JP2002261449A - Module with built-in component and its manufacturing method - Google Patents

Module with built-in component and its manufacturing method

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JP2002261449A JP2001379696A JP2001379696A JP2002261449A JP 2002261449 A JP2002261449 A JP 2002261449A JP 2001379696 A JP2001379696 A JP 2001379696A JP 2001379696 A JP2001379696 A JP 2001379696A JP 2002261449 A JP2002261449 A JP 2002261449A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a module with built-in component in which an inorganic filler can be applied at a high concentration, active components, such as the semiconductor or passive components, such as the chip resistor and chip capacitor can be embedded by a simple method, and a multilayer wiring structure can be produced easily. SOLUTION: The module with the built-in component has a core layer made of an electrical insulating material and an electrical insulating layer and a plurality of wiring patterns formed on at least one surface of the core layer. The electrical insulating material of the core layer is composed of a mixture containing at least the inorganic filler and a thermosetting resin. The core layer incorporates at least one or more active component and/or passive components and has a plurality of wiring patterns and inner vias composed of a conductive resin. In addition, the elastic modulus of the electrical insulating material of the core layer composed of the mixture containing at least the inorganic filler and thermosetting resin at a room temperature is adjusted within the range of 0.6-10 GPa.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体などの能動
部品や抵抗、コンデンサなどの受動部品を内蔵した高密
度実装モジュールに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-density mounting module incorporating active components such as semiconductors and passive components such as resistors and capacitors.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の高性能化、小型化の要
求に伴い、半導体の高密度、高機能化が一層叫ばれてい
る。これによりそれらを実装するため回路基板もまた小
型高密度なものが望まれている。これらの要求に対し、
高密度実装を実現する手段として、LSI間や部品間の
電気配線を最短距離で接続できる基板の層間の電気接続
方式であるインナビアホール接続法が、最も回路の高密
度配線化が図れることから各方面で開発が進められてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, with the demand for higher performance and smaller size of electronic equipment, higher density and higher function of semiconductors have been called out. Accordingly, a small and high-density circuit board for mounting them is also desired. For these requests,
As a means of realizing high-density mounting, an inner via hole connection method, which is an electric connection method between layers of a substrate that can connect electric wiring between LSIs and components in the shortest distance, is used since the highest density wiring of a circuit can be achieved. Development is proceeding in the area.

【0003】しかしながら、これらの方法によっても2
次元的に部品を高密度に実装することは限界に近づきつ
つある。また、これらのインナービア構造の高密度実装
基板は、樹脂系の材料で構成されているため、熱伝導度
が低く、部品実装が高密度になればなる程部品から発生
する熱を放熱させることは困難となる。近々には、CP
Uのクロック周波数が1GHz程度になるといわれてお
り、またその機能の高度化とあいまってCPUの消費電
力も1チップ当たり100〜150Wに達しようとする
予測もある。また、高速化、高密度化に伴いノイズの影
響も避けて通れなくなりつつある。従って、回路基板は
高密度、高機能に加え、対ノイズ、放熱性に加え、部品
を内蔵した3次元実装形態のモジュールの出現が期待さ
れている。
[0003] However, these methods also require 2
Dimensionally mounting components at high density is approaching its limits. In addition, since these high-density mounting boards with an inner via structure are made of resin-based materials, their thermal conductivity is low, and the higher the density of component mounting, the more heat generated from components can be dissipated. Becomes difficult. In the near future, CP
It is said that the clock frequency of U will be about 1 GHz, and it is predicted that the power consumption of the CPU will reach 100 to 150 W per chip in conjunction with the sophistication of its function. In addition, with the increase in speed and density, the influence of noise is being avoided and it is becoming impossible to pass through. Therefore, in addition to high density and high performance, the circuit board is expected to have a three-dimensional mounting module incorporating components in addition to noise and heat dissipation.

【0004】このような要求に対し、特開平2−121
392号公報には、多層セラミック基板を応用し、内部
にコンデンサや抵抗体を形成したモジュールが提案され
ている。このようなセラミック多層基板は、基板材料と
同時焼成可能な高誘電体材料をシート状に加工し、内部
に挟み込んで焼成することで得られるが、異種の材料を
同時焼成する場合、焼結タイミングのずれや、焼結時の
収縮率の違いにより、焼成後にそりが生じたり内部の配
線に剥離が生じたりすることがあり、精密な焼成条件の
コントロールが必要である。また、セラミック基板によ
る部品内蔵は、先に示した通り同時焼成が基本であるた
め、コンデンサや抵抗体などは形成できるが、耐熱性に
欠けるシリコンなどの半導体を同時焼成することは不可
能であり内蔵することはできない。
In response to such a demand, Japanese Patent Laid-Open No. 2-121
No. 392 proposes a module in which a multilayer ceramic substrate is applied and a capacitor and a resistor are formed inside. Such a ceramic multilayer substrate is obtained by processing a high-dielectric material, which can be co-fired with the substrate material, into a sheet shape, and sandwiching and firing it inside. Due to the displacement and the difference in shrinkage during sintering, warping may occur after firing or peeling of internal wiring may occur, and precise control of firing conditions is required. In addition, since built-in components using a ceramic substrate are based on simultaneous firing as described above, capacitors and resistors can be formed, but it is impossible to simultaneously fire semiconductors such as silicon that lack heat resistance. It cannot be built-in.

【0005】一方、低温で半導体などの能動部品やコン
デンサ、抵抗などの受動部品を内蔵させた回路基板の提
案がなされている。特開平3−69191号公報、特開
平11−103147号公報には、プリント基板材に形
成された銅配線に電子部品を搭載し、更にその上に樹脂
で一面に被覆して埋め込み層を形成し、更に接着剤で複
数層接着する方法が記載されている。また、特開平9−
214092号公報には、貫通のスルーホール内に誘電
体などの材料を埋設し、表面電極を形成してコンデンサ
や抵抗を内蔵する方法が記載されている。加えて、プリ
ント基板自体にコンデンサなどの機能を付加させる方法
もある。特開平5−7063号公報(特許第30195
41号)には、誘電体粉末と樹脂を混合した誘電体基板
の両面に電極を形成したコンデンサ内蔵基板が記載され
ている。また、特開平11−220262号公報には、
インナービア構成で半導体やコンデンサなどを内蔵させ
る方法が記載されている。
On the other hand, there has been proposed a circuit board in which active components such as semiconductors and passive components such as capacitors and resistors are incorporated at a low temperature. JP-A-3-69191 and JP-A-11-103147 disclose that an electronic component is mounted on a copper wiring formed on a printed circuit board material, and that a buried layer is formed by further covering the entire surface with a resin. Further, a method of bonding a plurality of layers with an adhesive is described. Also, Japanese Patent Application Laid-Open
Japanese Patent No. 214092 describes a method in which a material such as a dielectric is buried in a through-hole and a surface electrode is formed to incorporate a capacitor and a resistor. In addition, there is a method of adding a function such as a capacitor to the printed circuit board itself. JP-A-5-7063 (Patent No. 30195)
No. 41) describes a capacitor built-in substrate in which electrodes are formed on both surfaces of a dielectric substrate in which a dielectric powder and a resin are mixed. Also, JP-A-11-220262 discloses that
A method of incorporating a semiconductor, a capacitor, and the like in an inner via configuration is described.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このように従来の高密
度配線が可能なインナービア構造を有し、且つ部品を内
蔵した3次元実装モジュールは、放熱性と気密性に優れ
たセラミック基板を応用したものと、低温で硬化させる
ことができるプリント基板によるものがある。セラミッ
ク基板では、放熱性に優れ、高い誘電率のコンデンサを
内蔵できる反面、異種の材料を同時に焼成させることが
難しく、また半導体を内蔵させることができないことや
コスト面でも課題を有している。一方、低温で硬化が行
なえるプリント基板では、半導体を内蔵させることがで
きる可能性がありコスト的にも有利であるが、誘電体材
料などと樹脂を混合した複合材料では、高い誘電率を得
ることは難しい。このことは前述のスルーホール内に形
成したコンデンサや誘電体粉末を混合したプリント基板
の例を見ても明らかである。また、一般的にプリント基
板は熱伝導度が低く放熱性には難がある。また、プリン
ト基板に実装した半導体やコンデンサなどを樹脂で封止
して複数積層内蔵させる方法についても、個別部品を内
蔵することができる反面、個別部品を埋設するためモジ
ュール自体の厚みが厚くなり、モジュール体積を小さく
することが困難である。また、内蔵部品とプリント基板
の熱膨張係数差による熱ストレスに対し、内蔵部品とプ
リント基板材料の間に特定の熱膨張係数を有する緩衝層
を形成することや、プリント基板材料の熱膨張係数を合
わせるなどの手段が取られるが、半導体の熱膨張係数は
一般に小さく、プリント基板材料だけで熱膨張係数を動
作温度域にわたって合致させることは極めて難しい。
As described above, a conventional three-dimensional mounting module having an inner via structure capable of high-density wiring and having built-in components uses a ceramic substrate excellent in heat dissipation and airtightness. And a printed circuit board that can be cured at a low temperature. The ceramic substrate is excellent in heat dissipation and can incorporate a capacitor having a high dielectric constant. However, it is difficult to fire different materials at the same time. On the other hand, a printed circuit board that can be cured at a low temperature has the possibility of incorporating a semiconductor and is advantageous in terms of cost, but a composite material obtained by mixing a resin with a dielectric material can obtain a high dielectric constant. It is difficult. This is apparent from the example of the printed circuit board in which the capacitor or the dielectric powder formed in the through hole is mixed. In general, printed circuit boards have low thermal conductivity and are difficult to dissipate heat. Also, with regard to the method of sealing and mounting multiple semiconductors and capacitors mounted on a printed circuit board with resin, while individual components can be embedded, the thickness of the module itself becomes thicker for embedding individual components, It is difficult to reduce the module volume. In addition, it is possible to form a buffer layer having a specific thermal expansion coefficient between the built-in component and the printed circuit board material, and to reduce the thermal expansion coefficient of the printed circuit board material against the thermal stress caused by the difference in thermal expansion coefficient between the built-in component and the printed circuit board. Means such as matching are taken, but the thermal expansion coefficient of the semiconductor is generally small, and it is extremely difficult to match the thermal expansion coefficient over the operating temperature range only with the printed circuit board material.

【0007】そこで、本発明は前記従来の問題を解決す
るため、熱硬化性樹脂に無機質フィラーを高濃度に充填
することが可能で、しかも簡易な工法で半導体などの能
動部品やチップ抵抗、チップコンデンサなどの受動部品
を内部に埋設させ、且つ多層配線構造を簡易に作製する
ことができる熱伝導性部品内蔵モジュールを提供するこ
とを目的とする。本発明では、無機質フィラーと熱硬化
性樹脂を選択することで、所望の性能を有するモジュー
ルの作製が可能であり、しかも放熱性に優れ、誘電特性
にも優れた超高密度な実装形態を有する部品内蔵モジュ
ールを提供できる。
In order to solve the above-mentioned conventional problems, the present invention is capable of filling a thermosetting resin with an inorganic filler at a high concentration, and furthermore, using a simple method, active components such as semiconductors, chip resistors, and chips. It is an object of the present invention to provide a heat conductive component built-in module in which passive components such as capacitors are embedded inside and a multilayer wiring structure can be easily manufactured. In the present invention, by selecting an inorganic filler and a thermosetting resin, it is possible to produce a module having desired performance, and furthermore, has an ultra-high-density mounting form excellent in heat dissipation and dielectric properties. A component built-in module can be provided.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の部品内蔵モジュールは、電気絶縁材からな
るコア層と、前記コア層の少なくとも片面に電気絶縁層
と複数の配線パターンとを備えた部品内蔵モジュールで
あって、前記コア層の電気絶縁材が少なくとも無機質フ
ィラーと熱硬化性樹脂を含む混合物から形成され、前記
コア層の内部に少なくとも1つ以上の能動部品及び/又
は受動部品を内蔵し、前記コア層が複数の配線パターン
と導電性樹脂からなる複数のインナービアを有し、且つ
前記コア層の少なくとも無機質フィラーと熱硬化性樹脂
を含む混合物からなる電気絶縁材の室温に於ける弾性率
が0.6〜10GPaの範囲にあることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a component built-in module according to the present invention comprises a core layer made of an electric insulating material, and an electric insulating layer and a plurality of wiring patterns on at least one surface of the core layer. A module with a built-in component, wherein the electrical insulating material of the core layer is formed of a mixture containing at least an inorganic filler and a thermosetting resin, and at least one or more active components and / or passive components are provided inside the core layer. The core layer has a plurality of wiring patterns and a plurality of inner vias made of a conductive resin, and at room temperature of an electrical insulating material made of a mixture containing at least an inorganic filler and a thermosetting resin of the core layer. The elastic modulus is in the range of 0.6 to 10 GPa.

【0009】これにより、簡易な工法で半導体などの能
動部品やチップ抵抗、チップコンデンサなどの受動部品
を内部に埋設でき、任意の無機質フィラーと熱硬化性樹
脂を選択することで、所望の性能を有し、かつ熱衝撃な
どのストレスに対しても高い信頼性を有するモジュール
が提供可能である。即ち、モジュールの平面方向の熱膨
脹係数を半導体と合わせたり、放熱性を持たせることが
できる。加えて、電気絶縁材の室温に於ける弾性率が
0.6〜10GPaの範囲とすることで半導体などの部
品をストレスなく内蔵できるので超高密度な実装形態を
有するモジュールが実現できる。また、部品を内蔵した
コア層の表面には再配線が可能な多層高密度配線層が形
成できるので、薄く極めて高密度なモジュールが実現で
きる。更に、今後の高周波化の進展によるノイズの問題
も半導体とチップコンデンサの配置を極力近くできるの
で、ノイズ低減の効果も期待できる。
As a result, active components such as semiconductors and passive components such as chip resistors and chip capacitors can be embedded inside by a simple construction method, and desired performance can be obtained by selecting an arbitrary inorganic filler and a thermosetting resin. It is possible to provide a module having high reliability with respect to stress such as thermal shock. That is, the coefficient of thermal expansion in the planar direction of the module can be matched with that of the semiconductor, or the module can have heat dissipation. In addition, by setting the elasticity of the electric insulating material at room temperature in the range of 0.6 to 10 GPa, components such as semiconductors can be built in without stress, so that a module having an ultra-high-density mounting form can be realized. Further, since a multi-layer high-density wiring layer capable of rewiring can be formed on the surface of the core layer containing the components, a thin and extremely high-density module can be realized. Further, since the problem of noise due to the development of higher frequencies in the future can be made as close as possible to the arrangement of the semiconductor and the chip capacitor, the effect of reducing noise can be expected.

【0010】また、本発明の部品内蔵モジュールは、前
記コア層の少なくとも無機質フィラーと熱硬化性樹脂を
含む混合物からなる電気絶縁材の室温に於ける弾性率が
0.6〜10GPaの範囲にあり、且つ前記熱硬化性樹
脂が複数のガラス転移温度を有する熱硬化性樹脂から構
成されることにより、さまざまな熱膨張係数を有する部
品が内蔵されても内蔵部品の熱衝撃からの熱ストレスに
強い部品内蔵モジュールが得られる。
In the module with a built-in component according to the present invention, the electrical insulating material of the core layer comprising a mixture containing at least an inorganic filler and a thermosetting resin has an elastic modulus at room temperature of 0.6 to 10 GPa. In addition, since the thermosetting resin is made of a thermosetting resin having a plurality of glass transition temperatures, even when components having various thermal expansion coefficients are built therein, it is resistant to thermal stress from thermal shock of the built-in components. A component built-in module is obtained.

【0011】また、本発明の部品内蔵モジュールは、前
記コア層の少なくとも無機質フィラーと熱硬化性樹脂を
含む混合物からなる電気絶縁材の室温に於ける弾性率が
0.6〜10GPaの範囲にあり、且つ前記熱硬化性樹
脂が少なくとも−20℃から60℃の範囲のガラス転移
温度を有する熱硬化性樹脂と、70℃から170℃の範
囲のガラス転移温度を有する熱硬化性樹脂からなること
を特徴とする。これにより、さまざまな熱膨張係数を有
する部品が内蔵されても内蔵部品の熱衝撃からの熱スト
レスに更に強い部品内蔵モジュールが得られる。
In the module with a built-in component according to the present invention, the electrical insulating material of the core layer comprising a mixture containing at least an inorganic filler and a thermosetting resin has an elastic modulus at room temperature of 0.6 to 10 GPa. And the thermosetting resin comprises a thermosetting resin having a glass transition temperature of at least -20 ° C to 60 ° C, and a thermosetting resin having a glass transition temperature of 70 ° C to 170 ° C. Features. As a result, even if components having various thermal expansion coefficients are built in, a component built-in module that is more resistant to thermal stress from thermal shock of the built-in components can be obtained.

【0012】また、本発明の部品内蔵モジュールは、前
記コア層、前記電気絶縁層及び前記配線パターンのすべ
てを貫通するスルーホールが形成されていることが好ま
しい。
Further, in the component built-in module of the present invention, it is preferable that a through hole penetrating all of the core layer, the electric insulating layer and the wiring pattern is formed.

【0013】これにより、前記に加えて通常のプリント
基板作製プロセス、設備がそのまま利用できるので、極
めて簡易に部品内蔵モジュールが実現できる。
[0013] In this way, in addition to the above, a normal printed circuit board manufacturing process and equipment can be used as they are, so that a component built-in module can be realized extremely easily.

【0014】また、本発明の部品内蔵モジュールは、電
気絶縁材からなるコア層と、前記コア層の少なくとも片
面に無機質フィラーと熱硬化性樹脂を含む混合物から形
成された電気絶縁材からなる電気絶縁層と、銅箔よりな
る複数の配線パターンとを備えた前記部品内蔵モジュー
ルであって、前記コア層が複数の銅箔よりなる配線パタ
ーンと導電性樹脂からなる複数のインナービアを有し、
前記配線パターンが前記インナービアにより電気接続さ
れていることが好ましい。
Further, the component built-in module of the present invention provides a core layer made of an electric insulating material, and an electric insulating material made of an electric insulating material formed on at least one surface of the core layer from a mixture containing an inorganic filler and a thermosetting resin. The component-containing module comprising a layer and a plurality of wiring patterns made of copper foil, wherein the core layer has a plurality of wiring patterns made of copper foil and a plurality of inner vias made of a conductive resin,
It is preferable that the wiring pattern is electrically connected by the inner via.

【0015】これにより、簡易な工法で半導体などの能
動部品やチップ抵抗、チップコンデンサなどの受動部品
を内部に埋設でき、且つ表層配線層にも任意の無機質フ
ィラーを選択することで、所望の性能を有するモジュー
ルが可能である。即ち、モジュールの平面方向の熱膨脹
係数を半導体と合わせたり、放熱性を持たせることがで
きる。また、部品を内蔵したコア層の表面には再配線が
可能な多層高密度配線層がインナービア構成で形成でき
るので、薄く極めて高密度なモジュールが実現できる。
This makes it possible to embed active components such as semiconductors and passive components such as chip resistors and chip capacitors in a simple manner, and to select desired inorganic fillers for the surface wiring layer to obtain desired performance. Are possible. That is, the coefficient of thermal expansion in the planar direction of the module can be matched with that of the semiconductor, or the module can have heat dissipation. Further, since a multi-layer high-density wiring layer capable of rewiring can be formed in the inner via configuration on the surface of the core layer in which the components are built, a thin and extremely high-density module can be realized.

【0016】また、本発明の部品内蔵モジュールは、電
気絶縁材からなるコア層と、前記コア層の少なくとも片
面に熱硬化性樹脂から形成された電気絶縁材からなる電
気絶縁層と、銅メッキよりなる複数の配線パターンとを
備えた前記部品内蔵モジュールであって、前記コア層が
複数の銅箔よりなる配線パターンと導電性樹脂からなる
複数のインナービアを有し、前記銅メッキよりなる配線
パターンが前記インナービアにより電気接続されている
ことが好ましい。
The component built-in module according to the present invention comprises a core layer made of an electric insulating material, an electric insulating layer made of an electric insulating material formed on at least one side of the core layer from a thermosetting resin, and copper plating. Wherein the core layer has a wiring pattern made of a plurality of copper foils and a plurality of inner vias made of a conductive resin, and the wiring pattern made of the copper plating. Are preferably electrically connected by the inner via.

【0017】これにより、上記に加え既存のメッキ技術
をそのまま利用することができ、しかも表層配線や絶縁
層を薄く形成できるので、より薄い部品内蔵高密度モジ
ュールが実現できる。
In this way, in addition to the above, the existing plating technique can be used as it is, and the surface wiring and the insulating layer can be formed thin, so that a thinner component built-in high-density module can be realized.

【0018】また、本発明の部品内蔵モジュールは、電
気絶縁材からなるコア層と、前記コア層の少なくとも片
面に熱硬化性樹脂が両面に形成された有機フィルムから
なる電気絶縁層と、銅箔よりなる複数の配線パターンと
を備えた前記部品内蔵モジュールであって、前記コア層
が複数の銅箔よりなる配線パターンと導電性樹脂からな
る複数のインナービアを有し、前記配線パターンが前記
インナービアにより電気接続されていることが好まし
い。
Further, the component built-in module of the present invention comprises a core layer made of an electric insulating material, an electric insulating layer made of an organic film having a thermosetting resin formed on at least one surface of the core layer on both surfaces, and a copper foil. Wherein the core layer has a plurality of wiring patterns made of copper foil and a plurality of inner vias made of a conductive resin, wherein the wiring pattern is Preferably, they are electrically connected by vias.

【0019】これにより、高密度で薄い表層配線層が形
成できるだけでなく、有機フィルムにより極めて表面平
滑性に優れる。また、同様に厚み精度に優れるため、表
層配線のインピーダンス制御が極めて高精度に行なえ、
高い周波数帯域に適合した高周波用の部品内蔵モジュー
ルが実現できる。
As a result, not only a high-density and thin surface wiring layer can be formed, but also the organic film is extremely excellent in surface smoothness. In addition, since the thickness accuracy is also excellent, the impedance control of the surface wiring can be performed with extremely high accuracy,
A high-frequency component built-in module suitable for a high frequency band can be realized.

【0020】また、本発明の部品内蔵モジュールは、電
気絶縁材からなるコア層と、前記コア層の少なくとも片
面に複数の配線パターンとインナービアを有するセラミ
ック基板が接着された前記部品内蔵モジュールであっ
て、前記コア層が複数の銅箔よりなる配線パターンと導
電性樹脂からなる複数のインナービアを有していること
が好ましい。
Further, the module with a built-in component according to the present invention is a module with a built-in component in which a core layer made of an electrically insulating material and a ceramic substrate having a plurality of wiring patterns and inner vias are adhered to at least one surface of the core layer. Preferably, the core layer has a wiring pattern made of a plurality of copper foils and a plurality of inner vias made of a conductive resin.

【0021】これにより、部品が内蔵され、且つ放熱性
や気密性に優れ、高い誘電率のコンデンサを内蔵したモ
ジュールが得られる。
As a result, it is possible to obtain a module in which components are incorporated, and which has excellent heat dissipation and airtightness, and incorporates a capacitor having a high dielectric constant.

【0022】また、本発明の部品内蔵モジュールは、電
気絶縁材からなるコア層と、前記コア層の少なくとも片
面に複数の配線パターンとインナービアを有する複数の
セラミック基板が接着された前記部品内蔵モジュールで
あって、前記コア層が複数の銅箔よりなる配線パターン
と導電性樹脂からなる複数のインナービアを有し、前記
複数のセラミック基板が異なる誘電率の誘電体材料より
なることが好ましい。
Further, the module with a built-in component according to the present invention is a module with a built-in component, wherein a core layer made of an electrically insulating material and a plurality of ceramic substrates having a plurality of wiring patterns and inner vias are bonded to at least one surface of the core layer. It is preferable that the core layer has a wiring pattern formed of a plurality of copper foils and a plurality of inner vias formed of a conductive resin, and the plurality of ceramic substrates are formed of a dielectric material having a different dielectric constant.

【0023】これにより、高い誘電率のセラミックコン
デンサと高速回路に適した誘電率の低いセラミック基板
の異種積層が容易に実現できる。特に、高速配線層には
伝送損失の小さいセラミック層を利用し、バイパスコン
デンサが必要な部分には高い誘電率のセラミック層を利
用することができる。
Accordingly, different types of lamination of a ceramic capacitor having a high dielectric constant and a ceramic substrate having a low dielectric constant suitable for a high-speed circuit can be easily realized. In particular, a ceramic layer having a small transmission loss can be used for the high-speed wiring layer, and a ceramic layer having a high dielectric constant can be used for a portion requiring a bypass capacitor.

【0024】また、本発明の部品内蔵モジュールは、前
記コア層の少なくとも片面に形成された前記配線パター
ンの間に膜状受動部品を配置することが望ましい。これ
により、更に高密度に部品を内蔵した3次元モジュール
が実現できる。
In the component built-in module according to the present invention, it is preferable that a film-like passive component is disposed between the wiring patterns formed on at least one surface of the core layer. As a result, a three-dimensional module in which components are built in at a higher density can be realized.

【0025】また、本発明の部品内蔵モジュールは、前
記膜状受動部品が、薄膜又は無機質フィラーと熱硬化性
樹脂の混合物からなる抵抗、コンデンサ及びインダクタ
からなる群から選ばれた少なくとも1つであることが望
ましい。薄膜では優れた性能の受動部品が得られるから
である。また、無機質フィラーと熱硬化性樹脂からなる
膜状部品は製造が容易であり、信頼性にも優れるからで
ある。
In the component built-in module according to the present invention, the film-like passive component is at least one selected from the group consisting of a resistor, a capacitor, and an inductor formed of a thin film or a mixture of an inorganic filler and a thermosetting resin. It is desirable. This is because a thin film can provide a passive component having excellent performance. Further, a film-like component made of an inorganic filler and a thermosetting resin is easy to manufacture and has excellent reliability.

【0026】また、本発明の部品内蔵モジュールは、前
記膜状受動部品が、少なくともアルミニウム又はタンタ
ルの酸化層と導電性高分子よりなる固体電解コンデンサ
であることが望ましい。
In the component built-in module of the present invention, it is preferable that the film-like passive component is a solid electrolytic capacitor comprising at least an oxide layer of aluminum or tantalum and a conductive polymer.

【0027】また、本発明の部品内蔵モジュールの製造
方法は、少なくとも無機質フィラーと未硬化状態の熱硬
化性樹脂からなる混合物をシート状に加工し、前記無機
質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からなるシート
状物に貫通孔を形成し、前記貫通孔に導電性樹脂を充填
し、銅箔上に能動部品及び/又は受動部品を実装し、前
記部品実装済みの銅箔の部品実装面に前記貫通孔に導電
性樹脂を充填したシート状物を位置合わせして重ね、更
に銅箔を重ねて前記受動部品及び/又は能動部品を前記
シート状物に埋没させて加熱加圧することにより、前記
シート状物中の熱硬化性樹脂及び導電性樹脂を硬化さ
せ、その後前記最外層部の銅箔を加工して配線パターン
を形成させてコア層を作成し、無機質フィラーと未硬化
状態の熱硬化性樹脂からなる混合物シート又は両面に接
着層を形成した有機フィルムに貫通孔を形成し、前記コ
ア層の少なくとも片面に前記貫通孔に導電性樹脂を充填
した混合物シート又は有機フィルムと前記銅箔とを位置
合わせして重ねて加熱加圧することで一体化し、前記銅
箔を加工して配線パターンを形成させることを特徴とす
る。
Further, in the method for manufacturing a component built-in module according to the present invention, a mixture comprising at least an inorganic filler and an uncured thermosetting resin is processed into a sheet, and the inorganic filler and the uncured thermosetting resin are processed. A through-hole is formed in a sheet-like material comprising: a conductive resin is filled into the through-hole; an active component and / or a passive component is mounted on the copper foil; By positioning and stacking a sheet-like material filled with a conductive resin in the through-hole, further laying a copper foil, burying the passive component and / or the active component in the sheet-like material, and applying heat and pressure, The thermosetting resin and the conductive resin in the sheet material are cured, and then the outermost layer copper foil is processed to form a wiring pattern to form a core layer, and the inorganic filler and thermosetting in an uncured state Resin A through-hole is formed in a mixture sheet or an organic film having an adhesive layer formed on both surfaces thereof, and a mixture sheet or an organic film filled with a conductive resin in the through-hole on at least one surface of the core layer and the copper foil are positioned. It is characterized by being integrated by stacking and heating and pressurizing, and processing the copper foil to form a wiring pattern.

【0028】この方法により、簡易な工法で半導体など
の能動部品やチップ抵抗、チップコンデンサなどの受動
部品を内部に埋設でき、且つ外層部にも部品を更に実装
できるので、極めて高密度で小型のモジュールが実現で
きる。また、コア表層部にも配線パターンを形成できる
ので、更に高密度なモジュールとなる。更に、表層部の
材料を選択できるので熱伝導や誘電率、熱膨張などを制
御できる。
According to this method, active components such as semiconductors and passive components such as chip resistors and chip capacitors can be buried therein by a simple method, and components can be further mounted on an outer layer portion. Module can be realized. In addition, since a wiring pattern can be formed on the surface layer of the core, a higher-density module can be obtained. Furthermore, since the material of the surface layer can be selected, heat conduction, dielectric constant, thermal expansion, and the like can be controlled.

【0029】また、本発明の部品内蔵モジュールの製造
方法は、前記コア層の上に位置合わせして重ねる銅箔に
おいて、予め前記銅箔の上に膜状部品が形成されている
ことが好ましい。
In the method for manufacturing a module with a built-in component according to the present invention, it is preferable that a film-like component is previously formed on the copper foil in the copper foil to be aligned and stacked on the core layer.

【0030】また、本発明の部品内蔵モジュールの製造
方法は、少なくとも無機質フィラーと未硬化状態の熱硬
化性樹脂からなる混合物をシート状に加工し、前記無機
質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からなるシート
状物に貫通孔を形成し、前記貫通孔に導電性樹脂を充填
し、離型キャリアの片面に配線パターンを形成し、前記
離型キャリアの配線パターン上に能動部品及び/又は受
動部品を実装し、前記部品実装済みの配線パターンを有
する前記離型キャリアの部品実装面に前記貫通孔に導電
性樹脂を充填したシート状物を位置合わせして重ね、前
記受動部品及び/又は能動部品を前記シート状物に埋没
一体化させて更に加熱加圧することにより、前記シート
状物中の熱硬化性樹脂及び導電性樹脂を硬化させ、その
後前記最外層部の離型キャリアを剥離してコア層を形成
し、無機質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からな
る混合物シート又は両面に接着層を形成した有機フィル
ムに貫通孔を形成し、前記コア層の少なくとも片面に前
記貫通孔に導電性樹脂を充填した混合物シート又は有機
フィルムと、片面に配線パターンを形成した離型キャリ
アとを位置合わせして重ねて加熱加圧することで一体化
し、前記離型キャリアを剥離することを特徴とする。
Further, in the method of manufacturing a module with a built-in component according to the present invention, a mixture comprising at least an inorganic filler and an uncured thermosetting resin is processed into a sheet, and the inorganic filler and the uncured thermosetting resin are processed. Forming a through-hole in a sheet-like material, filling the through-hole with a conductive resin, forming a wiring pattern on one surface of the release carrier, and forming an active component and / or a passive component on the wiring pattern of the release carrier. The passive component and / or the active component are mounted on the component mounting surface of the release carrier having the component-mounted wiring pattern, with the through-hole filled with a conductive resin filled in a conductive resin. By embedding and integrating the component in the sheet-like material and further applying heat and pressure, the thermosetting resin and the conductive resin in the sheet-like material are cured, and then the outermost layer portion Forming a core layer by peeling the mold carrier, forming a through hole in a mixture sheet composed of an inorganic filler and an uncured thermosetting resin or an organic film having an adhesive layer formed on both surfaces, and forming at least one surface of the core layer. A mixture sheet or an organic film filled with a conductive resin in the through-hole and a release carrier having a wiring pattern formed on one side are aligned, stacked and integrated by heating and pressing, and the release carrier is peeled off. It is characterized by doing.

【0031】この方法により、簡易な工法で半導体など
の能動部品やチップ抵抗、チップコンデンサなどの受動
部品を内部に埋設でき、且つ外層部にも部品を更に実装
できるので、極めて高密度で小型のモジュールが実現で
きる。更に、表層部の配線パターンの形成を転写により
行なえるので、硬化工程の後にエッチングなどの処理が
不要となり、工業上簡易な方法となる。
According to this method, active components such as semiconductors and passive components such as chip resistors and chip capacitors can be embedded in the interior by a simple method, and components can be further mounted in the outer layer portion. Module can be realized. Further, since the formation of the wiring pattern on the surface layer portion can be performed by transfer, a process such as etching after the curing step is not required, which is an industrially simple method.

【0032】また、本発明の部品内蔵モジュールの製造
方法は、前記コア層の上に位置合わせして重ねる配線パ
ターンを形成した前記離型キャリアにおいて、予め前記
離型キャリアに形成された配線パターンの上に膜状部品
が形成されていることが好ましい。
Further, in the method for manufacturing a module with a built-in component according to the present invention, in the release carrier in which a wiring pattern that is aligned and superimposed on the core layer is formed, a wiring pattern formed in advance on the release carrier may be used. It is preferable that a film component is formed thereon.

【0033】また、本発明の部品内蔵モジュールの製造
方法は、前記膜状部品が、薄膜又は無機質フィラーと熱
硬化性樹脂の混合物からなる抵抗、コンデンサ及びイン
ダクタからなる群から選ばれた少なくとも1つであり、
且つ前記膜状部品が、蒸着法、MO−CVD法又は厚膜
印刷法のいずれかの方法で形成されていることが好まし
い。
Further, in the method for manufacturing a module with a built-in component according to the present invention, the film-shaped component may be at least one selected from the group consisting of a resistor made of a thin film or a mixture of an inorganic filler and a thermosetting resin, a capacitor and an inductor. And
Further, it is preferable that the film component is formed by any one of a vapor deposition method, an MO-CVD method, and a thick film printing method.

【0034】また、本発明の部品内蔵モジュールの製造
方法は、少なくとも無機質フィラーと未硬化状態の熱硬
化性樹脂からなる混合物をシート状に加工し、前記無機
質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からなるシート
状物に貫通孔を形成し、前記貫通孔に導電性樹脂を充填
し、銅箔上に能動部品及び/又は受動部品を実装し、前
記部品実装済みの銅箔の部品実装面に前記貫通孔に導電
性樹脂を充填したシート状物を位置合わせして重ね、更
に銅箔を重ねて前記受動部品及び/又は能動部品を前記
シート状物に埋没させて加熱加圧することにより、前記
シート状物中の熱硬化性樹脂及び導電性樹脂を硬化さ
せ、その後前記最外層部の銅箔を加工して配線パターン
を形成させてコア層を作成し、無機質フィラーと未硬化
状態の熱硬化性樹脂からなる混合物シート又は両面に接
着層を形成した有機フィルムに貫通孔を形成し、前記コ
ア層の少なくとも片面に、前記貫通孔に導電性樹脂を充
填した混合物シート又は有機フィルムと前記銅箔とを位
置合わせして重ねて加熱加圧硬化した後、コア層も含め
て貫通孔を形成し、銅メッキにより貫通スルーホールを
形成することを特徴とする。
Further, in the method of manufacturing a module with a built-in component according to the present invention, a mixture comprising at least an inorganic filler and an uncured thermosetting resin is processed into a sheet, and the inorganic filler and the uncured thermosetting resin are processed. A through-hole is formed in a sheet-like material comprising: a conductive resin is filled into the through-hole; an active component and / or a passive component is mounted on the copper foil; By positioning and stacking a sheet-like material filled with a conductive resin in the through-hole, further laying a copper foil, burying the passive component and / or the active component in the sheet-like material, and applying heat and pressure, The thermosetting resin and the conductive resin in the sheet material are cured, and then the outermost layer copper foil is processed to form a wiring pattern to form a core layer, and the inorganic filler and thermosetting in an uncured state Resin A mixture sheet or an organic film having an adhesive layer formed on both surfaces thereof is formed with a through hole, and at least one surface of the core layer, a mixture sheet or an organic film filled with a conductive resin in the through hole and the copper foil. It is characterized in that after positioning and overlapping and heating and pressurizing and curing, a through hole including a core layer is formed, and a through hole is formed by copper plating.

【0035】これにより、部品を内蔵したコア層を基本
として、従来の貫通スルーホール技術をそのまま利用す
ることがでるので、工業上極めて有効である。
This makes it possible to use the conventional through-hole technology as it is, based on the core layer in which the components are incorporated, and is extremely industrially effective.

【0036】また、本発明の部品内蔵モジュールの製造
方法は、少なくとも無機質フィラーと未硬化状態の熱硬
化性樹脂からなる混合物をシート状に加工し、前記無機
質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からなるシート
状物に貫通孔を形成し、前記貫通孔に導電性樹脂を充填
し、離型キャリアの片面に配線パターンを形成し、前記
離型キャリアの配線パターン上に能動部品及び/又は受
動部品を実装し、前記部品実装済みの配線パターンを有
する前記離型キャリアの部品実装面に前記貫通孔に導電
性樹脂を充填したシート状物を位置合わせして重ね、前
記受動部品及び/又は能動部品を前記シート状物に埋没
一体化させて更に加熱加圧することにより、前記シート
状物中の熱硬化性樹脂及び導電性樹脂を硬化させ、その
後前記最外層部の離型キャリアを剥離してコア層を形成
し、無機質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からな
る混合物シート又は両面に接着層を形成した有機フィル
ムに貫通孔を形成し、前記コア層の少なくとも片面に、
前記貫通孔に導電性樹脂を充填した混合物シート又は有
機フィルムと、片面に配線パターンを形成した離型キャ
リアとを位置合わせして重ねて加熱加圧硬化した後、コ
ア層も含めて貫通孔を形成し、銅メッキにより貫通スル
ーホールを形成することを特徴とする。
Further, in the method for manufacturing a component built-in module of the present invention, a mixture comprising at least an inorganic filler and an uncured thermosetting resin is processed into a sheet, and the inorganic filler and the uncured thermosetting resin are processed. Forming a through-hole in a sheet-like material, filling the through-hole with a conductive resin, forming a wiring pattern on one surface of the release carrier, and forming an active component and / or a passive component on the wiring pattern of the release carrier. The passive component and / or the active component are mounted on the component mounting surface of the release carrier having the component-mounted wiring pattern, with the through-hole filled with a conductive resin filled in a conductive resin. By embedding and integrating the component in the sheet-like material and further applying heat and pressure, the thermosetting resin and the conductive resin in the sheet-like material are cured, and then the outermost layer portion Forming a core layer by peeling the mold carrier, forming a through hole in a mixture sheet composed of an inorganic filler and an uncured thermosetting resin or an organic film having an adhesive layer formed on both surfaces, and forming at least one surface of the core layer. To
After the mixture sheet or the organic film filled with the conductive resin in the through-hole and the release carrier having a wiring pattern formed on one side thereof are aligned and stacked and heated and cured, the through-hole including the core layer is formed. And a through-hole formed by copper plating.

【0037】これにより、部品を内蔵したコア層を基本
として、従来の貫通スルーホール技術をそのまま利用す
ることがでるので、工業上極めて有効である。
[0037] This makes it possible to use the conventional through-hole technology as it is, based on the core layer in which the components are incorporated, and is extremely industrially effective.

【0038】また、本発明の部品内蔵モジュールの製造
方法は、少なくとも無機質フィラーと未硬化状態の熱硬
化性樹脂からなる混合物をシート状に加工し、前記無機
質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からなるシート
状物に貫通孔を形成し、前記貫通孔に導電性樹脂を充填
し、離型キャリアの片面に配線パターンを形成し、前記
離型キャリアの配線パターン上に能動部品及び/又は受
動部品を実装し、前記部品実装済みの配線パターンを有
する前記離型キャリアの部品実装面に前記貫通孔に導電
性樹脂を充填したシート状物を位置合わせして重ね、更
に銅箔を重ねて前記熱硬化性樹脂が硬化しない温度域で
加熱加圧し、前記受動部品及び/又は能動部品を前記シ
ート状物に埋没させ一体化させてコア層を形成し、前記
コア層より前記離型キャリアを剥離し、前記剥離済みの
コア層の少なくとも片面にインナービアと配線パターン
を少なくとも2層以上形成したセラミック基板を重ねて
加圧して、前記コア層中の熱硬化性樹脂を硬化させて前
記セラミック基板と接着させることを特徴とする。
Further, in the method for manufacturing a component built-in module according to the present invention, a mixture comprising at least an inorganic filler and an uncured thermosetting resin is processed into a sheet, and the inorganic filler and the uncured thermosetting resin are processed. Forming a through-hole in a sheet-like material, filling the through-hole with a conductive resin, forming a wiring pattern on one surface of the release carrier, and forming an active component and / or a passive component on the wiring pattern of the release carrier. A component is mounted, a sheet-like material filled with a conductive resin in the through-hole is aligned and stacked on the component mounting surface of the release carrier having the component-mounted wiring pattern, and a copper foil is further stacked. Heat and pressure are applied in a temperature range where the thermosetting resin is not cured, and the passive component and / or the active component are buried in and integrated with the sheet-like material to form a core layer, and the core layer is separated from the core layer. The carrier is peeled off, and a ceramic substrate having at least two layers of inner vias and wiring patterns formed on at least one surface of the peeled core layer is overlaid and pressed, and the thermosetting resin in the core layer is cured by pressing. It is characterized in that it is bonded to a ceramic substrate.

【0039】この方法により、上記同様極めて高密度で
小型のモジュールが実現できる。また、種々の性能にす
ぐれたセラミック基板を一体化できるので、更に高性能
なモジュールが実現できる。
According to this method, an extremely high-density and small-sized module can be realized as described above. Further, since a ceramic substrate having various performances can be integrated, a higher performance module can be realized.

【0040】また、本発明の部品内蔵モジュールの製造
方法は、前記複数の配線パターンとインナービアを有す
るセラミック基板が、コア層と接着層を介して複数枚同
時に積層されることが望ましい。これにより特に、異種
のセラミック基板を同時に積層できるので、極めて簡易
な製法が実現できる。
In the method of manufacturing a component built-in module according to the present invention, it is preferable that a plurality of ceramic substrates having the plurality of wiring patterns and inner vias are simultaneously laminated via a core layer and an adhesive layer. In particular, since different types of ceramic substrates can be laminated at the same time, an extremely simple manufacturing method can be realized.

【0041】[0041]

【発明の実施の形態】本発明はその第1の態様として、
未硬化状態の熱硬化性樹脂に高濃度に無機質フィラーを
添加した混合物からなる電気絶縁性基板の内部に、1つ
以上の能動部品及び/又は受動部品を内蔵し、複数の配
線パターンと、それら配線パターンの間を電気的に接続
する導電性樹脂からなるインナービアを有するコア層の
少なくとも片面に、電気絶縁層と配線パターンが複数層
形成された部品内蔵モジュールを提供するものである。
本モジュールは、受動部品や能動部品を内蔵し、しかも
配線パターンの間を導電性樹脂によるインナービアで接
続するもので、且つ部品を内蔵したコア層上に配線パタ
ーンを多層構成で形成したもので、きわめて高密度な実
装形態を実現することができる。また、無機質フィラー
の選択で、平面方向の熱膨張係数が半導体とほぼ同じ
で、しかも高熱伝導性を付与することが可能である。ま
た、本モジュールは、1つ以上の能動部品及び/又は受
動部品を内蔵した前記コア層の少なくとも無機質フィラ
ーと熱硬化性樹脂を含む混合物からなる電気絶縁材の室
温に於ける弾性率が0.6〜10GPaの範囲とするこ
と、および前記熱硬化性樹脂が複数のガラス転移温度を
有する熱硬化性樹脂から構成することにより、さまざま
な熱膨張係数を有する部品が内蔵されても内蔵部品の熱
衝撃からのストレスに強い部品内蔵モジュールが得られ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The first aspect of the present invention is as follows.
One or more active components and / or passive components are built into an electrically insulating substrate made of a mixture of an uncured thermosetting resin and a high concentration of an inorganic filler, and a plurality of wiring patterns and It is an object of the present invention to provide a component built-in module in which an electric insulating layer and a plurality of wiring patterns are formed on at least one surface of a core layer having an inner via made of a conductive resin for electrically connecting the wiring patterns.
This module incorporates passive components and active components, and connects the wiring patterns with inner vias made of conductive resin.It also has a multi-layered wiring pattern formed on a core layer containing the components. Thus, a very high-density mounting form can be realized. Further, by selecting the inorganic filler, the thermal expansion coefficient in the plane direction is almost the same as that of the semiconductor, and high thermal conductivity can be imparted. In addition, the module has an elastic modulus at room temperature of an electrical insulating material comprising a mixture containing at least an inorganic filler and a thermosetting resin of the core layer containing at least one active component and / or passive component. The range of 6 to 10 GPa, and the thermosetting resin is made of a thermosetting resin having a plurality of glass transition temperatures, so that even if components having various thermal expansion coefficients are built in, the heat of the built-in component may be reduced. A component built-in module that is resistant to stress from impact can be obtained.

【0042】本発明の部品内蔵モジュールは、熱硬化性
樹脂に無機質フィラーを添加させた混合物であり、セラ
ミック基板のように高温で焼成する必要がなく、200
℃程度の低温で加熱することで得られる。また、従来の
樹脂基板に比べ、無機質フィラーを添加しているので、
熱膨張係数、熱伝導度、誘電率などを任意に制御するこ
とができるという格別の効果がある。なお、コア層と多
層配線層を貫通するスルーホール構成としても良い。こ
れにより、極めて層間の接続抵抗の低い部品内蔵モジュ
ールが形成でき、部品を内蔵した超小型電源モジュール
に最適である。同様にコア層上に形成された多層状の形
成された電気絶縁層に無機質フィラーと熱硬化性樹脂の
混合物を用いた場合、コア層と同様、熱膨張率、熱伝導
度、誘電率を制御することが可能となる。
The module with a built-in component of the present invention is a mixture obtained by adding an inorganic filler to a thermosetting resin, and does not need to be fired at a high temperature unlike a ceramic substrate.
It is obtained by heating at a low temperature of about ° C. In addition, compared to conventional resin substrates, since an inorganic filler is added,
There is a special effect that the coefficient of thermal expansion, thermal conductivity, permittivity, and the like can be arbitrarily controlled. Note that a through-hole configuration penetrating the core layer and the multilayer wiring layer may be adopted. Thereby, a component built-in module having extremely low connection resistance between layers can be formed, which is optimal for a micro power supply module having built-in components. Similarly, when a mixture of an inorganic filler and a thermosetting resin is used for a multilayered electrically insulating layer formed on a core layer, the thermal expansion coefficient, thermal conductivity, and dielectric constant are controlled similarly to the core layer. It is possible to do.

【0043】また、第2の態様は、少なくとも無機質フ
ィラーと熱硬化性樹脂を含む混合物からなる電気絶縁材
に、少なくとも1つ以上の能動部品及び/又は受動部品
を内蔵し、且つ複数の銅箔よりなる配線パターンと複数
の導電性樹脂よりなるインナービアを有するコア層の少
なくとも片面に配線パターンとインナービアを有するセ
ラミック基板が接着された構造である部品内蔵モジュー
ルを提供するものである。これにより、部品を高密度に
内蔵するとともにセラミック基板の持つ種々の性能を併
せ持つことができる。即ち、セラミック基板は高密度配
線が可能であるばかりか、誘電率を3から10000程
度の大きさで制御でき、熱伝導度も大きいものが得られ
る。このような性能をそのまま利用できるという格別の
効果がある。更に、前記した特定の弾性率、ガラス転移
温度範囲の熱硬化性樹脂を用いることにより、異種の性
能、物性を有するセラミック基板であってもストレス無
く積層することができ、且つ熱衝撃などのストレスに対
してもクラックが生じない高い信頼性を有するモジュー
ルが実現できる。
In a second aspect, at least one or more active components and / or passive components are incorporated in an electrical insulating material composed of a mixture containing at least an inorganic filler and a thermosetting resin, and a plurality of copper foils are provided. An object of the present invention is to provide a component built-in module having a structure in which a ceramic substrate having a wiring pattern and an inner via is bonded to at least one surface of a core layer having a wiring pattern formed of a plurality of conductive resins and an inner via made of a plurality of conductive resins. As a result, components can be built in at a high density and various performances of the ceramic substrate can be obtained. That is, the ceramic substrate not only allows high-density wiring, but also can control the dielectric constant at a size of about 3 to 10000 and has a high thermal conductivity. There is a special effect that such performance can be used as it is. Further, by using the above-described thermosetting resin having the specific elastic modulus and glass transition temperature range, even ceramic substrates having different performances and physical properties can be laminated without stress, and stress such as thermal shock can be obtained. Therefore, a highly reliable module that does not cause cracks can be realized.

【0044】また、第3の態様は、少なくとも無機質フ
ィラーと熱硬化性樹脂を含む混合物からなる電気絶縁材
に、少なくとも1つ以上の能動部品及び/又は受動部品
を内蔵し、且つ複数の配線パターンと複数の導電性樹脂
よりなるインナービアを有するコア層の少なくとも片面
に電気絶縁層と配線パターンが複数層形成され、且つ前
記コア層上に形成された前記配線パターン間に膜状能動
部品が形成された構造の部品内蔵モジュールを提供する
ものである。これにより、部品を高密度に内蔵するとと
もにコア層上に形成された配線層にも膜状の部品が形成
できるので、極めて実装密度の高い部品内蔵モジュール
が実現できる。膜状部品は、コア層上に形成した配線パ
ターンを取り出して電極とする抵抗体やコンデンサ、イ
ンダクタであり、配線パターンに抵抗体やコンデンサを
厚膜印刷法や蒸着法で任意の形状に形成することができ
る。
In a third aspect, at least one or more active components and / or passive components are incorporated in an electrical insulating material made of a mixture containing at least an inorganic filler and a thermosetting resin, and a plurality of wiring patterns are provided. A plurality of electrical insulating layers and wiring patterns are formed on at least one surface of a core layer having inner vias made of a plurality of conductive resins, and a film-like active component is formed between the wiring patterns formed on the core layer. The present invention provides a component built-in module having a structure as described above. As a result, components can be embedded at a high density, and a film-like component can be formed on the wiring layer formed on the core layer. Therefore, a component built-in module having an extremely high mounting density can be realized. The film-shaped component is a resistor, a capacitor, or an inductor that takes out a wiring pattern formed on a core layer and uses the electrode as an electrode. be able to.

【0045】また、第4の態様は、部品内蔵モジュール
の製造方法に関するものである。即ち、無機質フィラー
と未硬化状態の熱硬化性樹脂の混合物をシート状に加工
し、貫通孔を形成して導電性樹脂を充填したシート状物
を準備し、銅箔上に能動部品や受動部品を実装したもの
と前記シート状物を位置合わせして重ね、更に銅箔を重
ねて前記受動部品や能動部品を前記シート状物に埋没さ
せ、且つ硬化させてコア層を形成し、更に前記最外層部
の銅箔を加工して配線パターンを形成する。次に、無機
質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からなる混合物
シート又は両面に接着層を形成した有機フィルムに貫通
孔を形成し、前記貫通孔に導電性樹脂を充填したものと
前記コア層の銅箔とを位置合わせして重ねて加熱加圧す
ることで一体化し、更に銅箔を加工して配線パターンを
形成する。
A fourth aspect relates to a method of manufacturing a component built-in module. That is, a mixture of an inorganic filler and a thermosetting resin in an uncured state is processed into a sheet shape, a through-hole is formed to prepare a sheet-like material filled with a conductive resin, and an active component or a passive component is formed on a copper foil. And the sheet-like material is aligned and overlapped, and furthermore, a copper foil is overlapped, and the passive component or the active component is embedded in the sheet-like material and cured to form a core layer. The wiring pattern is formed by processing the outer layer copper foil. Next, a mixture sheet made of an inorganic filler and a thermosetting resin in an uncured state or a through-hole is formed in an organic film having an adhesive layer formed on both surfaces, and the core layer is formed by filling the through-hole with a conductive resin. The copper foil is aligned and overlapped, and heated and pressurized to be integrated, and the copper foil is further processed to form a wiring pattern.

【0046】また、第5の態様は、部品内蔵モジュール
の製造方法に関するものである。即ち、無機質フィラー
と未硬化状態の熱硬化性樹脂からなる混合物をシート状
に加工し、前記無機質フィラーと未硬化状態の熱硬化性
樹脂からなるシート状物に貫通孔を形成し、前記貫通孔
に導電性樹脂を充填する。一方、離型キャリアの片面に
配線パターンを形成し、この配線パターン上に能動部品
及び/又は受動部品を実装する。次いで、前記部品実装
済みの配線パターンを有する前記離型キャリアの部品実
装面に前記貫通孔に導電性樹脂を充填したシート状物を
位置合わせして重ね、更に銅箔を重ねて前記熱硬化性樹
脂が硬化しない温度域で加熱加圧して前記受動部品及び
/又は能動部品を前記シート状物に埋没させ一体化させ
てコア層を形成する。更に、前記コア層より前記離型キ
ャリアを剥離し、前記剥離済みコア層の少なくとも片面
にインナービアと配線パターンを少なくとも2層以上形
成したセラミック基板を重ねて加圧して、前記コア層中
の熱硬化性樹脂を硬化させて前記セラミック基板と接着
させる。
The fifth aspect relates to a method of manufacturing a component built-in module. That is, a mixture of an inorganic filler and a thermosetting resin in an uncured state is processed into a sheet shape, and a through-hole is formed in the sheet-shaped material made of the inorganic filler and the thermosetting resin in an uncured state, and the through-hole is formed. Is filled with a conductive resin. On the other hand, a wiring pattern is formed on one surface of the release carrier, and active components and / or passive components are mounted on the wiring pattern. Next, a sheet-like material filled with a conductive resin in the through-hole is aligned and overlapped on the component mounting surface of the release carrier having the component-mounted wiring pattern. The passive component and / or the active component are buried in and integrated with the sheet by heating and pressing in a temperature range where the resin does not cure to form a core layer. Further, the release carrier is peeled off from the core layer, and a ceramic substrate having at least two layers of inner vias and wiring patterns formed on at least one surface of the peeled core layer is superposed and pressurized. The curable resin is cured and adhered to the ceramic substrate.

【0047】上記実施の態様において、セラミック基板
は高誘電率の積層コンデンサであってもよいし、また2
種類のセラミック材料よりなる基板を同時に接着形成し
てもよい。高誘電率のセラミックコンデンサと低誘電率
の高速回路用セラミック基板を部品が内蔵されたコア層
に接着することで、高周波用部品内蔵モジュールが得ら
れる。
In the above embodiment, the ceramic substrate may be a multilayer capacitor having a high dielectric constant.
Substrates made of various types of ceramic materials may be simultaneously bonded and formed. By bonding a high-permittivity ceramic capacitor and a low-permittivity ceramic substrate for a high-speed circuit to a core layer in which components are embedded, a high-frequency component built-in module can be obtained.

【0048】次に、本発明の部品内蔵モジュール及びそ
の製造方法のより具体的な態様を図面に基づき説明す
る。
Next, more specific embodiments of the component built-in module and the method of manufacturing the same according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0049】図1は、本発明の部品内蔵モジュールの構
成を示す断面図である。図1において、100はコア層
105に形成された配線パターンであり、101はその
配線パターン100上に実装された能動部品である半導
体のベアチップである。また、104は同様に配線パタ
ーン100上に実装された受動部品であるチップ部品で
あり、102は無機質フィラーと熱硬化性樹脂の複合さ
れたコンポジット材料からなる電気絶縁層である。10
3はコア層105に形成された配線パターン100の間
を電気的に接続するインナービアである。更に、106
はコア層105の上に形成された電気絶縁層であり、1
08、107はそれぞれ最上層の配線パターンとインナ
ービアである。図1のように、半導体101やチップ部
品104を内蔵し、且つ表面の配線パターン108の上
には更に部品を実装することが可能であるため、極めて
高密度な実装モジュールとなる。
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of a component built-in module according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 100 denotes a wiring pattern formed on the core layer 105, and 101 denotes a semiconductor bare chip as an active component mounted on the wiring pattern 100. Reference numeral 104 denotes a chip component which is a passive component similarly mounted on the wiring pattern 100, and reference numeral 102 denotes an electric insulating layer made of a composite material in which an inorganic filler and a thermosetting resin are combined. 10
Reference numeral 3 denotes an inner via for electrically connecting the wiring patterns 100 formed on the core layer 105. In addition, 106
Is an electrical insulating layer formed on the core layer 105,
08 and 107 are the uppermost wiring pattern and the inner via, respectively. As shown in FIG. 1, since the semiconductor 101 and the chip component 104 are built-in and components can be further mounted on the wiring pattern 108 on the surface, the module becomes an extremely high-density mounting module.

【0050】前記熱硬化性樹脂としては、例えばエポキ
シ樹脂、フェノール樹脂及びシアネート樹脂を挙げるこ
とができる。このとき前記熱硬化性樹脂の室温に於ける
弾性率、ガラス転移温度を制御する方法として、それぞ
れの樹脂組成に対して室温で低弾性率もしくはガラス転
移温度が低い樹脂を添加する方法が挙げられる。また、
前記無機質フィラーとしては、Al23、MgO、B
N、AlN、SiO2等を挙げることができる。また、
必要であれば、無機質フィラーと熱硬化性樹脂の複合物
に、更にカップリング剤、分散剤、着色剤、離型剤を添
加することも可能である。
Examples of the thermosetting resin include an epoxy resin, a phenol resin and a cyanate resin. At this time, as a method of controlling the elastic modulus at room temperature of the thermosetting resin and the glass transition temperature, a method of adding a resin having a low elastic modulus or a low glass transition temperature at room temperature to each resin composition may be used. . Also,
As the inorganic filler, Al 2 O 3 , MgO, B
N, AlN, SiO 2 and the like can be mentioned. Also,
If necessary, a coupling agent, a dispersant, a coloring agent, and a release agent can be further added to the composite of the inorganic filler and the thermosetting resin.

【0051】図2は、本発明の部品内蔵モジュールの別
の構成を示す断面図である。図2において、209はコ
ア層205及びコア層の上に形成された配線層を貫通す
るように形成された貫通スルーホールである。貫通スル
ーホール209により、コア層205とコア層の両面に
形成された配線パターン208を電気的に接続すること
ができる。これにより、大電流を必要とする電源モジュ
ールなどに応用することができる。なお、貫通スルーホ
ール209は、ドリルやレーザー加工により穴あけ加工
を行ない、電解銅めっき法により貫通孔の壁面に導電層
を形成し、更にフォトリソ法と化学エッチング法で配線
パターンを形成することができる。
FIG. 2 is a sectional view showing another configuration of the component built-in module of the present invention. In FIG. 2, reference numeral 209 denotes a through hole formed to penetrate the core layer 205 and the wiring layer formed on the core layer. The through-hole 209 can electrically connect the core layer 205 and the wiring patterns 208 formed on both surfaces of the core layer. Thus, the present invention can be applied to a power supply module requiring a large current. The through hole 209 can be formed by drilling or laser processing, a conductive layer can be formed on the wall of the through hole by electrolytic copper plating, and a wiring pattern can be formed by photolithography and chemical etching. .

【0052】図3は、本発明の部品内蔵モジュールの別
の構成を示す断面図である。図3において、305はコ
ア層304の上に形成された電気絶縁層であり、306
はその電気絶縁層305の上に形成された配線パターン
である。電気絶縁層305は感光性の絶縁樹脂が利用で
き、フィルム状の樹脂をラミネートすることや、液状の
感光性樹脂をコータなどにより塗布しても形成できる。
例えば、膜状に形成された感光性樹脂をフォトリソ法に
よりインナービア307を加工して開口させ、更に無電
解銅メッキ、電解銅メッキにより配線層を形成し、更に
既存のフォトリソ法で配線パターン306を形成するこ
とで電気絶縁層305が得られる。なお、この工程を繰
り返し行なうことで、多層構造の配線層が得られ、電気
絶縁層305に形成した開口部を利用してインナービア
307が形成できる。また、無電解銅メッキ前に前記電
気絶縁層を粗化することで銅の配線パターン306の接
着強度を強くすることが可能である。
FIG. 3 is a sectional view showing another configuration of the component built-in module of the present invention. In FIG. 3, reference numeral 305 denotes an electrical insulating layer formed on the core layer 304;
Is a wiring pattern formed on the electric insulating layer 305. The electric insulating layer 305 can be formed using a photosensitive insulating resin, for example, by laminating a film-like resin or applying a liquid photosensitive resin with a coater or the like.
For example, the photosensitive resin formed in a film shape is opened by processing the inner via 307 by a photolithography method, a wiring layer is formed by electroless copper plating or electrolytic copper plating, and a wiring pattern 306 is formed by an existing photolithography method. Is formed, an electric insulating layer 305 is obtained. Note that by repeating this step, a wiring layer having a multilayer structure is obtained, and the inner via 307 can be formed using the opening formed in the electrical insulating layer 305. Further, by roughening the electric insulating layer before electroless copper plating, it is possible to increase the bonding strength of the copper wiring pattern 306.

【0053】図4は、本発明の部品内蔵モジュールの別
の構成を示す断面図である。図4は図1と同様に、半導
体401を内蔵したコア層404の上に形成した配線パ
ターン407とインナービア406、電気絶縁層405
を有している。更に、コア層404の上に形成された配
線パターン407を取り出して電極とする膜状部品が形
成されている。409は抵抗体を表す膜状部品、408
はコンデンサを表す膜状部品である。このように部品を
内蔵したコア層404の上に更に膜状部品408、40
9が形成された極めて高密度な部品内蔵モジュールとす
ることができる。
FIG. 4 is a sectional view showing another configuration of the component built-in module of the present invention. FIG. 4 shows a wiring pattern 407 formed on a core layer 404 containing a semiconductor 401, an inner via 406, and an electrical insulating layer 405, similarly to FIG.
have. Further, a film-shaped component is formed in which the wiring pattern 407 formed on the core layer 404 is taken out and used as an electrode. 409 is a film-like component representing a resistor, and 408 is
Is a film-like component representing a capacitor. On the core layer 404 in which the components are embedded as described above, the film components 408 and 40 are further added.
An extremely high-density component built-in module in which 9 is formed can be obtained.

【0054】図5は、本発明の部品内蔵モジュールの別
の構成を示す断面図である。図5は図1と同様に、半導
体501を内蔵したコア層505と、焼結型のインナー
ビア508と配線パターン507、セラミック材料層5
06を同時焼成して得られた多層セラミック基板509
とを、電気接続するためのインナービア511を有する
シート状物510で接着した構成であり、更に同様にセ
ラミック基板509の下部に形成されたインナービア5
13を有するシート状物512と配線パターン514を
有している。上記配線パターン514の上には、半田ボ
ール515が形成されており、高密度な部品内蔵モジュ
ールが得られる。このように高密度配線が可能で、種々
の性能を有するセラミック基板と一体化することで、更
に高機能な部品内蔵モジュールが得られる。
FIG. 5 is a sectional view showing another configuration of the component built-in module of the present invention. FIG. 5 shows a core layer 505 containing a semiconductor 501, a sintered inner via 508, a wiring pattern 507, and a ceramic material layer 5 similar to FIG.
Ceramic substrate 509 obtained by co-firing 06
And a sheet-like material 510 having an inner via 511 for electrical connection, and the inner via 5
13 and a wiring pattern 514. On the wiring pattern 514, solder balls 515 are formed, and a high-density component built-in module can be obtained. In this way, a high-performance component built-in module can be obtained by integrating with a ceramic substrate having various performances, which enables high-density wiring.

【0055】図6(a)〜(h)は、前記部品内蔵モジ
ュールの製造工程を示す断面図である。図6(a)にお
いて、602は前記のような無機質フィラーと未硬化状
態の熱硬化性樹脂の混合物をシート状に加工したものに
貫通孔を形成し、更にインナービア603に導電性ペー
ストを充填したシート状物である。シート状物602の
加工は、無機質フィラーと液状の熱硬化性樹脂を混合し
てペースト状混練物を作製するか、無機質フィラーに溶
剤で低粘度化した熱硬化性樹脂を混合して同様にペース
ト状混練物を作製する。次に、ペースト状混練物を一定
厚みに成型し、熱処理することでシート状物602を得
る。
FIGS. 6A to 6H are cross-sectional views showing the steps of manufacturing the component built-in module. In FIG. 6A, reference numeral 602 denotes a through-hole formed in a sheet-shaped mixture of the above-described inorganic filler and the uncured thermosetting resin, and the inner via 603 is further filled with a conductive paste. Sheet. The processing of the sheet-like material 602 is performed by mixing an inorganic filler and a liquid thermosetting resin to prepare a paste-like kneaded product, or by mixing the inorganic filler with a thermosetting resin whose viscosity has been reduced by a solvent, and forming a paste. A kneaded mixture is prepared. Next, a sheet-like material 602 is obtained by molding the paste-like kneaded material to a certain thickness and performing heat treatment.

【0056】熱処理は、液状樹脂を用いたものでは粘着
性があるため、若干硬化を進めて未硬化状態で可撓性を
維持しながら粘着性を除去するために行う。また、溶剤
により樹脂を溶解させた混練物では、前述の溶剤を除去
し、同様に未硬化の状態で可撓性を保持しながら粘着性
を除去する。このようにして作製された未硬化状態のシ
ート状物602に形成する貫通孔は、レーザー加工法や
金型による加工、又はパンチング加工で行なうことがで
きる。特に、レーザー加工法では、炭酸ガスレーザーや
エキシマレーザーが加工速度の点で有効である。導電性
ペーストは、金や銀、銅の粉末を導電材料とし、これに
シート状物602と同様の熱硬化性樹脂を混練したもの
が使用できる。特に、銅は導電性が良好で、マイグレー
ションも少ないため有効である。また、熱硬化性樹脂も
液状のエポキシ樹脂が耐熱性の面で安定である。
The heat treatment is performed in order to remove the tackiness while proceeding the curing slightly and maintaining the flexibility in the uncured state, because the liquid resin has the tackiness when using the liquid resin. In a kneaded product in which a resin is dissolved by a solvent, the above-mentioned solvent is removed, and the tackiness is similarly removed while maintaining flexibility in an uncured state. The through-holes formed in the uncured sheet-like material 602 thus manufactured can be formed by a laser processing method, processing by a mold, or punching processing. In particular, in the laser processing method, a carbon dioxide laser or an excimer laser is effective in terms of processing speed. As the conductive paste, a material in which a powder of gold, silver, or copper is used as a conductive material and a thermosetting resin similar to that of the sheet-shaped material 602 is kneaded can be used. In particular, copper is effective because it has good conductivity and little migration. In addition, as for the thermosetting resin, a liquid epoxy resin is stable in terms of heat resistance.

【0057】図6(b)は、銅箔600に能動部品であ
る半導体601やチップ部品604を実装した状態を示
している。この時、半導体601は、導電性接着剤を介
して銅箔600と電気的に接続されている。銅箔600
は、電解メッキにより作製された18μmから35μm
程度の厚さのものが使用できる。特に、シート状物60
2との接着性を改善するため、シート状物602との接
触面を粗化した銅箔が望ましい。また、同様に接着性、
酸化の防止のため、銅箔表面をカップリング処理したも
のや錫、亜鉛、ニッケルメッキしたものも使用できる。
半導体601のフリップチップ実装用導電性接着剤は、
同様に金、銀、銅、銀−パラジウム合金などを熱硬化性
樹脂で混練したものが使用できる。また、導電性接着剤
の代わりに半田によるバンプ、又は金ワイヤボンディン
グ法で作製したバンプを半導体側にあらかじめ形成し、
熱処理による半田の溶解を利用して半導体601を実装
することも可能である。また、半田バンプと導電性接着
剤の併用もまた可能である。
FIG. 6B shows a state in which a semiconductor 601 and a chip component 604 as active components are mounted on the copper foil 600. At this time, the semiconductor 601 is electrically connected to the copper foil 600 via the conductive adhesive. Copper foil 600
Is from 18 μm to 35 μm produced by electrolytic plating
Thicknesses of the order can be used. In particular, the sheet material 60
In order to improve the adhesiveness with the sheet 2, the contact surface with the sheet-like material 602 is desirably roughened copper foil. Also, adhesiveness,
In order to prevent oxidation, a copper foil surface which has been subjected to a coupling treatment or a tin, zinc, or nickel-plated material can be used.
The conductive adhesive for flip-chip mounting of the semiconductor 601 is:
Similarly, those obtained by kneading gold, silver, copper, silver-palladium alloy, or the like with a thermosetting resin can be used. Also, instead of a conductive adhesive, a bump made of solder or a bump made by a gold wire bonding method is formed in advance on the semiconductor side,
It is also possible to mount the semiconductor 601 using the melting of the solder by heat treatment. It is also possible to use a combination of a solder bump and a conductive adhesive.

【0058】次に、図6(c)において、600は別途
用意した銅箔であり、上記した方法で作製したシート状
物602と半導体601、チップ部品604を実装した
銅箔600を図のように位置合わせして重ねた状態を示
している。
Next, in FIG. 6C, reference numeral 600 denotes a separately prepared copper foil. The copper foil 600 on which the sheet-like object 602, the semiconductor 601 and the chip component 604 manufactured by the above-described method are mounted is shown in FIG. 2 shows a state in which they are aligned and overlapped.

【0059】次に、図6(d)は、位置合わせして重ね
たものをプレスにより、加熱加圧して半導体601及び
チップ部品604を前記シート状物602に埋設、一体
化した状態を示している。この時の部品の埋設は、前記
シート状物602の中の熱硬化性樹脂が硬化する前の状
態で行ない、更に加熱して硬化させ、前記シート状物6
02の熱硬化性樹脂及び導電性樹脂の熱硬化性樹脂を完
全に硬化させる。これにより、シート状物602と半導
体601、チップ部品604、及び銅箔600が機械的
に強固に接着する。また、同様に導電性ペーストの硬化
により銅箔600の間の電気的接続が行なわれる。次
に、図6(e)に示すように、熱硬化性樹脂が硬化し、
半導体601が埋設、一体化された基板の表面の銅箔を
加工して配線パターン600とし、コア層605が作製
される。図6(f)は、作製したコア層605を基本と
して、無機質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂の混
合物からなるシート状物606又は両面に接着層を形成
した有機フィルムに貫通孔を形成し、前記貫通孔に導電
性ペーストを充填したものを、コア層605の両面に位
置合わせして重ね、更に銅箔608を重ねたものであ
る。これを加熱加圧することで図6(g)のように、コ
ア層605の両面に配線層が形成できる。次いで、図6
(h)のように、接着した銅箔608を化学エッチング
法で配線パターン609が形成できる。これにより部品
を内蔵した部品内蔵モジュールが実現できる。その後、
半田による部品実装や、絶縁樹脂の充填などの工程があ
るが、ここでは本質ではないので省略している。
Next, FIG. 6D shows a state in which the semiconductor 601 and the chip component 604 are embedded and integrated in the sheet-like material 602 by heating and pressurizing the aligned and stacked products by pressing. I have. The embedding of the components at this time is performed in a state before the thermosetting resin in the sheet-like material 602 is cured, and is further heated and cured to form the sheet-like material 6.
The thermosetting resin of No. 02 and the thermosetting resin of the conductive resin are completely cured. As a result, the sheet-like object 602 and the semiconductor 601, the chip component 604, and the copper foil 600 are mechanically and strongly bonded. Similarly, the electrical connection between the copper foils 600 is performed by curing the conductive paste. Next, as shown in FIG. 6E, the thermosetting resin is cured,
The copper foil on the surface of the substrate in which the semiconductor 601 is embedded and integrated is processed into a wiring pattern 600, and the core layer 605 is manufactured. FIG. 6 (f) shows that, based on the prepared core layer 605, a through-hole is formed in a sheet 606 made of a mixture of an inorganic filler and an uncured thermosetting resin or in an organic film having an adhesive layer formed on both surfaces. Then, the through-holes filled with the conductive paste are aligned and superposed on both surfaces of the core layer 605, and further the copper foil 608 is superposed. By heating and pressing this, wiring layers can be formed on both surfaces of the core layer 605 as shown in FIG. Then, FIG.
As shown in (h), a wiring pattern 609 can be formed from the adhered copper foil 608 by a chemical etching method. As a result, a component built-in module incorporating components can be realized. afterwards,
Although there are processes such as component mounting by soldering and filling with an insulating resin, they are omitted here because they are not essential.

【0060】図7(a)〜(i)は、図6と同様に作製
されるシート状物704を用いて作製される部品内蔵モ
ジュールの製造方法を示した断面図である。図7(a)
では、離型キャリア700の上に、配線パターン701
と配線パターン701を取り出して電極とする膜状部品
711が形成されている。離型キャリア700は、配線
パターン701及び膜状部品711を転写後、離型され
てしまうものであり、ポリエチレンやポリエチレンテレ
フタレートなどの有機フィルムや、銅などの金属箔が使
用できる。配線パターン701は、離型キャリア700
に銅箔などの金属箔を接着剤を介して接着させたもの
や、金属箔上に更に電解メッキ法などで形成することが
できる。このように膜状に形成した金属層を化学エッチ
ング法などの既存の加工技術を利用して配線パターン7
01が形成できる。図7(b)は、離型キャリア700
の上に形成した配線パターン701に半導体702やチ
ップ部品703を実装した状態を示している。また、図
7(c)は、図6のようにして作製されたシート状物7
04を示し、図7(d)では、図6と同様の方法で貫通
孔を加工し導電性ペーストをインナービア705に充填
した状態を示している。図7(e)では、このようにし
て作製された導電性ペーストを充填したインナービア7
05を形成したシート状物704を中心にし、配線パタ
ーン701を形成した離型キャリア700と、同じく離
型キャリア700の上に実装した部品を有する離型キャ
リア700を位置合わせして重ねた状態を示している。
これを加熱加圧し、前記シート状物704の中の熱硬化
性樹脂を硬化させて離型キャリア700を剥離した状態
を示したのが図7(f)である。この加熱加圧工程によ
り、半導体702及びチップ部品703を前記シート状
物704に埋設、一体化した状態となる。この時の半導
体702とチップ部品703の埋設は、前記シート状物
704中の熱硬化性樹脂が硬化する前の状態で行ない、
更に加熱して硬化させ、前記シート状物704の熱硬化
性樹脂及び導電性ペーストの熱硬化性樹脂を完全に硬化
させる。これにより、シート状物704と半導体70
2、及び配線パターン701が機械的に強固に接着す
る。また、同様にインナービア705の導電性ペースト
の硬化により配線パターン701の電気的接続が行なわ
れる。この時、あらかじめ離型キャリア700の上の配
線パターン701の厚みにより、前記シート状物704
は更に圧縮され、配線パターン701もシート状物70
4に埋設される。これにより配線パターンとモジュール
表面は平滑な状態の部品内蔵コア層706が形成でき
る。
FIGS. 7A to 7I are cross-sectional views showing a method of manufacturing a component built-in module manufactured by using a sheet-like material 704 manufactured in the same manner as in FIG. FIG. 7 (a)
Then, the wiring pattern 701 is placed on the release carrier 700.
And a film-like component 711 which is formed by taking out the wiring pattern 701 and forming an electrode. The release carrier 700 is to be released after transferring the wiring pattern 701 and the film component 711, and an organic film such as polyethylene or polyethylene terephthalate, or a metal foil such as copper can be used. The wiring pattern 701 is formed of the release carrier 700.
Can be formed by adhering a metal foil such as a copper foil via an adhesive, or further formed on the metal foil by an electrolytic plating method or the like. The metal layer formed in the film shape in this manner is subjected to wiring pattern 7 by using an existing processing technique such as a chemical etching method.
01 can be formed. FIG. 7B shows a release carrier 700.
7 shows a state in which a semiconductor 702 and a chip component 703 are mounted on a wiring pattern 701 formed thereon. FIG. 7 (c) shows a sheet-like material 7 made as shown in FIG.
FIG. 7D shows a state in which the through-hole is processed in the same manner as in FIG. 6 and the conductive paste is filled in the inner via 705. In FIG. 7E, the inner via 7 filled with the conductive paste manufactured in this manner is shown.
A state in which the release carrier 700 on which the wiring pattern 701 is formed and the release carrier 700 having components mounted on the release carrier 700 are aligned and overlapped with each other centering on the sheet-like material 704 on which the release 05 is formed. Is shown.
FIG. 7 (f) shows a state in which this is heated and pressed to cure the thermosetting resin in the sheet-like material 704 and the release carrier 700 is peeled off. By this heating and pressurizing step, the semiconductor 702 and the chip component 703 are buried in the sheet 704 and integrated. At this time, the semiconductor 702 and the chip component 703 are buried in a state before the thermosetting resin in the sheet material 704 is cured.
Further heating and curing, the thermosetting resin of the sheet-like material 704 and the thermosetting resin of the conductive paste are completely cured. Thereby, the sheet-like object 704 and the semiconductor 70
2 and the wiring pattern 701 are mechanically firmly adhered. Similarly, the electrical connection of the wiring pattern 701 is performed by curing the conductive paste of the inner via 705. At this time, the thickness of the wiring pattern 701 on the release carrier 700 is determined in advance by the sheet-like material 704.
Is further compressed, and the wiring pattern 701 is also
4 buried. As a result, the component built-in core layer 706 having a smooth wiring pattern and module surface can be formed.

【0061】次に、図7(g)は、このようにして作製
された部品内蔵のコア層706を中心として、図7
(d)のようにして作製されたシート状物707と膜状
部品711を形成した離型キャリア710を位置合わせ
して重ね、加熱加圧することで、図7(h)のような多
層モジュールが作製できる。最後に図7(i)のように
離型キャリア710を剥離することにより、本発明の多
層モジュールが完成する。このように半導体やチップ部
品を内蔵したコア層と、配線パターンと膜状部品を形成
した離型キャリアを用いることで、更に高密度で且つ種
々の機能を内蔵した部品内蔵モジュールが得られる。
Next, FIG. 7 (g) is a view centering on the core layer 706 with a built-in component manufactured as described above.
The multi-layer module as shown in FIG. 7H is obtained by aligning and stacking the sheet-like material 707 produced as shown in FIG. 7D and the release carrier 710 on which the film-like component 711 is formed, and applying heat and pressure. Can be made. Finally, the release carrier 710 is peeled off as shown in FIG. 7 (i) to complete the multilayer module of the present invention. By using the core layer in which the semiconductor and the chip components are incorporated and the release carrier in which the wiring pattern and the film component are formed as described above, a component built-in module having a higher density and incorporating various functions can be obtained.

【0062】図8(a)〜(d)は、多層セラミック基
板と積層して得られる部品内蔵モジュールの製造方法を
示す断面図である。図8(a)は、図6(e)で示した
部品を内蔵したコア層805を示す。次いで、図8
(b)は、このコア層805と多層セラミック基板80
9を用いて、インナービア811を形成したシート状物
810と、同様にインナービア813を形成したシート
状物812を図のように位置合わせして重ね、且つ銅箔
814を更に重ねた状態を示している。次に、図8
(c)に示すように、この積層体を加熱加圧すること
で、前記シート状物810と812の中の熱硬化性樹脂
が硬化し、コア層805と多層セラミック基板809及
び銅箔814が機械的に強固に接着する。そして、図8
(d)に示すように、最後に銅箔814を加工して配線
パターンとし、半田ボール815を設けることにより、
多層セラミックと部品内蔵コア層とが一体化された部品
内蔵モジュールが完成する。なお、多層セラミック配線
基板は、ガラスとアルミナを主成分とする低温焼成基板
材料よりなるグリーンシートを用いて作製される。即
ち、900℃程度で焼成できるセラミック材料によるグ
リーンシートに貫通孔を形成し、この貫通孔に銅又は銀
などの高導電性の粉体よりなる導電性ぺーストを充填
し、更に配線パターンを同様の導電性ペーストで印刷す
ることで形成し、このようにして作製した複数のグリー
ンシートを積層し、更に焼成することで得られる。この
ようにして作製されるセラミック基板材料は、目的に応
じチタン酸バリウムを主成分とする高誘電率材料や窒化
アルミニウムなどを主成分とする高熱伝導材料などを用
いてもよく、またセラミック積層体の最外層の配線パタ
ーンは形成しても良いし、インナービア形成だけを行な
い配線パターンを形成しなくとも良い。また、図8
(a)〜(d)では、1枚のセラミック基板を用いた
が、前記種々の種類のセラミック材料よりなる基板を同
時に複数枚シート状物で積層して形成しても良い。
FIGS. 8A to 8D are cross-sectional views showing a method of manufacturing a component built-in module obtained by laminating a multilayer ceramic substrate. FIG. 8A shows a core layer 805 incorporating the components shown in FIG. Then, FIG.
(B) shows the core layer 805 and the multilayer ceramic substrate 80.
9, a sheet-like object 810 having an inner via 811 formed thereon and a sheet-like object 812 having an inner via 813 formed therein are also aligned as shown in the drawing, and the copper foil 814 is further overlapped. Is shown. Next, FIG.
As shown in (c), when the laminate is heated and pressed, the thermosetting resin in the sheets 810 and 812 is cured, and the core layer 805, the multilayer ceramic substrate 809, and the copper foil 814 are mechanically Strongly adheres. And FIG.
As shown in (d), by finally processing the copper foil 814 to form a wiring pattern and providing solder balls 815,
A component built-in module in which the multilayer ceramic and the component built-in core layer are integrated is completed. The multilayer ceramic wiring board is manufactured using a green sheet made of a low-temperature fired board material containing glass and alumina as main components. That is, a through-hole is formed in a green sheet made of a ceramic material that can be fired at about 900 ° C., and the through-hole is filled with a conductive paste made of a highly conductive powder such as copper or silver. It is obtained by printing with the conductive paste of the above, laminating a plurality of green sheets thus produced, and further firing. The ceramic substrate material thus manufactured may be a high dielectric constant material containing barium titanate as a main component, a high thermal conductive material containing aluminum nitride as a main component, or the like, depending on the purpose. The outermost wiring pattern may be formed, or only the inner via may be formed without forming the wiring pattern. FIG.
In (a) to (d), one ceramic substrate is used. However, a plurality of substrates made of the above-described various types of ceramic materials may be simultaneously laminated in a sheet form.

【0063】[0063]

【実施例】以下、実施例に基づき本発明を詳細に説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail based on embodiments.

【0064】(実施例1)本発明の部品内蔵モジュール
の作製に際し、先ず無機質フィラーと熱硬化性樹脂によ
るシート状物の作製方法から述べる。本実施例に使用し
たシート状物を作製するには、先ず無機質フィラーと液
状の熱硬化性樹脂を攪拌混合機により混合する。使用し
た攪拌混合機は、所定の容量の容器に無機質フィラーと
熱硬化性樹脂、必要に応じて粘度調整のための溶剤を投
入し、容器自身を回転させながら公転させるもので、比
較的粘度が高くても充分な分散状態が得られるものであ
る。実施した部品内蔵モジュール用のシート状物の配合
組成を表1及び表2に示す。
(Example 1) In producing a component built-in module of the present invention, a method for producing a sheet-like material using an inorganic filler and a thermosetting resin will be described first. In order to produce the sheet material used in the present example, first, an inorganic filler and a liquid thermosetting resin are mixed by a stirring mixer. The stirring and mixing machine used is to add an inorganic filler, a thermosetting resin, and a solvent for viscosity adjustment as necessary to a container having a predetermined capacity, and revolve while rotating the container itself. Even if it is high, a sufficient dispersion state can be obtained. Tables 1 and 2 show the composition of the sheet-like material for the built-in component module.

【0065】[0065]

【表1】 [Table 1]

【0066】[0066]

【表2】 [Table 2]

【0067】具体的作製方法は、上記組成で秤量・混合
されたペースト状の混合物の所定量を取り、離型フィル
ム上に滴下させる。混合条件は、所定量の無機質フィラ
ーと前記エポキシ樹脂を容器に投入し、本容器ごと混練
機によって混合した。混練機は、容器を公転させなが
ら、自転させる方法により行われるもので、10分程度
の短時間で混練が行なわれる。また、離型フィルムとし
て厚み75μmの表面にシリコンによる離型処理を施さ
れたポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。滴
下させた離型フィルム上の混合物に更に離型フィルムを
重ね、加圧プレスで一定厚みになるようにプレスした。
次に、片面の離型フィルムを剥離させ、混合物を離型フ
ィルムごと加熱し、溶剤を除去して粘着性が無くなる条
件下で熱処理した。熱処理条件は、温度が120℃で1
5分間保持である。これにより前記混合物は、厚み50
0μmの粘着性のないシート状物となる。前記熱硬化性
エポキシ樹脂は、硬化開始温度が130℃であるため、
前記熱処理条件下では未硬化状態(Bステージ)であ
り、以降の工程で加熱により再度溶融させることができ
る。
In a specific manufacturing method, a predetermined amount of a paste-like mixture weighed and mixed with the above composition is taken and dropped on a release film. As for the mixing conditions, a predetermined amount of the inorganic filler and the epoxy resin were charged into a container, and the entire container was mixed with a kneader. The kneading machine is performed by a method of rotating the container while revolving, and the kneading is performed in a short time of about 10 minutes. In addition, a polyethylene terephthalate film having a surface having a thickness of 75 μm and subjected to a release treatment with silicon was used as a release film. A release film was further superimposed on the mixture on the release film that had been dropped, and pressed to a constant thickness by a pressure press.
Next, the release film on one side was peeled off, and the mixture was heated together with the release film to remove the solvent and heat-treated under the condition that tackiness was lost. The heat treatment conditions are as follows.
Hold for 5 minutes. Thereby, the mixture has a thickness of 50
A sheet having a thickness of 0 μm and having no tackiness is obtained. Since the thermosetting epoxy resin has a curing start temperature of 130 ° C.,
It is in an uncured state (B stage) under the heat treatment conditions, and can be melted again by heating in the subsequent steps.

【0068】このようにして作製したシート状物の物性
を評価するため熱プレスを行い、シート状混合物の硬化
物を作成し、硬化物の弾性率、ガラス転移温度を測定し
た。熱プレスの条件は、作成したシート状物を離型フィ
ルムで挟み、200℃で2時間、4.9MPaの圧力で
熱プレスして行った。硬化物の室温における弾性率とガ
ラス転移点(Tg)を表1及び表2に、弾性率の温度特
性を図9にそれぞれ示す。硬化物の室温に於ける弾性率
は、表1及び表2に示すとおり、約0.7GPa程度か
ら約8GPa程度であり、比較例として36.5GPa
のエポキシ樹脂を用いたものも準備した。また、例2の
ようにガラス転移温度が異なるエポキシ樹脂を混合した
ものについても評価を行った。なお、ガラス転移温度
は、図10に示すように弾性率E’の温度特性に基づく
弾性率の粘性挙動を示すTanδから求めたものであ
る。図10は、例2の弾性率E’の温度特性を示したも
ので、Tanδの変曲点からこの混合物のガラス転移点
がそれぞれ50℃、130℃であることが判る。
In order to evaluate the physical properties of the sheet-like material thus produced, a hot press was performed to prepare a cured product of the sheet-like mixture, and the elastic modulus and glass transition temperature of the cured product were measured. The conditions of the hot press were such that the prepared sheet was sandwiched between release films and hot-pressed at 200 ° C. for 2 hours at a pressure of 4.9 MPa. The elastic modulus and glass transition point (Tg) of the cured product at room temperature are shown in Tables 1 and 2, and the temperature characteristic of the elastic modulus is shown in FIG. The modulus of elasticity of the cured product at room temperature is from about 0.7 GPa to about 8 GPa as shown in Tables 1 and 2, and 36.5 GPa as a comparative example.
An epoxy resin was also prepared. Also, as in Example 2, a mixture of epoxy resins having different glass transition temperatures was evaluated. The glass transition temperature was determined from Tan δ, which indicates the viscous behavior of the elastic modulus based on the temperature characteristics of the elastic modulus E ′, as shown in FIG. FIG. 10 shows the temperature characteristics of the elastic modulus E ′ of Example 2. It can be seen from the inflection point of Tan δ that the glass transition points of this mixture are 50 ° C. and 130 ° C., respectively.

【0069】以上のような物性を有する未硬化状態のシ
ート状物を所定の大きさにカットし、炭酸ガスレーザー
を用いてピッチが0.2mm〜2mmの等間隔の位置に
直径0.15mmの貫通孔を形成した。この貫通孔に、
ビアホール充填用導電性ペーストとして、平均粒径2μ
mの球形状の銅粒子85質量%と、樹脂組成としてビス
フェノールA型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ製
“エピコート828”)3質量%とグルシジルエステル
系エポキシ樹脂(東都化成製“YD−171”)9質量
%と、硬化剤としてアミンアダクト硬化剤(味の素製
“MY−24”)3質量%とを三本ロールにて混練した
ものを、スクリーン印刷法により充填した(図6(a)
参照)。次に、35μmの片面を粗化した銅箔600に
半導体601及びチップ部品604を、銀粉とエポキシ
樹脂からなる導電性接着剤によりフリップチップ実装を
行なう。このようにして作製した半導体を実装した銅箔
600と、別途準備した片面粗化処理した厚さ35μm
の銅箔600をシート状物に位置合わせして挟む。この
時、銅箔の粗化面は、シート状物側になるよう配置し
た。次いで、熱プレスを用いてプレス温度120℃、圧
力0.98MPaで5分間加熱加圧する。これにより、
前記シート状物602の中の熱硬化性樹脂が加熱により
溶融軟化するため、半導体601、チップ部品604が
シート状物の中に埋没する。更に、加熱温度を上昇させ
175℃で60分間保持した。これによりシート状物中
のエポキシ樹脂及び、導電性樹脂中のエポキシ樹脂が硬
化し、シート状物と半導体及び銅箔が機械的に強固に接
着し、且つ導電性ペーストが前記銅箔と電気的(インナ
ービア接続)、機械的に接着したコア層605が得られ
る。この半導体を埋設したコア層605の表面の銅箔を
エッチング技術によりエッチングして、インナービアホ
ール上に直径0.2mmの電極パターン及び配線パター
ン600が形成される。
An uncured sheet having the above-mentioned physical properties is cut into a predetermined size, and a carbon dioxide laser is used to cut the sheet having a diameter of 0.15 mm at equally spaced positions of 0.2 mm to 2 mm. A through hole was formed. In this through hole,
As conductive paste for filling via holes, average particle size 2μ
85% by mass of spherical copper particles of m, 3% by mass of a bisphenol A type epoxy resin ("Epicoat 828" manufactured by Yuka Shell Epoxy) as a resin composition, and a glycidyl ester epoxy resin ("YD-171" manufactured by Toto Kasei) ) 9 mass% and 3 mass% of an amine adduct curing agent (manufactured by Ajinomoto "MY-24") as a curing agent were kneaded with a three-roll mill and filled by screen printing (FIG. 6 (a)).
reference). Next, the semiconductor 601 and the chip component 604 are flip-chip mounted on a copper foil 600 having a roughened surface of 35 μm with a conductive adhesive made of silver powder and epoxy resin. The copper foil 600 on which the semiconductor fabricated in this manner is mounted and a separately prepared single-sided roughened 35 μm thick film
Copper foil 600 is positioned and sandwiched between sheet-like objects. At this time, the roughened surface of the copper foil was arranged on the sheet-like material side. Next, using a hot press, heating and pressing are performed at a pressing temperature of 120 ° C. and a pressure of 0.98 MPa for 5 minutes. This allows
Since the thermosetting resin in the sheet 602 is melted and softened by heating, the semiconductor 601 and the chip component 604 are buried in the sheet. Further, the heating temperature was increased and maintained at 175 ° C. for 60 minutes. As a result, the epoxy resin in the sheet-like material and the epoxy resin in the conductive resin are cured, the sheet-like material and the semiconductor and the copper foil are mechanically and strongly bonded, and the conductive paste is electrically connected to the copper foil. (Inner via connection), a mechanically bonded core layer 605 is obtained. The copper foil on the surface of the core layer 605 in which the semiconductor is embedded is etched by an etching technique to form an electrode pattern and a wiring pattern 600 having a diameter of 0.2 mm on the inner via hole.

【0070】このようにして作製されたコア層605を
用いて多層化を行なう。使用したシート状物は、厚さ2
5μmのアラミドフィルム(旭化成製“アラミカ”)の
両面に接着剤としてのエポキシ樹脂(日本レック製“E
F−450”)を5μmの厚みまで塗布したものに、炭
酸ガスレーザー加工機を用いて穴加工を行なった。加工
した穴径は100μmで、これに上記導電性ペーストを
充填したものを用いた(図6(f)参照)。このように
して作製した有機フィルムに接着層を形成したシート状
物を前記コア層605の両面に位置合わせして重ね、更
に、片面粗化処理した厚さ18μmの銅箔608を重ね
て加熱加圧した。そして、最上層の銅箔608をパター
ン形成し、部品内蔵モジュールを得た。
Using the core layer 605 thus manufactured, multilayering is performed. The used sheet material has a thickness of 2
An epoxy resin (“Nippon-Rek“ E ”
F-450 ″) was applied to a thickness of 5 μm, and drilled using a carbon dioxide laser beam machine. The processed hole diameter was 100 μm, and the hole filled with the conductive paste was used. (Refer to FIG. 6 (f).) A sheet-like material having an adhesive layer formed on the organic film produced in this manner is aligned and superimposed on both surfaces of the core layer 605, and is further subjected to a one-side roughening treatment to a thickness of 18 μm. And the copper foil 608 was heated and pressed, and the uppermost copper foil 608 was patterned to obtain a component built-in module.

【0071】本方法によって作製された部品内蔵モジュ
ールの信頼性評価として、吸湿リフロー試験、熱衝撃試
験(温度サイクル試験)を行なった。吸湿リフロー試験
は、温度85℃、湿度85%の条件下で168時間保持
した部品内蔵モジュールを、最高温度が240℃で20
秒間ベルト式リフロー試験機に1回通すことで行なっ
た。また、熱衝撃試験は、高温側が125℃、低温側が
−40℃の温度で各30分間保持し、1000サイクル
行なった。
As a reliability evaluation of the component built-in module manufactured by this method, a moisture absorption reflow test and a thermal shock test (temperature cycle test) were performed. In the moisture absorption reflow test, a module with a built-in component maintained at a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% for 168 hours was tested at a maximum temperature of 240 ° C. for 20 minutes.
The test was performed by passing once through a belt-type reflow tester for one second. In addition, the thermal shock test was performed at a temperature of 125 ° C. on the high temperature side and −40 ° C. on the low temperature side for 30 minutes each, and 1000 cycles were performed.

【0072】各試験後の評価として、部品内蔵コア内に
形成したインナービア接続(100個のインナービアを
直列に接続)の抵抗値が±10%以内であれば良品と
し、断線や10%以上接続抵抗が上昇したものを不良と
した。また、内蔵部品の評価基準としては、内蔵した部
品の接合面の断線及び部品性能の劣化がないものを良品
とし、内蔵部品の電気接続がインナービアと同様に±1
0%以上変化したもの、もしくは部品性能が変化したも
の不良とした。この時、半導体モジュールは形状的にも
クラックが発生せず、超音波探傷装置でも特に異常は認
められなかった。なお、内蔵部品としては、チップ抵抗
(20個)、チップコンデンサ(20個)、テスト用半
導体(1チップ:接続端子数30)を用いた。その信頼
性評価の結果を表3に示す。
As an evaluation after each test, if the resistance value of the inner via connection formed in the component built-in core (100 inner vias are connected in series) is within ± 10%, it is regarded as a non-defective product. Those with increased connection resistance were regarded as defective. The evaluation criteria for the built-in component are those that have no breakage of the joint surface of the built-in component and no deterioration of the component performance.
It was determined to be defective when it changed by 0% or more or when component performance changed. At this time, no cracks were generated in the semiconductor module in terms of shape, and no particular abnormality was recognized in the ultrasonic flaw detector. As built-in components, a chip resistor (20 pieces), a chip capacitor (20 pieces), and a test semiconductor (one chip: 30 connection terminals) were used. Table 3 shows the results of the reliability evaluation.

【0073】[0073]

【表3】 [Table 3]

【0074】表3から明らかなように室温に於ける弾性
率が0.6Gpa以上、10GPa以下の範囲であれば
良好な信頼性が得られるのがわかる。特に比較例では、
室温の弾性率が高いため、熱衝撃時の応力ストレスによ
りインナービア接続や内蔵部品の劣化が目立つ。これは
それぞれの熱膨張係数の差によって生じる応力に対して
弾性率が高いと高ストレスとなり、応力が集中する部品
接続部が断線するためと思われる。また、比較例ではガ
ラス転移温度が高いため、弾性率が高温でも高いことに
よるものと思われる。それに比べ、例1から例3では、
比較的高い信頼性が得られる。特に弾性率の異なる2つ
の種類のエポキシ樹脂を用いた例2では、室温の弾性率
がそれほど低くなくても、温度の上昇と共に弾性率が大
きく低下するため(図10参照)、高い信頼性を保持で
きるものと考えられる。また、最も室温の弾性率が低い
例1の電気絶縁材料では、熱衝撃試験については良好な
性能を有するものの、吸湿状態でのリフロー試験ではや
や信頼性が劣る。これは実使用上問題のない程度の信頼
性であるが、これ以上弾性率が低いものは吸湿が大きく
なるため吸湿リフロー試験では問題となる。従って、更
に良好な信頼性を得るには、例2のように複数の弾性
率、ガラス転移温度を有するエポキシ樹脂を用いると良
いことは明らかである。
As is clear from Table 3, when the elastic modulus at room temperature is in the range of 0.6 GPa to 10 GPa, good reliability can be obtained. Especially in the comparative example,
Since the elastic modulus at room temperature is high, inner via connection and deterioration of built-in components are conspicuous due to stress stress at the time of thermal shock. This is presumably because if the elastic modulus is high with respect to the stress caused by the difference between the respective thermal expansion coefficients, the stress becomes high, and the component connecting portion where the stress is concentrated is disconnected. Further, in the comparative example, since the glass transition temperature is high, it is considered that the elastic modulus is high even at a high temperature. In contrast, in Examples 1 to 3,
Relatively high reliability is obtained. In particular, in Example 2 using two types of epoxy resins having different elastic moduli, even if the elastic modulus at room temperature is not so low, the elastic modulus greatly decreases with increasing temperature (see FIG. 10). It is thought that it can be retained. Further, the electrical insulating material of Example 1, which has the lowest elastic modulus at room temperature, has good performance in the thermal shock test, but is somewhat inferior in the reflow test in the moisture absorbing state. This is a degree of reliability that does not cause any problem in practical use, but a substance having a lower elastic modulus than this has a large moisture absorption, and thus poses a problem in a moisture absorption reflow test. Therefore, it is clear that it is better to use an epoxy resin having a plurality of elastic moduli and glass transition temperatures as in Example 2 in order to obtain better reliability.

【0075】これにより、半導体とモジュールは強固な
密着が得られていることがわかる。また、導電性ペース
トによるインナービア接続抵抗もコア層、配線層ともに
ほとんどが初期性能と変化がなかった。
From this, it can be seen that a strong adhesion between the semiconductor and the module has been obtained. The inner via connection resistance due to the conductive paste was almost unchanged from the initial performance in both the core layer and the wiring layer.

【0076】(実施例2)実施例1の例2と同様のシー
ト状物を用いて半導体を内蔵させたモジュールの実施例
を示す。
(Embodiment 2) An embodiment of a module incorporating a semiconductor using the same sheet-like material as in Example 2 of Embodiment 1 will be described.

【0077】実施例1と同一条件で作製した貫通孔に導
電性ペーストを充填した厚さ500μmのシート状物7
04を準備した(図7(d)参照)。次に、厚さ70μ
mの銅箔を離型キャリアとし、更に9μmの厚みの銅を
電解銅メッキ法で離型キャリア上に形成した。この離型
キャリアを用いて、配線パターンを形成する。9μmの
厚みの銅を形成した離型キャリアをフォトリソ法により
化学エッチングし、図7(a)に示した配線パターン7
01を形成する。このようにして作製した配線パターン
付離型キャリアに、半導体及びチップ部品を半田バンプ
によりフリップチップ実装を行なった。更に、別の配線
パターンを有する離型キャリア上に膜状部品を印刷によ
り形成した。膜状部品711は、熱硬化性樹脂にカーボ
ン粉末を混合した抵抗体ペーストである。印刷は、既存
のスクリーン印刷法により行なった。
A 500 μm-thick sheet-like material 7 in which a conductive paste was filled in through holes produced under the same conditions as in Example 1.
04 was prepared (see FIG. 7D). Next, thickness 70μ
m was used as a release carrier, and copper having a thickness of 9 μm was formed on the release carrier by electrolytic copper plating. A wiring pattern is formed using this release carrier. The release carrier on which copper having a thickness of 9 μm is formed is chemically etched by a photolithography method, and the wiring pattern 7 shown in FIG.
01 is formed. The semiconductor and the chip component were flip-chip mounted on the release carrier with the wiring pattern thus manufactured by using solder bumps. Further, a film component was formed by printing on a release carrier having another wiring pattern. The film component 711 is a resistor paste in which carbon powder is mixed with a thermosetting resin. Printing was performed by an existing screen printing method.

【0078】このようにして作製した半導体を実装した
離型キャリアと、別途準備した配線パターンだけを有す
る離型キャリアを前記導電性ペーストを充填したシート
状物704に位置合わせして挟む。この時、配線パター
ンは、シート状物側になるよう配置した。これを熱プレ
スを用いてプレス温度120℃、圧力0.98MPaで
5分間加熱加圧する。これにより、前記シート状物70
4の中の熱硬化性樹脂が加熱により溶融軟化するため、
半導体702及びチップ部品703がシート状物中に埋
没する。更に、加熱温度を上昇させて175℃で60分
間保持した。これによりシート状物中のエポキシ樹脂及
び、導電性ペースト中のエポキシ樹脂が硬化し、シート
状物と半導体及び配線パターンが機械的に強固に接着す
る。更に、導電性ペーストが前記配線パターン701と
電気的(インナービア接続)、機械的に接着する。次
に、この半導体を埋設した硬化物の表面の離型キャリア
を剥離した。離型キャリアは光沢面を有し、且つ電解メ
ッキにて配線層を形成してあるため、離型キャリアであ
る銅箔だけを剥離させることができる。この状態で部品
が内蔵されたコア層706が形成できた。次いで、この
コア層706を用いて、更に配線層を形成する。本方法
では、あらかじめ配線パターンを形成した離型キャリア
を用いるため、硬化後のモジュールは配線パターンもモ
ジュール内に埋め込まれた平坦なコア層となる。これに
より、コア層表面に微細な多層配線が形成できることに
なる。また、同様に配線パターンが埋設されることによ
り、表面の配線パターンの厚み分だけシート状物が圧縮
される。よって、信頼性が良好な導電性ぺーストの電気
的接続が得られる。
The release carrier on which the semiconductor fabricated in this way is mounted and the release carrier having only a separately prepared wiring pattern are positioned and sandwiched between the sheet-like material 704 filled with the conductive paste. At this time, the wiring pattern was arranged so as to be on the sheet-like material side. This is heated and pressed at a pressing temperature of 120 ° C. and a pressure of 0.98 MPa for 5 minutes using a hot press. Thereby, the sheet-like material 70
Because the thermosetting resin in 4 melts and softens by heating,
The semiconductor 702 and the chip component 703 are buried in the sheet. Further, the heating temperature was increased and maintained at 175 ° C. for 60 minutes. As a result, the epoxy resin in the sheet material and the epoxy resin in the conductive paste are hardened, and the sheet material and the semiconductor and the wiring pattern are mechanically and strongly bonded. Further, the conductive paste is electrically (inner via connected) and mechanically bonded to the wiring pattern 701. Next, the release carrier on the surface of the cured product in which the semiconductor was embedded was peeled off. Since the release carrier has a glossy surface and the wiring layer is formed by electrolytic plating, only the copper foil as the release carrier can be peeled off. In this state, a core layer 706 containing the components was formed. Next, a wiring layer is further formed using the core layer 706. In this method, since the release carrier in which the wiring pattern is formed in advance is used, the cured module becomes a flat core layer in which the wiring pattern is embedded in the module. As a result, a fine multilayer wiring can be formed on the surface of the core layer. Similarly, by embedding the wiring pattern, the sheet-like material is compressed by the thickness of the wiring pattern on the surface. As a result, a reliable electrical connection of the conductive paste can be obtained.

【0079】次いで、半導体及びチップ部品を内蔵した
本コア層を用いて更に多層配線層を形成する。上記コア
層の両面に実施例1で作製した導電性ペーストを充填し
た厚さ100μmのシート状物を用い、更に膜状部品7
11を形成した配線パターン701を有する離型キャリ
ア700を用いて図7(g)のように挟み込む。これを
上記と同様の条件で加熱加圧し、硬化させてコア層及び
離型キャリアの上の配線パターン701及び膜状部品7
11を一体化させる。更に、硬化後に離型キャリア71
0を剥離することで本発明の部品内蔵モジュールが得ら
れる。このように離型キャリアを用いることで、基板作
製時に化学エッチングなどの湿式工程が必要なくなり、
簡易に微細な配線パターンが得られる。また、有機フィ
ルムを用いた離型キャリアでは、部品を内蔵する前に実
装性能を評価できるので、離型キャリア上で不良な部品
を修理できるという格別の効果もある。
Next, a multilayer wiring layer is further formed by using the present core layer containing the semiconductor and the chip component. A 100 μm-thick sheet material filled with the conductive paste prepared in Example 1 on both surfaces of the core layer was used.
Using a release carrier 700 having a wiring pattern 701 with 11 formed thereon, it is sandwiched as shown in FIG. This is heated and pressurized under the same conditions as described above, and cured to form a wiring pattern 701 and a film component 7 on the core layer and the release carrier.
11 are integrated. Furthermore, after curing, the release carrier 71
By peeling 0, the component built-in module of the present invention is obtained. By using the release carrier in this way, a wet process such as chemical etching is not required at the time of manufacturing the substrate,
A fine wiring pattern can be easily obtained. Further, in the case of a release carrier using an organic film, the mounting performance can be evaluated before the components are built in, so that there is a special effect that a defective component can be repaired on the release carrier.

【0080】本方法によって作製された部品内蔵モジュ
ールの信頼性評価として、吸湿リフロー試験、熱衝撃試
験(温度サイクル試験)を行なった。吸湿リフロー試
験、熱衝撃試験は実施例1と同様の条件下で行なった。
この時半導体モジュールは形状的にもクラックが発生せ
ず、超音波探傷装置でも特に異常は認められなかった。
これにより、半導体とモジュールは強固な密着が得られ
ていることがわかる。また、導電性ペーストによるイン
ナービア接続抵抗、内蔵部品接続及び部品性能もほとん
ど初期性能と変化がなかった。
As a reliability evaluation of the component built-in module manufactured by this method, a moisture absorption reflow test and a thermal shock test (temperature cycle test) were performed. The moisture absorption reflow test and the thermal shock test were performed under the same conditions as in Example 1.
At this time, no crack was generated in the semiconductor module in terms of shape, and no particular abnormality was recognized in the ultrasonic flaw detector.
As a result, it can be seen that a strong adhesion between the semiconductor and the module is obtained. The inner via connection resistance, built-in component connection and component performance due to the conductive paste were almost unchanged from the initial performance.

【0081】(実施例3)実施例1の例2と同様のシー
ト状物を用いて半導体を内蔵させたコア層と多層セラミ
ック基板を用いて更に高密度なモジュールを作製する実
施例を示す。
(Embodiment 3) An embodiment in which a higher-density module is manufactured using a core layer containing a semiconductor and a multilayer ceramic substrate using the same sheet-like material as in Example 2 of Embodiment 1 will be described.

【0082】実施例1と同一条件で作製した半導体80
2を内蔵したコア層805を用いた(図8(a)参
照)。コア層の厚みは300μmである。次に、多層セ
ラミック基板809と前記コア層805を接着層により
積層を行なう。なお、セラミック多層配線基板は、ガラ
スとアルミナを主成分とする低温焼成基板材料よりなる
厚さ220μmのグリーンシート(日本電気硝子製“M
LS−1000”)を用いて作製される。即ち、多層配
線基板は、本グリーンシートに貫通孔としてパンチャに
より直径0.2mmの穴加工を行ない、この貫通孔に平
均粒径2μmの銀粉体を主成分とし、エチルセルロース
樹脂とターピネオール溶剤を混合した導電性ぺーストを
充填し、更に配線パターンを同様の導電性ペーストで印
刷することで形成し、このようにして作製した複数のグ
リーンシートを70℃の温度で4.9MPaの圧力で積
層し、更に900℃で1時間で焼成することで作製し
た。
Semiconductor 80 fabricated under the same conditions as in Example 1.
2 was used (see FIG. 8A). The thickness of the core layer is 300 μm. Next, the multilayer ceramic substrate 809 and the core layer 805 are laminated with an adhesive layer. The ceramic multilayer wiring board is a 220 μm thick green sheet (“M” manufactured by NEC Corporation) made of a low-temperature fired board material mainly composed of glass and alumina.
LS-1000 "). That is, the multilayer wiring board is formed by punching a hole having a diameter of 0.2 mm as a through hole in the present green sheet by a puncher, and forming a silver powder having an average particle diameter of 2 μm in the through hole. And a conductive paste obtained by mixing an ethylcellulose resin and a terpineol solvent, and forming a wiring pattern by printing the same conductive paste. It was manufactured by laminating at a temperature of ℃ and a pressure of 4.9 MPa, and further firing at 900 ℃ for 1 hour.

【0083】次に、実施例1のように作製したシート状
物に貫通孔を形成し、更に導電性ペーストを充填した厚
み100μmのシート状物810及び812を準備し、
前記コア層805と多層セラミック基板809を図8
(b)のように位置合わせして重ね、加熱加圧して一体
化したモジュールを作製する。この時、最下層のシート
状物には銅箔814を重ねて一体化しても良いし、図7
(a)のように膜状部品を形成した離型キャリアを用い
て配線パターンを転写してもよい。なお、このようにし
て形成されたモジュールの配線パターンに半田ボールを
実装し、接続端子とすることができる。
Next, through-holes were formed in the sheet-like material prepared as in Example 1, and 100 μm-thick sheet-like materials 810 and 812 filled with a conductive paste were prepared.
The core layer 805 and the multilayer ceramic substrate 809 are shown in FIG.
As shown in (b), the modules are aligned, stacked, and heated and pressed to produce an integrated module. At this time, a copper foil 814 may be overlaid on and integrated with the lowermost sheet.
The wiring pattern may be transferred using a release carrier on which a film component is formed as shown in FIG. In addition, a solder ball can be mounted on the wiring pattern of the module formed as described above to form a connection terminal.

【0084】本方法によって作製された部品内蔵モジュ
ールの信頼性評価として、実施例1と同様の吸湿リフロ
ー試験、熱衝撃試験(温度サイクル試験)を行なった。
この時、半導体モジュールはセラミック基板と積層され
た複合モジュールでありながら、形状的にもクラックが
発生せず、超音波探傷装置でも特に異常は認められなか
った。これにより、半導体とモジュールは強固な密着が
得られていることがわかる。
As a reliability evaluation of the component built-in module manufactured by this method, the same moisture absorption reflow test and thermal shock test (temperature cycle test) as in Example 1 were performed.
At this time, although the semiconductor module was a composite module laminated with a ceramic substrate, no crack was generated even in shape, and no particular abnormality was recognized even in the ultrasonic flaw detector. As a result, it can be seen that a strong adhesion between the semiconductor and the module is obtained.

【0085】また、モジュールの耐衝撃性を評価するた
め、1.8mの高さから落下させる落下強度を評価し
た。具体的には、完成したモジュールをガラスエポキシ
基板の上に半田付けで実装し、アルミニウム製容器にセ
ットしてコンクリート上に落下させ、モジュールが破損
しないか調べた。比較例として作製した前記セラミック
基板だけの場合は、半数にクラックが生じたが、実施例
3のモジュールではクラックの発生はなかった。このこ
とからも、前記シート状物で接着したものは、セラミッ
ク基板だけでは得られない応力緩和層としての働きがあ
ると考えられ、本発明の格別の効果といえる。
Further, in order to evaluate the impact resistance of the module, the drop strength at which the module was dropped from a height of 1.8 m was evaluated. Specifically, the completed module was mounted on a glass epoxy substrate by soldering, set in an aluminum container, dropped on concrete, and examined for damage to the module. In the case of only the ceramic substrate manufactured as a comparative example, cracks occurred in half, but no crack occurred in the module of Example 3. From this, it is considered that the sheet-like material has a function as a stress relaxation layer which cannot be obtained only with the ceramic substrate, and it can be said that the present invention is a special effect.

【0086】また、導電性ペーストによるインナービア
接続抵抗もほとんど初期性能と変化がなかった。
The inner via connection resistance due to the conductive paste hardly changed from the initial performance.

【0087】[0087]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の部品内蔵
モジュールによれば、熱硬化性絶縁樹脂と高濃度の無機
質フィラーの混合物によるシート状物を用いることで、
能動部品及び/又は受動部品を内部に埋設することがで
き、しかもその少なくとも片面に配線パターンと電気絶
縁層による多層配線が同時に形成できるので、極めて高
密度なモジュールが実現できる。また、無機質フィラー
を選定することで、熱伝導度、熱膨張係数、誘電率を制
御することが可能である。このことは、平面方向の熱膨
張係数を半導体とほぼ同じにすることが可能であり、半
導体を直接実装する基板としても有効である。更に、熱
伝導度を向上させることにより、放熱を必要とする半導
体などを実装する基板としても有効である。加えて、誘
電率を低くすることも可能で、高周波回路用として低い
損失の基板にも有効である。加えて、熱硬化性樹脂の室
温での弾性率、ガラス転移温度を特定の範囲にすること
で熱衝撃試験などの熱ストレスに対し高い信頼性を有す
る部品内蔵モジュールが実現できる。
As described above, according to the module with a built-in component of the present invention, by using a sheet made of a mixture of a thermosetting insulating resin and a high concentration of an inorganic filler,
An active component and / or a passive component can be buried inside, and a multilayer pattern of a wiring pattern and an electric insulating layer can be simultaneously formed on at least one surface thereof, so that an extremely high-density module can be realized. Further, by selecting the inorganic filler, it is possible to control the thermal conductivity, the thermal expansion coefficient, and the dielectric constant. This makes it possible to make the thermal expansion coefficient in the plane direction substantially the same as that of the semiconductor, and is also effective as a substrate on which the semiconductor is directly mounted. Further, by improving the thermal conductivity, it is also effective as a substrate on which a semiconductor or the like requiring heat radiation is mounted. In addition, the dielectric constant can be lowered, which is also effective for a low-loss substrate for a high-frequency circuit. In addition, by setting the elastic modulus at room temperature and the glass transition temperature of the thermosetting resin to specific ranges, a component built-in module having high reliability against thermal stress such as a thermal shock test can be realized.

【0088】また、本発明の部品内蔵モジュールの製造
方法によれば、無機質フィラーと未硬化状態の熱硬化性
樹脂を含む混合物をシート状物に加工して貫通孔を形成
し、導電性樹脂を充填したシート状物を準備し、離型キ
ャリアの片面に配線パターンを形成した上に能動部品や
受動部品を実装したものと、前記シート状物を位置合わ
せして重ね、更に別途作製した前記離型キャリア上に配
線パターンを有する離型キャリアの配線パターン面を内
側にして重ね、前記シート状物に埋没一体化させて加熱
加圧により硬化させることで本発明の部品内蔵モジュー
ルが得られる。更に、この時離型キャリア上に形成した
配線パターンを取り出して電極とする膜状部品も同時に
形成できる。これにより、能動部品や受動部品を内蔵し
た極めて高密度なモジュールが簡易な方法で実現できる
とともに、配線パターンも前記シート状物に埋設できる
ため、表面が平滑なモジュールが実現できる。これによ
り、本発明のモジュールの表面に配線パターンの段差が
ないため、更に高密度に部品を実装することができる。
Further, according to the method of manufacturing a component built-in module of the present invention, a mixture containing an inorganic filler and an uncured thermosetting resin is processed into a sheet-like material to form a through hole, and the conductive resin is formed. A filled sheet-like material was prepared, a wiring pattern was formed on one side of a release carrier, and an active component or a passive component was mounted thereon. The module with a built-in component of the present invention can be obtained by superimposing the wiring pattern surface of the release carrier having the wiring pattern on the mold carrier inside, embedding and integrating in the sheet material, and curing by heating and pressing. Further, at this time, a film-like component which is used as an electrode by taking out the wiring pattern formed on the release carrier can be formed at the same time. Thus, a very high-density module incorporating active and passive components can be realized by a simple method, and a wiring pattern can be embedded in the sheet-like material, so that a module with a smooth surface can be realized. Accordingly, since there is no step in the wiring pattern on the surface of the module of the present invention, components can be mounted at a higher density.

【0089】また、本発明の多層構造を有する部品内蔵
モジュールの製造方法は、半導体などの能動部品とチッ
プ抵抗などの受動部品を内蔵できるだけでなく、多層セ
ラミック基板も同時に内層に形成できるため、極めて高
密度なモジュールが実現できる。また、種々の性能を有
するセラミック基板を複数同時に積層できるので、極め
て高機能なモジュールが実現できる。
The method for manufacturing a component built-in module having a multilayer structure according to the present invention not only can incorporate active components such as semiconductors and passive components such as chip resistors, but also can simultaneously form a multilayer ceramic substrate in an inner layer. A high-density module can be realized. Further, since a plurality of ceramic substrates having various performances can be laminated at the same time, an extremely high-performance module can be realized.

【0090】以上のように本発明は、能動部品や受動部
品をモジュールに内蔵でき、且つ配線パターンの間をイ
ンナービアで接続できるので、極めて高密度なモジュー
ルが簡易な方法で実現できる。
As described above, according to the present invention, an active component or a passive component can be incorporated in a module, and wiring patterns can be connected by inner vias. Therefore, an extremely high-density module can be realized by a simple method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例による多層構造を有する部品
内蔵モジュールの断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a component built-in module having a multilayer structure according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例による多層構造を有する部品
内蔵モジュールの断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a component built-in module having a multilayer structure according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例による多層構造を有する部品
内蔵モジュールの断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a component built-in module having a multilayer structure according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例による多層構造を有する部品
内蔵モジュールの断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of a component built-in module having a multilayer structure according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例による多層構造を有する部品
内蔵モジュールの断面図である。
FIG. 5 is a sectional view of a component built-in module having a multilayer structure according to an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一実施例による多層構造を有する部品
内蔵モジュールの製造工程を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the component built-in module having a multilayer structure according to one embodiment of the present invention.

【図7】本発明の一実施例による多層構造を有する部品
内蔵モジュールの製造工程を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the component built-in module having a multilayer structure according to one embodiment of the present invention.

【図8】本発明の一実施例による多層構造を有する部品
内蔵モジュールの製造工程を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the component built-in module having a multilayer structure according to one embodiment of the present invention.

【図9】部品内蔵モジュールの電気絶縁材料の弾性率の
温度特性を示した図である。
FIG. 9 is a diagram showing the temperature characteristics of the elastic modulus of the electrical insulating material of the component built-in module.

【図10】本発明の部品内蔵モジュールの一実施例であ
る電気絶縁材料の弾性率E’とTanδを示した図であ
る。
FIG. 10 is a diagram showing the elastic modulus E ′ and Tan δ of an electric insulating material which is one embodiment of the component built-in module of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100、108、200、208、300、306、4
00、407、500、504、507、514、60
9、701、709,801、807 配線パターン 101、201、301、401、501、601、7
02、802 半導体 102、106、202、206、302、305、4
02、405、502、803 電気絶縁層 103、107、207、303、307、403、4
06、503、508、511、513、603、60
7、705、708、804、808、811、813
インナービア 104、204、604、703、 チップ部品 105、205、304、404、505、605、7
06、805 コア層 209 貫通スルーホール 408 コンデンサ 409 抵抗体 506、806 セラミック材料層 509、809 多層セラミック基板 510、512、602、606、704、707、8
10、812 シート状物 515、815 半田ボール 600、608、814 銅箔 700、710 離型キャリア 711 膜状部品
100, 108, 200, 208, 300, 306, 4
00, 407, 500, 504, 507, 514, 60
9, 701, 709, 801, 807 Wiring pattern 101, 201, 301, 401, 501, 601, 7
02, 802 Semiconductors 102, 106, 202, 206, 302, 305, 4
02, 405, 502, 803 Electrical insulating layers 103, 107, 207, 303, 307, 403, 4
06, 503, 508, 511, 513, 603, 60
7, 705, 708, 804, 808, 811, 813
Inner vias 104, 204, 604, 703, Chip components 105, 205, 304, 404, 505, 605, 7
06, 805 Core layer 209 Through-hole 408 Capacitor 409 Resistor 506, 806 Ceramic material layer 509, 809 Multi-layer ceramic substrate 510, 512, 602, 606, 704, 707, 8
10, 812 Sheet-like material 515, 815 Solder ball 600, 608, 814 Copper foil 700, 710 Release carrier 711 Film-like component

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/12 H05K 1/11 N 23/14 1/18 R 25/04 3/40 K 25/18 H01L 23/12 B H05K 1/11 23/14 R 1/18 25/04 Z 3/40 (72)発明者 朝日 俊行 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 小松 慎五 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E317 AA24 BB01 BB12 CC22 CC25 CD32 CD34 GG16 5E336 AA08 BB03 BB15 BC26 BC34 CC31 CC51 CC55 GG03 GG14 5E346 AA04 AA12 AA15 AA32 AA35 AA43 AA60 BB01 CC02 CC08 CC32 DD02 DD12 DD32 EE02 EE06 EE09 EE13 EE19 EE41 FF18 FF35 FF45 GG22 GG27 GG28 GG40 HH11 HH17 HH33──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 23/12 H05K 1/11 N 23/14 1/18 R 25/04 3/40 K 25/18 H01L 23/12 B H05K 1/11 23/14 R 1/18 25/04 Z 3/40 (72) Inventor Toshiyuki Asahi 1006 Kazuma, Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Shin Komatsu 5 1006 Kadoma, Kazuma, Kazuma, Osaka Prefecture F-term (reference) 5E317 AA24 BB01 BB12 CC22 CC25 CD32 CD34 GG16 5E336 AA08 BB03 BB15 BC26 BC34 CC31 CC51 CC55 GG03 GG14 5E346 AA04 AA12 AA15 A32 CC08 CC32 DD02 DD12 DD32 EE02 EE06 EE09 EE13 EE19 EE41 FF18 FF35 FF45 GG22 GG27 GG28 GG40 HH11 HH17 HH33

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電気絶縁材からなるコア層と、前記コア
層の少なくとも片面に電気絶縁層と複数の配線パターン
とを備えた部品内蔵モジュールであって、前記コア層の
電気絶縁材が少なくとも無機質フィラーと熱硬化性樹脂
を含む混合物から形成され、前記コア層の内部に少なく
とも1つ以上の能動部品及び/又は受動部品を内蔵し、
前記コア層が複数の配線パターンと導電性樹脂からなる
複数のインナービアを有し、且つ前記コア層の少なくと
も無機質フィラーと熱硬化性樹脂を含む混合物からなる
電気絶縁材の室温に於ける弾性率が0.6〜10GPa
の範囲にあることを特徴とする部品内蔵モジュール。
1. A core layer made of an electrical insulating material, and said core
Electrical insulation layer and multiple wiring patterns on at least one side of the layer
A component built-in module comprising:
Electrical insulation is at least inorganic filler and thermosetting resin
Formed from a mixture containing
Both include one or more active and / or passive components,
The core layer includes a plurality of wiring patterns and a conductive resin
It has a plurality of inner vias, and at least the core layer
Also consists of a mixture containing an inorganic filler and a thermosetting resin
The elasticity of the electrical insulating material at room temperature is 0.6 to 10 GPa.
A component built-in module characterized by being in the range of.
【請求項2】 電気絶縁材からなるコア層と、前記コア
層の少なくとも片面に電気絶縁層と複数の配線パターン
とを備えた部品内蔵モジュールであって、前記コア層の
電気絶縁材が少なくとも無機質フィラーと熱硬化性樹脂
を含む混合物から形成され、前記コア層の内部に少なく
とも1つ以上の能動部品及び/又は受動部品を内蔵し、
前記コア層が複数の配線パターンと導電性樹脂からなる
複数のインナービアを有し、前記コア層の少なくとも無
機質フィラーと熱硬化性樹脂を含む混合物からなる電気
絶縁材の室温に於ける弾性率が0.6〜10GPaの範
囲にあり、且つ前記熱硬化性樹脂が複数のガラス転移温
度を有する熱硬化性樹脂からなることを特徴とする部品
内蔵モジュール。
2. A component built-in module comprising: a core layer made of an electrical insulating material; and an electrical insulating layer and a plurality of wiring patterns on at least one surface of the core layer, wherein the electrical insulating material of the core layer is made of at least an inorganic material. Formed from a mixture containing a filler and a thermosetting resin, at least one or more active components and / or passive components are built in the core layer,
The core layer has a plurality of wiring patterns and a plurality of inner vias made of a conductive resin, the elastic modulus at room temperature of an electrical insulating material of the core layer made of a mixture containing at least an inorganic filler and a thermosetting resin. A component built-in module which is in a range of 0.6 to 10 GPa and wherein the thermosetting resin is made of a thermosetting resin having a plurality of glass transition temperatures.
【請求項3】 電気絶縁材からなるコア層と、前記コア
層の少なくとも片面に電気絶縁層と複数の配線パターン
とを備えた部品内蔵モジュールであって、前記コア層の
電気絶縁材が少なくとも無機質フィラーと熱硬化性樹脂
を含む混合物から形成され、前記コア層の内部に少なく
とも1つ以上の能動部品及び/又は受動部品を内蔵し、
前記コア層が複数の配線パターンと導電性樹脂からなる
複数のインナービアを有し、前記コア層の少なくとも無
機質フィラーと熱硬化性樹脂を含む混合物からなる電気
絶縁材の室温に於ける弾性率が0.6〜10GPaの範
囲にあり、且つ前記熱硬化性樹脂が少なくとも−20℃
から60℃の範囲のガラス転移温度を有する熱硬化性樹
脂と、70℃から170℃の範囲のガラス転移温度を有
する熱硬化性樹脂からなることを特徴とする部品内蔵モ
ジュール。
3. A component built-in module comprising a core layer made of an electric insulating material, and an electric insulating layer and a plurality of wiring patterns on at least one surface of the core layer, wherein the electric insulating material of the core layer is at least an inorganic material. Formed from a mixture containing a filler and a thermosetting resin, incorporating at least one or more active components and / or passive components inside the core layer,
The core layer has a plurality of wiring patterns and a plurality of inner vias made of a conductive resin, the elastic modulus at room temperature of an electrical insulating material of the core layer made of a mixture containing at least an inorganic filler and a thermosetting resin. 0.6 to 10 GPa, and the thermosetting resin is at least −20 ° C.
A module with a built-in component, comprising: a thermosetting resin having a glass transition temperature in a range of from 70 ° C to 60 ° C; and a thermosetting resin having a glass transition temperature in a range of from 70 ° C to 170 ° C.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の部品内
蔵モジュールであって、前記コア層、前記電気絶縁層及
び前記配線パターンのすべてを貫通するスルーホールが
形成されている部品内蔵モジュール。
4. The module with a built-in component according to claim 1, wherein a through-hole passing through all of said core layer, said electrical insulating layer and said wiring pattern is formed. .
【請求項5】 電気絶縁材からなるコア層と、前記コア
層の少なくとも片面に無機質フィラーと熱硬化性樹脂を
含む混合物から形成された電気絶縁材からなる電気絶縁
層と、銅箔よりなる複数の配線パターンとを備えた請求
項1〜3のいずれかに記載の部品内蔵モジュールであっ
て、前記コア層が複数の銅箔よりなる配線パターンと導
電性樹脂からなる複数のインナービアを有し、前記配線
パターンが前記インナービアにより電気接続されている
部品内蔵モジュール。
5. A core layer made of an electrical insulating material, an electrical insulating layer made of an electrical insulating material formed on at least one side of the core layer from a mixture containing an inorganic filler and a thermosetting resin, and a plurality of copper foils The component built-in module according to any one of claims 1 to 3, further comprising: a wiring pattern formed of a plurality of copper foils and a plurality of inner vias formed of a conductive resin. And a component built-in module in which the wiring pattern is electrically connected by the inner via.
【請求項6】 電気絶縁材からなるコア層と、前記コア
層の少なくとも片面に熱硬化性樹脂から形成された電気
絶縁材からなる電気絶縁層と、銅メッキよりなる複数の
配線パターンとを備えた請求項1〜3のいずれかに記載
の部品内蔵モジュールであって、前記コア層が複数の銅
箔よりなる配線パターンと導電性樹脂からなる複数のイ
ンナービアを有し、前記銅メッキよりなる配線パターン
が前記インナービアにより電気接続されている部品内蔵
モジュール。
6. A core layer made of an electric insulating material, an electric insulating layer made of an electric insulating material formed on at least one surface of the core layer from a thermosetting resin, and a plurality of wiring patterns made of copper plating. The component built-in module according to any one of claims 1 to 3, wherein the core layer has a wiring pattern made of a plurality of copper foils and a plurality of inner vias made of a conductive resin, and is made of the copper plating. A component built-in module in which a wiring pattern is electrically connected by the inner via.
【請求項7】 電気絶縁材からなるコア層と、前記コア
層の少なくとも片面に熱硬化性樹脂が両面に形成された
有機フィルムからなる電気絶縁層と、銅箔よりなる複数
の配線パターンとを備えた請求項1〜3のいずれかに記
載の部品内蔵モジュールであって、前記コア層が複数の
銅箔よりなる配線パターンと導電性樹脂からなる複数の
インナービアを有し、前記配線パターンが前記インナー
ビアにより電気接続されている部品内蔵モジュール。
7. A core layer made of an electric insulating material, an electric insulating layer made of an organic film having a thermosetting resin formed on at least one surface of at least one surface of the core layer, and a plurality of wiring patterns made of a copper foil. The component built-in module according to any one of claims 1 to 3, wherein the core layer has a wiring pattern made of a plurality of copper foils and a plurality of inner vias made of a conductive resin, and the wiring pattern is A component built-in module electrically connected by the inner via.
【請求項8】 電気絶縁材からなるコア層と、前記コア
層の少なくとも片面に複数の配線パターンとインナービ
アを有するセラミック基板が接着された請求項1〜3の
いずれかに記載の部品内蔵モジュールであって、前記コ
ア層が複数の銅箔よりなる配線パターンと導電性樹脂か
らなる複数のインナービアを有している部品内蔵モジュ
ール。
8. The component built-in module according to claim 1, wherein a core layer made of an electrically insulating material and a ceramic substrate having a plurality of wiring patterns and inner vias are adhered to at least one surface of said core layer. The component built-in module, wherein the core layer has a wiring pattern made of a plurality of copper foils and a plurality of inner vias made of a conductive resin.
【請求項9】 電気絶縁材からなるコア層と、前記コア
層の少なくとも片面に複数の配線パターンとインナービ
アを有する複数のセラミック基板が接着された請求項1
〜3のいずれかに記載の部品内蔵モジュールであって、
前記コア層が複数の銅箔よりなる配線パターンと導電性
樹脂からなる複数のインナービアを有し、前記複数のセ
ラミック基板が異なる誘電率の誘電体材料よりなる部品
内蔵モジュール。
9. A core layer made of an electrically insulating material and a plurality of ceramic substrates having a plurality of wiring patterns and inner vias bonded to at least one surface of the core layer.
4. The component built-in module according to any one of claims 1 to 3,
A component built-in module, wherein the core layer has a wiring pattern made of a plurality of copper foils and a plurality of inner vias made of a conductive resin, and the plurality of ceramic substrates are made of a dielectric material having a different dielectric constant.
【請求項10】 前記コア層の少なくとも片面に形成さ
れた前記配線パターンの間に膜状受動部品を配置した請
求項1〜3のいずれかに記載の部品内蔵モジュール。
10. The component built-in module according to claim 1, wherein a film-like passive component is arranged between said wiring patterns formed on at least one surface of said core layer.
【請求項11】 前記膜状受動部品が、薄膜又は無機質
フィラーと熱硬化性樹脂の混合物からなる抵抗、コンデ
ンサ及びインダクタからなる群から選ばれた少なくとも
1つである請求項10に記載の部品内蔵モジュール。
11. The built-in component according to claim 10, wherein the film-like passive component is at least one selected from the group consisting of a resistor, a capacitor, and an inductor made of a thin film or a mixture of an inorganic filler and a thermosetting resin. module.
【請求項12】 前記膜状受動部品が、少なくともアル
ミニウム又はタンタルの酸化層と導電性高分子よりなる
固体電解コンデンサである請求項10に記載の部品内蔵
モジュール。
12. The component built-in module according to claim 10, wherein the film-like passive component is a solid electrolytic capacitor made of at least an oxide layer of aluminum or tantalum and a conductive polymer.
【請求項13】 少なくとも無機質フィラーと未硬化状
態の熱硬化性樹脂からなる混合物をシート状に加工し、
前記無機質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からな
るシート状物に貫通孔を形成し、前記貫通孔に導電性樹
脂を充填し、銅箔上に能動部品及び/又は受動部品を実
装し、前記部品実装済みの銅箔の部品実装面に前記貫通
孔に導電性樹脂を充填したシート状物を位置合わせして
重ね、更に銅箔を重ねて前記受動部品及び/又は能動部
品を前記シート状物に埋没させて加熱加圧することによ
り、前記シート状物中の熱硬化性樹脂及び導電性樹脂を
硬化させ、その後前記最外層部の銅箔を加工して配線パ
ターンを形成させてコア層を作成し、無機質フィラーと
未硬化状態の熱硬化性樹脂からなる混合物シート又は両
面に接着層を形成した有機フィルムに貫通孔を形成し、
前記コア層の少なくとも片面に前記貫通孔に導電性樹脂
を充填した混合物シート又は有機フィルムと前記銅箔と
を位置合わせして重ねて加熱加圧することで一体化し、
前記銅箔を加工して配線パターンを形成させることを特
徴とする部品内蔵モジュールの製造方法。
A mixture comprising at least an inorganic filler and an uncured thermosetting resin is processed into a sheet,
Forming a through-hole in a sheet-like material made of the inorganic filler and an uncured thermosetting resin, filling the through-hole with a conductive resin, mounting an active component and / or a passive component on a copper foil, A sheet-like material filled with a conductive resin in the through-hole is aligned and overlapped on the component mounting surface of the component-mounted copper foil. By embedding in an object and applying heat and pressure, the thermosetting resin and the conductive resin in the sheet-shaped object are cured, and then the outermost layer copper foil is processed to form a wiring pattern, thereby forming a core layer. Create and form through-holes in an organic film with an inorganic filler and an adhesive layer formed on both surfaces or a mixture sheet composed of an uncured thermosetting resin,
At least one surface of the core layer and the copper foil and the mixture sheet or organic film filled with the conductive resin in the through-holes are aligned and integrated by heating and pressing,
A method for manufacturing a component built-in module, wherein a wiring pattern is formed by processing the copper foil.
【請求項14】 前記コア層の上に位置合わせして重ね
る銅箔において、予め前記銅箔の上に膜状部品が形成さ
れている請求項13に記載の部品内蔵モジュールの製造
方法。
14. The method for manufacturing a component built-in module according to claim 13, wherein a film-like component is previously formed on the copper foil in the copper foil to be aligned and stacked on the core layer.
【請求項15】 少なくとも無機質フィラーと未硬化状
態の熱硬化性樹脂からなる混合物をシート状に加工し、
前記無機質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からな
るシート状物に貫通孔を形成し、前記貫通孔に導電性樹
脂を充填し、離型キャリアの片面に配線パターンを形成
し、前記離型キャリアの配線パターン上に能動部品及び
/又は受動部品を実装し、前記部品実装済みの配線パタ
ーンを有する前記離型キャリアの部品実装面に前記貫通
孔に導電性樹脂を充填したシート状物を位置合わせして
重ね、前記受動部品及び/又は能動部品を前記シート状
物に埋没一体化させて更に加熱加圧することにより、前
記シート状物中の熱硬化性樹脂及び導電性樹脂を硬化さ
せ、その後前記最外層部の離型キャリアを剥離してコア
層を形成し、無機質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹
脂からなる混合物シート又は両面に接着層を形成した有
機フィルムに貫通孔を形成し、前記コア層の少なくとも
片面に前記貫通孔に導電性樹脂を充填した混合物シート
又は有機フィルムと、片面に配線パターンを形成した離
型キャリアとを位置合わせして重ねて加熱加圧すること
で一体化し、前記離型キャリアを剥離することを特徴と
する部品内蔵モジュールの製造方法。
15. Processing a mixture comprising at least an inorganic filler and a thermosetting resin in an uncured state into a sheet,
Forming a through-hole in a sheet-like material comprising the inorganic filler and the thermosetting resin in an uncured state, filling the through-hole with a conductive resin, forming a wiring pattern on one surface of a release carrier, An active component and / or a passive component is mounted on a wiring pattern of a carrier, and a sheet-like material in which the through-hole is filled with a conductive resin is positioned on a component mounting surface of the release carrier having the component-mounted wiring pattern. By stacking together, the passive component and / or the active component are embedded and integrated in the sheet-like material, and further heated and pressed, thereby curing the thermosetting resin and the conductive resin in the sheet-like material, The core layer is formed by peeling off the release carrier of the outermost layer portion, and penetrating through an organic film in which an inorganic filler and a thermosetting resin in an uncured state are formed on a mixture sheet or an adhesive layer formed on both surfaces. Forming a mixture sheet or an organic film filled with the conductive resin in the through-holes on at least one surface of the core layer, and a release carrier having a wiring pattern formed on one surface thereof, and superposing and heating and pressing. And releasing the release carrier.
【請求項16】 前記コア層の上に位置合わせして重ね
る配線パターンを形成した前記離型キャリアにおいて、
予め前記離型キャリアに形成された配線パターンの上に
膜状部品が形成されている請求項15に記載の部品内蔵
モジュールの製造方法。
16. The release carrier in which a wiring pattern positioned and superimposed on the core layer is formed,
The method for manufacturing a module with a built-in component according to claim 15, wherein a film-like component is formed on the wiring pattern formed on the release carrier in advance.
【請求項17】 前記膜状部品が、薄膜又は無機質フィ
ラーと熱硬化性樹脂の混合物からなる抵抗、コンデンサ
及びインダクタからなる群から選ばれた少なくとも1つ
であり、且つ前記膜状部品が、蒸着法、MO−CVD法
又は厚膜印刷法のいずれかの方法で形成されている請求
項14又は16に記載の部品内蔵モジュールの製造方
法。
17. The film component is at least one selected from the group consisting of a resistor, a capacitor, and an inductor made of a thin film or a mixture of an inorganic filler and a thermosetting resin, and the film component is formed by vapor deposition. 17. The method for manufacturing a component built-in module according to claim 14, wherein the module is formed by any one of a method, an MO-CVD method, and a thick film printing method.
【請求項18】 少なくとも無機質フィラーと未硬化状
態の熱硬化性樹脂からなる混合物をシート状に加工し、
前記無機質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からな
るシート状物に貫通孔を形成し、前記貫通孔に導電性樹
脂を充填し、銅箔上に能動部品及び/又は受動部品を実
装し、前記部品実装済みの銅箔の部品実装面に前記貫通
孔に導電性樹脂を充填したシート状物を位置合わせして
重ね、更に銅箔を重ねて前記受動部品及び/又は能動部
品を前記シート状物に埋没させて加熱加圧することによ
り、前記シート状物中の熱硬化性樹脂及び導電性樹脂を
硬化させ、その後前記最外層部の銅箔を加工して配線パ
ターンを形成させてコア層を作成し、無機質フィラーと
未硬化状態の熱硬化性樹脂からなる混合物シート又は両
面に接着層を形成した有機フィルムに貫通孔を形成し、
前記コア層の少なくとも片面に、前記貫通孔に導電性樹
脂を充填した混合物シート又は有機フィルムと前記銅箔
とを位置合わせして重ねて加熱加圧硬化した後、コア層
も含めて貫通孔を形成し、銅メッキにより貫通スルーホ
ールを形成することを特徴とする部品内蔵モジュールの
製造方法。
18. A mixture comprising at least an inorganic filler and an uncured thermosetting resin is processed into a sheet,
Forming a through-hole in a sheet-like material made of the inorganic filler and an uncured thermosetting resin, filling the through-hole with a conductive resin, mounting an active component and / or a passive component on a copper foil, A sheet-like material filled with a conductive resin in the through-hole is aligned and overlapped on the component mounting surface of the component-mounted copper foil. By embedding in an object and applying heat and pressure, the thermosetting resin and the conductive resin in the sheet-shaped object are cured, and then the outermost layer copper foil is processed to form a wiring pattern, thereby forming a core layer. Create and form through-holes in an organic film with an inorganic filler and an adhesive layer formed on both surfaces or a mixture sheet composed of an uncured thermosetting resin,
After at least one surface of the core layer, the mixture sheet or the organic film filled with the conductive resin in the through hole and the copper foil are aligned and stacked and heated and cured, the through hole including the core layer is formed. And forming a through-hole by copper plating.
【請求項19】 少なくとも無機質フィラーと未硬化状
態の熱硬化性樹脂からなる混合物をシート状に加工し、
前記無機質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からな
るシート状物に貫通孔を形成し、前記貫通孔に導電性樹
脂を充填し、離型キャリアの片面に配線パターンを形成
し、前記離型キャリアの配線パターン上に能動部品及び
/又は受動部品を実装し、前記部品実装済みの配線パタ
ーンを有する前記離型キャリアの部品実装面に前記貫通
孔に導電性樹脂を充填したシート状物を位置合わせして
重ね、前記受動部品及び/又は能動部品を前記シート状
物に埋没一体化させて更に加熱加圧することにより、前
記シート状物中の熱硬化性樹脂及び導電性樹脂を硬化さ
せ、その後前記最外層部の離型キャリアを剥離してコア
層を形成し、無機質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹
脂からなる混合物シート又は両面に接着層を形成した有
機フィルムに貫通孔を形成し、前記コア層の少なくとも
片面に、前記貫通孔に導電性樹脂を充填した混合物シー
ト又は有機フィルムと、片面に配線パターンを形成した
離型キャリアとを位置合わせして重ねて加熱加圧硬化し
た後、コア層も含めて貫通孔を形成し、銅メッキにより
貫通スルーホールを形成することを特徴とする部品内蔵
モジュールの製造方法。
19. A sheet comprising a mixture comprising at least an inorganic filler and an uncured thermosetting resin,
Forming a through-hole in a sheet-like material comprising the inorganic filler and the thermosetting resin in an uncured state, filling the through-hole with a conductive resin, forming a wiring pattern on one surface of a release carrier, An active component and / or a passive component is mounted on a wiring pattern of a carrier, and a sheet-like material in which the through-hole is filled with a conductive resin is positioned on a component mounting surface of the release carrier having the component-mounted wiring pattern. By stacking together, the passive component and / or the active component are embedded and integrated in the sheet-like material, and further heated and pressed, thereby curing the thermosetting resin and the conductive resin in the sheet-like material, The core layer is formed by peeling off the release carrier of the outermost layer portion, and penetrating through an organic film in which an inorganic filler and a thermosetting resin in an uncured state are formed on a mixture sheet or an adhesive layer formed on both surfaces. And a mixture sheet or an organic film in which the through-hole is filled with a conductive resin and a release carrier having a wiring pattern formed on one side thereof are aligned on at least one surface of the core layer, and are heated and pressed. A method of manufacturing a module with a built-in component, comprising: forming a through hole including a core layer after curing; and forming a through hole by copper plating.
【請求項20】 少なくとも無機質フィラーと未硬化状
態の熱硬化性樹脂からなる混合物をシート状に加工し、
前記無機質フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からな
るシート状物に貫通孔を形成し、前記貫通孔に導電性樹
脂を充填し、離型キャリアの片面に配線パターンを形成
し、前記離型キャリアの配線パターン上に能動部品及び
/又は受動部品を実装し、前記部品実装済みの配線パタ
ーンを有する前記離型キャリアの部品実装面に前記貫通
孔に導電性樹脂を充填したシート状物を位置合わせして
重ね、更に銅箔を重ねて前記熱硬化性樹脂が硬化しない
温度域で加熱加圧し、前記受動部品及び/又は能動部品
を前記シート状物に埋没させ一体化させてコア層を形成
し、前記コア層より前記離型キャリアを剥離し、前記剥
離済みのコア層の少なくとも片面にインナービアと配線
パターンを少なくとも2層以上形成したセラミック基板
を重ねて加圧して、前記コア層中の熱硬化性樹脂を硬化
させて前記セラミック基板と接着させることを特徴とす
る部品内蔵モジュールの製造方法。
20. processing a mixture comprising at least an inorganic filler and an uncured thermosetting resin into a sheet,
Forming a through-hole in a sheet-like material comprising the inorganic filler and the thermosetting resin in an uncured state, filling the through-hole with a conductive resin, forming a wiring pattern on one surface of a release carrier, An active component and / or a passive component is mounted on a wiring pattern of a carrier, and a sheet-like material in which the through-hole is filled with a conductive resin is positioned on a component mounting surface of the release carrier having the component-mounted wiring pattern. Combine and stack, and further stack copper foil and heat and press in a temperature range where the thermosetting resin does not cure, bury the passive components and / or active components in the sheet-like material and integrate them to form a core layer Then, the release carrier is peeled from the core layer, and a ceramic substrate having at least two layers of inner vias and wiring patterns formed on at least one surface of the peeled core layer is pressed and pressed. Method for producing a component built-in module, characterized in that adhering to the ceramic substrate by curing the thermosetting resin of the core layer.
【請求項21】 前記複数の配線パターンとインナービ
アを有するセラミック基板が、コア層と接着層を介して
複数枚同時に積層される請求項20に記載の部品内蔵モ
ジュールの製造方法。
21. The method according to claim 20, wherein a plurality of the ceramic substrates having the plurality of wiring patterns and the inner vias are simultaneously laminated via a core layer and an adhesive layer.
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