水素系ガス、アンモニア、水素、窒素のいずれか又は複数を添加する手段、前記のガス状物質を予め製造し、添加する手段、500〜10000℃の温度を与えた窒化物又は酸窒化物又は炭化物の反応場へ前記のガス状物質を添加する手段、500〜10000℃の温度を与えた前記のガス状物質を予め製造し、添加する手段、原料を窒化物又は酸窒化物又は炭化物の反応場へ落下せしめる手段のうち、いずれかの手段、又は複数の手段の複合から成り、上記炭化水素系ガス、アンモニア、水素、窒素のいずれかを添加して、窒化物又は酸化物又は炭化物から成る非酸化物系粒子を製造するための機能を有することを特徴とする非酸化物系粒子の製造装置。
本発明者らは、非酸化物の反応を熱力学的に再検討した。その結果、ある種のガス状物質を添加した場合に非酸化物の反応性(還元反応)が向上する現象は、非酸化物を製造する温度で、そのガス状物質が正の標準生成自由エネルギーを持つために、非酸化物生成反応に必要な自由エネルギーを小さくできることが原因であることを熱力学的に明らかにした。しかも、酸化物生成反応に必要な自由エネルギーは、上記の非酸化物生成反応より小さい場合が多いのが一般的であるが、非酸化物を製造する温度で正の標準生成自由エネルギーを持つガス状物質を添加した反応の自由エネルギーは、(非酸化物生成反応だけではなく)酸化物生成反応よりも小さくなる場合があることもわかった。更に、この反応機構は、原理的に、酸化物の還元(原料から酸素元素を解離)だけに限定されるものではなく、窒化(原料と窒素元素を反応)や、大粒径の原料でも反応が可能であったり(還元や窒化反応性が向上されるため)、電気炉中のバッチ処理に比べて本質的に反応時間の短い気相中の連続製法でも反応を駆動し得る可能性を持つこと(上記のガス状物質による自励的な反応を利用し、熱エネルギーの効率的利用が可能な内部加熱方式で構成できるため)、に着目した。
2Al+N2 →2AlN (1)
NH3 によるAlの窒化反応は次式による;
2Al+2NH3 →2AlN+3H2 (2)
一方、大気圧下など酸素が存在する場合、金属Alは容易に次式の酸化反応が起こる;
4Al+3O2 →2Al2 O3 (3)
(3)式の酸化反応を起こさずに、(1)式や(2)式の反応を進行させるには、非酸化雰囲気に保持、十分な高温、水素(H2 )分圧を平衡分圧以下に保つ等の制御を要する。
2Al+2NH3 +C2 H2 +O2 →2AlN+2CO+4H2 (4)
又は、
14Al+2NH3 +2C2 H2 +11O2 →2Al7 O9 N+4CO+5H2
(5)
に従う、Al−C2 H2 −NH3 系の窒化アルミニウム(AlN)又は酸窒化アルミニウム(ここではAl7 O9 N)の生成反応の標準生成自由エネルギーは、工業化されている窒化反応で一般的な1000K(727℃)〜1800K(1527℃)の温度範囲において、十分大きな負の値をとる。これは、反応式の左辺に位置するC2 H2 とNH3 が、上記温度範囲で正の標準生成自由エネルギーを持っているためである。(1)式や(2)式に比べ、(4)式や(5)式の反応は、(3)式の反応を起こさずに、比較的容易な制御条件で駆動させることが見込める。以上の反応の自由エネルギー変化と温度との関係(エリンガム線図)を図2に整理した(なお、各元素や化合物等の標準生成自由エネルギーは、JANAF熱化学表等から引用した)。また、酸窒化アルミニウムは、それを生成物として使用する他、次式によりAlNに変換して用いることも可能である;
Al7 O9 N+9C+3N2 →7AlN+9CO (6)
次式;
2Al+2NH3 +2C3 H8 +3O2→2AlN+6CO+11H2
(7)
又は、
14Al+2NH3 +2C3 H8 +12O2 →2Al7 O9 N+6CO+12H2
(8)
に従う、Al−C3 H8 −NH3 系の窒化アルミニウム(AlN)又は酸窒化アルミニウム(ここではAl7 O9 N)の生成反応の標準生成自由エネルギーは、工業化されている窒化反応で一般的な1000K(727℃)〜1800K(1527℃)の温度範囲において、極めて大きな負の値をとる。これは、反応式の左辺に位置するC3 H8 とNH3 が、上記温度範囲で標準生成自由エネルギーが正の値となる性質を持っているためである。なお、反応の自由エネルギー変化と温度との関係(エリンガム線図)を図3に整理した。
Al2 O3 +3C+N2 →2AlN+3CO (9)
NH3 によるAl2 O3 の窒化反応は次式による;
Al2 O3 +2NH3 →2AlN+3H2 O (10)
(9)式や(10)式の反応を進行させるには、十分な高温、水蒸気(H2 O)分圧を平衡分圧以下に保つ等、高度な制御を要する。
2Al2 O3 +4NH3 +3C2 H2 →4AlN+6CO+9H2 (11)
又は、
14Al2 O3 +4NH3 +3C2 H2 →4Al7 O9 N+6CO+9H2
(12)
に従う、Al2 O3 −C2 H2 −NH3 系の窒化アルミニウム(AlN)又は酸窒化アルミニウム(ここではAl7 O9 N)の生成反応の標準生成自由エネルギーは、工業化されている窒化反応で一般的な1000K(727℃)〜1800K(1527℃)の温度範囲において、極めて大きな負の値をとる。これは、反応式の左辺に位置するC2 H2 とNH3 が、上記温度範囲で標準生成自由エネルギーが正の値となる性質を持っているためである。なお、反応の自由エネルギー変化と温度との関係(エリンガム線図)を図4に整理した。
次式;
Al2 O3 +2NH3 +C3 H8 =2AlN+3CO+7H2 (13)
又は、
7Al2 O3 +2NH3 +C2 H2 →2Al7 O9 N+3CO+7H2 (14)
に従う、Al2 O3 −C3 H8 −NH3 系の窒化アルミニウム(AlN)又は酸窒化アルミニウム(ここではAl7 O9 N)の生成反応の標準生成自由エネルギーは、工業化されている窒化反応で一般的な1000K(727℃)〜1800K(1527℃)の温度範囲において、極めて大きな負の値をとる。これは、反応式の左辺に位置するC3 H8 とNH3 が、上記温度範囲で標準生成自由エネルギーが正の値となる性質を持っているためである。なお、反応の自由エネルギー変化と温度との関係(エリンガム線図)を図5に整理した。
3Si+2N2 →Si3 N4 (15)
NH3 によるSiの窒化反応は次式による;
3Si+4NH3 →Si3 N4 +6H2 (16)
一方、大気圧下など酸素が存在する場合、金属Siは容易に次式の酸化反応が起こる;
Si+O2 →SiO2 (17)
(17)式の酸化反応を起こさずに、(15)式や(16)式の反応を進行させるには、非酸化雰囲気に保持、十分な高温、水素(H2 )分圧を平衡分圧以下に保つ等、高度な制御を要する。
3Si+4NH3 +C2 H2 +O2 →Si3 N4 +2CO+7H2 (18)
に従う、Si−C2 H2 −NH3 系の窒化ケイ素(Si3 N4 )の生成反応の標準生成自由エネルギーは、工業化されている窒化反応で一般的な1000K(727℃)〜1800K(1527℃)の温度範囲において、負の値をとるものの、(17)式の酸化反応には適わない。これは、反応式の左辺に位置するC2 H2 とNH3 が、上記温度範囲で標準生成自由エネルギーが正の値となる性質を持っているものの、不足であったためである。なお、反応の自由エネルギー変化と温度との関係(エリンガム線図)を図6に整理した
次式;
3Si+4NH3 +2C3 H8 +3O2 →Si3 N4 +6CO+14H2(19)
に従う、Si−C3 H8 −NH3 系の窒化ケイ素(Si3 N4 )の生成反応の標準生成自由エネルギーは、工業化されている窒化反応で一般的な1000K(727℃)〜1800K(1527℃)の温度範囲において、極めて大きな負の値をとる。これは、反応式の左辺に位置するC3 H8 とNH3 が、上記温度範囲で標準生成自由エネルギーが正の値となる性質を持っているためである。なお、反応の自由エネルギー変化と温度との関係(エリンガム線図)を図7に整理した。
3SiO2 +6C+2N2 →Si3 N4 +6CO (20)
NH3 によるSiO2 の窒化反応は次式による;
3SiO2 +4NH3 →Si3 N4 +6H2 O (21)
(20)式や(21)式の反応を進行させるには、非酸化雰囲気に保持、十分な高温、水蒸気(H2 O)分圧を平衡分圧以下に保つ等、高度な制御を要する。
3SiO2 +4NH3 +3C2 H2 →Si3 N4 +6CO+9H2 (22)
に従う、SiO2 −C2 H2 −NH3 系の窒化ケイ素(Si3 N4 )の生成反応の標準生成自由エネルギーは、工業化されている窒化反応で一般的な1000K(727℃)〜1800K(1527℃)の温度範囲において、極めて大きな負の値をとる。これは、反応式の左辺に位置するC2 H2 とNH3 が、上記温度範囲で標準生成自由エネルギーが正の値となる性質を持っているためである。なお、反応の自由エネルギー変化と温度との関係(エリンガム線図)を図8に整理した。
次式;
3SiO2 +4NH3 +2C3 H8 →Si3 N4 +6CO+14H2 (23)
に従う、SiO2 −C3 H8 −NH3系の窒化ケイ素(Si3 N4 )の生成反応の標準生成自由エネルギーは、工業化されている窒化反応で一般的な1000K(727℃)〜1800K(1527℃)の温度範囲において、極めて大きな負の値をとる。これは、反応式の左辺に位置するC3 H8 とNH3 が、上記温度範囲で標準生成自由エネルギーが正の値となる性質を持っているためである。なお、反応の自由エネルギー変化と温度との関係(エリンガム線図)を図9に整理した。
代表的な非酸化物として、窒化アルミニウム(AlN)系又は酸窒化アルミニウムを用いて、以下の実施例を展開した。
反応器は、アルミナ反応管とステンレス製二重円筒管とした。ガス状物質の供給部はスパッド型とし、ガス混合の際のデッドゾーンの減少を図った。ステンレス製二重円筒管の外管へC2 H2 を供給し、内管へ原料及び反応ガス系とを搬送した。原料のAlは、工業化優位性と生産性を考慮し、液状ではなく粒状物質を用いた。そこで、凝集等による搬送や反応の不均一性低減のため、供給装置として、流動層式の気相状態の粒状物質(エアロゾル)発生装置を用いた。流動化は、媒体流動層法とし、直径150ミクロンのガラスビーズを媒体として使用した。反応管中の雰囲気制御を厳密に行い、気相反応により、粒状の生成物を得た。捕集はテフロン(登録商標)フィルターを通してポンプ引きし、有害ガスなどをトラップ除去する構成を採用した。Al原料は、平均粒子径・約3ミクロンのガスアトマイズ法による球状粒子を用いた。Alは、窒化原料兼用の窒素ガスにより、1分当たり3リッターで搬送した。C2 H2 は、1分当たり4リッターで供給した。また酸素(O2 )を、C2 H2 との化学量論比〜還元側で調節した。更にNH3 を、上記のように反応場の中央より、1分当たり0リッター〜3リッターまで調整して供給した。
本実施例の生成物のX線分析結果を、図11−aと図11−bに示す。図11−aは、NH3 を反応場の中央より1分当たり3リッターで供給した場合の粒状生成物のX線ピークを表す。NH3 を反応場の中央より添加した場合、ほとんどが原料であるAlのピークであり、酸窒化アルミニウムのピークも見られるものの、非常に少ない。図11−bは、NH3 無添加の場合の粒状生成物のX線ピークである。化学量論的には窒化源が不足であるにも関わらず、むしろNH3 無添加の場合の方が、目的生成物である酸窒化アルミニウムのピークが大きい。この結果は、本発明の窒化反応が、上記の(5)式で示した「気相中でのAl粒子内への窒化成分の拡散(及びその気相反応)」を主反応としていることを表している。一方、「Al粒子表面から発生した蒸気と窒化成分ガスとの気相中での反応」は、無くはないとしても、主反応ではない。図12に、2つの窒化反応の違いを模式的に示した。本発明の窒化反応が、前者(粒子中拡散・反応=図12−a)の寄与が大きいことは、もしも後者(気相中反応=図12−b)の寄与が大きいならば、先にAl粒子から十分に蒸気を発生させ、その後、反応場の中央(反応の最も効率的な場所)へNH3 を供給するほうが、反応の効率化に寄与するはず、という思考実験からも推察できる。
即ち、「Al粒子表面から発生した蒸気」を主原料とするということは、Al粒子表面にも窒化アルミニウム層が形成されることを意味しており、未反応のAl層が内部に残存してしまう(図12−b)。その結果、(1)完全な反応のためには0.1〜0.2ミクロンの粒子径が限界で、それ以上の大粒径は製造できない、(2)原料である金属粒子は下から上へ送ることが、反応性向上のためには必要とされる、(3)大粒径の原料粒子はその表面からの発生成分のみを利用し、残りは燃えカスとして自然落下され、本質的に低生産性な「原料の上昇供給」に限定される、という問題点が発生する(例えば、特許文献2参照)。原料を100%利用できず、燃えカスが本質的な製法であるということは、工業的製法と
して限界がある。
(1)方法
実施例1とほぼ同様に実施した。但し、NH3 を1分当たり3リッターに調整し、非酸化物の原料やC2 H2 と先に混合してから、供給した。
本実施例の生成物のX線分析結果を、図11−cに示す。化学量論的な組成制御の通り、酸窒化アルミニウム単相の粒状生成物が得られた。次に、生成物の形状を確認するため、走査型電子顕微鏡写真を、図13−dに示す。比較のため、市販されている酸窒化アルミニウムの走査型電子顕微鏡写真を、図13−aに示した。また、顕微鏡写真は生成物の一部の情報に留まる危険性があるため、これを補償する目的で、光回折/散乱法による粒子径分布測定、及びBET3点法による比表面積測定を行った(図14)。原料のAl粒子との粒子径変化を確認するため、図14中には、原料Alの粒子径分布を示した。その結果、原料粒子の平均径は7.4ミクロン、比表面積は0.47m2 /gに対し、本発明の非酸化物系粒子(ここでは、酸窒化アルミニウム)は、7.7ミクロン、0.88m2/gであった。
(1)方法
実施例2とほぼ同様に実施した。但し、実施例2に付加する連続処理型・熱処理炉(図2−g)の条件として、窒素ガスを1分当たり0.5リッターで流し、炉温1400℃とした。
本実施例の生成物のX線分析結果を、図11−dに示す。窒化アルミニウム単相の粒状生成物が得られた。次に、生成物の形状を確認するため、走査型電子顕微鏡写真を、図13−eに示す。比較のため、市販されている窒化アルミニウムの走査型電子顕微鏡写真を、図13−bに示した。但し、市販粒子は、本発明で目的とする1ミクロン以上の平均粒子径を持つものの中から代表例を選んだ。この場合、還元窒化法や気相反応法による市販粒子は、一般的に、その1次粒子サイズが小さく、目的に合致し難い。ここでは、直接窒化法による市販粒子を示した。
(1)図1―aの製造装置例
図1―aは、原料の自励的な反応を利用する場合の装置の構成を具現化したものに相当し、製造温度で正の標準生成自由エネルギーを有する炭化水素系ガス、アンモニア、水素、窒素のいずれか又は複数を添加する手段を用いる場合で、最も基本的な製造装置例を示す。
図1―bは、還元又は窒化用のガス状物質の供給装置を併用する場合の装置の構成を具現化したものに相当する。より具体的な製造装置例として、ガス状物質の製造・供給装置(20)にプラズマ発生装置を用いることで、前記のガス状物質をプラズマで予め製造し、添加する手段を用いる場合、などが例示される。
図1―cは、外部加熱装置を併用し、それを同時加熱方式で用いる場合の装置の構成を具現化したものに相当する。より具体的な製造装置例として、外部加熱装置(13)に電気炉を用いることで、500〜10000℃の温度を与えた窒化物又は酸窒化物又は炭化物の反応場へ前記のガス状物質を添加する手段を用いる場合、などが例示される。
図1―dは、還元又は窒化用ガス状物質発生装置を併用し、それに更に、外部加熱装置を併用した場合の装置の構成を具現化したものに相当する。より具体的な製造装置例として、ガス状物質の製造・供給装置(20)の外部加熱装置(21)に電気炉を用いることで、500〜10000℃の温度を与えた前記のガス状物質を予め製造し、添加する手段を用いる場合、などが例示される。
図1―eは、外部加熱装置を併用し、それを同時加熱方式で用い、更に、還元又は窒化用ガス状物質発生装置を併用した場合の装置の構成を具現化したものに相当する。より具体的な製造装置例として、ガス状物質の製造・供給装置(20)にプラズマ発生装置を用い、更に、製造装置の外部加熱装置(13)に電気炉を用いることで、500〜10000℃の温度を与えた窒化物又は酸窒化物又は炭化物の反応場へ前記のガス状物質を添加する手段、及び、前記のガス状物質をプラズマで予め製造し、添加する手段を用いる場合、などが例示される。
図1―fは、外部加熱装置を併用し、それを同時加熱方式で用い、更に、還元又は窒化用ガス状物質発生装置(それにも外部加熱装置を併用)を併用した場合の装置の構成を具現化したものに相当する。より具体的な製造装置例として、外部加熱装置(13)に電気炉を用い、更に、ガス状物質の製造・供給装置(20)にプラズマ発生装置を用い、更に、ガス状物質の製造・供給装置の外部加熱装置(21)に電気炉を用いることで、500〜10000℃の温度を与えた窒化物又は酸窒化物又は炭化物の反応場へ前記のガス状物質を添加する手段、及び、500〜10000℃の温度を与えた前記のガス状物質を予め製造し、添加する手段を用いる場合、などが例示される。
図1−gは、外部加熱装置を併用し、それを連続加熱方式で用いる場合の装置の構成を具現化したものに相当する。より具体的な製造装置例として、外部加熱装置(31)に電気炉を用いることで、製造温度で正の標準生成自由エネルギーを有する炭化水素系ガス、アンモニア、水素、窒素のいずれか又は複数を添加する手段、及び、500〜10000℃の温度を与えた窒化物又は酸窒化物又は炭化物の反応場へ原料を落下せしめる手段を用いる場合、などが例示される。
図1−hは、外部加熱装置を併用し、それを連続加熱方式で用い、更に、還元又は窒化用ガス状物質発生装置を併用した場合の装置の構成を具現化したものに相当する。より具体的な製造装置例として、外部加熱装置(31)に電気炉を用い、更に、ガス状物質の製造・供給装置(20)にプラズマ発生装置を用いることで、製造温度で正の標準生成自由エネルギーを有する炭化水素系ガス、アンモニア、水素、窒素のいずれか又は複数を添加する手段、及び、前記のガス状物質をプラズマで予め製造し、添加する手段、及び、500〜10000℃の温度を与えた窒化物又は酸窒化物又は炭化物の反応場へ原料を落下せしめる手段を用いる場合、などが例示される。
11 窒化物又は酸窒化物又は炭化物の原料
12 ガス状物質
13 外部加熱装置(同時加熱方式)
14 窒化ガス(アンモニア)添加位置
15 窒化ガス(アンモニア)添加位置
20 ガス状物質製造・供給装置
21 外部加熱装置 (併用型、同時加熱方式)
30 外部加熱装置 (別建て型、連続加熱方式)
31 外部加熱装置 (併用型、同時加熱方式)
40 窒化物又は酸窒化物又は炭化物の原料粒子
41 ガス状物質
42 原料粒子表面から発生した蒸気
43 粒子中への拡散及び反応が主反応
44 生成した粒子状物質(原料粒子が完全に反応しており、電気炉中のバッチ処理を基本とした直接窒化法や還元窒化法と反応駆動原理と同一)
45 原料粒子表面から発生した蒸気との反応が主反応
46 生成した粒子状物質(超微粒子が主な生成物であり、原料粒子は表面のみが目的組成に反応し、内部は未反応の生焼け状態)
Claims (9)
- 気相中の連続的な粒状物質の製法であって、原料を還元又は窒化又は炭化反応させることにより窒化物又は酸窒化物又は炭化物を製造する方法において、還元又は窒化又は炭化反応の自由エネルギーを下げるため、製造温度で正の標準生成自由エネルギーを有する炭化水素系ガス、アンモニア、水素、窒素のいずれかを添加することを特徴とする窒化物又は酸窒化物又は炭化物から成る非酸化物系粒子の製造方法。
- 製造温度で正の標準生成自由エネルギーを有する炭化水素系ガス、アンモニア、水素、窒素のいずれかのガス状物質を予め製造し、添加することを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 500〜10000℃の温度を与えたガス状物質を製造し、添加することを特徴とする請求項1又は2に記載の製造方法。
- 原料を窒化物、酸窒化物又は炭化物の反応場へ落下せしめることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の製造方法。
- 平均粒子径1〜500ミクロン、及び形状が長径/短径比1〜1.5である粒状物質を製造することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の製造方法。
- 請求項1から5のいずれかに記載の製造方法で得られた窒化物、酸窒化物又は炭化物から成る非酸化物系粒状物質。
- 請求項6記載の粒状物質を成形したことを特徴とする非酸化物系粒子の成形体。
- 請求項6記載の粒状物質を任意に成形し、焼結したことを特徴とする非酸化物系粒子の焼結体。
- 気相中の連続的な粒状物質の製造法に使用する製造装置であって、製造温度で正の標準生成自由エネルギーを有する炭化水素系ガス、アンモニア、水素、窒素のいずれか又は複数を添加する手段、前記のガス状物質を予め製造し、添加する手段、500〜10000℃の温度を与えた窒化物又は酸窒化物又は炭化物の反応場へ前記のガス状物質を添加する手段、500〜10000℃の温度を与えた前記のガス状物質を予め製造し、添加する手段、原料を窒化物又は酸窒化物又は炭化物の反応場へ落下せしめる手段のうち、いずれかの手段、又は複数の手段の複合から成り、上記炭化水素系ガス、アンモニア、水素、窒素のいずれかを添加して、窒化物又は酸化物又は炭化物から成る非酸化物系粒子を製造するための機能を有することを特徴とする非酸化物系粒子の製造装置。
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