JP2005019945A - 窒化ガリウム系半導体発光素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、基板上31面に第1導電型クラッド層33、活性層35及び第2導電型クラッド層37を順次に形成する段階(図1(A))と、前記第2導電型クラッド層37の上面に透明電極38を形成する段階(図1(B))と、前記透明電極38の上面に一側領域が開放されたフォトレジスト41を形成する段階(図1(B))と、前記開放された一側領域に該当する前記透明電極38、前記第2導電型クラッド層37及び前記活性層35を除去して前記第1導電型クラッド層33を露出させる段階(図1(C))と、前記フォトレジスト41を除去する段階(図1(D))と、前記透明電極38と前記第2導電型クラッド層37の所定の領域に各々第1及び第2ボンディング電極39a,39bを形成する段階(図1(F))とを含む。
【選択図】図1
Description
こうした窒化ガリウム系化合物半導体結晶はサファイア基板のような絶縁性基板上に成長されることができるので、GaAs系発光素子のように基板の背面に電極を形成することができる。したがって、両電極すべてを結晶成長された半導体層側に形成しなければならない。
33 第1導電型クラッド層
35 活性層
37 第2導電型クラッド層
38 透明電極
39a、39b ボンディング金属
40 パッシべーション層
41、42 フォトレジスト
Claims (8)
- 基板上面に第1導電型クラッド層、活性層、及び第2導電型クラッド層を順次に形成する段階と、
前記第2導電型クラッド層の上面に透明電極を形成する段階と、
前記透明電極の上面に一側領域が開放されたフォトレジストを形成する段階と、
前記開放された一側領域に該当する前記透明電極、前記第2導電型クラッド層、及び前記活性層を除去して前記第1導電型クラッド層を露出させる段階と、
前記フォトレジストを除去する段階と、
前記透明電極と前記第2導電型クラッド層の所定の領域に各々第1及び第2ボンディング電極を形成する段階と、
を有することを特徴とする窒化ガリウム系半導体発光素子の製造方法。 - 前記第1導電型クラッド層を露出させる段階は、前記開放された一側領域に該当する前記透明電極を湿式エッチングする段階と、前記開放された一側領域に該当する前記第1導電型クラッド層及び前記活性層を乾式エッチングする段階とを有することを特徴とする請求項1に記載の窒化ガリウム系半導体発光素子の製造方法。
- 前記透明電極を湿式エッチングする段階は、前記フォトレジスト下部の透明電極が所定の幅でアンダーカットされるよう前記透明電極をオーバーエッチングする段階であることを特徴とする請求項2に記載の窒化ガリウム系半導体発光素子の製造方法。
- 前記透明電極のアンダーカットされる所定の幅は少なくとも3μmであることを特徴とする請求項3に記載の窒化ガリウム系半導体発光素子の製造方法。
- 前記第1及び第2ボンディング電極を形成する段階は、
前記発光構造物の上面全体にパッシべーション層を形成する段階と、
前記パッシべーション層上に第1及び第2電極が形成される領域が開放されたフォトレジストを形成する段階と、
前記開放された領域のパッシベーション層をエッチングして除去する段階と、
前記パッシべーション層が除去された領域に第1及び第2ボンディング電極を形成する段階と、
前記ボンディング電極形成のためのフォトレジストを除去する段階と、
を有することを特徴とする請求項1に記載の窒化ガリウム系半導体発光素子の製造方法。 - 基板上面に形成された第1導電型クラッド層と、前記第1導電型クラッド層の一側領域に順次に形成された活性層、第2導電型クラッド層、及び透明電極を含んだ発光構造物を形成する段階と、
前記発光構造物の上面全体にパッシべーション層を形成する段階と、
前記パッシべーション層上に第1及び第2電極が形成される領域が開放されたフォトレジストを形成する段階と、
前記開放された領域のパッシベーション層をエッチングして除去する段階と、
前記パッシべーション層が除去された領域に第1及び第2ボンディング電極を形成する段階と、
前記フォトレジストを除去する段階と、
を有することを特徴とする窒化ガリウム系半導体発光素子の製造方法。 - 前記第1及び第2ボンディング電極はTi/Al、Cr/Au、Cr/Ni/Au、Cr/Pt/Au、Ti/Al/Ni/Auから成るグループから選ばれた物質から成ることを特徴とする請求項6に記載の窒化ガリウム系半導体発光素子の製造方法。
- 基板の上面に第1導電型クラッド層、活性層、及び第2導電型クラッド層を順次に形成する段階と、
前記第2導電型クラッド層の上面に透明電極を形成する段階と、
前記透明電極の上面に一側領域が開放されたフォトレジストを形成する段階と、
前記開放された一側領域に該当する透明電極、第2導電型クラッド層、及び活性層をエッチングして前記第1導電型クラッド層の一部を露出させる段階と、
前記発光構造物の上面全体にパッシべーション層を形成する段階と、
前記パッシべーション層上に第1及び第2ボンディング電極が形成される領域が開放されたフォトレジストを形成する段階と、
前記開放された領域に該当するパッシベーション層が除去されるようエッチングする段階と、
前記パッシべーション層が除去された領域に第1及び第2ボンディング電極を形成する段階と、
前記フォトレジストを除去する段階と、
を有することを特徴とする窒化ガリウム系半導体発光素子の製造方法。
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