JP2005017978A - ペリクル - Google Patents
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Abstract
【課題】ペリクル内部を短時間で不活性ガスにより置換でき、分解ガスや異物を発生させないペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクルフレーム10に、合成石英ガラスで構成されたペリクル板12が接着され、ペリクルが形成されている。ペリクルフレーム10には、不活性ガスを導入するためのガス導入孔18が形成され、ガス導入孔18にはペリクル内部に不活性ガスを供給するためのガス導入管22が接続されている。このガス導入管22にはハウジング28が設けられ、ここにフィルター24が取り付けられている。
【選択図】 図2
【解決手段】ペリクルフレーム10に、合成石英ガラスで構成されたペリクル板12が接着され、ペリクルが形成されている。ペリクルフレーム10には、不活性ガスを導入するためのガス導入孔18が形成され、ガス導入孔18にはペリクル内部に不活性ガスを供給するためのガス導入管22が接続されている。このガス導入管22にはハウジング28が設けられ、ここにフィルター24が取り付けられている。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は集積回路の製造工程で使用されるフォトマスクまたはレチクル(以下、これらを併せてマスクという)に異物付着防止の目的で装着されるペリクル、特にF2レーザー(波長157nm)等の短波長の光源を用いる光リソグラフィに好適なペリクルに関する。
【0002】
【従来の技術】
集積回路の製造工程で使用される光リソグラフィ工程においては、マスクに付着している塵埃等の異物がウエハ上に転写されることを防止するため、マスクの片面又は両面に異物よけとしてのペリクルが装着される。
【0003】
このペリクルは、平面状のペリクル板(合成石英ガラスなどからなる光線透過性防塵板)またはフッ素樹脂などからなるペリクル膜と、ペリクル板またはペリクル膜をマスクから離隔するために所定の厚みを持つペリクルフレームとからなり、ペリクルフレームの上面にペリクル板またはペリクル膜が接着され、容器状に形成されている。
【0004】
近年、半導体デバイス製造プロセスでは、回路パターンの微細化による高集積化を図るために、光リソグラフィ工程で使用される露光光源の短波長化が進められている。例えば、リソグラフィ用ステッパの光源は、従来のg線(波長436nm、)、i線(波長365nm)から進んでKrFエキシマレーザ(波長248nm)、ArFエキシマレーザ(波長193nm)、F2レーザ(波長157nm)等のより短波長の光源が用いられようとしている。
【0005】
これらの短波長光源、特にF2レーザを使用する場合には、大気中の酸素分子が露光波長である157nmに吸収を持つため、不活性ガス雰囲気中での露光が必要とされる。このため、下記特許文献1には、ペリクルとマスクとで形成される空間(以下、ペリクル内部という)を不活性ガスで置換するために、ペリクルフレームに不活性ガスの導入、排出を行うガス導入孔とガス排出孔とを設ける例が開示されている。
【0006】
ここで、回路パターンの微細化に伴い、マスク上の異物の許容範囲もより厳しくなっているため、導入ガス中の異物を捕捉するために、上記ガス導入孔が設けられたペリクルフレームの内側面もしくは外測面に、ガス導入孔を覆うようにフィルターを接着して使用することが試みられている。このフィルターとしては、例えばフッ素樹脂等からなる厚さ0.1〜0.3mm、捕集効率が0.3μm粒子で99.97%程度のものが使用される。
【0007】
【特許文献1】特開平2001−133961号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来例においては、ペリクルフレームの内側面に、ガス導入孔を覆うように接着されたフィルターにもF2レーザが照射されるので、フィルター材質及び接着剤が分解され、ガスや異物が発生し、レーザ光の透過率の低下及び異物のウエハ上への転写による回路の短絡・断線の発生という問題があった。また、外側面にフィルターを接着する場合においても、露光面に照射する紫外洗浄光によりフィルター材質及び接着剤が分解する。
【0009】
本発明は、上記従来の課題に鑑みなされたものであり、その目的は、ペリクル内部を短時間で不活性ガスにより置換でき、分解ガスや異物を発生させないペリクルを提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、不活性ガスを導入するためのガス導入孔と不活性ガスを排出するためのガス排出孔とを有するペリクルフレームと、ペリクルフレームの一方の開口部に接着されたペリクル板とを備えるペリクルであって、ガス導入孔には、不活性ガスを供給するためのガス導入管が接続され、ガス導入管には、ガス導入孔への接続部より所定距離手前の位置にフィルターが取り付けられていることを特徴とする。
【0011】
上記構成によれば、ガス導入管に取り付けられたフィルターが、ガス導入管のガス導入孔への接続部より所定距離手前に位置しているので、レーザ光が照射されず、フィルター材質及び接着剤が分解されてガスや異物が発生することを防止できる。
【0012】
また、上記ペリクルは、ガス導入孔の表面が平滑化処理されていることを特徴とする。
【0013】
上記構成によれば、ガス導入孔の表面が平滑化処理されることにより、異物の発生を抑制できる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態(以下実施形態という)を、図面に従って説明する。図1には、本発明にかかるペリクルの実施形態の断面図が示される。図1において、石英ガラス等で構成されたペリクルフレーム10に、合成石英ガラスで構成されたペリクル板12(または、フッ素樹脂からなるペリクル膜でも良い)が接着され、ペリクルが形成されている。また、ペリクルフレーム10には、不活性ガスを導入するためのガス導入孔18と不活性ガスを排出するためのガス排出孔20とが形成されており、ペリクル内部を不活性ガスで強制的に置換できる構成となっている。これにより、ペリクル内部を短時間で容易に不活性ガスで置換できる。なお、ペリクルフレーム10は、マスク14に接着剤16により接着されて使用される。
【0015】
図2には、図1に示されたペリクルのガス導入孔18周辺の部分断面図が示される。図2において、ガス導入孔18にはペリクル内部に不活性ガスを供給するためのガス導入管22が接続されており、このガス導入管22には、フィルター24が取り付けられている。フィルター24の取り付け位置は、ガス導入孔18とガス導入管22との接続部26より所定距離手前すなわちペリクルフレーム10からボンベ側に所定距離離れた位置とされている。これにより、マスク14に照射されるF2レーザ等のレーザ光がフィルター24に当たらず、フィルター24の分解によりガスや異物が発生することを防止できる。
【0016】
また、図2に示されるように、フィルター24は、ガス導入管22に設けられたハウジング28に装着される。ハウジング28は、接着剤を使用せずにフィルター24を固定できるように構成されている。例えば、ガス導入管22の内径よりハウジング28の内径を大きくし、ハウジング28の内径とほぼ同じ径のフィルター24をハウジング28に挿入するようにすれば、接着剤を使用せずにフィルター24を固定できる。これにより、フィルター24の取り付けに接着剤を使用する必要がなくなるので、万一レーザ光が当たっても、より分解生成物の発生しにくいフィルターとすることができる。なお、ハウジング28としては、塵埃を発生せず、レーザ光による劣化が生じない材質とするため、ステンレス鋼等の金属、ガラスまたはセラミックス等を使用するのが好適である。
【0017】
上述したフィルター24としては、メンブレンフィルターの他、不織布で構成されたデプスタイプフィルターまたはメンブレンを波状に折り込んだプリーツタイプフィルター等を使用できる。特に、デプスタイプフィルター及びプリーツタイプフィルターを使用した場合には、濾過面積を大きく取れるので、捕捉効率を上げつつ圧力損失を低減することができる。フィルター24の材質は、フッ素樹脂、ポリプロピレン(PP)またはポリエチレン(PE)等が好適である。
【0018】
また、本実施形態にかかるペリクルにおいては、ガス導入孔18の表面が平滑化処理されている。さらに、ペリクルフレーム10の内側面及びフィルター24通過以降のガス導入管22の内側面も平滑化処理されるのが好適である。この平滑化処理は、例えば機械的な研磨加工、電解研磨、化学的なエッチングまたは無機物、特に酸化クロム等の金属酸化物を蒸着法若しくはスパッタ法でコーティングすることにより実施可能である。また、特にペリクルフレーム10が石英ガラス製の場合には、HF等のガラスを浸食する薬液でエッチングすることによっても平滑化処理を実施可能である。さらに、ガス導入孔18をレーザ加工等により形成することによっても、孔の表面を平滑にすることができる。
【0019】
上述したような平滑化処理を実施すると、ガス導入孔18等の表面からマイクロクラックをなくすことができる。これにより、表面の欠落によるカレットの発生及び表面での異物のトラップを防止でき、表面からの発塵を抑制できる。なお、この平滑化処理の実施により、表面粗さがRmaxで10nm以下とするのが好適である。
【0020】
【実施例】
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は本実施例に限定されない。
【0021】
一辺に等間隔に3個のガス導入孔を有し、対向する一辺に等間隔に3個のガス排出孔を有する、外形寸法122mm×142mm、高さ3.2mmの合成石英ガラス製のペリクルフレームに、厚さ0.8mmの合成石英ガラス製のペリクル板を接着したペリクルを準備した。上記各ガス導入孔、ガス排出孔は、エンドミルにより径が1.6mmの孔として開けられ、孔開け加工後にペリクルフレームを0.5%のHF溶液で15分間エッチング処理した後、超純水でリンスし、乾燥した。
【0022】
次に、ペリクルフレームの開放されている(ペリクル板が接着されていない)側に弾性のあるスペーサーを貼り付けた後、マスクブランクス上に載置し、マスクブランクスとスペーサーとの間に隙間が生じないようにクランプして固定した。このマスクブランクスには合成石英ガラス製の基板を使用し、予め十分に洗浄した後、自動欠点検査機(レーザーテック社製M1320)を用いて表面の付着物を計測したものを準備した。
【0023】
次に、SUS製のフィルターハウジングに、0.1μmのパーティクルの捕集効率が99.995%のフィルターを取り付け、電解研磨を行ったSUS製のガス導入管の出口側を上記ペリクルフレームのガス導入孔に接続した。また、ガス排出孔にサンプリング用の管を取り付け、排出されるガス中の酸素濃度を酸素濃度測定機(東レ社製LF750)で測定し、排出ガス内の酸素濃度が10ppmになるまでの時間を計測した。
【0024】
以上のようにして準備したペリクル内部にガスボンベからフィルター付のガス導入管を介して0.2リットル/分の流量で窒素ガスを供給した。
【0025】
排出ガス中の酸素濃度が10ppmになるのに要した時間は、4分20秒であった。この程度の時間で酸素濃度が10ppmまで低下すれば、露光装置内で使用可能なレベルであると判断される。
【0026】
また、その後も同じ流量の窒素ガスを流入しつづけ、12時間経過した後窒素ガスを停止した。ついで、クランプを外し、ペリクルをマスクブランクスから分離し、マスクブランクス上のパーティクルを前述した自動欠点検査機で計測した。この結果、窒素ガスの流入を続けた間のパーティクルの付着量は、1個であることが確認された。この程度のパーティクルの発生であれば、露光装置内で使用可能なレベルであると判断される。
【0027】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ペリクル内部のガス置換が容易で、かつペリクル内部の分解ガスや異物による汚染の少ないF2レーザ露光に最適なペリクルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるペリクルの実施形態の断面図である。
【図2】図1に示された実施形態のガス導入孔周辺の部分断面図である。
【符号の説明】
10 ペリクルフレーム、12 ペリクル板、14 マスク、16 接着剤、18 ガス導入孔、20 ガス排出孔、22 ガス導入管、24 フィルター、26 接続部、28 ハウジング。
【発明の属する技術分野】
本発明は集積回路の製造工程で使用されるフォトマスクまたはレチクル(以下、これらを併せてマスクという)に異物付着防止の目的で装着されるペリクル、特にF2レーザー(波長157nm)等の短波長の光源を用いる光リソグラフィに好適なペリクルに関する。
【0002】
【従来の技術】
集積回路の製造工程で使用される光リソグラフィ工程においては、マスクに付着している塵埃等の異物がウエハ上に転写されることを防止するため、マスクの片面又は両面に異物よけとしてのペリクルが装着される。
【0003】
このペリクルは、平面状のペリクル板(合成石英ガラスなどからなる光線透過性防塵板)またはフッ素樹脂などからなるペリクル膜と、ペリクル板またはペリクル膜をマスクから離隔するために所定の厚みを持つペリクルフレームとからなり、ペリクルフレームの上面にペリクル板またはペリクル膜が接着され、容器状に形成されている。
【0004】
近年、半導体デバイス製造プロセスでは、回路パターンの微細化による高集積化を図るために、光リソグラフィ工程で使用される露光光源の短波長化が進められている。例えば、リソグラフィ用ステッパの光源は、従来のg線(波長436nm、)、i線(波長365nm)から進んでKrFエキシマレーザ(波長248nm)、ArFエキシマレーザ(波長193nm)、F2レーザ(波長157nm)等のより短波長の光源が用いられようとしている。
【0005】
これらの短波長光源、特にF2レーザを使用する場合には、大気中の酸素分子が露光波長である157nmに吸収を持つため、不活性ガス雰囲気中での露光が必要とされる。このため、下記特許文献1には、ペリクルとマスクとで形成される空間(以下、ペリクル内部という)を不活性ガスで置換するために、ペリクルフレームに不活性ガスの導入、排出を行うガス導入孔とガス排出孔とを設ける例が開示されている。
【0006】
ここで、回路パターンの微細化に伴い、マスク上の異物の許容範囲もより厳しくなっているため、導入ガス中の異物を捕捉するために、上記ガス導入孔が設けられたペリクルフレームの内側面もしくは外測面に、ガス導入孔を覆うようにフィルターを接着して使用することが試みられている。このフィルターとしては、例えばフッ素樹脂等からなる厚さ0.1〜0.3mm、捕集効率が0.3μm粒子で99.97%程度のものが使用される。
【0007】
【特許文献1】特開平2001−133961号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来例においては、ペリクルフレームの内側面に、ガス導入孔を覆うように接着されたフィルターにもF2レーザが照射されるので、フィルター材質及び接着剤が分解され、ガスや異物が発生し、レーザ光の透過率の低下及び異物のウエハ上への転写による回路の短絡・断線の発生という問題があった。また、外側面にフィルターを接着する場合においても、露光面に照射する紫外洗浄光によりフィルター材質及び接着剤が分解する。
【0009】
本発明は、上記従来の課題に鑑みなされたものであり、その目的は、ペリクル内部を短時間で不活性ガスにより置換でき、分解ガスや異物を発生させないペリクルを提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、不活性ガスを導入するためのガス導入孔と不活性ガスを排出するためのガス排出孔とを有するペリクルフレームと、ペリクルフレームの一方の開口部に接着されたペリクル板とを備えるペリクルであって、ガス導入孔には、不活性ガスを供給するためのガス導入管が接続され、ガス導入管には、ガス導入孔への接続部より所定距離手前の位置にフィルターが取り付けられていることを特徴とする。
【0011】
上記構成によれば、ガス導入管に取り付けられたフィルターが、ガス導入管のガス導入孔への接続部より所定距離手前に位置しているので、レーザ光が照射されず、フィルター材質及び接着剤が分解されてガスや異物が発生することを防止できる。
【0012】
また、上記ペリクルは、ガス導入孔の表面が平滑化処理されていることを特徴とする。
【0013】
上記構成によれば、ガス導入孔の表面が平滑化処理されることにより、異物の発生を抑制できる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態(以下実施形態という)を、図面に従って説明する。図1には、本発明にかかるペリクルの実施形態の断面図が示される。図1において、石英ガラス等で構成されたペリクルフレーム10に、合成石英ガラスで構成されたペリクル板12(または、フッ素樹脂からなるペリクル膜でも良い)が接着され、ペリクルが形成されている。また、ペリクルフレーム10には、不活性ガスを導入するためのガス導入孔18と不活性ガスを排出するためのガス排出孔20とが形成されており、ペリクル内部を不活性ガスで強制的に置換できる構成となっている。これにより、ペリクル内部を短時間で容易に不活性ガスで置換できる。なお、ペリクルフレーム10は、マスク14に接着剤16により接着されて使用される。
【0015】
図2には、図1に示されたペリクルのガス導入孔18周辺の部分断面図が示される。図2において、ガス導入孔18にはペリクル内部に不活性ガスを供給するためのガス導入管22が接続されており、このガス導入管22には、フィルター24が取り付けられている。フィルター24の取り付け位置は、ガス導入孔18とガス導入管22との接続部26より所定距離手前すなわちペリクルフレーム10からボンベ側に所定距離離れた位置とされている。これにより、マスク14に照射されるF2レーザ等のレーザ光がフィルター24に当たらず、フィルター24の分解によりガスや異物が発生することを防止できる。
【0016】
また、図2に示されるように、フィルター24は、ガス導入管22に設けられたハウジング28に装着される。ハウジング28は、接着剤を使用せずにフィルター24を固定できるように構成されている。例えば、ガス導入管22の内径よりハウジング28の内径を大きくし、ハウジング28の内径とほぼ同じ径のフィルター24をハウジング28に挿入するようにすれば、接着剤を使用せずにフィルター24を固定できる。これにより、フィルター24の取り付けに接着剤を使用する必要がなくなるので、万一レーザ光が当たっても、より分解生成物の発生しにくいフィルターとすることができる。なお、ハウジング28としては、塵埃を発生せず、レーザ光による劣化が生じない材質とするため、ステンレス鋼等の金属、ガラスまたはセラミックス等を使用するのが好適である。
【0017】
上述したフィルター24としては、メンブレンフィルターの他、不織布で構成されたデプスタイプフィルターまたはメンブレンを波状に折り込んだプリーツタイプフィルター等を使用できる。特に、デプスタイプフィルター及びプリーツタイプフィルターを使用した場合には、濾過面積を大きく取れるので、捕捉効率を上げつつ圧力損失を低減することができる。フィルター24の材質は、フッ素樹脂、ポリプロピレン(PP)またはポリエチレン(PE)等が好適である。
【0018】
また、本実施形態にかかるペリクルにおいては、ガス導入孔18の表面が平滑化処理されている。さらに、ペリクルフレーム10の内側面及びフィルター24通過以降のガス導入管22の内側面も平滑化処理されるのが好適である。この平滑化処理は、例えば機械的な研磨加工、電解研磨、化学的なエッチングまたは無機物、特に酸化クロム等の金属酸化物を蒸着法若しくはスパッタ法でコーティングすることにより実施可能である。また、特にペリクルフレーム10が石英ガラス製の場合には、HF等のガラスを浸食する薬液でエッチングすることによっても平滑化処理を実施可能である。さらに、ガス導入孔18をレーザ加工等により形成することによっても、孔の表面を平滑にすることができる。
【0019】
上述したような平滑化処理を実施すると、ガス導入孔18等の表面からマイクロクラックをなくすことができる。これにより、表面の欠落によるカレットの発生及び表面での異物のトラップを防止でき、表面からの発塵を抑制できる。なお、この平滑化処理の実施により、表面粗さがRmaxで10nm以下とするのが好適である。
【0020】
【実施例】
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は本実施例に限定されない。
【0021】
一辺に等間隔に3個のガス導入孔を有し、対向する一辺に等間隔に3個のガス排出孔を有する、外形寸法122mm×142mm、高さ3.2mmの合成石英ガラス製のペリクルフレームに、厚さ0.8mmの合成石英ガラス製のペリクル板を接着したペリクルを準備した。上記各ガス導入孔、ガス排出孔は、エンドミルにより径が1.6mmの孔として開けられ、孔開け加工後にペリクルフレームを0.5%のHF溶液で15分間エッチング処理した後、超純水でリンスし、乾燥した。
【0022】
次に、ペリクルフレームの開放されている(ペリクル板が接着されていない)側に弾性のあるスペーサーを貼り付けた後、マスクブランクス上に載置し、マスクブランクスとスペーサーとの間に隙間が生じないようにクランプして固定した。このマスクブランクスには合成石英ガラス製の基板を使用し、予め十分に洗浄した後、自動欠点検査機(レーザーテック社製M1320)を用いて表面の付着物を計測したものを準備した。
【0023】
次に、SUS製のフィルターハウジングに、0.1μmのパーティクルの捕集効率が99.995%のフィルターを取り付け、電解研磨を行ったSUS製のガス導入管の出口側を上記ペリクルフレームのガス導入孔に接続した。また、ガス排出孔にサンプリング用の管を取り付け、排出されるガス中の酸素濃度を酸素濃度測定機(東レ社製LF750)で測定し、排出ガス内の酸素濃度が10ppmになるまでの時間を計測した。
【0024】
以上のようにして準備したペリクル内部にガスボンベからフィルター付のガス導入管を介して0.2リットル/分の流量で窒素ガスを供給した。
【0025】
排出ガス中の酸素濃度が10ppmになるのに要した時間は、4分20秒であった。この程度の時間で酸素濃度が10ppmまで低下すれば、露光装置内で使用可能なレベルであると判断される。
【0026】
また、その後も同じ流量の窒素ガスを流入しつづけ、12時間経過した後窒素ガスを停止した。ついで、クランプを外し、ペリクルをマスクブランクスから分離し、マスクブランクス上のパーティクルを前述した自動欠点検査機で計測した。この結果、窒素ガスの流入を続けた間のパーティクルの付着量は、1個であることが確認された。この程度のパーティクルの発生であれば、露光装置内で使用可能なレベルであると判断される。
【0027】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ペリクル内部のガス置換が容易で、かつペリクル内部の分解ガスや異物による汚染の少ないF2レーザ露光に最適なペリクルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるペリクルの実施形態の断面図である。
【図2】図1に示された実施形態のガス導入孔周辺の部分断面図である。
【符号の説明】
10 ペリクルフレーム、12 ペリクル板、14 マスク、16 接着剤、18 ガス導入孔、20 ガス排出孔、22 ガス導入管、24 フィルター、26 接続部、28 ハウジング。
Claims (2)
- 不活性ガスを導入するためのガス導入孔と前記不活性ガスを排出するためのガス排出孔とを有するペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの一方の開口部に接着されたペリクル板またはペリクル膜とを備えるペリクルであって、
前記ガス導入孔には、不活性ガスを供給するためのガス導入管が接続され、前記ガス導入管には、前記ガス導入孔への接続部より所定距離手前の位置にフィルターが取り付けられていることを特徴とするペリクル。 - 前記ガス導入孔の表面が平滑化処理されていることを特徴とする請求項1記載のペリクル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003186263A JP2005017978A (ja) | 2003-06-30 | 2003-06-30 | ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003186263A JP2005017978A (ja) | 2003-06-30 | 2003-06-30 | ペリクル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005017978A true JP2005017978A (ja) | 2005-01-20 |
Family
ID=34185438
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003186263A Pending JP2005017978A (ja) | 2003-06-30 | 2003-06-30 | ペリクル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005017978A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011002680A (ja) * | 2009-06-19 | 2011-01-06 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクル |
CN106200274A (zh) * | 2015-05-29 | 2016-12-07 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 表膜组件和其制造方法 |
-
2003
- 2003-06-30 JP JP2003186263A patent/JP2005017978A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011002680A (ja) * | 2009-06-19 | 2011-01-06 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクル |
CN106200274A (zh) * | 2015-05-29 | 2016-12-07 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 表膜组件和其制造方法 |
US10036951B2 (en) | 2015-05-29 | 2018-07-31 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Pellicle assembly and fabrication methods thereof |
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