JP2005005692A - Module with built-in circuit parts and method for manufacturing the same - Google Patents

Module with built-in circuit parts and method for manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2005005692A
JP2005005692A JP2004145374A JP2004145374A JP2005005692A JP 2005005692 A JP2005005692 A JP 2005005692A JP 2004145374 A JP2004145374 A JP 2004145374A JP 2004145374 A JP2004145374 A JP 2004145374A JP 2005005692 A JP2005005692 A JP 2005005692A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit component
wiring
insulating layer
sheet
component built
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004145374A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4509645B2 (en
Inventor
Toshiyuki Asahi
俊行 朝日
Yutaka Taguchi
豊 田口
Yasuhiro Sugaya
康博 菅谷
Seiichi Nakatani
誠一 中谷
Toshio Fujii
俊夫 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2004145374A priority Critical patent/JP4509645B2/en
Publication of JP2005005692A publication Critical patent/JP2005005692A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4509645B2 publication Critical patent/JP4509645B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a module with built-in circuit parts capable of being used together with another module with built-in parts with respect to an inspection tool to be used for at least one kind of inspection selected from a group composed of a mount inspection or a characteristic inspection, and the productivity of which has been improved. <P>SOLUTION: The module with built-in circuit parts comprises an electrical insulation layer 101, a pair of wiring layers 18b and 102 arranged on both main surfaces of the electrical insulation layer, a plurality of via conductors 103 electrically connecting the pair of wiring layers and penetrating the electrical insulation layer in the direction of thickness of the electrical insulation layer, and circuit parts 109 buried in the electrical insulation layer, and the plurality of via conductors 103 are arranged at the periphery of the electrical insulation layer 101 in accordance with a predetermined rule. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、回路部品が電気絶縁層内に内蔵された回路部品内蔵モジュールおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to a circuit component built-in module in which circuit components are built in an electrical insulating layer and a method for manufacturing the same.

近年、電子機器の高性能化および小型化の要求に伴い、複数の回路部品が搭載された回路部品内蔵モジュールについて、高密度化、高機能化および小型化への対応が求められている。高密度化の方法として、インナービアを用いた接続の開発が進められている。インナービアを用いれば、例えば、LSIと他の回路部品とを接続する配線を最短化できる。複数のインナービアは、電気絶縁層(回路部品内蔵層)内において任意の位置に配置されている(例えば、特許文献1参照)。 In recent years, in response to demands for higher performance and miniaturization of electronic devices, it has been demanded that a module with a built-in circuit component on which a plurality of circuit components are mounted be compatible with higher density, higher functionality, and smaller size. As a method of increasing the density, development of a connection using an inner via is underway. If the inner via is used, for example, the wiring connecting the LSI and another circuit component can be minimized. The plurality of inner vias are arranged at arbitrary positions in the electrical insulating layer (circuit component built-in layer) (see, for example, Patent Document 1).

ところで、回路部品内蔵モジュールは、その製造過程において、配線層に回路部品を接合した後、回路部品を電気絶縁層内に埋めこむ前に、回路部品等について実装検査および特性検査から選ばれる少なくとも1種の検査が行われる。これらの検査では、インナービアと接合されるランド部(配線層を構成する接合用導体部)に検査器具のプローブが当接される。次いで、検査対象に電圧を印加して、所定の条件を満たす電気接続が得られているか否か等の判定がなされる。
特開平11−220262号公報(第7−8頁、図1)
By the way, the circuit component built-in module is at least one selected from mounting inspection and characteristic inspection for the circuit component and the like after the circuit component is joined to the wiring layer and before the circuit component is embedded in the electrical insulating layer in the manufacturing process. A seed inspection is performed. In these inspections, the probe of the inspection instrument is brought into contact with a land portion (a bonding conductor portion constituting the wiring layer) to be bonded to the inner via. Next, a voltage is applied to the inspection target to determine whether or not an electrical connection that satisfies a predetermined condition is obtained.
JP-A-11-220262 (page 7-8, FIG. 1)

しかし、従来の回路部品内蔵モジュールでは、複数のインナービアおよびそのインナービアに接合されたランド部が任意の位置に配置されている。そのため、検査を行うためには、上記複数のランド部に対応するように配列された複数のプローブを含む専用の検査器具が必要であった。この検査器具は、他の回路部品内蔵モジュールには用いることができなかった。   However, in a conventional circuit component built-in module, a plurality of inner vias and land portions joined to the inner vias are arranged at arbitrary positions. Therefore, in order to perform an inspection, a dedicated inspection instrument including a plurality of probes arranged so as to correspond to the plurality of land portions is necessary. This inspection instrument could not be used for other circuit component built-in modules.

本発明の回路部品内蔵モジュールは、電気絶縁層と、前記電気絶縁層の両主面に設けられた1対の配線層と、前記1対の配線層を電気接続し、前記電気的絶縁層の厚さ方向に前記電気的絶縁層を貫通する複数のビア導体と、前記電気絶縁層の内部に埋め込まれた回路部品とを含み、前記複数のビア導体は、前記電気絶縁層の周縁部の少なくとも一部に、所定の規則に従って配置されていることを特徴とする。   The circuit component built-in module according to the present invention electrically connects the electrical insulating layer, the pair of wiring layers provided on both main surfaces of the electrical insulating layer, and the pair of wiring layers, A plurality of via conductors penetrating through the electrical insulating layer in a thickness direction, and circuit components embedded in the electrical insulating layer, wherein the plurality of via conductors are at least a peripheral portion of the electrical insulating layer. It is characterized in that it is arranged in part according to a predetermined rule.

本発明の別の回路部品内蔵モジュールは、電気絶縁層と、前記電気絶縁層の両主面に配置された1対の配線層と、前記1対の配線層を電気接続し、前記電気的絶縁層の厚さ方向に前記電気的絶縁層を貫通する複数のビア導体と、前記電気絶縁層の内部に埋め込まれた回路部品とを含み、前記電気絶縁層は、前記電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、前記回路部品が配置された第1の領域と、前記複数のビア導体が配置された第2の領域とを含み、前記複数のビア導体は、前記第2の領域内において、互いに間隔をあけて、略格子を描くように配置されていることを特徴とする。   Another circuit component built-in module according to the present invention electrically connects the electrical insulating layer, the pair of wiring layers disposed on both principal surfaces of the electrical insulating layer, and the pair of wiring layers, and the electrical insulation. A plurality of via conductors penetrating the electrical insulation layer in the thickness direction of the layer, and a circuit component embedded in the electrical insulation layer, wherein the electrical insulation layer has the principal surface of the electrical insulation layer A first region in which the circuit component is disposed and a second region in which the plurality of via conductors are disposed, when the cut surface cut in a direction parallel to the plurality of via conductors is included. Are arranged in the second region so as to draw a substantially lattice with a space therebetween.

本発明の回路部品内蔵モジュールの製造方法は、(a)剥離フィルムの一方の主面または絶縁性基板の一方の主面に複数のランド部を含む配線層が形成された第1のシート状物を2つ用意し、少なくとも1方の前記第1のシート状物に回路部品を実装する工程と、(b)実装検査および特性検査から選ばれる少なくとも一種の検査を行う工程と、(c)電気絶縁性材料を、複数の貫通孔が所定の位置に形成された第2のシート状物に加工し、前記貫通孔内に導電性材料を充填し、前記第1のシート状物の前記回路部品が実装された面が前記第2のシート状物側を向くように、前記第1のシート状物間に前記導電性材料が充填された前記第2のシート状物を配置した後、これらを厚さ方向に加圧および加熱して、前記回路部品を前記第2のシート状物内に埋め込む工程とを含み、前記工程(a)において、前記複数のランド部を、前記剥離フィルムの一方の主面の周縁部または前記絶縁性基板の一方の主面の周縁部に、所定の規則に従って形成し、前記工程(b)において、前記複数のランド部に対応して配置された複数のプローブと、前記複数のプローブを支持する支持体とを含む検査器具を用いて、前記検査を行う。   The method for manufacturing a circuit component built-in module according to the present invention includes: (a) a first sheet-like product in which a wiring layer including a plurality of land portions is formed on one main surface of a release film or one main surface of an insulating substrate; Two, and a step of mounting circuit components on at least one of the first sheets, (b) a step of performing at least one type of inspection selected from mounting inspection and characteristic inspection, and (c) electricity Processing the insulating material into a second sheet-like material having a plurality of through-holes formed at predetermined positions, filling the through-hole with a conductive material, and the circuit component of the first sheet-like material After placing the second sheet-like material filled with the conductive material between the first sheet-like materials so that the surface on which the is mounted faces the second sheet-like material side, Pressurizing and heating in the thickness direction to place the circuit component in the second sheet. Embedding in a shape, and in the step (a), the plurality of land portions are arranged on the peripheral portion of one main surface of the release film or the peripheral portion of one main surface of the insulating substrate. Using an inspection instrument that is formed according to a predetermined rule and includes, in the step (b), a plurality of probes arranged corresponding to the plurality of land portions, and a support that supports the plurality of probes, Perform an inspection.

本発明の別の回路部品内蔵モジュールの製造方法は、(a)剥離フィルムの一方の主面または絶縁性基板の一方の主面に複数のランド部を含む配線層が形成された第1のシート状物を2つ用意し、少なくとも1方の前記第1のシート状物に回路部品を実装する工程と、(b)実装検査および特性検査から選ばれる少なくとも一種の検査を行う工程と、(c)電気絶縁性材料を、複数の貫通孔が所定の位置に形成された第2のシート状物に加工し、前記貫通孔内に導電性材料を充填し、前記第1のシート状物の前記回路部品が実装された面が前記第2のシート状物側を向くように、前記第1のシート状物間に前記導電性材料が充填された前記第2のシート状物を配置した後、これらを厚さ方向に加圧および加熱して、前記回路部品を前記第2のシート状物内に埋め込む工程とを含み、前記工程(a)において、前記剥離フィルムの一方の主面または前記絶縁性基板の一方の主面に、前記複数のランド部を、互いに間隔をあけて、略格子を描くように形成し、前記工程(b)において、前記複数のランド部に対応して配置された複数のプローブと、前記複数のプローブを支持する支持体とを含む検査器具を用いて、前記検査を行う。   According to another method of manufacturing a circuit component built-in module of the present invention, (a) a first sheet in which a wiring layer including a plurality of land portions is formed on one main surface of a release film or one main surface of an insulating substrate. Two steps, and mounting a circuit component on at least one of the first sheets, (b) performing at least one type of inspection selected from mounting inspection and characteristic inspection, and (c) ) Processing the electrically insulating material into a second sheet-like material having a plurality of through-holes formed at predetermined positions, filling the through-hole with a conductive material, and After disposing the second sheet-like material filled with the conductive material between the first sheet-like materials such that the surface on which the circuit component is mounted faces the second sheet-like material side, These are pressurized and heated in the thickness direction, and the circuit component is Embedded in a sheet-like material, and in the step (a), the plurality of land portions are spaced from each other on one main surface of the release film or one main surface of the insulating substrate. An inspection instrument including a plurality of probes formed so as to substantially draw a lattice and arranged in correspondence with the plurality of land portions in the step (b), and a support that supports the plurality of probes. And perform the inspection.

本発明では、回路部品内蔵モジュールの製造過程で用いられる、実装検査または特性検査からなる群から選ばれる少なくとも1種の検査に用いられる検査器具について、他の回路部品内蔵モジュールと共用が可能であり、低コスト化、生産性の向上を実現できる。   In the present invention, at least one type of inspection instrument selected from the group consisting of mounting inspection or characteristic inspection used in the manufacturing process of the circuit component built-in module can be shared with other circuit component built-in modules. Lower costs and improve productivity.

本発明において、「所定の規則に従って配置され」とは、例えば、複数のビア導体が、互いに間隔をあけて、1本以上の直線を描くように配置されていたり、矩形の4辺のうちの3辺を描くように配置されていたり、方形を描くように配置されていたり、千鳥配列されていたり、ほぼ等間隔に配置されている等、複数のビア導体が規則的に配置されていることを意味する。   In the present invention, “arranged according to a predetermined rule” means that, for example, a plurality of via conductors are arranged so as to draw one or more straight lines with a space between each other, or among four sides of a rectangle A plurality of via conductors are regularly arranged such that they are arranged to draw three sides, arranged to draw a square, staggered, or arranged at almost equal intervals. Means.

本発明では、ランド部とは、ビア導体と接合される接合用導体部のことを言う。配線層は、複数の上記ランド部を含む。配線層は、さらに、各ランド部等と電気接続された導線部および回路部品の電極と接合されるパッド電極のうちの少なくとも一方を含む場合もある。   In this invention, a land part means the conductor part for joining joined to a via conductor. The wiring layer includes a plurality of the land portions. The wiring layer may further include at least one of a conductive wire part electrically connected to each land part and the like and a pad electrode joined to an electrode of a circuit component.

実装検査とは、実装された回路部品について配線層との導通を確認する検査である。特性検査とは、回路部品内蔵モジュールの構成部品の電気的動作をチェックして、その構成部品の特性を確認する検査、または構成部品を含む仮モジュールの電気的動作をチェックして、構成部品の特性を確認する検査である。   The mounting inspection is an inspection for confirming continuity between the mounted circuit component and the wiring layer. Characteristic inspection is to check the electrical operation of the component parts of the circuit component built-in module and check the characteristics of the component parts, or to check the electrical operation of the temporary module including the component parts. This is an inspection to confirm the characteristics.

本発明の回路部品内蔵モジュールでは、電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、複数のビア導体が、互いに間隔をあけて、1本以上の直線を描くように配置されていると好ましい。   In the circuit component built-in module according to the present invention, when a cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer in a direction parallel to the main surface is viewed, a plurality of via conductors draw one or more straight lines at intervals. It is preferable that these are arranged.

本発明の回路部品内蔵モジュールでは、電気絶縁層の平面形状は矩形であり、電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、複数のビア導体が、互いに間隔をあけて、上記矩形の4辺のうちの3辺に沿って配置されているか、または、上記矩形の4辺に沿って方形を描くように配置されていると好ましい。   In the circuit component built-in module of the present invention, the planar shape of the electrical insulating layer is rectangular, and when a cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer in a direction parallel to the main surface is viewed, a plurality of via conductors are spaced from each other. It is preferable that it is arranged along three sides of the four sides of the rectangle, or arranged so as to draw a square along the four sides of the rectangle.

本発明の回路部品内蔵モジュールでは、電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、複数のビア導体が、千鳥配列されていると好ましい。   In the circuit component built-in module of the present invention, it is preferable that the plurality of via conductors are arranged in a staggered pattern when the cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer in a direction parallel to the main surface is viewed.

本実施の形態の回路部品内蔵モジュールでは、回路部品を複数個含み、電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、電気絶縁層は、複数の回路部品が配置された第1の領域と、複数のビア導体が配置された第2の領域とを含んでいると好ましい。   In the circuit component built-in module according to the present embodiment, when the cut surface obtained by including a plurality of circuit components and cutting the electric insulating layer in a direction parallel to the main surface is viewed, the electric insulating layer includes a plurality of circuit components. It is preferable to include a first region that is disposed and a second region in which a plurality of via conductors are disposed.

本実施の形態の回路部品内蔵モジュールでは、少なくとも1つの配線板を含んでおり、電気絶縁層の両主面に配置された1対の配線層のうちの少なくとも一方の配線層は、上記配線板の一方の面の配線層であってもよい。上記配線板は、絶縁性基板内に少なくとも1層の配線層が設けられた多層配線構造をしていてもよい。   The circuit component built-in module of the present embodiment includes at least one wiring board, and at least one wiring layer of the pair of wiring layers arranged on both main surfaces of the electrical insulating layer is the wiring board. It may be a wiring layer on one side. The wiring board may have a multilayer wiring structure in which at least one wiring layer is provided in an insulating substrate.

本実施の形態の回路部品内蔵モジュールでは、電気絶縁層を挟むように配置された1対の配線板を含み、配線板のその厚み方向と直交する方向の線膨張率は、電気絶縁層のその厚み方向と直交する方向の線膨張率より小さい。また、配線板のヤング率は、電気絶縁層のヤング率よりも大きい。この回路部品内蔵モジュールでは、電気絶縁層の両主面に設けられた1対の配線層のうちの一方の配線層は、一方の配線板の配線層であり、他方の配線層は、他方の配線板の配線層である。電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに見える面の中心から、その面の外形線までの距離をLとすると、上記中心からの距離が0.7Lを越えた領域内に複数のビア導体が配置されていると好ましい。尚、本明細書において、ヤング率とは、厚み方向と直交する方向の引張り弾性率のことである。   The circuit component built-in module of the present embodiment includes a pair of wiring boards arranged so as to sandwich the electrical insulating layer, and the linear expansion coefficient in the direction perpendicular to the thickness direction of the wiring board is that of the electrical insulating layer. It is smaller than the linear expansion coefficient in the direction orthogonal to the thickness direction. Further, the Young's modulus of the wiring board is larger than the Young's modulus of the electrical insulating layer. In this circuit component built-in module, one wiring layer of a pair of wiring layers provided on both main surfaces of the electrical insulating layer is a wiring layer of one wiring board, and the other wiring layer is the other wiring layer. It is a wiring layer of a wiring board. When the distance from the center of the surface seen when the cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer in a direction parallel to the main surface to the outline of the surface is L, the distance from the center is 0.7 L. It is preferable that a plurality of via conductors are arranged in the region beyond the above. In the present specification, the Young's modulus is a tensile elastic modulus in a direction orthogonal to the thickness direction.

本実施の形態の別の回路部品内蔵モジュールでは、少なくとも1つの配線板を含んでおり、電気絶縁層の両主面に配置された1対の配線層のうちの少なくとも一方の配線層は、上記配線板の一方の面の配線層であってもよい。上記配線板は絶縁性基板内に少なくとも1層の配線層が設けられた多層配線構造をしていてもよい。   In another circuit component built-in module of the present embodiment, at least one wiring board is included, and at least one wiring layer of the pair of wiring layers arranged on both main surfaces of the electrical insulating layer is It may be a wiring layer on one side of the wiring board. The wiring board may have a multilayer wiring structure in which at least one wiring layer is provided in an insulating substrate.

本実施の形態の回路部品内蔵モジュールの製造方法では、剥離フィルムの一方の主面または絶縁性基板の一方の主面に複数のランド部を含む配線層が形成された第1のシート状物を2つ用意し、少なくとも1方の前記第1のシート状物に回路部品を実装する工程において、好ましくは、複数のランド部を、互いに間隔をあけて、少なくとも1本の直線を描くように形成する。   In the method for manufacturing a circuit component built-in module according to the present embodiment, a first sheet-like material in which a wiring layer including a plurality of land portions is formed on one main surface of a release film or one main surface of an insulating substrate is used. In the step of preparing two and mounting circuit components on at least one of the first sheet-like objects, preferably, a plurality of land portions are formed so as to draw at least one straight line at intervals. To do.

また、上記工程において、剥離フィルムまたは絶縁性基板の平面形状は矩形であり、好ましくは、複数のランド部を、互いに間隔をあけて、上記矩形の4辺のうちの3辺に沿って形成するか、または4辺に沿って方形を描くように形成する。また、上記工程において、好ましくは、複数のランド部を、千鳥模様を描くように形成する。   In the above step, the planar shape of the release film or the insulating substrate is a rectangle, and preferably, a plurality of land portions are formed along three sides of the four sides of the rectangle at intervals. Alternatively, it is formed so as to draw a square along four sides. In the above step, preferably, the plurality of land portions are formed so as to draw a staggered pattern.

本実施の形態の回路部品内蔵モジュールの製造方法では、実装検査および特性検査から選ばれる少なくとも一種の検査を行う工程で用いられる検査器具が、複数のプローブと、これを支持する支持体とを含み、複数のプローブが、ほぼ等間隔に配列されていると好ましい。プローブは、好ましくは針状である。プローブは、好ましくは弾性を有している。プローブを支持する支持体は、好ましくは、弾性を有している。   In the method for manufacturing a circuit component built-in module according to the present embodiment, an inspection instrument used in a process of performing at least one type of inspection selected from mounting inspection and characteristic inspection includes a plurality of probes and a support body that supports the probes. The plurality of probes are preferably arranged at substantially equal intervals. The probe is preferably needle-shaped. The probe is preferably elastic. The support that supports the probe preferably has elasticity.

本実施の形態の回路部品内蔵モジュールの製造方法では、剥離フィルムの一方の主面または絶縁性基板の一方の主面に複数のランド部を含む配線層が形成された第1のシート状物を2つ用意し、少なくとも1方の第1のシート状物に回路部品を実装する工程において、第1のシート状物は、配線板であってもよい。または、絶縁性基板内に配線層が設けられた多層配線基板であってもよい。   In the method for manufacturing a circuit component built-in module according to the present embodiment, a first sheet-like material in which a wiring layer including a plurality of land portions is formed on one main surface of a release film or one main surface of an insulating substrate is used. In the step of preparing two and mounting circuit components on at least one of the first sheet-like objects, the first sheet-like object may be a wiring board. Alternatively, it may be a multilayer wiring board in which a wiring layer is provided in an insulating substrate.

本実施の形態の別の回路部品内蔵モジュールの製造方法では、剥離フィルムの一方の主面または絶縁性基板の一方の主面に複数のランド部を含む配線層が形成された第1のシート状物を2つ用意し、少なくとも1方の前記第1のシート状物に回路部品を実装する工程において、上記第1のシート状物は、配線板であってもよい。または、絶縁性基板内に配線層が設けられた多層配線基板であってもよい。   In another method for manufacturing a circuit component built-in module according to the present embodiment, a first sheet shape in which a wiring layer including a plurality of land portions is formed on one main surface of a release film or one main surface of an insulating substrate. In the step of preparing two objects and mounting circuit components on at least one of the first sheet-like objects, the first sheet-like object may be a wiring board. Alternatively, it may be a multilayer wiring board in which a wiring layer is provided in an insulating substrate.

以下、本発明の回路部品内蔵モジュールの一例について、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, an example of a circuit component built-in module of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施の形態1)
図1に、本実施の形態の回路部品内蔵モジュールの断面図を、図2に、図1に示した回路部品内蔵モジュールのA−A'断面図を示している。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view of the circuit component built-in module of the present embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the circuit component built-in module shown in FIG.

図1および図2に示すように、本実施の形態の回路部品内蔵モジュール1は、平面視が矩形状の電気絶縁層101と、電気絶縁層101の両主面に設けられた1対の配線層18b、102と、配線層18b、102間を電気接続する複数のビア導体103と、電気絶縁層101内に埋め込まれた複数の回路部品109とを含んでいる。各ビア導体103は、電気的絶縁層101の厚さ方向に電気的絶縁層101を貫通している。回路部品内蔵モジュール1では、1対の配線層18b、102は、電気絶縁層101に埋め込まれている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the circuit component built-in module 1 according to the present embodiment includes a rectangular electric insulating layer 101 in plan view and a pair of wirings provided on both main surfaces of the electric insulating layer 101. Layers 18 b and 102, a plurality of via conductors 103 electrically connecting the wiring layers 18 b and 102, and a plurality of circuit components 109 embedded in the electrical insulating layer 101 are included. Each via conductor 103 passes through the electrical insulating layer 101 in the thickness direction of the electrical insulating layer 101. In the circuit component built-in module 1, the pair of wiring layers 18 b and 102 are embedded in the electrical insulating layer 101.

図2に示すように、複数のビア導体103は、電気絶縁層101をその主面101a(図1参照)と平行な方向に切断した切断面を見たときに、電気絶縁層101の周縁部において、電気絶縁層101の4辺に沿うように配置されている。また、複数のビア導体103は、ほぼ等間隔に配列されている。図1に示した配線層18bは、図2に示すように複数のランド部18b'を有しており、ランド部18b'は、いずれもビア導体103と接合されている。配線層102(図1参照)も、上記複数のランド部18b'と対応する位置に複数のランド部を有している。   As shown in FIG. 2, the plurality of via conductors 103 have a peripheral portion of the electrical insulating layer 101 when the cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer 101 in a direction parallel to the main surface 101 a (see FIG. 1) is viewed. In FIG. 2, the electric insulating layers 101 are arranged along the four sides. The plurality of via conductors 103 are arranged at substantially equal intervals. The wiring layer 18 b shown in FIG. 1 has a plurality of land portions 18 b ′ as shown in FIG. 2, and all the land portions 18 b ′ are joined to the via conductor 103. The wiring layer 102 (see FIG. 1) also has a plurality of land portions at positions corresponding to the plurality of land portions 18b ′.

回路部品内蔵モジュール1は、電気絶縁層101の一方の主面と接合された配線板108を含んでいる。電気絶縁層101に埋め込まれた配線層18bは、配線板108の配線層である。複数の回路部品109は、電気絶縁層101内に埋め込まれる前において、この配線板108に実装され一体化されている。   The circuit component built-in module 1 includes a wiring board 108 bonded to one main surface of the electrical insulating layer 101. The wiring layer 18 b embedded in the electrical insulating layer 101 is a wiring layer of the wiring board 108. The plurality of circuit components 109 are mounted and integrated on the wiring board 108 before being embedded in the electrical insulating layer 101.

回路部品内蔵モジュール1では、その製造過程において、配線板108に回路部品109を実装した後、回路部品109を電気絶縁層101内に埋めこむ前に、実装検査および特性検査から選ばれる少なくとも1種の検査が行われる。   In the circuit component built-in module 1, in the manufacturing process, after the circuit component 109 is mounted on the wiring board 108 and before the circuit component 109 is embedded in the electrical insulating layer 101, at least one selected from mounting inspection and characteristic inspection is performed. Inspection is performed.

例えば、上記実装検査には、図3に示すような検査器具6が用いられる。検査器具6は、図3に示すように、導体からなる複数のプローブ4と、各プローブ4を電源に接続するための配線(図示せず)と、複数のプローブ4を支持する平板状の支持体5とからなる。複数のプローブ4は、検査器具6を平面視したときに、方形を描くように、すなわち、4本の直線を描くように、かつほぼ等間隔に配列されている。プローブ4は、支持体5を貫通しており、その端部が支持体5の一方の面から突き出ている。   For example, an inspection instrument 6 as shown in FIG. 3 is used for the mounting inspection. As shown in FIG. 3, the inspection instrument 6 includes a plurality of probes 4 made of conductors, wiring (not shown) for connecting each probe 4 to a power source, and a flat support that supports the plurality of probes 4. It consists of a body 5. The plurality of probes 4 are arranged at substantially equal intervals so as to draw a square when the inspection instrument 6 is viewed in plan, that is, to draw four straight lines. The probe 4 penetrates the support body 5, and an end portion of the probe 4 protrudes from one surface of the support body 5.

図3に示した検査器具6は、本実施の形態の回路部品内蔵モジュール1の他に、例えば、複数のビア導体103および複数のランド部18b'(図2参照)が、電気絶縁層101の周縁部において、4辺のうちの1辺に沿って設けられた他の回路部品内蔵モジュール、2辺に沿って設けられたさらに別の回路部品内蔵モジュール等の検査にも用いることができる。また、図2に示した複数のビア導体103(およびランド部18b')のうちから任意に選択される複数のビア導体(およびランド部)を備えた種々の回路部品内蔵モジュールの上記検査にも用いることができる。   In addition to the circuit component built-in module 1 of the present embodiment, the inspection instrument 6 shown in FIG. 3 includes, for example, a plurality of via conductors 103 and a plurality of land portions 18b ′ (see FIG. 2) of the electrical insulating layer 101. In the peripheral portion, it can also be used to inspect other circuit component built-in modules provided along one side of the four sides, and another circuit component built-in module provided along two sides. Also for the above-described inspection of various circuit component built-in modules having a plurality of via conductors (and land portions) arbitrarily selected from the plurality of via conductors 103 (and land portions 18b ′) shown in FIG. Can be used.

このように、規則的に配列されたプローブ4を含む検査器具6は、種々の回路部品内蔵モジュールの上記検査に使用できる。したがって、回路部品内蔵モジュール1では、種々の回路部品内蔵モジュールと検査器具6を共用でき、低コスト化、生産性の向上を実現できる。   Thus, the inspection instrument 6 including the regularly arranged probes 4 can be used for the above-described inspection of various circuit component built-in modules. Therefore, the circuit component built-in module 1 can share the various circuit component built-in modules and the inspection instrument 6, thereby realizing cost reduction and productivity improvement.

一般に、回路部品内蔵モジュールの設計ルールでは、回路部品−ビア導体間距離は、回路部品−回路部品間距離よりも大きい。回路部品−ビア導体間距離が、例えば、500μmであるのに対し、回路部品−回路部品間距離は、例えば、150μmである。したがって、例えば、回路部品109間にビア導体103が配置されていると高密度化の妨げとなり設計も複雑化する。   Generally, according to the design rule of the circuit component built-in module, the distance between the circuit component and the via conductor is larger than the distance between the circuit component and the circuit component. The distance between the circuit component and the via conductor is, for example, 500 μm, whereas the distance between the circuit component and the circuit component is, for example, 150 μm. Therefore, for example, if the via conductor 103 is disposed between the circuit components 109, the density is hindered and the design is complicated.

図2に示すように、回路部品内蔵モジュール1では、電気絶縁層101をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、電気絶縁層101は、複数の回路部品109が配置された第1の領域Dと、複数のビア導体103が配置された第2の領域Eとに分かれているので、高密度化が可能となっている。また、高密度化のための設計の困難さも低減されている。尚、本実施の形態では、第1の領域D内には、ビア導体103は配置されておらず、間隣り合う回路部品109間にビア導体103は配置されていない。第2の領域E内には、回路部品109は配置されていない。第1の領域Dは、電気絶縁層101の中央部にあり、第2の領域Eは、電気絶縁層101の周縁部にあり、第1の領域Dを囲っている。   As shown in FIG. 2, in the circuit component built-in module 1, when the cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer 101 in a direction parallel to the main surface is viewed, the electrical insulating layer 101 is arranged with a plurality of circuit components 109. Since the first region D is divided into the second region E in which the plurality of via conductors 103 are arranged, the density can be increased. In addition, the difficulty in designing for higher density is reduced. In the present embodiment, the via conductor 103 is not disposed in the first region D, and the via conductor 103 is not disposed between the adjacent circuit components 109. In the second region E, the circuit component 109 is not arranged. The first region D is in the central portion of the electrical insulating layer 101, and the second region E is in the peripheral portion of the electrical insulating layer 101 and surrounds the first region D.

電気絶縁層101は、絶縁性材料、例えば、絶縁性樹脂、またはフィラーと絶縁性樹脂とを含む混合物等から形成できる。ガラスクロス等の補強材をさらに含んでいてもよい。絶縁性樹脂としては、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂等を用いることができるが、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、イソシアネート樹脂等を用いれば、電気絶縁層101の耐熱性を高めることができる。誘電正接の低い、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のフッ素樹脂、ポリフェニレンオキサイド(PPO)、ポリフェニレンエーテル(PPE)、液晶ポリマーを含む材料、またはこれらの樹脂を変性させた樹脂を用いれば、電気絶縁層101の高周波特性が向上する。   The electrical insulating layer 101 can be formed from an insulating material such as an insulating resin or a mixture containing a filler and an insulating resin. A reinforcing material such as glass cloth may be further included. As the insulating resin, for example, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a photocurable resin, or the like can be used. If an epoxy resin, a phenol resin, an isocyanate resin, or the like is used, the heat resistance of the electrical insulating layer 101 is increased. Can be increased. Electrical insulation can be achieved by using a fluororesin such as polytetrafluoroethylene (PTFE) with low dielectric loss tangent, polyphenylene oxide (PPO), polyphenylene ether (PPE), a material containing a liquid crystal polymer, or a resin obtained by modifying these resins. The high frequency characteristics of the layer 101 are improved.

電気絶縁層101を、フィラーと絶縁性樹脂とを含む混合物から形成する場合、フィラーおよび絶縁性樹脂の種類を適宜選択すれば、電気絶縁層101の線膨張率、熱伝導度、誘電率等を容易に制御できる。フィラーには、例えば、Al23、MgO、SiO2、BN、AlN、Si34、「テフロン」(登録商標)等を用いることができる。Al23、BN、AlNを用いた場合は、熱伝導度の高い電気絶縁層を作製でき、電気絶縁層の放熱性を高めることができる。Al23はコストが安いという利点もある。SiO2、Si34、「テフロン」(登録商標)を用いた場合は、誘電率が低い電気絶縁層を作製できる。特に、比重が小さいSiO2は携帯電話等の用途に適している。BNを用いると、線膨張率を低くできる。 When the electrical insulating layer 101 is formed from a mixture containing a filler and an insulating resin, the linear expansion coefficient, thermal conductivity, dielectric constant, etc. of the electrical insulating layer 101 can be adjusted by appropriately selecting the type of filler and insulating resin. Easy to control. As the filler, for example, Al 2 O 3 , MgO, SiO 2 , BN, AlN, Si 3 N 4 , “Teflon” (registered trademark) or the like can be used. When Al 2 O 3 , BN, or AlN is used, an electrical insulating layer with high thermal conductivity can be manufactured, and the heat dissipation of the electrical insulating layer can be improved. Al 2 O 3 has the advantage of low cost. When SiO 2 , Si 3 N 4 , “Teflon” (registered trademark) is used, an electrical insulating layer having a low dielectric constant can be produced. In particular, SiO 2 having a small specific gravity is suitable for applications such as cellular phones. When BN is used, the linear expansion coefficient can be lowered.

フィラーと絶縁性樹脂とを含む混合物には、さらに分散剤、着色剤、カップリング剤または離型剤等が添加されていてもよい。分散剤が添加されていると、絶縁性樹脂中のフィラーの分散性を高めることができる。着色剤により電気絶縁層を着色すれば、自動認識装置の利用が容易となる。カップリング剤が添加されていると、絶縁性樹脂とフィラーとの接着強度が向上し、電気絶縁層101の絶縁性を高めることができる。離型剤が添加されていると、金型との離型性が向上するため、生産性を向上できる。   A dispersant, a colorant, a coupling agent, a release agent, or the like may be further added to the mixture containing the filler and the insulating resin. When the dispersant is added, the dispersibility of the filler in the insulating resin can be improved. If the electrical insulating layer is colored with a colorant, the automatic recognition device can be easily used. When the coupling agent is added, the adhesive strength between the insulating resin and the filler is improved, and the insulating property of the electrical insulating layer 101 can be improved. When a mold release agent is added, the mold release property is improved, so that productivity can be improved.

配線層102は、電気伝導性を有する物質、例えば、金属箔や導電性樹脂組成物からなる。金属箔としては、例えば、電解メッキ法により作製された厚み3μm〜35μm程度の銅箔が使用できる。銅箔は電気絶縁層101との接着性を向上させるために、電気絶縁層101と接触する面を粗面化することが望ましい。また、接着性および耐酸化性向上のために、銅箔表面にカップリング処理したものや、銅箔表面に、錫、亜鉛またはニッケルをメッキしたものを使用してもよい。また、配線層102には、エッチング処理または打ち抜き法で形成された金属板のリードフレームを用いてもよい。剥離フィルム上に形成された配線層102を電気絶縁層101に転写して形成してもよい。カプラーやフィルター等を、配線層102を所定の配線パターンとすることによって形成してもよい。   The wiring layer 102 is made of a material having electrical conductivity, such as a metal foil or a conductive resin composition. As the metal foil, for example, a copper foil having a thickness of about 3 μm to 35 μm manufactured by an electrolytic plating method can be used. In order to improve the adhesion of the copper foil to the electrical insulating layer 101, it is desirable to roughen the surface in contact with the electrical insulating layer 101. In order to improve adhesion and oxidation resistance, a copper foil surface that has been subjected to a coupling treatment or a copper foil surface that has been plated with tin, zinc, or nickel may be used. The wiring layer 102 may be a metal plate lead frame formed by etching or punching. The wiring layer 102 formed on the release film may be transferred to the electrical insulating layer 101. Couplers, filters, and the like may be formed by using the wiring layer 102 as a predetermined wiring pattern.

ビア導体103の材料は、導電性材料、例えば、金属粒子と熱硬化性樹脂とを混合した導電性樹脂組成物等が用いられる。金属粒子には、例えば、金、銀、銅、パラジウムまたはニッケル等を用いることができる。金、銀、銅またはニッケル等は、導電性が高いため好ましい。銅は導電性が高くマイグレーションも少ないため特に好ましい。銅を銀で被覆した金属粒子を用いると、マイグレーションの少なさと導電性の高さの両方の特性を満たすことができる。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂またはイソシアネート樹脂を用いることができる。エポキシ樹脂は、耐熱性が高いため特に好ましい。また、ビア導体103は、電気絶縁層101にビアホールを形成した後、メッキ処理することによっても形成できる。   As the material of the via conductor 103, a conductive material, for example, a conductive resin composition in which metal particles and a thermosetting resin are mixed is used. As the metal particles, for example, gold, silver, copper, palladium, nickel, or the like can be used. Gold, silver, copper, nickel, or the like is preferable because of its high conductivity. Copper is particularly preferred because of its high conductivity and low migration. When metal particles in which copper is coated with silver are used, the characteristics of both low migration and high conductivity can be satisfied. As the thermosetting resin, for example, an epoxy resin, a phenol resin, or an isocyanate resin can be used. Epoxy resins are particularly preferred because of their high heat resistance. The via conductor 103 can also be formed by forming a via hole in the electrical insulating layer 101 and then plating.

ビア導体103の数について特に制限なく、配線層に搭載される部品や回路構成等によって適宜決定される。例えば、配線層102にメモリを搭載する場合、ビア導体103の数は、メモリのピン数と対応して、例えば、8個〜1024個程度必要となる。   The number of via conductors 103 is not particularly limited and is appropriately determined depending on the components mounted on the wiring layer, the circuit configuration, and the like. For example, when a memory is mounted on the wiring layer 102, the number of via conductors 103 is required to be about 8 to 1024, for example, corresponding to the number of pins of the memory.

配線板108を構成する配線層18b,18cの材料は、配線102の材料と、配線板108を構成するビア導体18dの材料は、ビア導体103の材料と同様であり、形成方法についてもそれぞれ同様である。   The material of the wiring layers 18b and 18c constituting the wiring board 108 is the same as the material of the wiring 102 and the material of the via conductor 18d constituting the wiring board 108, and the formation method is also the same. It is.

配線板108を構成する絶縁性基板18aは、例えば、絶縁性樹脂、フィラーと絶縁性樹脂との混合物、またはセラミック等から形成されている。絶縁性基板18aは、ガラスクロス等の補強材をさらに含んでいてもよい。また、絶縁性基板18aは、電気絶縁層101と同じ材料であってもよい。絶縁性基板18aの材料に電気絶縁層101と同じ材料を用いると、絶縁性基板18aの線膨張率等の特性が電気絶縁層101のそれと類似し、電気接続の信頼性が向上する。   The insulating substrate 18a constituting the wiring board 108 is made of, for example, an insulating resin, a mixture of filler and insulating resin, ceramic, or the like. The insulating substrate 18a may further include a reinforcing material such as a glass cloth. The insulating substrate 18a may be made of the same material as that of the electrical insulating layer 101. When the same material as that of the electrical insulating layer 101 is used as the material of the insulating substrate 18a, characteristics such as the linear expansion coefficient of the insulating substrate 18a are similar to those of the electrical insulating layer 101, and the reliability of electrical connection is improved.

回路部品109としては、例えば、受動部品104a〜104c、または能動部品106が挙げられる。受動部品104a〜104cとしては、例えば、チップ状コンデンサ、チップ状インダクタ、チップ状抵抗、ダイオード、サーミスタ、スイッチ等が挙げられる。能動部品106としては、例えば、トランジスタ、IC、LSI等の半導体素子が用いられる。   Examples of the circuit component 109 include passive components 104a to 104c or an active component 106. Examples of the passive components 104a to 104c include a chip capacitor, a chip inductor, a chip resistor, a diode, a thermistor, and a switch. As the active component 106, for example, a semiconductor element such as a transistor, IC, or LSI is used.

受動部品104a〜104cは、例えば、図1に示したように、導電性物質105により配線層18bに接合される。導電性物質105としては、金、銅、半田等の金属または導電性接着剤等を用いることができる。導電性接着剤には、例えば、金、銀、銅、銀−パラジウム合金等を熱硬化性樹脂で混練したものが使用できる。導電性物質105として高温半田を用いれば、リフローの際の半田の再溶融を防止できる。また、鉛フリー半田や上記導電性接着剤を用いれば環境への負荷を軽減できる。   The passive components 104a to 104c are bonded to the wiring layer 18b by the conductive material 105, for example, as shown in FIG. As the conductive material 105, a metal such as gold, copper, or solder, or a conductive adhesive can be used. As the conductive adhesive, for example, gold, silver, copper, silver-palladium alloy or the like kneaded with a thermosetting resin can be used. If high temperature solder is used as the conductive material 105, remelting of the solder during reflow can be prevented. In addition, the use of lead-free solder or the above conductive adhesive can reduce the environmental load.

能動部品106は、例えば、CSP(chip scale package)等のパッケージでも、ベアチップでもよい。能動部品106は、例えば、図1に示したように、バンプ107を介して配線層18bと接合される。能動部品106を実装した後、能動部品106と配線層18bとの間に封止樹脂を注入してもよい。封止樹脂の注入によって、電気絶縁層101内に埋め込まれた能動部品106と配線板108との間に隙間ができることを抑制できる。封止樹脂には通常のフリップチップボンディングに使用されるアンダーフィル樹脂等を用いることができる。アンダーフィル樹脂としては、例えば、異方性導電フィルム(ACF)、非導電性フィルム(NCF)等が挙げられる。   The active component 106 may be a package such as a CSP (chip scale package) or a bare chip. For example, as shown in FIG. 1, the active component 106 is bonded to the wiring layer 18 b via the bump 107. After mounting the active component 106, a sealing resin may be injected between the active component 106 and the wiring layer 18b. By injecting the sealing resin, it is possible to suppress a gap from being formed between the active component 106 embedded in the electrical insulating layer 101 and the wiring board 108. As the sealing resin, an underfill resin or the like used for normal flip chip bonding can be used. Examples of the underfill resin include an anisotropic conductive film (ACF) and a nonconductive film (NCF).

図1および図2に示した例では、複数のビア導体103または第2の領域Eが、電気絶縁層101の4辺の周囲に存在しているが、これに制限されない。複数のビア導体103または第2の領域Eが、電気絶縁層101の周縁部のうちの少なくとも一部、例えば、電気絶縁層101の1辺の周囲にのみ存在していてもよい。   In the example shown in FIGS. 1 and 2, the plurality of via conductors 103 or the second region E exist around the four sides of the electrical insulating layer 101, but the present invention is not limited to this. The plurality of via conductors 103 or the second region E may exist only at least part of the peripheral edge of the electrical insulating layer 101, for example, around one side of the electrical insulating layer 101.

また、図1および図2に示した例では、電気絶縁層101をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、複数のビア導体103が、4本の直線によって方形を描くように、ほぼ等間隔に配列されているが、これに制限されない。例えば、図4および図5に示すように、複数のビア導体103(およびランド部18b')は、互いに間隔をあけて、平行な2本以上の線を描くように配列されていてもよい。また、例えば、図6に示すように、複数のビア導体103(およびランド部18b')は、互いに間隔をあけて、矩形の4辺のうちの3辺に沿って配置されていてもよいし、図7に示すように、千鳥配列されていてもよい。ランド部18b'が千鳥配列されていると、絶縁性基板18aの配線18b層(図1参照)が設けられた面に、ランド部に直接電気接続した導線部を設けることが容易となる。また、複数のビア導体103、必ずしも等間隔に配列されていなくてもよい。   Further, in the example shown in FIGS. 1 and 2, when the cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer 101 in a direction parallel to the main surface is viewed, the plurality of via conductors 103 are squared by four straight lines. As illustrated, the electrodes are arranged at almost equal intervals, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIGS. 4 and 5, the plurality of via conductors 103 (and land portions 18b ′) may be arranged so as to draw two or more parallel lines spaced apart from each other. For example, as shown in FIG. 6, the plurality of via conductors 103 (and the land portions 18 b ′) may be arranged along three sides of the four sides of the rectangle at intervals. As shown in FIG. 7, they may be arranged in a staggered manner. When the land portions 18b 'are arranged in a staggered manner, it is easy to provide a conductive wire portion that is electrically connected directly to the land portion on the surface of the insulating substrate 18a on which the wiring 18b layer (see FIG. 1) is provided. Further, the plurality of via conductors 103 are not necessarily arranged at equal intervals.

また、本実施の形態の回路部品内蔵モジュールの製造過程において用いられる検査器具について平面視したとき、複数のプローブは、図4および図5に示した複数のランド部18b'と対応するように、互いに間隔をあけて、平行な2本以上の線を描くように配列されていてもよい。また、例えば、図6に示した複数のランド部18b'と対応するように、互いに間隔をあけて、矩形の4辺のうちの3辺を描くように配置されていてもよい。また、図7に示した複数のランド部18b'と対応するように、千鳥配列されていてもよい。   Further, when the inspection instrument used in the manufacturing process of the circuit component built-in module according to the present embodiment is viewed in plan, the plurality of probes correspond to the plurality of land portions 18b ′ shown in FIGS. They may be arranged so as to draw two or more parallel lines spaced apart from each other. Further, for example, it may be arranged so as to draw three sides of the four sides of the rectangle at intervals from each other so as to correspond to the plurality of land portions 18b ′ shown in FIG. Moreover, it may be staggered so as to correspond to the plurality of land portions 18b ′ shown in FIG.

図4および図7に示した例では、第2の領域Eは、平面視が矩形の電気絶縁層の一辺に沿って存在し、図5に示した例では、第2の領域Eは、矩形の4辺のうちの対向する2辺に沿って存在している。図6に示した例では、第2の領域Eは、矩形の4辺のうちの3辺に沿って存在している。図4〜図7に示した例では、第1の領域D内には、ビア導体103は配置されておらず、間隣り合う回路部品109間にビア導体103は配置されていない。第2の領域E内には、回路部品109は配置されていない。   In the example shown in FIGS. 4 and 7, the second region E exists along one side of the electrical insulating layer that is rectangular in plan view. In the example shown in FIG. 5, the second region E is rectangular. It exists along two opposite sides of the four sides. In the example illustrated in FIG. 6, the second region E exists along three sides of the four sides of the rectangle. In the example shown in FIGS. 4 to 7, the via conductor 103 is not disposed in the first region D, and the via conductor 103 is not disposed between the adjacent circuit components 109. In the second region E, the circuit component 109 is not arranged.

図2、図4〜図7に示した例では、電気絶縁層101の周縁部に配置された複数のランド部18b'はいずれもビア導体103と接合されているが、これに制限されない。図8に示すように、複数のビア導体103のいずれのビア導体とも接合されないが、検査には使用される、少なくとも1つの非接合ランド部182b'を含んでいてもよい。各ビア導体103と接合された接合ランド部181b'と上記非接合ランド部182b'部とを含む複数のランド部18b'が、少なくとも1本の直線を描くように配列されていてもよいし、等間隔に配列されていてもよい。   In the example shown in FIGS. 2 and 4 to 7, the plurality of land portions 18 b ′ arranged on the peripheral edge portion of the electrical insulating layer 101 are all joined to the via conductor 103, but are not limited thereto. As shown in FIG. 8, it may include at least one non-bonded land portion 182 b ′ that is not bonded to any via conductor of the plurality of via conductors 103 but is used for inspection. A plurality of land portions 18b ′ including a joint land portion 181b ′ joined to each via conductor 103 and the non-joint land portion 182b ′ portion may be arranged to draw at least one straight line, They may be arranged at equal intervals.

尚、図2、図4〜図8では、配線層18b(図1参照)について、電気絶縁層101の周縁部に配置された複数のランド部18b'のみ示しており、配線層18bを構成する、導線部や、回路部品の電極と接合されるパッド電極や、他のランド部等は省略している。他のランド部とは、ビア導体18d(図1参照)と接合されるランド部のことである。   2, FIG. 4 to FIG. 8 show only the plurality of land portions 18b ′ arranged on the peripheral edge portion of the electrical insulating layer 101 for the wiring layer 18b (see FIG. 1), and constitute the wiring layer 18b. The lead wire portion, the pad electrode joined to the electrode of the circuit component, other land portions, etc. are omitted. The other land portion is a land portion joined to the via conductor 18d (see FIG. 1).

また、電気絶縁層内に埋め込まれた回路部品の数について特に制限はなく、1つであってもよい。   Moreover, there is no restriction | limiting in particular about the number of the circuit components embedded in the electrical insulation layer, and one may be sufficient.

(実施の形態2)
実施の形態2では、実施の形態1の回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を説明する。実施の形態2で用いられる材料は、実施の形態1で説明した材料と同様である。実施の形態1と同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
(Embodiment 2)
In the second embodiment, an example of a method for manufacturing the circuit component built-in module according to the first embodiment will be described. The material used in Embodiment 2 is the same as the material described in Embodiment 1. The same members as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

まず、図9Aに示すように、熱硬化性樹脂と無機フィラーとを含む混合物から、下記の方法によりシート状物30を成形する。   First, as shown to FIG. 9A, the sheet-like material 30 is shape | molded with the following method from the mixture containing a thermosetting resin and an inorganic filler.

無機フィラーと熱硬化性樹脂と低粘度化のための溶剤とを含む混合物スラリーを準備し、この混合物スラリーを用いて離型性フィルムの上に造膜する。造膜方法は、特に限定されないが、ドクターブレード法、コーター法、押し出し成形法等が挙げられる。次いで、造膜された混合物スラリーから上記溶剤の一部を除去する。   A mixture slurry containing an inorganic filler, a thermosetting resin, and a solvent for reducing the viscosity is prepared, and this mixture slurry is used to form a film on a releasable film. The film forming method is not particularly limited, and examples thereof include a doctor blade method, a coater method, and an extrusion method. Next, a part of the solvent is removed from the formed mixture slurry.

次に、シート状物30の所定の箇所に複数の貫通孔31を形成する。貫通孔31は、例えば、炭酸ガスレーザーやエキシマレーザー等を用いたレーザー加工法、ドリル加工法、パンチング加工法等の方法によって形成できる。特に、レーザー加工法は簡便で精度が高いため好ましい。レーザーには、炭酸ガスレーザー、YAGレーザー、エキシマレーザー等を用いることができる。次いで、貫通孔31内に導電性樹脂組成物32を充填する。   Next, a plurality of through holes 31 are formed at predetermined locations of the sheet-like object 30. The through hole 31 can be formed by a method such as a laser processing method using a carbon dioxide laser or an excimer laser, a drill processing method, a punching processing method, or the like. In particular, the laser processing method is preferable because it is simple and has high accuracy. As the laser, a carbon dioxide laser, a YAG laser, an excimer laser, or the like can be used. Next, the conductive resin composition 32 is filled in the through holes 31.

次に、シート状物30の両面に、例えば、厚みが9μmの銅箔を100℃でラミネートする。ついで、これらを、熱プレス等を用いて加熱および加圧して、シート状物30および導電性樹脂組成物32に含まれる熱硬化性樹脂を硬化させる。硬化されたシート状物30は絶縁性基板18aとなり、硬化された導電性樹脂組成物32はビア導体18dとなる。その後、銅箔から不要な部分を取り除いて、配線層18b、配線層18cを形成する。このようにして、絶縁性基板18a上に配線層18bが形成された第1のシート状物(配線板108)を形成する。(図9B参照)。   Next, for example, a copper foil having a thickness of 9 μm is laminated on both surfaces of the sheet-like material 30 at 100 ° C. Subsequently, these are heated and pressurized using a hot press or the like to cure the thermosetting resin contained in the sheet-like material 30 and the conductive resin composition 32. The cured sheet 30 becomes the insulating substrate 18a, and the cured conductive resin composition 32 becomes the via conductor 18d. Thereafter, unnecessary portions are removed from the copper foil to form the wiring layer 18b and the wiring layer 18c. In this way, the first sheet-like material (wiring board 108) in which the wiring layer 18b is formed on the insulating substrate 18a is formed. (See FIG. 9B).

図10は、第1のシート状物(配線板108)を配線層18b側から見た概略図である。配線18bは、複数のランド部18b'と、回路部品の電極と接合される複数のパッド電極183と、導線部(図示せず)と、他のランド部(図示せず)等とから構成されている。複数のランド部18b'は、絶縁性基板18aの一方の主面の周縁部において、互いに間隔をあけて、方形を描くように形成されている。尚、理解を容易にするために、図10において導線部や他のランド部等は省略している。   FIG. 10 is a schematic view of the first sheet (wiring board 108) viewed from the wiring layer 18b side. The wiring 18b includes a plurality of land portions 18b ′, a plurality of pad electrodes 183 joined to the electrodes of the circuit components, a conductor portion (not shown), another land portion (not shown), and the like. ing. The plurality of land portions 18b ′ are formed so as to draw a square at intervals from each other at the peripheral edge portion of one main surface of the insulating substrate 18a. In order to facilitate understanding, the conductor portion and other land portions are omitted in FIG.

次に、図9Cに示すように、上記第1のシート状物(配線板108)に、複数の回路部品109を実装する。次いで、実装された複数の回路部品109について、実装検査を行う。   Next, as shown in FIG. 9C, a plurality of circuit components 109 are mounted on the first sheet-like material (wiring board 108). Next, a mounting inspection is performed on the plurality of mounted circuit components 109.

図3に、実装検査を行う様子を示している。支持台7上に複数の回路部品(図示せず)が実装された配線板108を配置する。次いで、検査器具6の各プローブ4の先端と各ランド部18b'とが当接するように位置合わせする。検査器具6の支持体5の端面と、支持台7の端面とをそろえた状態で、検査器具6を支持台7に近づければ、プローブ4の先端とランド部18b'とを容易に位置合わせできる。次に、複数の回路部品が実装された配線板108に電圧を印加して、所定の条件を満たす電気接続がなされているか否か等の判定をする。尚、図3では、配線板108に実装された回路部品109(図9C参照)は省略している。また、図3では、配線層18b(図9B参照)について、電気絶縁層内のビア導体と接合されるランド部18b'のみを描いている。   FIG. 3 shows how the mounting inspection is performed. A wiring board 108 on which a plurality of circuit components (not shown) are mounted is disposed on the support base 7. Next, alignment is performed so that the tips of the probes 4 of the inspection instrument 6 are in contact with the land portions 18b ′. If the end surface of the support 5 of the inspection instrument 6 and the end surface of the support base 7 are aligned, the inspection instrument 6 can be brought close to the support base 7 to easily align the tip of the probe 4 and the land portion 18b ′. it can. Next, a voltage is applied to the wiring board 108 on which a plurality of circuit components are mounted to determine whether or not an electrical connection that satisfies a predetermined condition is made. In FIG. 3, the circuit component 109 (see FIG. 9C) mounted on the wiring board 108 is omitted. Further, in FIG. 3, only the land portion 18b ′ joined to the via conductor in the electrical insulating layer is drawn for the wiring layer 18b (see FIG. 9B).

プローブ4の形状については、特に制限されないが、例えば、図11Aに示すように、針状であることが好ましい。針状であると、ランド部との位置合わせが容易だからである。また、図11Bに示すように、プローブ4は、コイル状部41aを含み、バネ状弾性を有していてもよい。また、図3に示した支持体5は、ゴム状弾性を有する材料から形成されていてもよい。このように、プローブ4および支持体5から選択される少なくとも一方が弾性を有していれば、検査において検査器具の高さ方向の調節等が容易となり、生産性を高めることができる。   The shape of the probe 4 is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 11A, a needle shape is preferable. This is because the needle shape is easy to align with the land portion. Further, as shown in FIG. 11B, the probe 4 includes a coiled portion 41a and may have spring-like elasticity. Moreover, the support body 5 shown in FIG. 3 may be formed from the material which has rubber-like elasticity. As described above, if at least one selected from the probe 4 and the support 5 has elasticity, the adjustment of the height direction of the inspection instrument in the inspection can be facilitated, and the productivity can be increased.

プローブ4について、支持体5から突き出た端部の長さを、配線板108に実装された回路部品109(図9C参照)の高さよりも長くすれば、回路部品109にダメージを与えることなく検査を行うことができる。   If the length of the end of the probe 4 protruding from the support 5 is made longer than the height of the circuit component 109 (see FIG. 9C) mounted on the wiring board 108, the circuit component 109 is not damaged. It can be performed.

次に、図9Dに示すように、所定の位置に複数の貫通孔41を有する第2のシート状物40を形成する。貫通孔41は、ランド部18b'(図10参照)と対応する位置に設ける。次いで、貫通孔41内に導電性樹脂組成物42を充填する。第2のシート状物40は、例えば、シート状物30(図9A参照)と同様の材料および方法で形成できる。第2のシート状物40は、シート状物30(図9A参照)の形成方法とは異なる方法でも作製できる。例えば、絶縁性材料をペレット状に加工した後溶融して、それを所定形状の金型内に注入する方法、または絶縁性材料を金型内に充填した後溶融して、それを成形する方法等でも第2のシート状物40を形成できる。金型には、トランスファーモールドやインジェクションモールドを用いることができる。導電性樹脂組成物42の充填には、印刷や注入による方法を採用してもよい。   Next, as shown in FIG. 9D, a second sheet-like object 40 having a plurality of through holes 41 at a predetermined position is formed. The through hole 41 is provided at a position corresponding to the land portion 18b ′ (see FIG. 10). Next, the conductive resin composition 42 is filled into the through holes 41. The 2nd sheet-like object 40 can be formed with the material and method similar to the sheet-like object 30 (refer FIG. 9A), for example. The second sheet 40 can be produced by a method different from the method for forming the sheet 30 (see FIG. 9A). For example, a method in which an insulating material is processed into a pellet and then melted and injected into a mold having a predetermined shape, or a method in which an insulating material is filled in a mold and then melted and molded. Etc., the second sheet-like material 40 can be formed. A transfer mold or an injection mold can be used for the mold. For filling the conductive resin composition 42, a method by printing or injection may be employed.

一方で、図9Dに示すように、剥離フィルム310に配線層102が形成された他の第1のシート状物を形成する。配線層102を構成し、ビア導体103(図9E参照)と接合されることとなるランド部は、配線層18bのランド部18b'(図10参照)と対応する位置に形成する。配線層102は、剥離フィルム310の一方の面に銅箔をラミネートし、その後、銅箔から不要な部分をエッチングして形成できる。配線層102は、印刷等の方法を用いて形成してもよい。特に、エッチングにより形成すれば、微細な配線パターンを形成できる。配線層102と剥離フィルム310との間に、配線層102を剥離フィルム310から剥がし易くするための剥離層を配置してもよい。剥離フィルム310としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリフェニレンサルファイト(PPS)等の樹脂フィルム、銅箔、アルミ箔等の金属箔等を用いることができる。   On the other hand, as shown to FIG. 9D, the other 1st sheet-like material in which the wiring layer 102 was formed in the peeling film 310 is formed. The land portion that constitutes the wiring layer 102 and is to be joined to the via conductor 103 (see FIG. 9E) is formed at a position corresponding to the land portion 18b ′ (see FIG. 10) of the wiring layer 18b. The wiring layer 102 can be formed by laminating a copper foil on one surface of the release film 310 and then etching an unnecessary portion from the copper foil. The wiring layer 102 may be formed using a method such as printing. In particular, if formed by etching, a fine wiring pattern can be formed. A release layer may be disposed between the wiring layer 102 and the release film 310 to facilitate peeling of the wiring layer 102 from the release film 310. As the release film 310, a resin film such as polyethylene terephthalate (PET) or polyphenylene sulfite (PPS), a metal foil such as a copper foil or an aluminum foil, or the like can be used.

次に、図9Dに示すように、回路部品109が実装された配線板108(他の第1のシート状物)と、配線層102が形成された剥離フィルム310(第1のシート状物)との間に、導電性樹脂組成物42が充填された第2のシート状物40を配置する。次いで、これらを厚さ方向に加圧しながら加熱して、回路部品109を第2のシート状物40に埋め込む。   Next, as shown in FIG. 9D, the wiring board 108 (another first sheet-like material) on which the circuit component 109 is mounted and the release film 310 (the first sheet-like material) on which the wiring layer 102 is formed. Between, the 2nd sheet-like material 40 with which the conductive resin composition 42 was filled is arrange | positioned. Next, these are heated while being pressed in the thickness direction, and the circuit component 109 is embedded in the second sheet-like material 40.

加熱は、第2のシート状物40および導電性樹脂組成物42に含まれる熱硬化性樹脂が完全に硬化する温度以上の温度雰囲気中で行う。また、加圧は、50g/mm2〜2kg/mm2(0.5MPa〜20MPa)の範囲で行うとよい。上記範囲の圧力で加圧すれば、第2のシート状物40と回路部品109と配線板108とを強固に接合でき、回路部品内蔵モジュールの機械的強度を高めることができる。 Heating is performed in a temperature atmosphere equal to or higher than the temperature at which the thermosetting resin contained in the second sheet-like material 40 and the conductive resin composition 42 is completely cured. The pressure is preferably performed in the range of 50g / mm 2 ~2kg / mm 2 (0.5MPa~20MPa). If pressure is applied within the above range, the second sheet-like material 40, the circuit component 109, and the wiring board 108 can be firmly bonded, and the mechanical strength of the circuit component built-in module can be increased.

次に、剥離フィルム310を配線層102から剥離する。硬化された第2のシート状物40は電気絶縁層101となり、導電性樹脂組成物42はビア導体103となる(図9E参照)。   Next, the release film 310 is released from the wiring layer 102. The cured second sheet-like material 40 becomes the electrical insulating layer 101, and the conductive resin composition 42 becomes the via conductor 103 (see FIG. 9E).

(実施の形態3)
図12に、本実施の形態の回路部品内蔵モジュールの断面図を、図13に、図12に示した回路部品内蔵モジュールのB−B'断面図を示している。
(Embodiment 3)
FIG. 12 shows a cross-sectional view of the circuit component built-in module of the present embodiment, and FIG. 13 shows a cross-sectional view of the circuit component built-in module shown in FIG.

図12および図13に示すように、本実施の形態の回路部品内蔵モジュール2は、平面視が矩形状の電気絶縁層201と、電気絶縁層201の両主面に設けられた1対の配線層28b、38bと、配線層28b、38b間を電気接続する複数のビア導体203と、電気絶縁層201の内部に埋め込まれた複数の回路部品209(204a〜204d)、306a、304aとを含んでいる。ビア導体203は、電気的絶縁層201の厚さ方向に電気的絶縁層201を貫通している。回路部品内蔵モジュール2では、1対の配線層28b、38bは、電気絶縁層201に埋め込まれている。   As shown in FIG. 12 and FIG. 13, the circuit component built-in module 2 of the present embodiment includes an electrical insulating layer 201 having a rectangular shape in plan view and a pair of wirings provided on both main surfaces of the electrical insulating layer 201. Layers 28b and 38b, a plurality of via conductors 203 that electrically connect the wiring layers 28b and 38b, and a plurality of circuit components 209 (204a to 204d), 306a, and 304a embedded in the electrical insulating layer 201. It is out. The via conductor 203 penetrates the electrical insulating layer 201 in the thickness direction of the electrical insulating layer 201. In the circuit component built-in module 2, the pair of wiring layers 28 b and 38 b are embedded in the electrical insulating layer 201.

図13に示すように、本実施の形態の回路部品内蔵モジュール2では、実施の形態1と同様に、電気絶縁層201をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、電気絶縁層201は、複数の回路部品209が配置された第1の領域Dと、複数のビア導体203が配置された第2の領域Eとに分かれている。第2の領域Eは、電気絶縁層201の中央部にあり、第1の領域Dは、電気絶縁層101の周縁部にあり、第2の領域Eを囲っている。電気絶縁層201を貫通する複数のビア導体203は、第2の領域E内において、互いに間隔をあけて、略格子を描くように配置されている。隣り合うビア導体203間には回路部品209は配置されていない。   As shown in FIG. 13, in the circuit component built-in module 2 of the present embodiment, as in the first embodiment, when the cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer 201 in a direction parallel to the main surface is viewed, The electrical insulating layer 201 is divided into a first region D in which a plurality of circuit components 209 are arranged and a second region E in which a plurality of via conductors 203 are arranged. The second region E is in the central portion of the electrical insulating layer 201, and the first region D is in the peripheral portion of the electrical insulating layer 101 and surrounds the second region E. The plurality of via conductors 203 penetrating the electrical insulating layer 201 are arranged in the second region E so as to draw a substantially lattice at intervals. The circuit component 209 is not disposed between the adjacent via conductors 203.

図12に示した配線層28bは、図13に示すように複数のランド部28b'を有しており、ランド部28b'は、いずれもビア導体203と接合されている。   The wiring layer 28 b shown in FIG. 12 has a plurality of land portions 28 b ′ as shown in FIG. 13, and all the land portions 28 b ′ are joined to the via conductor 203.

尚、図13では、配線層28b(図12参照)について、電気絶縁層201の中央部に配置された複数のランド部28b'のみ示しており、配線層28bを構成する、導線部や、回路部品の電極と接合されるパッド電極や、他のランド部等は省略している。他のランド部とは、ビア導体28d(図12参照)と接合されるランド部のことである。   In FIG. 13, only the plurality of land portions 28b ′ arranged at the central portion of the electrical insulating layer 201 are shown for the wiring layer 28b (see FIG. 12), and the conductor portion and the circuit constituting the wiring layer 28b are shown. The pad electrode joined to the component electrode, other land portions, and the like are omitted. The other land portion is a land portion joined to the via conductor 28d (see FIG. 12).

図12に示すように、回路部品内蔵モジュール2は、電気絶縁層201と接合された配線板208、308を含んでいる。電気絶縁層201に埋め込まれた配線層28b、38bは、配線板208、308の配線層である。回路部品209、306a、304aは、電気絶縁層201内に埋め込まれる前は、配線板208,308に実装され一体化されている。回路部品内蔵モジュール2では、配線板308の電気絶縁層201側の面の反対面にも、回路部品304b〜304d、306bが実装されている。尚、図12において、28a,38aは絶縁性基板、28d、38dはビア導体、28c、38cは配線層であり、これらはそれぞれ配線板208,308を構成している。   As shown in FIG. 12, the circuit component built-in module 2 includes wiring boards 208 and 308 bonded to the electrical insulating layer 201. The wiring layers 28 b and 38 b embedded in the electrical insulating layer 201 are wiring layers of the wiring boards 208 and 308. The circuit components 209, 306 a, and 304 a are mounted and integrated on the wiring boards 208 and 308 before being embedded in the electrical insulating layer 201. In the circuit component built-in module 2, circuit components 304b to 304d and 306b are also mounted on the surface opposite to the surface of the wiring board 308 on the electric insulating layer 201 side. In FIG. 12, 28a and 38a are insulating substrates, 28d and 38d are via conductors, and 28c and 38c are wiring layers, which constitute wiring boards 208 and 308, respectively.

回路部品内蔵モジュール2では、その製造過程において、配線板208、308にそれぞれ回路部品209、306a、304aを実装した後、回路部品209、306a、304aを電気絶縁層201内に埋めこむ前に、実装検査および特性検査から選ばれる少なくとも1種の検査が行われる。   In the circuit component built-in module 2, in the manufacturing process, after the circuit components 209, 306a, and 304a are mounted on the wiring boards 208 and 308, respectively, and before the circuit components 209, 306a, and 304a are embedded in the electrical insulating layer 201, At least one type of inspection selected from mounting inspection and characteristic inspection is performed.

配線板208に実装された回路部品209、配線板308に実装された306a、304aについて行われる実装検査には、例えば、図14に示すような検査器具6が用いられる。検査器具6は、複数のプローブ4と、複数のプローブ4を支持する平板状の支持体5とを含んでいる。各プローブ4は、支持体5を貫通しており、その端部が支持体5の一方の面から突き出ている。複数のプローブ4は、検査器具6を平面視したときに、略格子を描くように、実質的に等間隔に配列されている。   For example, an inspection instrument 6 as shown in FIG. 14 is used for mounting inspection performed on the circuit component 209 mounted on the wiring board 208 and the 306a and 304a mounted on the wiring board 308. The inspection instrument 6 includes a plurality of probes 4 and a flat support 5 that supports the plurality of probes 4. Each probe 4 penetrates the support 5 and its end protrudes from one surface of the support 5. The plurality of probes 4 are arranged at substantially equal intervals so as to draw a substantially lattice when the inspection instrument 6 is viewed in plan.

図14に示した検査器具6は、本実施の形態の回路部品内蔵モジュール2の他に、例えば、5行5列に並んだ複数のビア導体203(およびランド部28b'、図13参照)のうちの2列のみを含む他の回路部品内蔵モジュール等の検査にも用いることができる。また、図13に示した複数のビア導体203(およびランド部28b')のうちから任意に選択されるビア導体203(およびランド部28b')を備えた種々の回路部品内蔵モジュールの検査にも用いることができる。   In addition to the circuit component built-in module 2 of the present embodiment, the inspection instrument 6 shown in FIG. 14 includes a plurality of via conductors 203 (and land portions 28b ′, see FIG. 13) arranged in 5 rows and 5 columns, for example. It can also be used for testing other circuit component built-in modules including only two of them. In addition, various circuit component built-in modules having via conductors 203 (and land portions 28b ′) arbitrarily selected from the plurality of via conductors 203 (and land portions 28b ′) shown in FIG. 13 are also used. Can be used.

このように、規則的に配列されたプローブ4を含む検査器具6は、種々の回路部品内蔵モジュールの検査に使用できる。したがって、本実施の形態の回路部品内蔵モジュール2では、種々の回路部品内蔵モジュールと検査器具6を共用でき、低コスト化、生産性の向上を実現できる。   Thus, the inspection instrument 6 including the regularly arranged probes 4 can be used for inspection of various circuit component built-in modules. Therefore, in the circuit component built-in module 2 of the present embodiment, the various circuit component built-in modules and the inspection instrument 6 can be shared, and cost reduction and productivity improvement can be realized.

また、図13に示すように、本実施の形態の回路部品内蔵モジュール2も、実施の形態1と同様に、電気絶縁層201が、複数の回路部品209が配置された第1の領域Dと、複数のビア導体203が配置された第2の領域Eとに分かれているので、高密度化が可能となっている。また、高密度化のための設計の困難さも低減されている。尚、本実施の形態では、第2の領域E内には、回路部品209は配置されておらず、間隣り合うビア導体203間に回路部品209は配置されていない。また、第1の領域D内には、ビア導体209は配置されていない。   Also, as shown in FIG. 13, the circuit component built-in module 2 of the present embodiment also has an electrical insulating layer 201 and a first region D in which a plurality of circuit components 209 are arranged, as in the first embodiment. The second region E in which the plurality of via conductors 203 are arranged is divided into a high density. In addition, the difficulty in designing for higher density is reduced. In the present embodiment, the circuit component 209 is not disposed in the second region E, and the circuit component 209 is not disposed between the via conductors 203 adjacent to each other. Further, the via conductor 209 is not arranged in the first region D.

尚、図12に示した例では、配線板208、308は、1層の配線層が絶縁性基板28a、38a内に設けられ、3層の配線層を有した多層配線構造をしているが、配線層の層数について制限はない。配線層の層数を増やせば、複雑な回路への適応や、配線の引きまわし等が容易となる。   In the example shown in FIG. 12, the wiring boards 208 and 308 have a multilayer wiring structure in which one wiring layer is provided in the insulating substrates 28a and 38a and has three wiring layers. There is no limitation on the number of wiring layers. Increasing the number of wiring layers makes it easy to adapt to complex circuits and route wires.

また、本実施の形態においても、実施の形態1と同様に、複数のビア導体203は、かならずしも等間隔に配列されていなくてもよい。また、1対の配線層28b、38bのそれぞれが、複数のビア導体203のいずれのビア導体とも接合されないが、検査には使用される、非接合ランド部を含んでいてもよい。ビア導体203と接合された接合ランド部と非接合ランド部とを含む複数のランド部が、略格子状に配列されていてもよい。   Also in the present embodiment, as in the first embodiment, the plurality of via conductors 203 do not necessarily have to be arranged at equal intervals. Each of the pair of wiring layers 28b and 38b may include a non-bonded land portion that is used for inspection although it is not bonded to any via conductor of the plurality of via conductors 203. A plurality of land portions including a bonded land portion bonded to the via conductor 203 and a non-bonded land portion may be arranged in a substantially lattice shape.

(実施の形態4)
実施の形態4では、実施の形態3の回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を説明する。実施の形態4で用いられる材料は、実施の形態1で説明した材料と同様である。また、実施の形態3と同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
(Embodiment 4)
In the fourth embodiment, an example of a method for manufacturing the circuit component built-in module according to the third embodiment will be described. The material used in the fourth embodiment is the same as the material described in the first embodiment. The same members as those in the third embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

まず、下記のようにして配線板208(第1のシート状物)を作製する(図15A参照)。配線板208は従来から知られた方法で作製できる。例えば、熱硬化性樹脂と無機フィラーとを含む混合物から、2枚の複数の貫通孔を有するシート状物を形成し、各貫通孔内に導電性樹脂組成物を充填する。次いで、シート状物の間に配線層が配置されるように、導電性樹脂組成物が充填されたシート状物を積層して積層体を形成する。積層体の一方の面に配線層28bを設け、反対面に配線層28cを設ける。加熱されることにより、熱硬化性樹脂が硬化された2枚のシート状物は、絶縁性基板28aとなり、硬化された導電性樹脂組成物は、ビア導体28dとなる。配線板308も配線板208と同様にして作製する。   First, the wiring board 208 (first sheet-like material) is produced as follows (see FIG. 15A). The wiring board 208 can be manufactured by a conventionally known method. For example, a sheet-like material having two through holes is formed from a mixture containing a thermosetting resin and an inorganic filler, and the conductive resin composition is filled in each through hole. Next, the sheet-like material filled with the conductive resin composition is laminated so that the wiring layer is disposed between the sheet-like materials to form a laminate. A wiring layer 28b is provided on one surface of the laminate, and a wiring layer 28c is provided on the opposite surface. The two sheet-like materials in which the thermosetting resin is cured by heating become the insulating substrate 28a, and the cured conductive resin composition becomes the via conductor 28d. The wiring board 308 is also produced in the same manner as the wiring board 208.

図16は、配線板208(第1のシート状物)を配線層28b側から見た概略図である。配線層28bは、複数のランド部28b'と、回路部品の電極と接合される複数のパッド電極283と、導線部(図示せず)と、他のランド部(図示せず)等とから構成されている。複数のランド部28b'は、絶縁性基板28aの中央部において、互いに間隔をあけて、略格子を描くように形成されている。尚、理解を容易にするために、図16において上記導線部や上記他のランド部等は省略している。配線板308の配線層38bについても、ランド部28b'と対応する位置にランド部を形成する(図15A参照)。   FIG. 16 is a schematic view of the wiring board 208 (first sheet-like material) viewed from the wiring layer 28b side. The wiring layer 28b includes a plurality of land portions 28b ′, a plurality of pad electrodes 283 joined to the electrodes of the circuit components, a lead wire portion (not shown), another land portion (not shown), and the like. Has been. The plurality of land portions 28b 'are formed so as to draw a substantially lattice at a distance from each other in the central portion of the insulating substrate 28a. In addition, in order to make an understanding easy, the said conducting wire part, said other land part, etc. are abbreviate | omitted in FIG. As for the wiring layer 38b of the wiring board 308, a land portion is formed at a position corresponding to the land portion 28b ′ (see FIG. 15A).

次に、図15Aに示すように、配線板208に回路部品209を、配線板308に回路部品306a、304aをそれぞれ実装する。   Next, as shown in FIG. 15A, the circuit component 209 is mounted on the wiring board 208, and the circuit components 306a and 304a are mounted on the wiring board 308, respectively.

上記と並行して、複数の貫通孔51が所定の箇所に設けられた第2のシート状物50を形成し、貫通孔51に導電性樹脂組成物52を充填する。貫通孔51は、ランド部28b'(図16参照)と対応する位置に設ける。第2のシート状物50は、シート状物30(図9A参照)と同様の材料および同様の方法で作製できる。   In parallel with the above, a second sheet-like material 50 in which a plurality of through holes 51 are provided at predetermined positions is formed, and the conductive resin composition 52 is filled into the through holes 51. The through hole 51 is provided at a position corresponding to the land portion 28b ′ (see FIG. 16). The second sheet-like material 50 can be produced by the same material and the same method as the sheet-like material 30 (see FIG. 9A).

次に、例えば、配線板208に実装された回路部品209や、配線板308に実装された回路部品306a、304aについて、実装検査を行う。   Next, for example, the mounting inspection is performed on the circuit component 209 mounted on the wiring board 208 and the circuit components 306a and 304a mounted on the wiring board 308.

次に、図15Aに示すように、回路部品209が実装された配線板208と、回路部品304a、306aが実装された配線板308との間に、導電性樹脂組成物52が貫通孔51内に充填された第2のシート状物50を配置する。ついで、これらを、厚さ方向に加圧しながら加熱して、回路部品209,304a、306aを第2のシート状物50内に埋め込み、第2のシート状物50および導電性樹脂組成物52に含まれる熱硬化性樹脂を硬化させる。加熱および圧力の条件は実施の形態2と同様である。加熱により硬化された第2のシート状物50は、電気絶縁層201となり、導電性樹脂組成物52はビア導体203となる(図15B参照)。   Next, as shown in FIG. 15A, between the wiring board 208 on which the circuit component 209 is mounted and the wiring board 308 on which the circuit components 304a and 306a are mounted, the conductive resin composition 52 is placed in the through hole 51. The second sheet-like material 50 filled in is disposed. Subsequently, these are heated while being pressurized in the thickness direction, and the circuit components 209, 304 a, and 306 a are embedded in the second sheet material 50, and the second sheet material 50 and the conductive resin composition 52 are embedded in the second sheet material 50. The contained thermosetting resin is cured. The heating and pressure conditions are the same as in the second embodiment. The second sheet-like material 50 cured by heating becomes the electrical insulating layer 201, and the conductive resin composition 52 becomes the via conductor 203 (see FIG. 15B).

次に、図15Cに示すように、配線板308に回路部品304b〜304d,306bを実装すれば、回路部品内蔵モジュール3が得られる。   Next, as shown in FIG. 15C, if circuit components 304b to 304d, 306b are mounted on the wiring board 308, the circuit component built-in module 3 is obtained.

次に、検査工程について説明する。図14に示すように、支持台7上に複数の回路部品(図示せず)が実装された配線板208を配置する。次いで、検査器具6の各プローブ4の先端と各ランド部28b'とが当接するように位置合わせする。検査器具6の支持体5の端面と、支持台7の端面とをそろえた状態で、検査器具6を支持台7に近づければ、プローブ4の先端とランド部28b'と容易に位置合わせできる。次に、複数の回路部品が実装された配線板208に電圧を印加して、複数の回路部品の実装検査を行う。配線板308に実装された回路部品306a、304a(図15A参照)についても同様にして実装検査を行う。尚、図14では、配線板208に実装された回路部品209(図15A参照)は省略している。また、図14では、配線層28b(図15A参照)について、電気絶縁層内のビア導体と接合されるランド部のみを描いている。   Next, the inspection process will be described. As shown in FIG. 14, a wiring board 208 on which a plurality of circuit components (not shown) are mounted is disposed on the support base 7. Next, alignment is performed so that the tips of the probes 4 of the inspection instrument 6 are in contact with the land portions 28b ′. If the end face of the support 5 of the inspection instrument 6 and the end face of the support base 7 are aligned, the end of the probe 4 and the land portion 28b 'can be easily aligned by bringing the inspection instrument 6 close to the support base 7. . Next, a voltage is applied to the wiring board 208 on which the plurality of circuit components are mounted, and the mounting inspection of the plurality of circuit components is performed. The circuit components 306a and 304a (see FIG. 15A) mounted on the wiring board 308 are similarly inspected for mounting. In FIG. 14, the circuit component 209 (see FIG. 15A) mounted on the wiring board 208 is omitted. Further, in FIG. 14, only the land portion bonded to the via conductor in the electrical insulating layer is drawn for the wiring layer 28b (see FIG. 15A).

上記実装検査は、例えば、図17に示すような検査器具6を用いて行うこともできる。図17に示した検査器具6は、ゴム状弾性を有する支持体5と、複数のプローブ4とを含んでいる。プローブ4は、支持体5を貫通しており、その両端部4a,4bが支持体5から突き出ている。図17に示した検査器具6では、隣り合うプローブ4間の間隔が狭いので、検査対象との位置合わせが容易となっている。尚、図17は検査器具6の断面図であるが、図示の都合上、ハッチングは省略している。   The mounting inspection can be performed using, for example, an inspection instrument 6 as shown in FIG. The inspection instrument 6 shown in FIG. 17 includes a support 5 having rubber-like elasticity and a plurality of probes 4. The probe 4 penetrates the support body 5, and both end portions 4 a and 4 b protrude from the support body 5. In the inspection instrument 6 shown in FIG. 17, since the interval between the adjacent probes 4 is narrow, the alignment with the inspection object is easy. Although FIG. 17 is a cross-sectional view of the inspection instrument 6, hatching is omitted for convenience of illustration.

配線板208の回路部品209が実装された面、配線板308の回路部品304a,306aが実装された面とを対向させ、配線板208と配線板308との間に(図15A参照)、図17に示した検査器具6を配置する。配線層28b、38bのそれぞれを構成するランド部に、プローブ4の端部4a,4bの先端を当接させる。次に、回路部品209が配線板208に実装された実装体、および回路部品304a,306aが配線板308に実装された実装体に電圧を印加して、回路部品209、304a,306aの実装検査を行う。   The surface on which the circuit component 209 of the wiring board 208 is mounted and the surface on which the circuit components 304a and 306a of the wiring board 308 are mounted are opposed to each other between the wiring board 208 and the wiring board 308 (see FIG. 15A). The inspection instrument 6 shown in FIG. The tips of the end portions 4a and 4b of the probe 4 are brought into contact with the land portions constituting the wiring layers 28b and 38b, respectively. Next, a voltage is applied to the mounting body in which the circuit component 209 is mounted on the wiring board 208 and the mounting body in which the circuit components 304a and 306a are mounted on the wiring board 308, and the mounting inspection of the circuit components 209, 304a and 306a is performed. I do.

また、図18に示すような検査器具を用いて特性検査をすることもできる。図18に示すように、検査器具6は、配線板308に回路部品304a〜304d,306a,306bが実装された構造物5と、上記構造物5と電気接続するように接合された複数のプローブ4とを含んでいる。この検査器具6を、ランド部28b'(図14参照)に当接して電圧を印加し、仮モジュールの電気的動作をチェックする。この仮モジュールの電気的動作をチェックすることで、配線基板208に回路部品が実装された実装体の特性を検査できる。   Further, a characteristic inspection can be performed using an inspection instrument as shown in FIG. As shown in FIG. 18, the inspection instrument 6 includes a structure 5 in which circuit components 304 a to 304 d, 306 a, and 306 b are mounted on a wiring board 308, and a plurality of probes joined so as to be electrically connected to the structure 5. 4 is included. The inspection instrument 6 is brought into contact with the land portion 28b ′ (see FIG. 14) and a voltage is applied to check the electrical operation of the temporary module. By checking the electrical operation of the temporary module, the characteristics of the mounting body in which the circuit components are mounted on the wiring board 208 can be inspected.

すなわち、図12および図13に示すように、第1の配線層28bと第1の配線層28bに電気接続された第1の回路部品209とを含む第1の回路系と、第2の配線層38bと第2の配線層38bに電気接続された第2の回路部品304a〜304d、306a、306bとを含む第2の回路系と、第1の回路系と第2の回路系との間に配置され、少なくとも第1の回路部品が埋め込まれた電気絶縁層201と、電気絶縁層201内に配置され、第1の回路系と第2の回路系とを電気接続する複数のビア導体203とを含む回路部品内蔵モジュールの製造方法において、絶縁性基板28aの一方の主面に複数のランド部28b'を含む第1の配線層28bを形成した後、第1の配線層が形成された絶縁性基板28aに第1の回路部品209を実装する第1の工程と、第1の回路系の特性検査をする第2の工程とを含む。第1の工程において、複数のランド部28b'を、絶縁性基板28aの一方の主面の中央部に、所定の規則に従って形成する。第2の工程において、第2の回路系と同一構造の構造物5と、構造物5に電気接続され上記ランド部28b'に対応して配置された複数のプローブ4とを含む検査器具を用いて上記検査を行う。第2の工程では、第1の回路系と上記検査器具とを電気接続した仮モジュールの電気的動作をチェックして、第1の回路系の特性を検査する。尚、この回路部品内蔵モジュールの製造方法は、複数のビア導体が、電気絶縁層の周縁部において、所定の規則に従って配置された回路部品内蔵モジュールの製造方法にも適用できる。   That is, as shown in FIGS. 12 and 13, a first circuit system including a first wiring layer 28b and a first circuit component 209 electrically connected to the first wiring layer 28b, and a second wiring A second circuit system including second circuit components 304a to 304d, 306a, and 306b electrically connected to the layer 38b and the second wiring layer 38b; and between the first circuit system and the second circuit system And the plurality of via conductors 203 disposed in the electrical insulation layer 201 and electrically connecting the first circuit system and the second circuit system. In the method for manufacturing the circuit component built-in module including the first wiring layer 28b including the plurality of land portions 28b ′ on the one main surface of the insulating substrate 28a, the first wiring layer is formed. The first circuit component 209 is placed on the insulating substrate 28a. A first step of mounting and a second step of inspecting the characteristics of the first circuit system are included. In the first step, a plurality of land portions 28b ′ are formed in the central portion of one main surface of the insulating substrate 28a according to a predetermined rule. In the second step, an inspection instrument including a structure 5 having the same structure as the second circuit system and a plurality of probes 4 electrically connected to the structure 5 and arranged corresponding to the land portion 28b ′ is used. Perform the above inspection. In the second step, the electrical operation of the temporary module in which the first circuit system and the inspection instrument are electrically connected is checked to inspect the characteristics of the first circuit system. This method for manufacturing a circuit component built-in module can also be applied to a method for manufacturing a circuit component built-in module in which a plurality of via conductors are arranged according to a predetermined rule at the peripheral edge of the electrical insulating layer.

(実施の形態5)
図19に、本実施の形態の回路部品内蔵モジュールの断面図を、図20に、図12に示した回路部品内蔵モジュールのC−C'断面図を示している。
(Embodiment 5)
FIG. 19 is a cross-sectional view of the circuit component built-in module of the present embodiment, and FIG. 20 is a cross-sectional view of the circuit component built-in module shown in FIG.

図19および図20に示すように、本実施の形態の回路部品内蔵モジュール3では、平面視が矩形状の電気絶縁層301と、電気絶縁層301の両主面に設けられた1対の配線層48b、58bと、配線層48b、58b間を電気接続する複数のビア導体303と、電気絶縁層301の内部に埋め込まれた複数の回路部品409(404,406),509(506,504)とを含んでいる。ビア導体303は、電気的絶縁層301の厚さ方向に電気的絶縁層301を貫通している。回路部品内蔵モジュール3では、1対の配線層48b、58bは、電気絶縁層101に埋め込まれている。   As shown in FIGS. 19 and 20, in the circuit component built-in module 3 of the present embodiment, the electrical insulating layer 301 having a rectangular shape in plan view and a pair of wirings provided on both main surfaces of the electrical insulating layer 301 Layers 48b, 58b, a plurality of via conductors 303 electrically connecting the wiring layers 48b, 58b, and a plurality of circuit components 409 (404, 406), 509 (506, 504) embedded in the electrical insulating layer 301 Including. The via conductor 303 penetrates the electrical insulating layer 301 in the thickness direction of the electrical insulating layer 301. In the circuit component built-in module 3, the pair of wiring layers 48 b and 58 b are embedded in the electrical insulating layer 101.

図20に示すように、複数のビア導体303は、電気絶縁層301の周縁部に配置されており、電気絶縁層301をその主面301a(図19参照)と平行な方向に切断した切断面を見たときに、互いに間隔をあけ、電気絶縁層301の4辺に沿って方形を描くように配置されている。複数のビア導体303は、ほぼ等間隔に配列されている。   As shown in FIG. 20, the plurality of via conductors 303 are arranged at the peripheral edge of the electrical insulating layer 301, and a cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer 301 in a direction parallel to the main surface 301 a (see FIG. 19). , They are arranged so as to draw a square along the four sides of the electrical insulating layer 301 with a space therebetween. The plurality of via conductors 303 are arranged at substantially equal intervals.

図19に示した配線層48bは、図20に示すように複数のランド部48b'を有しており、ランド部48b'は、いずれもビア導体303と接合されている。   The wiring layer 48b shown in FIG. 19 has a plurality of land portions 48b ′ as shown in FIG. 20, and each of the land portions 48b ′ is joined to the via conductor 303.

尚、図20では、配線層48b(図19参照)について、電気絶縁層301の周縁部に配置された複数のランド部48b'のみ示しており、配線層48bを構成する導線部や、回路部品の電極と接合されるパッド電極や、他のランド部は略している。上記他のランド部とは、配線板408を構成するビア導体48d(図19参照)と接合されるランド部のことである。また、配線層58b(図19参照)も、上記ランド部48b'と対応する位置に複数のランド部を有している。   In FIG. 20, only a plurality of land portions 48b ′ arranged on the peripheral edge portion of the electrical insulating layer 301 are shown for the wiring layer 48b (see FIG. 19), and the conductor portion and circuit components constituting the wiring layer 48b are shown. The pad electrode joined to this electrode and other land portions are omitted. The other land portion is a land portion joined to the via conductor 48d (see FIG. 19) constituting the wiring board 408. The wiring layer 58b (see FIG. 19) also has a plurality of land portions at positions corresponding to the land portions 48b ′.

図19に示すように、回路部品内蔵モジュール3は、電気絶縁層301を挟むように配置された一対の配線板408、508を含んでいる。電気絶縁層301の主面に埋め込まれた配線層48b、58bは、配線板408、508の配線層である。回路部品409、509は、電気絶縁層301内に埋め込まれる前に、配線板408、508に実装され一体化されている。尚、図19において、48a,58aは絶縁性基板であり、48d、58dはビア導体であり、48c、58cは配線層であり、それぞれ配線板408,508を構成している。   As shown in FIG. 19, the circuit component built-in module 3 includes a pair of wiring boards 408 and 508 arranged so as to sandwich the electrical insulating layer 301. The wiring layers 48 b and 58 b embedded in the main surface of the electrical insulating layer 301 are wiring layers of the wiring boards 408 and 508. The circuit components 409 and 509 are mounted and integrated on the wiring boards 408 and 508 before being embedded in the electrical insulating layer 301. In FIG. 19, 48a and 58a are insulating substrates, 48d and 58d are via conductors, 48c and 58c are wiring layers, and constitute wiring boards 408 and 508, respectively.

回路部品内蔵モジュール3においても、実施の形態1および実施の形態3と同様に、実装検査および特性検査から選ばれる少なくとも1種の検査に用いる検査器具を種々の回路部品内蔵モジュールと共用できるので、低コスト化、生産性の向上を実現できる。   Also in the circuit component built-in module 3, as in the first and third embodiments, the inspection instrument used for at least one type of inspection selected from mounting inspection and characteristic inspection can be shared with various circuit component built-in modules. Cost reduction and productivity improvement can be realized.

図20に示すように、回路部品内蔵モジュール3においても、実施の形態1および実施の形態3と同様に、電気絶縁層301をその主面301a(図19参照)と平行な方向に切断した切断面を見たときに、電気絶縁層301は、複数の回路部品409が配置された第1の領域Dと、複数のビア導体303が配置された第2の領域Eとに分かれているので、高密度化が可能となっており高密度化のための設計の困難さも低減されている。尚、本実施の形態では、第1の領域D内には、ビア導体303は配置されておらず、間隣り合う回路部品409間にビア導体303は配置されていない。また、第2の領域E内には、回路部品409は配置されていない。第1の領域Dは、電気絶縁層301の中央部にあり、第2の領域Eは、電気絶縁層301の周縁部にあり、第1の領域Dを囲っている。   As shown in FIG. 20, also in the circuit component built-in module 3, as in the first and third embodiments, the electrical insulating layer 301 is cut in a direction parallel to the main surface 301a (see FIG. 19). When the surface is viewed, the electrical insulating layer 301 is divided into a first region D in which a plurality of circuit components 409 are arranged and a second region E in which a plurality of via conductors 303 are arranged. Higher density is possible, and the difficulty of designing for higher density is also reduced. In the present embodiment, the via conductor 303 is not disposed in the first region D, and the via conductor 303 is not disposed between the adjacent circuit components 409. Further, the circuit component 409 is not disposed in the second region E. The first region D is in the central portion of the electrical insulating layer 301, and the second region E is in the peripheral portion of the electrical insulating layer 301 and surrounds the first region D.

図19に示すように、例えば、補強材等を含まない電気絶縁層301と、ガラスクロスやアラミド不織布等の補強材を含む配線板408,508のヤング率、線膨張率を比較すると、ヤング率については配線板408,508の方が電気絶縁層301よりも大きい。すなわち、配線板408,508の方が電気絶縁層301よりも、断面に加えた応力と、単位長さ当たりの伸びとの比が大きい。厚み方向と直交する方向13の線膨張率については、電気絶縁層301の方が配線板408,508よりも大きい。図19に示すように、電気絶縁層301を挟むように配置された1対の配線板408,508を含む回路部品内蔵モジュール3では、電気絶縁層301の方向13への膨張は、相対的にヤング率が大きい配線基板408、508により抑制される。そのため、電気絶縁層301について、厚み方向(z軸方向)14への膨張の程度が大きくなる。ビア導体303とランド部との接続は、厚み方向14の力に弱いため、厚み方向(z軸方向)14への膨張の程度が大きくなると、ビア導体303による電気接続の信頼性が悪くなる。この現象は、電気絶縁層301の周縁部よりも中央部でより顕著に見られる。その理由は、回路部品内蔵モジュールの側面が開放されているからである。本実施の形態の回路部品内蔵モジュール3では、複数のビア導体303が、電気絶縁層301の周縁部に配置されているので、リフロー後等における、ビア導体303による配線層間の電気接続の信頼性が高い。   As shown in FIG. 19, for example, when Young's modulus and linear expansion coefficient of the electrical insulating layer 301 that does not include the reinforcing material and the wiring boards 408 and 508 including the reinforcing material such as glass cloth and aramid nonwoven fabric are compared, the Young's modulus As for the wiring boards 408 and 508, the electrical insulating layer 301 is larger. That is, the wiring boards 408 and 508 have a larger ratio between the stress applied to the cross section and the elongation per unit length than the electrical insulating layer 301. Regarding the linear expansion coefficient in the direction 13 orthogonal to the thickness direction, the electrical insulating layer 301 is larger than the wiring boards 408 and 508. As shown in FIG. 19, in the circuit component built-in module 3 including the pair of wiring boards 408 and 508 arranged so as to sandwich the electrical insulating layer 301, the expansion of the electrical insulating layer 301 in the direction 13 is relatively It is suppressed by the wiring boards 408 and 508 having a large Young's modulus. Therefore, the degree of expansion of the electrical insulating layer 301 in the thickness direction (z-axis direction) 14 is increased. Since the connection between the via conductor 303 and the land portion is weak against the force in the thickness direction 14, the reliability of the electrical connection by the via conductor 303 deteriorates when the degree of expansion in the thickness direction (z-axis direction) 14 increases. This phenomenon is more noticeable in the central portion than in the peripheral portion of the electrical insulating layer 301. The reason is that the side surface of the circuit component built-in module is open. In the circuit component built-in module 3 of the present embodiment, since the plurality of via conductors 303 are arranged at the peripheral edge of the electrical insulating layer 301, the reliability of electrical connection between the wiring layers by the via conductor 303 after reflowing or the like. Is expensive.

図21に示すように、電気絶縁層301をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに見える面の中心Oから、その面の外形線までの距離をLとする。本実施の形態の回路部品内蔵モジュールでは、中心Oからの距離が0.7Lを越えた領域G内に複数のビア導体303が配置されている。そのため、後述する実施例の結果が示すように、ビア導体303による電気接続の信頼性が高い。尚、図21では、電気絶縁層301内に埋め込まれた回路部品は省略している。   As shown in FIG. 21, the distance from the center O of the surface seen when the cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer 301 in a direction parallel to the main surface to the outline of the surface is defined as L. In the circuit component built-in module of the present embodiment, a plurality of via conductors 303 are arranged in a region G where the distance from the center O exceeds 0.7L. Therefore, as shown in the results of Examples described later, the reliability of electrical connection by the via conductor 303 is high. In FIG. 21, circuit components embedded in the electrical insulating layer 301 are omitted.

(実施の形態6)
実施の形態6では、実施の形態5の回路部品内蔵モジュール3の製造方法の一例を図22A−22C〜図24A−22Bを用いて説明する。尚、図22A−22Cおよび図23において、実施の形態5と同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
(Embodiment 6)
In the sixth embodiment, an example of a method for manufacturing the circuit component built-in module 3 of the fifth embodiment will be described with reference to FIGS. 22A-22C to 24A-22B. 22A-22C and FIG. 23, the same members as those in the fifth embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

まず、図22Aに示すように、複数の絶縁性基板48a、58aを含む絶縁性基材上に複数の配線層48b、58bが形成された1対の第3のシート状物10、11を作製する。第3のシート状物10,11の作製方法も、図15Aを用いて説明した配線板208、308の作製方法と同様である。ただし、本実施の形態では、複数の絶縁性基板48b、58bが一体化された状態にある。第3のシート状物10,11の作製に用いる材料も、図15Aを用いて説明した配線板208、308の材料と同様である。   First, as shown in FIG. 22A, a pair of third sheet-like materials 10 and 11 in which a plurality of wiring layers 48b and 58b are formed on an insulating base material including a plurality of insulating substrates 48a and 58a are produced. To do. The method for producing the third sheet-like materials 10 and 11 is the same as the method for producing the wiring boards 208 and 308 described with reference to FIG. 15A. However, in the present embodiment, the plurality of insulating substrates 48b and 58b are in an integrated state. The material used for manufacturing the third sheet-like materials 10 and 11 is also the same as the material of the wiring boards 208 and 308 described with reference to FIG. 15A.

図23は、第3のシート状物10を配線層48b側から見た縮小平面図である。48bは、複数のランド部48b'と、回路部品の電極と接合されるパッド電極483と、導線部(図示せず)と、他のランド部(図示せず)等とから構成されている。複数のランド部48b'は、絶縁性基板48aの一方の主面の周縁部において、互いに間隔をあけて、方形を描くように形成されている。第3のシート状物11の配線層58bについても、上記ランド部48b'と対応する位置に、複数のランド部を形成する。   FIG. 23 is a reduced plan view of the third sheet 10 viewed from the wiring layer 48b side. 48b is composed of a plurality of land portions 48b ', a pad electrode 483 joined to an electrode of a circuit component, a conductor portion (not shown), another land portion (not shown), and the like. The plurality of land portions 48b 'are formed so as to draw a square at intervals from each other at the peripheral edge portion of one main surface of the insulating substrate 48a. Also on the wiring layer 58b of the third sheet-like material 11, a plurality of land portions are formed at positions corresponding to the land portions 48b ′.

次に、図22Aに示すように、上記第3のシート状物10,11に、複数組の回路部品409,509をそれぞれ実装する。次いで、実装された複数組の回路部品409,509について、実装検査を行う。   Next, as shown in FIG. 22A, a plurality of sets of circuit components 409 and 509 are mounted on the third sheet-like material 10 and 11, respectively. Next, a mounting inspection is performed on the plurality of sets of mounted circuit components 409 and 509.

図24Aおよび図24Bに特性検査を行う様子を示している。図24Aおよび図24Bに示すように、検査に用いられる検査器具6は、複数の開口部を有する支持体5と、各開口部を囲うように配置された複数のプローブ4とを含んでいる。複数のプローブ4は、支持体5を貫通して両端部4a、4bが支持体5から突き出ている。両端部4a、4bの先端は細くなっている。   FIG. 24A and FIG. 24B show how the characteristic inspection is performed. As shown in FIGS. 24A and 24B, the inspection instrument 6 used for the inspection includes a support body 5 having a plurality of openings and a plurality of probes 4 arranged so as to surround each opening. The plurality of probes 4 pass through the support 5 and both end portions 4 a and 4 b protrude from the support 5. The tips of both end portions 4a and 4b are thin.

回路部品(図示せず)が実装された第3のシート状物10,11を、それぞれ支持台71a,71bに固定した後、第3のシート状物10,11を互いに回路部品が実装された面を対向させるように配置する。第3のシート状物10、11間に、検査器具6を配置し、配線層48b(図22A参照)のランド部(図23参照)にプローブ4の端部4aの先端を、配線層58b(図22A参照)のランド部にプローブ4の端部4bの先端を当接させ仮モジュールを形成する。次いで、回路部品が実装された第3のシート状物10、11に電圧を印加して仮モジュールの電気的動作をチェックし、回路部品内蔵モジュール3の構成部品について特性検査を行う。尚、図24Aでは、図示の都合上、第3のシート状物10,11に実装された回路部品や配線層は省略している。   After fixing the third sheet-like objects 10 and 11 on which circuit parts (not shown) were mounted to the support bases 71a and 71b, respectively, the third sheet-like objects 10 and 11 were mounted on each other. It arrange | positions so that a surface may be opposed. The inspection instrument 6 is arranged between the third sheet-like materials 10 and 11, and the tip of the end 4a of the probe 4 is placed on the land portion (see FIG. 23) of the wiring layer 48b (see FIG. 22A). The tip of the end portion 4b of the probe 4 is brought into contact with the land portion of FIG. 22A) to form a temporary module. Next, a voltage is applied to the third sheet-like materials 10 and 11 on which the circuit components are mounted, the electrical operation of the temporary module is checked, and the characteristics of the components of the circuit component built-in module 3 are inspected. In FIG. 24A, for convenience of illustration, circuit components and wiring layers mounted on the third sheet-like materials 10 and 11 are omitted.

尚、回路部品409と回路部品509とを重ねた厚みよりも検査器具6の厚みの方が厚いため、検査に際して、衝突などによる回路部品409、509へのダメージが抑制されている(図22A、図24参照)。   In addition, since the thickness of the inspection instrument 6 is thicker than the thickness in which the circuit component 409 and the circuit component 509 are overlapped, damage to the circuit components 409 and 509 due to a collision or the like is suppressed during inspection (FIG. 22A, (See FIG. 24).

一方で、図22Bに示すように、複数の貫通孔61が所定に箇所に設けられた第4のシート状物60を形成する。貫通孔61は、ランド部48b'(図23参照)と対応する位置に設ける。次いで、貫通孔61に導電性樹脂組成物62を充填する。第4のシート状物60は、シート状物30(図9A参照)の作製方法と同様であり、材料も同様のものを用いる。   On the other hand, as shown to FIG. 22B, the 4th sheet-like object 60 in which the several through-hole 61 was provided in the predetermined location is formed. The through hole 61 is provided at a position corresponding to the land portion 48b ′ (see FIG. 23). Next, the through hole 61 is filled with the conductive resin composition 62. The fourth sheet-like material 60 is the same as the manufacturing method of the sheet-like material 30 (see FIG. 9A), and the same material is used.

次に、複数組の回路部品409,509が実装された第3のシート状物10,11の間に、導電性樹脂組成物62が充填された第4のシート状物60を配置する。次いで、これらを厚さ方向に加圧しおよび加熱する。回路部品409、509は第4のシート状物60に埋め込まれ、第4のシート状物60および導電性樹脂組成物62に含まれる熱硬化性樹脂は硬化される。このようにして、第3のシート状物10、11の間に回路部品409、509が配置された第5のシート状物12を形成する。加熱および圧力の条件は実施の形態2と同様である(図22C参照)。   Next, the 4th sheet-like object 60 with which the conductive resin composition 62 was filled is arrange | positioned between the 3rd sheet-like objects 10 and 11 with which multiple sets of circuit components 409 and 509 were mounted. Next, they are pressurized and heated in the thickness direction. The circuit components 409 and 509 are embedded in the fourth sheet-like material 60, and the thermosetting resin contained in the fourth sheet-like material 60 and the conductive resin composition 62 is cured. In this way, the fifth sheet-like material 12 in which the circuit components 409 and 509 are arranged between the third sheet-like materials 10 and 11 is formed. The heating and pressure conditions are the same as in Embodiment 2 (see FIG. 22C).

次に、第5のシート状物12を所定の個所(一点鎖線をひいた箇所)で切断して、複数組の回路部品409,509を1組ごとに分離する。第5のシート状物12の切断はダイサー等を用いて行う。硬化され、切断された第4のシート状物60は、電気絶縁層301となり、導電性樹脂組成物62はビア導体303となる(図22C参照)。   Next, the fifth sheet-like material 12 is cut at a predetermined location (a location where a one-dot chain line is drawn) to separate a plurality of sets of circuit components 409 and 509 for each set. The fifth sheet 12 is cut using a dicer or the like. The cured and cut fourth sheet-like material 60 becomes the electrical insulating layer 301, and the conductive resin composition 62 becomes the via conductor 303 (see FIG. 22C).

このように、本実施の形態の回路部品内蔵モジュールの製造方法によれば、回路部品内蔵モジュールを効率的に製造できる。   Thus, according to the manufacturing method of the circuit component built-in module of the present embodiment, the circuit component built-in module can be efficiently manufactured.

尚、実施の形態1〜6の回路部品内蔵モジュールでは、いずれも配線板を含んでおり、配線板に実装された回路部品について検査を行っているが、これに制限されない。本発明の回路部品内蔵モジュールは、配線板を含まず、その製造過程において、配線層が形成された剥離フィルム上に複数の回路部品を実装し、検査をした後、回路部品を電気絶縁層の内部に埋め込んでもよい。   Note that each of the circuit component built-in modules according to the first to sixth embodiments includes a wiring board, and the circuit components mounted on the wiring board are inspected, but the present invention is not limited to this. The circuit component built-in module of the present invention does not include a wiring board. In the manufacturing process, a plurality of circuit components are mounted on a release film on which a wiring layer is formed, and after inspection, the circuit components are electrically insulated layers. It may be embedded inside.

次に、電気絶縁層におけるビア導体を形成する位置と、ビア導体による電気接続の安定性との関係について検討した。   Next, the relationship between the position where the via conductor is formed in the electrical insulating layer and the stability of the electrical connection by the via conductor was examined.

平面形状が10mm×10mm,30mm×30mm、50mm×50mmのモジュールをそれぞれ14個作製した。モジュールの厚みはいずれも、1.6mmとした。   14 modules each having a planar shape of 10 mm × 10 mm, 30 mm × 30 mm, and 50 mm × 50 mm were produced. The thickness of each module was 1.6 mm.

電気絶縁層の材料には、エポキシ樹脂20重量%と、SiO2(平均粒径7μm以下)80重量%と、メチルエチルケトン(MEK)(溶剤)とからなる混合物をシート状(厚み1.0mm、エポキシ樹脂とSiO2との混合物100重部に対して5重量部のMEKが、成形直後のシートに含まれる。)に成形したものを用いた。配線板には、ガラスエポキシ基板(FR4)(日立化成工業(株)製、MCL−E−67)を用いた。 As the material for the electrical insulating layer, a mixture of 20% by weight of epoxy resin, 80% by weight of SiO 2 (average particle size of 7 μm or less) and methyl ethyl ketone (MEK) (solvent) is formed into a sheet (thickness: 1.0 mm, epoxy 5 parts by weight of MEK with respect to 100 parts by weight of a mixture of resin and SiO 2 is contained in the sheet immediately after molding.) As the wiring board, a glass epoxy substrate (FR4) (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., MCL-E-67) was used.

未硬化状態(Bステージ)の電気絶縁層に、パンチャーを用いて直径150μmの複数の貫通孔を形成した。貫通孔は、電気絶縁層の中央O(図21参照)から、0.5mm間隔で形成した。次に、貫通孔内に導電性ペーストを充填した。導電性ペーストには、銀コート銅粉(平均粒径5μm)85重量%と、エポキシ樹脂15重量%との混合物を用いた。   A plurality of through holes having a diameter of 150 μm were formed in the uncured (B stage) electrical insulating layer using a puncher. The through holes were formed at intervals of 0.5 mm from the center O of the electrical insulating layer (see FIG. 21). Next, the conductive paste was filled in the through holes. As the conductive paste, a mixture of 85% by weight of silver-coated copper powder (average particle size 5 μm) and 15% by weight of epoxy resin was used.

2枚の配線板の間に導電性ペーストが充填された電気絶縁層を配置し、これらを位置合わせして重ね、3MPaの圧力で加圧しながら180℃の温度で1時間加熱した。加熱により、電気絶縁層、および導電性ペーストを硬化させてモジュールを得た。   An electric insulating layer filled with a conductive paste was placed between two wiring boards, and these were aligned and overlapped, and heated at a temperature of 180 ° C. for 1 hour while being pressurized at a pressure of 3 MPa. The module was obtained by curing the electrically insulating layer and the conductive paste by heating.

尚、得られたモジュールを構成する電気的絶縁層のヤング率は、約3GPaであった。一方、配線板は、ガラス不織布にエポキシ樹脂を含浸させた構造をしているので、配線板のヤング率は、電気的絶縁層のそれよりも大きいことは容易に理解される。尚、電気的絶縁層のヤング率は、JIS K 7162に準拠して測定した。   In addition, the Young's modulus of the electrically insulating layer constituting the obtained module was about 3 GPa. On the other hand, since the wiring board has a structure in which a glass nonwoven fabric is impregnated with an epoxy resin, it is easily understood that the Young's modulus of the wiring board is larger than that of the electrically insulating layer. The Young's modulus of the electrical insulating layer was measured according to JIS K 7162.

また、配線板は、ガラス不織布にエポキシ樹脂を含浸させた構造をしているので、配線板の厚み方向と直交する方向の線膨張率は、電気的絶縁層のそれよりも小さいことは容易に理解される。   Moreover, since the wiring board has a structure in which a glass nonwoven fabric is impregnated with an epoxy resin, the coefficient of linear expansion in the direction orthogonal to the thickness direction of the wiring board is easily smaller than that of the electrical insulating layer. Understood.

得られた3種のモジュールについて、下記の方法に従い熱耐久性試験を行った。熱耐久性試験前後のビア導体の抵抗値を測定した。抵抗値は4端子法に従って測定した。また、14個のモジュールのうちから1つを選択し、モジュールについて、その厚みと直交する方向の線膨張率を下記の方法に従って測定した。これらの結果を、図25〜図27に示した。図25には、10mm×10mmのモジュールについての結果を、図26には、30mm×30mmのモジュールについての結果を、図27には、50mm×50mmのモジュールについての結果を示している。   The obtained three types of modules were subjected to a thermal durability test according to the following method. The resistance value of the via conductor before and after the thermal durability test was measured. The resistance value was measured according to the 4-terminal method. Moreover, one was selected from 14 modules, and the linear expansion coefficient of the direction orthogonal to the thickness was measured about the module according to the following method. These results are shown in FIGS. FIG. 25 shows the results for a 10 mm × 10 mm module, FIG. 26 shows the results for a 30 mm × 30 mm module, and FIG. 27 shows the results for a 50 mm × 50 mm module.

[熱耐久性試験]モジュールを、ベルト式リフロー試験機を用いて260℃の雰囲気中に10秒以上放置した後、モジュールの表面温度が25℃(常温)となるまで放置するという1サイクルの操作を、10回行った。   [Thermal durability test] One cycle operation in which the module is left in an atmosphere of 260 ° C for 10 seconds or longer using a belt-type reflow tester and then left until the surface temperature of the module reaches 25 ° C (room temperature). Was performed 10 times.

[線膨張率]モジュールの厚み方向の線膨張率は、レーザー変位計(FRT社製、CHR 150N)を用いて測定した。測定感度を高めるために、測定箇所には銅箔を設けた。雰囲気温度を25℃から260℃まで上昇させながら、10℃刻みに厚みの変化量を測定した。横軸に温度をとり縦軸に上記変化量を取ってグラフを描き、グラフの温度260℃における勾配から、線膨張率を求めた。   [Linear expansion coefficient] The linear expansion coefficient in the thickness direction of the module was measured using a laser displacement meter (manufactured by FRT, CHR 150N). In order to increase the measurement sensitivity, a copper foil was provided at the measurement location. While increasing the ambient temperature from 25 ° C. to 260 ° C., the amount of change in thickness was measured in increments of 10 ° C. A graph was drawn with the horizontal axis representing the temperature and the vertical axis representing the amount of change, and the linear expansion coefficient was determined from the gradient of the graph at a temperature of 260 ° C.

図25〜図27では、抵抗値の変化率(%)は、熱耐久性試験を行う前のビア導体の抵抗値を基準としており、例えば、熱耐久性試験を行った後の抵抗値が、試験を行う前の抵抗値の2倍であれば、変化率は100%である。変化率が100%以下であれば、電気接続の信頼性は良いと判断した。   In FIG. 25 to FIG. 27, the change rate (%) of the resistance value is based on the resistance value of the via conductor before performing the thermal durability test. For example, the resistance value after performing the thermal durability test is If it is twice the resistance value before the test, the rate of change is 100%. If the rate of change was 100% or less, it was judged that the reliability of electrical connection was good.

図25に示すように、電気絶縁層の中央O(図21参照)からの距離が0.35cmを超えた領域では、ビア導体の抵抗値の変化率は100%以下であった。すなわち、電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに見える面の中心Oから、その面の外形線までの距離をLとすると、中心Oからの距離が0.7Lを越えた領域では、ビア導体の抵抗値の変化率は100%以下であった。   As shown in FIG. 25, in the region where the distance from the center O (see FIG. 21) of the electrical insulating layer exceeded 0.35 cm, the rate of change in the resistance value of the via conductor was 100% or less. That is, when the distance from the center O of the surface seen when the cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer in a direction parallel to the main surface to the outline of the surface is L, the distance from the center O is 0. In the region exceeding .7L, the change rate of the resistance value of the via conductor was 100% or less.

図26および図27でも同様に、中心Oからの距離が0.7Lを越えた領域(図26では、中心Oからの距離が1.05cmを越えた領域、図27では、中心Oからの距離が1.75cmを越えた領域)では、ビア導体の抵抗値の変化率が100%以下となっていた。   Similarly, in FIGS. 26 and 27, a region where the distance from the center O exceeds 0.7L (in FIG. 26, a region where the distance from the center O exceeds 1.05 cm, in FIG. 27, a distance from the center O). In the region where the distance exceeds 1.75 cm), the rate of change in the resistance value of the via conductor was 100% or less.

本発明では、実装検査または特性検査からなる群から選ばれる少なくとも1種の検査に用いられる検査器具について他の回路部品内蔵モジュールと共用が可能であり、低コスト化、生産性が向上された回路部品内蔵モジュールを実現できるので、本発明の回路部品内蔵モジュールおよびその製造方法は有用である。   In the present invention, an inspection instrument used for at least one type of inspection selected from the group consisting of mounting inspection or characteristic inspection can be shared with other circuit component built-in modules, and the circuit can be reduced in cost and productivity. Since the component built-in module can be realized, the circuit component built-in module and the manufacturing method thereof of the present invention are useful.

図1は、本発明の回路部品内蔵モジュールの一例を示す断面図FIG. 1 is a sectional view showing an example of a circuit component built-in module according to the present invention. 図1に示した回路部品内蔵モジュールのA−A'断面図AA 'sectional view of the circuit component built-in module shown in FIG. 図1に示した回路部品内蔵モジュールの製造過程で行われる検査の様子を説明する斜視図The perspective view explaining the mode of the test | inspection performed in the manufacture process of the circuit component built-in module shown in FIG. 本発明の回路部品内蔵モジュールの他の例を示す断面図Sectional drawing which shows the other example of the circuit component built-in module of this invention 本発明の回路部品内蔵モジュールの他の例を示す断面図Sectional drawing which shows the other example of the circuit component built-in module of this invention 本発明の回路部品内蔵モジュールの他の例を示す断面図Sectional drawing which shows the other example of the circuit component built-in module of this invention 本発明の回路部品内蔵モジュールの他の例を示す断面図Sectional drawing which shows the other example of the circuit component built-in module of this invention 本発明の回路部品内蔵モジュールの他の例を示す断面図Sectional drawing which shows the other example of the circuit component built-in module of this invention 図1に示した回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を示す工程別断面図Sectional drawing according to process which shows an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module shown in FIG. 図1に示した回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を示す工程別断面図Sectional drawing according to process which shows an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module shown in FIG. 図1に示した回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を示す工程別断面図Sectional drawing according to process which shows an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module shown in FIG. 図1に示した回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を示す工程別断面図Sectional drawing according to process which shows an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module shown in FIG. 図1に示した回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を示す工程別断面図Sectional drawing according to process which shows an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module shown in FIG. 図9Bに示した第1のシート状物の概略図Schematic of the first sheet-like material shown in FIG. 9B プローブの一例を示す正面図Front view showing an example of a probe プローブの他の例を示す正面図Front view showing another example of probe 本発明の回路部品内蔵モジュールの他の例を示す断面図Sectional drawing which shows the other example of the circuit component built-in module of this invention 図12に示した回路部品内蔵モジュールのB−B'断面図BB 'sectional view of the circuit component built-in module shown in FIG. 図12に示した回路部品内蔵モジュールの製造過程で行われる検査の様子を説明する斜視図The perspective view explaining the mode of the test | inspection performed in the manufacture process of the circuit component built-in module shown in FIG. 図12に示した回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を示す工程別断面図Sectional drawing according to process which shows an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module shown in FIG. 図12に示した回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を示す工程別断面図Sectional drawing according to process which shows an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module shown in FIG. 図12に示した回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を示す工程別断面図Sectional drawing according to process which shows an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module shown in FIG. 図15Aに示した配線板の概略図Schematic diagram of the wiring board shown in FIG. 15A 本発明の回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例に用いられる検査器具の一例を示す断面図Sectional drawing which shows an example of the test | inspection instrument used for an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module of this invention 本発明の回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例に用いられる検査器具の他の例を示す断面図Sectional drawing which shows the other example of the test | inspection instrument used for an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module of this invention. 本発明の回路部品内蔵モジュールの他の例を示す断面図Sectional drawing which shows the other example of the circuit component built-in module of this invention 図19に示した回路部品内蔵モジュールのC−C'断面図CC 'sectional drawing of the circuit component built-in module shown in FIG. 図19に示した回路部品内蔵モジュールを構成する電気絶縁層を、その主面と平行な方向に切断した切断面を示す断面図Sectional drawing which shows the cut surface which cut | disconnected the electric insulation layer which comprises the circuit component built-in module shown in FIG. 19 in the direction parallel to the main surface 図19に示した回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を示す工程別断面図Sectional drawing according to process which shows an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module shown in FIG. 図19に示した回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を示す工程別断面図Sectional drawing according to process which shows an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module shown in FIG. 図19に示した回路部品内蔵モジュールの製造方法の一例を示す工程別断面図Sectional drawing according to process which shows an example of the manufacturing method of the circuit component built-in module shown in FIG. 図22Aに示した第3のシート状物の縮小平面図Reduced plan view of the third sheet-like material shown in FIG. 22A 図19に示した回路部品内蔵モジュールの製造過程で行われる検査の様子を説明する斜視図The perspective view explaining the mode of the test | inspection performed in the manufacture process of the circuit component built-in module shown in FIG. 図24Aに示したFの拡大図Enlarged view of F shown in FIG. 24A ビア導体の電気絶縁層の中心からの距離と、線膨張率およびビア導体の抵抗値の変化率との関係を示したグラフA graph showing the relationship between the distance from the center of the electrical insulation layer of the via conductor and the rate of change of linear expansion coefficient and via conductor resistance ビア導体の電気絶縁層の中心からの距離と、線膨張率およびビア導体の抵抗値の変化率との関係を示したグラフA graph showing the relationship between the distance from the center of the electrical insulation layer of the via conductor and the rate of change of linear expansion coefficient and via conductor resistance ビア導体の電気絶縁層の中心からの距離と、線膨張率およびビア導体の抵抗値の変化率との関係を示したグラフA graph showing the relationship between the distance from the center of the electrical insulation layer of the via conductor and the rate of change of linear expansion coefficient and via conductor resistance

符号の説明Explanation of symbols

101、201、301 電気絶縁層
18b、28b、38b、48b、58b 配線層
109、104a〜104c、106、209、204a〜204d、409、404,406、304a〜304d、306a、306b、509、504、506 回路部品
103、203、303 ビア導体
6 検査治具
4 プローブ
5 支持体
D 第1の領域
E 第2の領域

101, 201, 301 Electrical insulation layer 18b, 28b, 38b, 48b, 58b Wiring layer 109, 104a-104c, 106, 209, 204a-204d, 409, 404, 406, 304a-304d, 306a, 306b, 509, 504 , 506 Circuit component 103, 203, 303 Via conductor 6 Inspection jig 4 Probe 5 Support body D First region E Second region

Claims (26)

電気絶縁層と、
前記電気絶縁層の両主面に設けられた1対の配線層と、
前記1対の配線層を電気接続し、前記電気的絶縁層の厚さ方向に前記電気的絶縁層を貫通する複数のビア導体と、
前記電気絶縁層の内部に埋め込まれた回路部品とを含み、
前記複数のビア導体は、前記電気絶縁層の周縁部の少なくとも一部に、所定の規則に従って配置されていることを特徴とする回路部品内蔵モジュール。
An electrical insulation layer;
A pair of wiring layers provided on both main surfaces of the electrical insulating layer;
A plurality of via conductors that electrically connect the pair of wiring layers and penetrate the electrical insulation layer in a thickness direction of the electrical insulation layer;
Circuit components embedded inside the electrical insulating layer,
The circuit component built-in module, wherein the plurality of via conductors are arranged in accordance with a predetermined rule on at least a part of a peripheral portion of the electrical insulating layer.
前記電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、前記複数のビア導体は、互いに間隔をあけて、1本以上の直線を描くように配置されている請求項1に記載の回路部品内蔵モジュール。   The plurality of via conductors are arranged so as to draw one or more straight lines spaced apart from each other when a cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer in a direction parallel to the main surface is viewed. Item 2. The circuit component built-in module according to Item 1. 前記電気絶縁層の平面形状は矩形であり、前記電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、前記複数のビア導体は、互いに間隔をあけて、前記矩形の4辺のうちの3辺に沿って配置されている請求項1に記載の回路部品内蔵モジュール。   The planar shape of the electrical insulating layer is rectangular, and when the cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer in a direction parallel to the main surface is viewed, the plurality of via conductors are spaced apart from each other, and the rectangular shape The circuit component built-in module according to claim 1, which is arranged along three of the four sides. 前記電気絶縁層の平面形状は矩形であり、前記電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、前記複数のビア導体は、互いに間隔をあけて、前記矩形の4辺に沿って方形を描くように配置されている請求項1に記載の回路部品内蔵モジュール。   The planar shape of the electrical insulating layer is rectangular, and when the cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer in a direction parallel to the main surface is viewed, the plurality of via conductors are spaced apart from each other, and the rectangular shape The module with a built-in circuit component according to claim 1, wherein the module is arranged so as to draw a square along the four sides. 前記電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、前記複数のビア導体は、千鳥配列されている請求項1に記載の回路部品内蔵モジュール。   2. The circuit component built-in module according to claim 1, wherein the plurality of via conductors are arranged in a staggered pattern when a cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer in a direction parallel to the main surface is viewed. 前記回路部品を複数個含み、前記電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、前記電気絶縁層は、前記複数の回路部品が配置された第1の領域と、前記複数のビア導体が配置された第2の領域とを含む請求項1〜5のいずれかの項に記載の回路部品内蔵モジュール。   The electrical insulation layer includes a plurality of the circuit components, and the electrical insulation layer is a first region in which the plurality of circuit components are disposed when a cut surface obtained by cutting the electrical insulation layer in a direction parallel to the main surface is viewed. The circuit component built-in module according to claim 1, further comprising: a second region in which the plurality of via conductors are arranged. 少なくとも1つの配線板を含み、前記電気絶縁層の両主面に設けられた前記1対の配線層のうちの少なくとも一方の配線層は、前記配線板の配線層である請求項1〜6のいずれかの項に記載の回路部品内蔵モジュール。   7. The wiring board according to claim 1, wherein at least one wiring layer of the pair of wiring layers including at least one wiring board and provided on both main surfaces of the electrical insulating layer is a wiring layer of the wiring board. The circuit component built-in module according to any one of the items. 前記配線板が、絶縁性基板内に少なくとも1層の配線層が設けられた多層配線構造をしている請求項7に記載の回路部品内蔵モジュール。   The circuit component built-in module according to claim 7, wherein the wiring board has a multilayer wiring structure in which at least one wiring layer is provided in an insulating substrate. 前記電気絶縁層を挟むように配置された1対の配線板を含み、
前記配線板のその厚み方向と直交する方向の線膨張率は、前記電気絶縁層のその厚み方向と直交する方向の線膨張率より小さく、
前記配線板のヤング率は、前記電気絶縁層のヤング率よりも大きく、
前記電気絶縁層の両主面に設けられた前記1対の配線層のうちの一方の配線層は、一方の配線板の配線層であり、他方の配線層は、他方の配線板の配線層であり、
前記電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに見える面の中心から、その面の外形線までの距離をLとすると、前記中心からの距離が0.7Lを越えた領域内に前記複数のビア導体が配置されている請求項1〜8のいずれかの項に記載の回路部品内蔵モジュール。
Including a pair of wiring boards arranged to sandwich the electrical insulating layer;
The linear expansion coefficient in the direction orthogonal to the thickness direction of the wiring board is smaller than the linear expansion coefficient in the direction orthogonal to the thickness direction of the electrical insulating layer,
The Young's modulus of the wiring board is larger than the Young's modulus of the electrical insulating layer,
One wiring layer of the pair of wiring layers provided on both main surfaces of the electrical insulating layer is a wiring layer of one wiring board, and the other wiring layer is a wiring layer of the other wiring board. And
When the distance from the center of the surface seen when the cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer in a direction parallel to the main surface to the outline of the surface is L, the distance from the center is 0.7L. The circuit component built-in module according to any one of claims 1 to 8, wherein the plurality of via conductors are disposed in a region beyond the distance.
電気絶縁層と、
前記電気絶縁層の両主面に設けられた1対の配線層と、
前記1対の配線層を電気接続し、前記電気的絶縁層の厚さ方向に前記電気的絶縁層を貫通する複数のビア導体と、
前記電気絶縁層の内部に埋め込まれた回路部品とを含み、
前記電気絶縁層は、前記電気絶縁層をその主面と平行な方向に切断した切断面を見たときに、前記回路部品が配置された第1の領域と、前記複数のビア導体が配置された第2の領域とを含み、
前記複数のビア導体は、前記第2の領域内において、互いに間隔をあけて、略格子を描くように配置されていることを特徴とする回路部品内蔵モジュール。
An electrical insulation layer;
A pair of wiring layers provided on both main surfaces of the electrical insulating layer;
A plurality of via conductors that electrically connect the pair of wiring layers and penetrate the electrical insulation layer in a thickness direction of the electrical insulation layer;
Circuit components embedded inside the electrical insulating layer,
The electrical insulating layer includes a first region where the circuit components are disposed and the plurality of via conductors when the cut surface obtained by cutting the electrical insulating layer in a direction parallel to the main surface is viewed. A second region,
The module with a built-in circuit component, wherein the plurality of via conductors are arranged in the second region so as to draw a substantially lattice with a space between each other.
少なくとも1つの配線板を含み、前記電気絶縁層の両主面に配置された前記1対の配線層のうちの少なくとも一方の配線層は、前記配線板の配線層である請求項10に記載の回路部品内蔵モジュール。   11. The wiring layer according to claim 10, comprising at least one wiring board, wherein at least one wiring layer of the pair of wiring layers disposed on both main surfaces of the electrical insulating layer is a wiring layer of the wiring board. Module with built-in circuit components. 前記配線板が、絶縁性基板内に少なくとも1層の配線層が設けられた多層配線構造をしている請求項11に記載の回路部品内蔵モジュール。   The circuit component built-in module according to claim 11, wherein the wiring board has a multilayer wiring structure in which at least one wiring layer is provided in an insulating substrate. (a)剥離フィルムの一方の主面または絶縁性基板の一方の主面に複数のランド部を含む配線層が形成された第1のシート状物を2つ用意し、少なくとも1方の前記第1のシート状物に回路部品を実装する工程と、
(b)実装検査および特性検査から選ばれる少なくとも一種の検査を行う工程と、
(c)電気絶縁性材料を、複数の貫通孔が所定の位置に形成された第2のシート状物に加工し、前記貫通孔内に導電性材料を充填し、前記第1のシート状物の前記回路部品が実装された面が前記第2のシート状物側を向くように、前記第1のシート状物間に前記導電性材料が充填された前記第2のシート状物を配置した後、これらを厚さ方向に加圧および加熱して、前記回路部品を前記第2のシート状物内に埋め込む工程とを含み、
前記工程(a)において、前記複数のランド部を、前記剥離フィルムの一方の主面の周縁部または前記絶縁性基板の一方の主面の周縁部に、所定の規則に従って形成し、
前記工程(b)において、前記複数のランド部に対応して配置された複数のプローブと、前記複数のプローブを支持する支持体とを含む検査器具を用いて、前記検査を行う回路部品内蔵モジュールの製造方法。
(A) Two first sheet-like materials having a wiring layer including a plurality of land portions formed on one main surface of a release film or one main surface of an insulating substrate are prepared, and at least one of the first Mounting circuit components on one sheet-like material;
(B) a step of performing at least one type of inspection selected from mounting inspection and characteristic inspection;
(C) Processing the electrically insulating material into a second sheet-like material in which a plurality of through holes are formed at predetermined positions, filling the through-holes with a conductive material, and the first sheet-like material. The second sheet-like material filled with the conductive material is disposed between the first sheet-like materials so that the surface on which the circuit component is mounted faces the second sheet-like material side. And pressurizing and heating them in the thickness direction, and embedding the circuit component in the second sheet-like material,
In the step (a), the plurality of land portions are formed on a peripheral portion of one main surface of the release film or a peripheral portion of one main surface of the insulating substrate according to a predetermined rule.
In the step (b), a circuit component built-in module that performs the inspection using an inspection instrument that includes a plurality of probes arranged corresponding to the plurality of land portions and a support that supports the plurality of probes. Manufacturing method.
前記工程(a)において、前記複数のランド部を、互いに間隔をあけて、少なくとも1本の直線を描くように形成する請求項13に記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。   The method for manufacturing a circuit component built-in module according to claim 13, wherein in the step (a), the plurality of land portions are formed so as to draw at least one straight line at intervals. 前記工程(a)において、剥離フィルムまたは絶縁性基板の平面形状は矩形であり、前記複数のランド部を、互いに間隔をあけて、前記矩形の4辺のうちの3辺に沿って形成する請求項13に記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。   In the step (a), the planar shape of the release film or the insulating substrate is a rectangle, and the plurality of land portions are formed along three sides of the four sides of the rectangle at intervals. Item 14. A method for manufacturing a circuit component built-in module according to Item 13. 前記工程(a)において、剥離フィルムまたは絶縁性基板の平面形状は矩形であり、前記複数のランド部を、互いに間隔をあけて、前記矩形の4辺に沿って方形を描くように形成する請求項13に記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。   In the step (a), the planar shape of the release film or the insulating substrate is a rectangle, and the plurality of land portions are formed so as to draw a square along the four sides of the rectangle at intervals. Item 14. A method for manufacturing a circuit component built-in module according to Item 13. 前記工程(a)において、前記複数のランド部を、千鳥模様を描くように、互い違いに形成する請求項13に記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。   The method for manufacturing a circuit component built-in module according to claim 13, wherein in the step (a), the plurality of land portions are alternately formed so as to draw a staggered pattern. 前記複数のプローブは、ほぼ等間隔に配列されている請求項13〜17のいずれかの項に記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。   The method for manufacturing a circuit component built-in module according to claim 13, wherein the plurality of probes are arranged at substantially equal intervals. 前記プローブが、針状である請求項13〜18のいずれかの項に記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。   The method for manufacturing a circuit component built-in module according to claim 13, wherein the probe has a needle shape. 前記プローブが、弾性を有している請求項13〜19のいずれかの項に記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。   The method for manufacturing a circuit component built-in module according to any one of claims 13 to 19, wherein the probe has elasticity. 前記支持体が、弾性を有している請求項13〜20のいずれかの項に記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。   The method for manufacturing a circuit component built-in module according to any one of claims 13 to 20, wherein the support has elasticity. 前記第1のシート状物は、配線板である請求項13〜21のいずれかの項に記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。   The method for manufacturing a circuit component built-in module according to any one of claims 13 to 21, wherein the first sheet-like material is a wiring board. 前記第1のシート状物は、前記絶縁性基板内に配線層が設けられた多層配線基板である請求項13〜21のいずれかの項に記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。   The method of manufacturing a circuit component built-in module according to any one of claims 13 to 21, wherein the first sheet-like material is a multilayer wiring board in which a wiring layer is provided in the insulating substrate. (a)剥離フィルムの一方の主面または絶縁性基板の一方の主面に複数のランド部を含む配線層が形成された第1のシート状物を2つ用意し、少なくとも1方の前記第1のシート状物に回路部品を実装する工程と、
(b)実装検査および特性検査から選ばれる少なくとも一種の検査を行う工程と、
(c)電気絶縁性材料を、複数の貫通孔が所定の位置に形成された第2のシート状物に加工し、前記貫通孔内に導電性材料を充填し、前記第1のシート状物の前記回路部品が実装された面が前記第2のシート状物側を向くように、前記第1のシート状物間に前記導電性材料が充填された前記第2のシート状物を配置した後、これらを厚さ方向に加圧および加熱して、前記回路部品を前記第2のシート状物内に埋め込む工程とを含み、
前記工程(a)において、前記剥離フィルムの一方の主面または前記絶縁性基板の一方の主面に、前記複数のランド部を、互いに間隔をあけて、略格子を描くように形成し、
前記工程(b)において、前記複数のランド部に対応して配置された複数のプローブと、前記複数のプローブを支持する支持体とを含む検査器具を用いて、前記検査を行う回路部品内蔵モジュールの製造方法。
(A) Two first sheet-like materials having a wiring layer including a plurality of land portions formed on one main surface of a release film or one main surface of an insulating substrate are prepared, and at least one of the first Mounting circuit components on one sheet-like material;
(B) a step of performing at least one type of inspection selected from mounting inspection and characteristic inspection;
(C) Processing the electrically insulating material into a second sheet-like material in which a plurality of through holes are formed at predetermined positions, filling the through-holes with a conductive material, and the first sheet-like material. The second sheet-like material filled with the conductive material is disposed between the first sheet-like materials so that the surface on which the circuit component is mounted faces the second sheet-like material side. And pressurizing and heating them in the thickness direction, and embedding the circuit component in the second sheet-like material,
In the step (a), the plurality of land portions are formed on one main surface of the release film or one main surface of the insulating substrate so as to draw a substantially lattice with a space between each other,
In the step (b), a circuit component built-in module that performs the inspection using an inspection instrument that includes a plurality of probes arranged corresponding to the plurality of land portions and a support that supports the plurality of probes. Manufacturing method.
前記第1のシート状物は、配線板である請求項24に記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。   The method for manufacturing a module with a built-in circuit component according to claim 24, wherein the first sheet-like material is a wiring board. 前記第1のシート状物は、前記絶縁性基板内に配線層が設けられた多層配線基板である請求項24に記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。

25. The method for manufacturing a circuit component built-in module according to claim 24, wherein the first sheet-like material is a multilayer wiring board in which a wiring layer is provided in the insulating substrate.

JP2004145374A 2003-05-16 2004-05-14 Circuit component built-in module and manufacturing method thereof Active JP4509645B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004145374A JP4509645B2 (en) 2003-05-16 2004-05-14 Circuit component built-in module and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003139345 2003-05-16
JP2004145374A JP4509645B2 (en) 2003-05-16 2004-05-14 Circuit component built-in module and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005005692A true JP2005005692A (en) 2005-01-06
JP4509645B2 JP4509645B2 (en) 2010-07-21

Family

ID=34106326

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004145374A Active JP4509645B2 (en) 2003-05-16 2004-05-14 Circuit component built-in module and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4509645B2 (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006344847A (en) * 2005-06-10 2006-12-21 Murata Mfg Co Ltd Substrate with built-in component, module equipped with built-in component using same, and method of manufacturing same
JP2007019268A (en) * 2005-07-07 2007-01-25 Toshiba Corp Wiring board and manufacturing method thereof, and electronic equipment incorporating wiring board
JP2007123617A (en) * 2005-10-28 2007-05-17 Toshiba Corp Printed wiring board, electronic apparatus incorporating printed wiring board, and process for producing printed wiring board
JP2007188920A (en) * 2006-01-11 2007-07-26 Nec Corp Laminated module and its manufacturing method
JP2009224576A (en) * 2008-03-17 2009-10-01 Dainippon Printing Co Ltd Wiring board, and inspection method of wiring board
JP2011039023A (en) * 2009-08-12 2011-02-24 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Test method of substrate
JP2013048286A (en) * 2010-05-10 2013-03-07 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Circuit board
WO2013054625A1 (en) * 2011-10-14 2013-04-18 株式会社村田製作所 Resin substrate having built-in component
WO2013058039A1 (en) * 2011-10-21 2013-04-25 株式会社村田製作所 Resin substrate having built-in component
US8653848B2 (en) 2010-05-28 2014-02-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Television apparatus, semiconductor package, and electronic device

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0423158U (en) * 1990-06-15 1992-02-26
JP2001085603A (en) * 1999-09-13 2001-03-30 Toshiba Corp Semiconductor device
JP2001119147A (en) * 1999-10-14 2001-04-27 Sony Corp Multilayer board incorporating electronic device and production method therefor
JP2001244638A (en) * 1999-12-20 2001-09-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Module with built-in circuit and its manufacturing method
JP2001267492A (en) * 2000-03-14 2001-09-28 Ibiden Co Ltd Manufacturing method for semiconductor module
JP2002043742A (en) * 2000-07-21 2002-02-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacturing method of circuit board
JP2002083926A (en) * 2000-06-29 2002-03-22 Ibiden Co Ltd Circuit board for semiconductor chip mounting and its manufacturing method as well as multilayered circuit board
JP2002261449A (en) * 2000-12-27 2002-09-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd Module with built-in component and its manufacturing method
JP2002290051A (en) * 2001-01-19 2002-10-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Module with built-in component and method for manufacturing the same

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0423158U (en) * 1990-06-15 1992-02-26
JP2001085603A (en) * 1999-09-13 2001-03-30 Toshiba Corp Semiconductor device
JP2001119147A (en) * 1999-10-14 2001-04-27 Sony Corp Multilayer board incorporating electronic device and production method therefor
JP2001244638A (en) * 1999-12-20 2001-09-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Module with built-in circuit and its manufacturing method
JP2001267492A (en) * 2000-03-14 2001-09-28 Ibiden Co Ltd Manufacturing method for semiconductor module
JP2002083926A (en) * 2000-06-29 2002-03-22 Ibiden Co Ltd Circuit board for semiconductor chip mounting and its manufacturing method as well as multilayered circuit board
JP2002043742A (en) * 2000-07-21 2002-02-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacturing method of circuit board
JP2002261449A (en) * 2000-12-27 2002-09-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd Module with built-in component and its manufacturing method
JP2002290051A (en) * 2001-01-19 2002-10-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Module with built-in component and method for manufacturing the same

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006344847A (en) * 2005-06-10 2006-12-21 Murata Mfg Co Ltd Substrate with built-in component, module equipped with built-in component using same, and method of manufacturing same
JP2007019268A (en) * 2005-07-07 2007-01-25 Toshiba Corp Wiring board and manufacturing method thereof, and electronic equipment incorporating wiring board
JP2007123617A (en) * 2005-10-28 2007-05-17 Toshiba Corp Printed wiring board, electronic apparatus incorporating printed wiring board, and process for producing printed wiring board
JP2007188920A (en) * 2006-01-11 2007-07-26 Nec Corp Laminated module and its manufacturing method
JP2009224576A (en) * 2008-03-17 2009-10-01 Dainippon Printing Co Ltd Wiring board, and inspection method of wiring board
JP2011039023A (en) * 2009-08-12 2011-02-24 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Test method of substrate
JP2013048286A (en) * 2010-05-10 2013-03-07 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Circuit board
US8653848B2 (en) 2010-05-28 2014-02-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Television apparatus, semiconductor package, and electronic device
WO2013054625A1 (en) * 2011-10-14 2013-04-18 株式会社村田製作所 Resin substrate having built-in component
JP5668866B2 (en) * 2011-10-14 2015-02-12 株式会社村田製作所 Component built-in resin substrate
US9526176B2 (en) 2011-10-14 2016-12-20 Murata Manufacturing Co., Ltd. Component-embedded resin substrate
WO2013058039A1 (en) * 2011-10-21 2013-04-25 株式会社村田製作所 Resin substrate having built-in component
JP5516830B2 (en) * 2011-10-21 2014-06-11 株式会社村田製作所 Component built-in resin substrate
JPWO2013058039A1 (en) * 2011-10-21 2015-04-02 株式会社村田製作所 Component built-in resin substrate
US9241409B2 (en) 2011-10-21 2016-01-19 Murata Manufacturing Co., Ltd. Component-embedded resin substrate

Also Published As

Publication number Publication date
JP4509645B2 (en) 2010-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100507791B1 (en) Electric component embedded module and method of manufacturing the same
KR100377088B1 (en) Module with built-in circuit parts and manufacturing method thereof
JP3375555B2 (en) Circuit component built-in module and method of manufacturing the same
TW550997B (en) Module with built-in components and the manufacturing method thereof
JP3553043B2 (en) Component built-in module and manufacturing method thereof
KR100987688B1 (en) Printed wiring board and method for manufacturing printed wiring board
JP4504798B2 (en) Multistage semiconductor module
US7248482B2 (en) Module with built-in circuit component and method for producing the same
JP2006303114A (en) Multi-staged semiconductor module and its manufacturing method
JP2001244638A (en) Module with built-in circuit and its manufacturing method
JP2006310541A (en) Multilayer wiring board and its production process, multilayer wiring board structure and its production process
JP2008294381A (en) Electronic component module and manufacturing method of electronic component module
JP2003188340A (en) Part incorporating module and its manufacturing method
JP4509645B2 (en) Circuit component built-in module and manufacturing method thereof
JP4606685B2 (en) Module with built-in circuit components
JP2004274035A (en) Module having built-in electronic parts and method of manufacturing same
JP2004363566A (en) Electronic-component mounting body and method of manufacturing the same
WO2007037086A1 (en) Substrate with built-in component and method for manufacturing such substrate
JP4786914B2 (en) Composite wiring board structure
JPH0763787A (en) Probe structure
JP2006310543A (en) Wiring board and its production process, wiring board with semiconductor circuit element
JP4711757B2 (en) Wiring board
JP2006310542A (en) Wiring substrate, manufacturing method thereof, and wiring substrate with semiconductor circuit element
Aschenbrenner System-in-package solutions with embedded active and passive components
JP4606472B2 (en) Semiconductor module and manufacturing method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070112

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090821

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091112

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100112

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100406

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100428

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4509645

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250