KR101438789B1 - Dlc 코팅 층을 구비한 펠리클 프레임의 제조방법 - Google Patents

Dlc 코팅 층을 구비한 펠리클 프레임의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 펠리클 프레임 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 표면 상에 DLC(diamond like carbon) 코팅 층이 형성된 펠리클 프레임 및 그 제조방법에 관한 것이다. 상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 펠리클 프레임은 지지 프레임과, 상기 지지 프레임의 표면 상에 형성된 DLC(diamond like carbon) 코팅 층을 포함한다. 또한, 상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 펠리클 프레임을 제조하는 방법은 지지 프레임을 제조하는 단계와, 상기 지지 프레임의 표면 상에 DLC(diamond like carbon) 코팅 층을 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명에 따른 펠리클 프레임은 흑색 DLC 코팅 층을 구비하므로, 별도의 흑색 도장 층이 필요 없다. 따라서 도장 층에 의한 유/무기계 가스의 방출에 의한 불량 및 도장 층의 박리에 의한 결함 발생을 원천적으로 제거할 수 있다. 또한, DLC 코팅 층의 밀도가 매우 높기 때문에 펠리클 프레임 표면의 기공에 의한 결함을 방지할 수 있다.

Description

DLC 코팅 층을 구비한 펠리클 프레임의 제조방법{Method of fabricating Pellicle frame with diamond like carbon coating layer}
본 발명은 펠리클 프레임 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 표면 상에 DLC(diamond like carbon) 코팅 층이 형성된 펠리클 프레임 및 그 제조방법에 관한 것이다.
반도체 디바이스 또는 액정 표시판 등의 제조에 있어서, 반도체 웨이퍼 또는 액정용 기판에 UV광선을 조사해서 패터닝하는 포토리소그래피라는 방법이 사용된다.
포토리소그래피에서는 패터닝의 원판으로서 마스크가 사용되고, 마스크 상의 패턴이 웨이퍼 또는 액정용 기판에 전사된다. 이 마스크에 먼지가 부착되어 있으면 이 먼지로 인하여 빛이 흡수되거나, 반사되기 때문에 전사한 패턴이 손상되어 반도체 장치나 액정 표시판 등의 성능이나 수율의 저하를 초래한다는 문제가 발생한다.
따라서, 이들의 작업은 보통 클린룸에서 행해진다. 그러나 이 클린룸 내에도 먼지가 존재하므로, 마스크 표면에 먼지가 부착하는 것을 방지하기 위하여 펠리클을 부착하는 방법이 행해지고 있다. 이 경우, 먼지는 마스크의 표면에는 직접 부착되지 않고, 펠리클에 부착된다. 리소그래피시에는 초점이 마스크의 패턴 상에 위치하므로, 펠리클 상의 먼지는 초점이 맞지 않아 패턴에 전사되지 않는다.
펠리클은 펠리클 막과 펠리클 막을 지지하는 펠리클 프레임을 포함한다.
펠리클 막의 재료로는 높은 노광광 투과율을 가지며, 노광광을 흡수하기 어려운 재료가 바람직하다. 구체적으로는, 노광에 이용하는 광(g선, i선, 248㎚, 193㎚, 157㎚ 등)을 잘 투과시키는 니트로셀룰로오스, 초산셀룰로오스와 같은 셀룰로오스 수지 또는 불소 수지가 사용된다.
최근에는 반도체 제조용 노광 장치의 요구 해상도는 점차 높아지고 있으며, 그 해상도를 실현하기 위해서 파장이 짧은 빛이 광원으로서 사용하고 있다. 이렇게 단파장의 빛은 에너지가 크기 때문에 종래의 셀룰로오스계의 막 재료로는 충분한 내광성을 확보하는 것은 어렵다. 따라서 최근에는 주로 불소계 수지 용액을 이용하여 펠리클 막을 제조한다.
펠리클 막은 수지 용액을 일정한 온도의 기판 위에 코팅하고, 용매의 비점 부근의 온도에서 건조하여 형성한다. 기판은 매끈한 표면을 가진 것으로서, 실리콘 웨이퍼, 석영 유리, 일반 유리 등을 사용한다.
코팅하는 방법으로는 공지된 다양한 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 롤 코팅, 캐스팅, 스핀 코팅, 물 캐스팅, 딥 코팅 또는 랑그무어 블로지트(Langmuir Blodgett)와 같은 코팅 방법에 의해 기판 위에 펠리클 막을 형성할 수 있다. 막의 두께는 기판에 도포하는 용액의 농도와 스핀 코터(spin coater)의 회전수 등의 조건 변경하여 조절할 수 있다.
코팅 후 용매의 비점 부근의 온도에서 건조하여 펠리클 막을 형성한다. 다음, 건조된 펠리클 막을 기판으로부터 박리한다. 펠리클 막에 셀로판 테이프나 접착제를 도포한 틀 모양 치구(治具)를 대고 접착한 후 셀로판테이프나 틀모양 치구를 손이나 기계적 수단에 의해 한끝으로부터 들어올리는 방법으로 펠리클 막을 기판에서 떼어낼 수가 있다.
완성된 펠리클 막은 변형이나 왜곡 및 손상을 방지하기 위해서, 펠리클 프레임에 고정되어 있는 상태로 사용된다. 분리된 펠리클 막을 잡아당겨서 팽팽하게 한 후 아크릴수지, 에폭시 수지나 불소 수지 등의 접착제를 도포한 펠리클 프레임에 부착하고, 프레임 외측의 불필요한 막을 절단·제거함으로써 펠리클을 완성한다.
펠리클 프레임의 하부에는 노광원판이 장착되기 때문에, 폴리브텐 수지, 폴리초산비닐수지, 아크릴수지 또는 실리콘수지 등으로 이루어지는 점착층, 및 점착층의 보호를 목적으로 한 점착제 보호용 이형 라이너를 설치한다.
펠리클 프레임은 주로 A7075, A6061, A5052 등의 알루미늄 합금으로 이루어진다. 펠리클 프레임은 리소그래피 과정에서 알루미늄에 의한 오염을 방지하기 위해서 산화 피막을 형성한다. 펠리클 프레임의 산화 피막은 흑색으로 형성한다. 노광광이 펠리클 프레임에 입사되어 반사되면 전사한 패턴이 손상되기 때문에 펠리클 프레임에 입사된 노광광의 반사를 최소화하여야 하기 때문이다. 또한, 펠리클 프레임의 표면이 흑색이어야, 표면에 부착된 불순물이나 먼지 등의 확인이 용이하기 때문이다.
종래에는 주로 양극 산화법(아노다이징)으로 산화 피막을 형성하였다. NaOH 등의 알칼리 처리 욕에서 수십 초 처리한 후, 황산 수용액 중에서 양극 산화를 행하고, 다음으로 흑색 염색, 봉공(sealing) 처리함으로써 표면에 흑색의 산화 피막을 형성하였다.
그러나 이러한 양극 산화법 및 흑색 염색, 봉공 처리 과정에서 사용되는 물질들은 펠리클 프레임의 표면의 기공 내에 존재하였다가, 리소그래피 과정에서 발생하는 열에 의해서 무기계 가스 형태로 방출된다. 이러한 가스는 리소그래피 과정에서 부수적으로 발생하는 탄화수소, 암모늄 가스 등과 광화학 반응을 일으켜 헤이즈(haze)라고 부르는 흐림현상이나 미세입자에 의한 오염을 일으킨다.
최근, LSI의 디자인 룰은 서브 쿼터 미크론(sub quarter micron)으로 미세화가 진행되고 있고, 그것에 따라 노광 광원의 단파장화가 진행되고 있다. 즉, 지금까지 주류였던 수은 램프에 의한 g선(436㎚), i선(365㎚)으로부터 KrF 엑시머 레이저(248㎚), ArF 엑시머 레이저(193㎚), F2 레이저(157㎚)를 거쳐서 초극자외선(EUV, extreme UltraViolet, 13.5㎚)으로 이행되고 있다.
이러한 노광 광원의 단파장화는 노광 광원의 에너지 증가를 의미하며, 에너지 증가는 리소그래피 과정에서 발생하는 무기계 가스의 양이 증가함을 의미한다. 이는 리소그래피 공정에서 헤이즈나 미세입자에 의한 오염의 증가로 이어진다. 따라서 펠리클 프레임에서의 무기계 가스의 발생을 줄이기 위한 노력이 더욱 절실하게 요구되고 있다.
이와 같은 요구에 대응하기 위한 방법의 하나로서, 등록특허 제1278519호에는 플라스마 전해 산화법에 의해 산화 피막을 형성하는 방법이 개시되어 있다.
플라스마 전해 산화법은 알칼리 전해질 용액 내에 장입한 금속(양극)과 스테인리스 전극(음극) 사이에 수백 볼트의 고전압을 인가하여 금속의 표면에서 플라스마 반응을 일으켜 금속의 표면에 산화 피막을 형성하는 표면처리 기술이다. 플라스마 전해 산화법은 기존 아노다이징과 달리 무연, 무취, 무독으로 공정 중 유독 물질을 발생시키지 않아 자연 친화적인 기술로 평가받고 있다.
플라스마 전해 산화법은 1000℃이상의 고온 플라스마에 의하여 산화 피막이 형성되기 때문에 헤이즈 발생을 억제할 수 있다.
그러나 플라스마 전해 산화법에 의한 산화 피막은 기본적으로 흰색이므로, 별도의 흑색 착색 공정이 필요하다. 이러한 흑색 착색 공정에서 사용되는 물질들은 헤이즈나 오염의 원인이 될 수 있다.
등록특허 제1278519호에서는 이러한 문제를 해결하기 위해서, 플라스마 전해 산화법에 사용되는 알칼리 전해질 용액에 흑색을 나타낼 수 있는 전이금속 산화물 염을 첨가함으로써, 별도의 착색 공정 없이, 흑색 산화 피막을 형성하는 방법을 제시하였다.
등록특허 제1278519호 공개특허 제2011-0029005호
상술한 종래의 펠리클 프레임의 표면처리 방법들은 다음과 같은 문제가 있었다.
양극 산화법에 의한 표면처리 방법은 상술한 바와 같이, 무기계 가스에 의한 헤이즈 현상이라는 문제가 있다. 플라스마 전해 산화법은 이러한 문제는 개선할 수 있었으나, 펠리클 프레임의 표면에 미세한 기공이 생긴다는 문제가 있다. 이러한 기공에 파티클 등 오염물질이 부착되면 제거가 어렵기 때문에 리소그래피 과정에서 불량의 원인이 될 수 있다.
또한, 양극 산화법에 의한 표면처리 방법은 7일정도의 상온 초순수 침지를 통한 세정공정을 거쳐야 하며, 플라스마 전해 산화법은 전해질 용액의 제거를 위한 고온 초순수 세정공정을 거쳐야 한다는 문제도 있다.
본 발명은 상술한 문제점들을 개선하기 위한 것으로서, 내오염성이 개선되고, 오염물질의 제거가 용이하며, 유/무기이온의 발생량을 최소화할 수 있는 펠리클 프레임의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 내오염성이 개선되고, 오염물질의 제거가 용이하며, 유/무기이온의 발생량을 최소화할 수 있는 펠리클 프레임을 제공하는 것을 다른 목적으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 펠리클 프레임은 지지 프레임과, 상기 지지 프레임의 표면 상에 형성된 DLC(diamond like carbon) 코팅 층을 포함한다.
또한, 상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 펠리클 프레임을 제조하는 방법은 지지 프레임을 제조하는 단계와, 상기 지지 프레임의 표면 상에 DLC(diamond like carbon) 코팅 층을 형성하는 단계를 포함한다.
상기 DLC 코팅 층을 형성하는 단계는 화학기상증착(CVD, chemical vapor deposition) 또는 물리기상증착(PVD, physical vapor deposition) 방법에 의해서 DLC 코팅 층을 형성하는 단계일 수 있다.
상기 DLC 코팅 층을 형성하는 단계는 전기 전도성을 가지며, 중심부 개구를 둘러싸는 측벽을 구비하는 상부 프레임 및 하부 프레임을 상기 상부 프레임의 하면이 상기 지지 프레임의 상면과 이격된 상태로 마주보고, 상기 하부 프레임의 상면이 상기 지지 프레임의 하면과 이격된 상태로 마주보도록 배치하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다. 그리고 상기 상부 프레임 하면이 상기 지지 프레임의 상면을 가릴 수 있도록, 상기 상부 프레임 하면의 면적이 상기 지지 프레임의 상면의 면적 이상이며, 상기 하부 프레임 상면이 상기 지지 프레임의 하면을 가릴 수 있도록, 상기 하부 프레임 상면의 면적이 상기 지지 프레임의 하면의 면적 이상인 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 펠리클 프레임은 흑색 DLC 코팅 층을 구비하므로, 별도의 흑색 도장 층이 필요 없다. 따라서 도장 층에 의한 유/무기계 가스의 방출에 의한 불량 및 도장 층의 박리에 의한 결함 발생을 원천적으로 제거할 수 있다. 또한, DLC 코팅 층의 밀도가 매우 높기 때문에 펠리클 프레임 표면의 기공에 의한 결함을 방지할 수 있다.
결국, 종래의 펠리클 프레임에 비해서 유/무기계 가스의 방출량이 현저하게 줄어든다. 따라서 헤이즈와 미세 입자에 의한 오염을 최소화할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 펠리클 프레임의 일실시예의 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 펠리클 프레임의 단면도이다.
도 3은 DLC 코팅 층의 표면을 전자현미경으로 촬영하여 얻은 사진들이다.
도 4는 본 발명의 DLC 코팅 층을 형성하는 단계에서 사용되는 코팅장치의 일례를 도시한 개념도이다.
도 5는 본 발명의 DLC 코팅 층을 형성하는 단계를 설명하기 위한 개념도이다.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예에 대해서 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예는 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다.
도 1은 본 발명에 따른 펠리클 프레임의 일실시예의 사시도이며, 도 2는 도 1에 도시된 펠리클 프레임의 단면도이다.
도 1과 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 펠리클 프레임(10)의 일실시예는 지지 프레임(1)과, 지지 프레임(1)의 표면 상에 형성된 DLC(diamond like carbon) 코팅 층(2)을 포함한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 지지 프레임(1)은 중심의 개구를 둘러싸는 측벽으로 이루어진다. 지지 프레임(1)은 알루미늄 합금, 플라스틱, 세라믹 등으로 이루어질 수 있다. 알루미늄 합금으로는 알루미늄과 아연을 포함하는 A7075 알루미늄 합금, 알루미늄, 마그네슘 및 실리콘을 포함하는 A6061 알루미늄 합금, 알루미늄과 마그네슘을 포함하는 A5052 알루미늄 합금 등이 사용될 수 있다.
펠리클 프레임(10)은 흑색인 것이 바람직하다. 노광광이 펠리클 프레임(10)에 입사되어 반사되면 전사한 패턴이 손상되기 때문에 펠리클 프레임(10)에 입사된 노광광의 반사를 최소화하여야 하기 때문이다. 또한, 펠리클 프레임(10)의 표면이 흑색이어야, 표면에 부착된 불순물이나 먼지 등의 확인이 용이하기 때문이다. 본 발명에서는 흑색의 DLC 코팅 층(2)을 지지 프레임(1) 위에 형성하여 흑색 펠리클 프레임(10)을 얻는다. DLC 코팅 층(2)을 이용하여 흑색을 구현하므로, 별도의 흑색 도장이 불필요하다.
DLC 코팅 층(2)은 다이아몬드와 유사한 물성을 가지는 수소를 포함한 비정질 카본막을 의미한다. DLC 코팅 층(2)은 다이아몬드와 유사한 구조를 가지므로, 경도가 다이아몬드 만큼 높다. 또한, 비정질의 준안정상이므로 화학적으로 매우 안정적이다. 또한, DLC 코팅 층(2)은 비정질 막이므로 수백 미만의 평활도를 가지고 있어서 표면이 매끄러우며, 내마모성이 매우 우수하다. 본 발명에 있어서, DLC 코팅 층(2)의 두께는 10㎚~50㎛이며, 경도는 100~20000Hv인 것이 바람직하며, 두께는 1~2㎛, 경도는 2000~6000Hv인 것이 더욱 바람직하다.
도 3은 DLC 코팅 층의 표면을 전자현미경으로 촬영하여 얻은 사진들이다. 도 3에서 확인할 수 있듯이, DLC 코팅 층은 매우 치밀하며 매끄러운 표면을 갖는다.
표 1은 플라즈마 산화법에 의한 종래의 펠리클 프레임과 본원의 펠리클 프레임의 이온 크로마토그래피(ion chromatography)를 이용한 무기 이온의 분석결과이다. 표 1에서 무기 이온 검출량의 단위는 ppb이다. 표 1에서 알 수 있듯이, 본원의 펠리클 프레임은 종래의 펠리클 프레임에 비해서 헤이즈를 일으키는 무기 이온을 소량 포함한다.
F Cl NO2 NO3 SO4 PO4 Na NH4 K Ma Ca
본원의 프레임 n.a. <1 n.a. <1 <1 n.a. <1 1.88 <1 1.55 1.95
종래의
프레임		 <1 1.92 n.a. 12.36 1.74 n.a. 18.99 18.02 <1 162.20 n.a.
도시하지 않았으나, 펠리클 프레임(10)의 측면에는 펠리클을 레티클에 장착하는 과정에서 펠리클 프레임(10)에 부착된 펠리클 막이 팽창하는 것을 방지하기 위한 벤트 홀이 형성될 수 있으며, 벤트 홀에는 벤트 홀을 통한 이물질 유입을 방지하는 공기 필터가 설치될 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 펠리클 프레임(10)의 제조방법의 일실시예에 대해서 상세하게 설명한다.
본 발명에 따른 펠리클 프레임(10)의 제조방법의 일실시예는 지지 프레임(1)을 제조하는 단계와, 지지 프레임(1) 표면 상에 DLC(diamond like carbon) 코팅 층(2)을 형성하는 단계를 포함한다.
우선, 지지 프레임(1)을 제조하는 단계에 대해서 간략하게 설명한다.
알루미늄 합금으로 이루어진 지지 프레임(1)을 제조하는 단계는 알루미늄 합금 판재를 프레임 형태로 가공하는 단계, 샌딩(sanding) 및 연마 단계, 지지 프레임(1)의 표면의 기름을 제거하는 탈지 단계 등을 거치게 된다. 알루미늄 합금으로 이루어진 지지 프레임(1)을 제조하는 단계는 종래의 방법과 차이가 없으므로 자세한 설명을 생략한다.
지지 프레임(1)은 기타 알려진 가공방법으로 플라스틱이나 세라믹을 가공하여 제조할 수도 있다. 예를 들어, 사출성형을 통해서 플라스틱 지지 프레임(1)을 제조할 수 있다. 또한, 세라믹 분말체를 프레임 형태로 성형한 후 소결하여 세라믹 지지 프레임(1)을 제조할 수 있다.
다음, 지지 프레임(1) 표면 위에 DLC 코팅 층(2)을 형성한다.
DLC 코팅 층(2)을 형성하는 단계는 화학기상증착(CVD, chemical vapor deposition) 또는 물리기상증착(PVD, physical vapor deposition) 방법으로 DLC 코팅 층(2)을 형성하는 단계일 수 있다. 본 발명에 있어서, 화학기상증착에는 원자층 증착(ALD, atomic layer deposition)도 포함된다.
이하에서는 화학기상증착 방법의 하나인 PECVD(Plasma-Enhanced CVD)를 중심으로 DLC 코팅 층(2)을 형성하는 방법에 대해서 설명한다. PECVD는 아르곤 플라스마를 통해서 반응 가스의 화학 활성을 증진시킴으로써 낮은 온도에서 화학 반응이 일어나도록 하는 화학기상증착 방법이다.
도 4는 본 발명의 DLC 코팅 층을 형성하는 단계에서 사용되는 코팅장치의 일례를 도시한 개념도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 코팅장치(20)는 진공챔버(21), 테이블(22), 가스공급장치(23), 배기장치(미도시) 및 전원공급장치(24)를 포함한다.
진공챔버(21)는 내부에 진공상태를 유지할 수 있는 압력용기이다. 진공챔버의 전도성 벽면은 일종의 전극으로서 작용한다.
테이블(22)은 DLC 코팅 층(2)이 형성될 지지 프레임(1)을 지지하기 위한 것이다. 테이블(22)은 진공챔버(21)의 하부에 설치된다. 테이블(22)은 전원공급장치(24)와 연결되어 전극으로서 작용한다. 테이블(22)에는 히터가 설치될 수 있다.
가스공급장치(23)는 진공챔버(21)의 내부로 아르곤(Ar), 아세틸렌 가스(C2H2), 메탄 가스(CH4), 헥사메틸다이실록산(Hexamethyldisiloxane, HMDSO) 가스 등을 공급하는 역할을 한다. 또한, 가스공급장치(23)는 코팅단계 별로 가스의 공급량을 조절하기 위한 질량흐름제어유닛(MFC)를 포함한다.
배기장치는 진공챔버(21) 내부의 공기를 외부로 배출하여, 진공챔버 내부를 진공상태로 만들기 위한 장치이다. 로터리 펌프, 부스터 펌프, 디퓨전 펌프 등이 사용될 수 있다.
전원공급장치(24)는 테이블(22)에 고전압을 인가하는 역할을 한다. 전원공급장치(24)는 PLC 등과 같은 제어유닛을 이용하여 제어된다.
또한, 피처리물이 알루미늄 합금으로 이루어진 지지 프레임(1)인 경우 지지 프레임(1)에 바이어스 전압을 인가하기 위한 직류 전원공급장치(미도시)를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 있어서, 지지 프레임(1)은 테이블(22) 위에 직접 올려놓는 것이 아니라 도 5에 도시된 바와 같이 지지 프레임(1)의 상하에 상부 프레임(30)과 하부 프레임(31) 각각 배치된 상태에서 진공챔버(21)에 내부에 배치된다. 지지 프레임(1)에 DLC 코팅 층(2)을 균일하게 형성하기 위함이다.
상부 프레임(30)과 하부 프레임(31)은 전기 전도성을 가진다. 상부 프레임(30)과 하부 프레임(31)은 지지 프레임(1)과 마찬가지로 중심부 사각형 개구를 둘러싸는 측벽을 구비한다. 상부 프레임(30) 및 하부 프레임(31)은 상부 프레임(30)의 하면이 지지 프레임(1)의 상면과 이격된 상태로 마주보고, 하부 프레임(31)의 상면이 지지 프레임(1)의 하면과 이격된 상태로 마주보도록 배치된다.
상부 프레임(30) 및 하부 프레임(31)은 플라스마가 지지 프레임(1)의 모서리 부분에 집중되는 것을 방지하여 DLC 코팅 층(2)을 균일하게 형성되도록 하는 역할을 한다. DLC 코팅 층(2)의 균일한 형성을 위해서, 상부 프레임(30) 하면이 지지 프레임(1)의 상면을 가릴 수 있도록, 상부 프레임(30) 하면의 면적이 지지 프레임(1)의 상면의 면적 이상인 것이 바람직하다. 또한, 하부 프레임(31) 상면이 지지 프레임(1)의 하면을 가릴 수 있도록, 하부 프레임(31) 상면의 면적이 지지 프레임(1)의 하면의 면적 이상인 것이 바람직하다.
상부 프레임(30)과 하부 프레임(31) 및 지지 프레임(1)은 프레임들의 고정 핀과 고정 핀을 지지하는 포스트 등에 의해서 진공챔버 내부에 뜬 상태로 배치된다.
이하, 상기 장치를 이용한 DLC 코팅 층(2) 형성과정을 설명한다.
우선, 지지 프레임(1)을 세정한 후 상술한 바와 같이, 상부 프레임(30) 및 하부 프레임(31)을 상부 프레임(30)의 하면이 지지 프레임(1)의 상면과 이격된 상태로 마주보고, 하부 프레임(31)의 상면이 지지 프레임(1)의 하면과 이격된 상태로 마주보도록 배치한다.
다음, 상부 프레임(30), 하부 프레임(31) 및 지지 프레임(1)을 진공챔버의 내부에 배치한다.
다음, 배기 장치를 작동시켜 진공챔버(21) 내부에 진공을 형성한다. 일례로, 먼저 로터리 펌프 등을 이용하여 저진공 상태를 만든 후 터보 펌프 등을 이용하여 고진공 상태를 만들 수 있다.
다음, 가스공급장치(23)를 이용하여 진공챔버(21)의 내부에 아르곤 가스를 주입한다.
그리고 전원공급장치(24)를 이용하여 테이블(22)에 전원을 인가하면, 진공챔버(21)의 벽면과 테이블(22) 사이에 플라스마가 형성된다. 이 과정에서 지지 프레임(1)의 표면에 붙어 있던 유기물, 산화막 등이 제거되고, 지지 프레임(1)의 표면이 활성화된다.
이어서, 가스공급장치(23)를 이용하여 진공챔버(21)의 내부에 아세틸렌 가스(C2H2), 메탄 가스(CH4)를 주입한다. 플라스마에 의해서 주입된 가스로부터 유리된 탄소는 활성화된 지지 프레임(1)의 표면에 코팅된다. 이때, 상부 프레임(20) 및 하부 프레임(21)은 플라스마가 지지 프레임(1)의 모서리 부분에 집중되는 것을 방지한다.
이상에서 설명된 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한 것에 불과하고, 본 발명의 권리범위는 설명된 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상과 특허청구범위 내에서 이 분야의 당업자에 의하여 다양한 변경, 변형 또는 치환이 가능할 것이며, 그와 같은 실시예들은 본 발명의 범위에 속하는 것으로 이해되어야 한다.
10: 펠리클 프레임
1: 지지 프레임
2: DLC 코팅 층
20: 코팅 장치
30: 상부 프레임
31: 하부 프레임

Claims (5)

  1. 펠리클 프레임을 제조하는 방법에 있어서,
    지지 프레임을 제조하는 단계와,
    화학기상증착(CVD, chemical vapor deposition) 방법에 의해서 상기 지지 프레임의 표면 상에 DLC(diamond like carbon) 코팅 층을 형성하는 단계를 포함하며,
    상기 DLC 코팅 층을 형성하는 단계는 전기 전도성을 가지며, 중심부 개구를 둘러싸는 측벽을 구비하는 상부 프레임 및 하부 프레임을 상기 상부 프레임의 하면이 상기 지지 프레임의 상면과 이격된 상태로 마주보고, 상기 하부 프레임의 상면이 상기 지지 프레임의 하면과 이격된 상태로 마주보도록 배치된 상태에서 진행되는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 상부 프레임 하면이 상기 지지 프레임의 상면을 가릴 수 있도록, 상기 상부 프레임 하면의 면적이 상기 지지 프레임의 상면의 면적 이상이며,
    상기 하부 프레임 상면이 상기 지지 프레임의 하면을 가릴 수 있도록, 상기 하부 프레임 상면의 면적이 상기 지지 프레임의 하면의 면적 이상인 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임의 제조방법.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
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