JP2004533526A - ブロック化剤としての環式ケトン - Google Patents
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- 150000003997 cyclic ketones Chemical class 0.000 title claims description 16
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 title description 15
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims abstract description 69
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims abstract description 69
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 17
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 10
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 9
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 7
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- -1 cyclopentanone-2-carbonylmethyl Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- PCHXZXKMYCGVFA-UHFFFAOYSA-N 1,3-diazetidine-2,4-dione Chemical compound O=C1NC(=O)N1 PCHXZXKMYCGVFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PJMDLNIAGSYXLA-UHFFFAOYSA-N 6-iminooxadiazine-4,5-dione Chemical compound N=C1ON=NC(=O)C1=O PJMDLNIAGSYXLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000007945 N-acyl ureas Chemical class 0.000 claims description 3
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002825 nitriles Chemical group 0.000 claims description 3
- AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N urea-1-carboxylic acid Chemical group NC(=O)NC(O)=O AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- IPMQSLPLJDKUPI-UHFFFAOYSA-N 2-oxocyclopentane-1-carbonitrile Chemical compound O=C1CCCC1C#N IPMQSLPLJDKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 2
- 150000002527 isonitriles Chemical group 0.000 claims description 2
- ALJYEHUPOPFBCG-UHFFFAOYSA-N nitrophosphonic acid Chemical group OP(O)(=O)[N+]([O-])=O ALJYEHUPOPFBCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000003457 sulfones Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 2
- GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[6-(trimethylazaniumyl)hexyl]azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CCCCCC[N+](C)(C)C GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical group FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 claims 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011737 fluorine Chemical group 0.000 claims 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 abstract description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 23
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- IFNXAMCERSVZCV-UHFFFAOYSA-L zinc;2-ethylhexanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O IFNXAMCERSVZCV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 7
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 7
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 7
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 7
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 6
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- FDYWJVHETVDSRA-UHFFFAOYSA-N 1,1-diisocyanatobutane Chemical compound CCCC(N=C=O)N=C=O FDYWJVHETVDSRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005789 ACRONAL® acrylic binder Polymers 0.000 description 3
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 3
- KYIMHWNKQXQBDG-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCCCCC Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCCCC KYIMHWNKQXQBDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 208000028626 extracranial carotid artery aneurysm Diseases 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- WHIVNJATOVLWBW-PLNGDYQASA-N (nz)-n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CC\C(C)=N/O WHIVNJATOVLWBW-PLNGDYQASA-N 0.000 description 2
- VKLNMSFSTCXMSB-UHFFFAOYSA-N 1,1-diisocyanatopentane Chemical compound CCCCC(N=C=O)N=C=O VKLNMSFSTCXMSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNWBFIVSTXCJJG-UHFFFAOYSA-N [diisocyanato(phenyl)methyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N=C=O)(N=C=O)C1=CC=CC=C1 LNWBFIVSTXCJJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 150000007860 aryl ester derivatives Chemical class 0.000 description 2
- NUMHJBONQMZPBW-UHFFFAOYSA-K bis(2-ethylhexanoyloxy)bismuthanyl 2-ethylhexanoate Chemical compound [Bi+3].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O NUMHJBONQMZPBW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- LTPCXXMGKDQPAO-UHFFFAOYSA-L calcium;2-ethylhexanoate Chemical compound [Ca+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O LTPCXXMGKDQPAO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- JXCHMDATRWUOAP-UHFFFAOYSA-N diisocyanatomethylbenzene Chemical compound O=C=NC(N=C=O)C1=CC=CC=C1 JXCHMDATRWUOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZQRBEVTLZHKEA-UHFFFAOYSA-L magnesium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Mg+2].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F BZQRBEVTLZHKEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OSWPMRLSEDHDFF-UHFFFAOYSA-N methyl salicylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1O OSWPMRLSEDHDFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- HZXJVDYQRYYYOR-UHFFFAOYSA-K scandium(iii) trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Sc+3].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F HZXJVDYQRYYYOR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N (2s)-2,6-diaminohexanoic acid;(2s)-2-hydroxybutanedioic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O.NCCCC[C@H](N)C(O)=O NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N 0.000 description 1
- ZVYYAYJIGYODSD-LNTINUHCSA-K (z)-4-bis[[(z)-4-oxopent-2-en-2-yl]oxy]gallanyloxypent-3-en-2-one Chemical compound [Ga+3].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O ZVYYAYJIGYODSD-LNTINUHCSA-K 0.000 description 1
- QYIGOGBGVKONDY-UHFFFAOYSA-N 1-(2-bromo-5-chlorophenyl)-3-methylpyrazole Chemical compound N1=C(C)C=CN1C1=CC(Cl)=CC=C1Br QYIGOGBGVKONDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCTNDJAFNBCVOM-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazo[4,5-b]pyridin-2-ylmethanamine Chemical compound C1=CC=C2NC(CN)=NC2=N1 XCTNDJAFNBCVOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGOOQWWAVJJPBX-UHFFFAOYSA-K 2,2,2-trifluoroethanesulfonate yttrium(3+) Chemical compound FC(CS(=O)(=O)[O-])(F)F.[Y+3].FC(CS(=O)(=O)[O-])(F)F.FC(CS(=O)(=O)[O-])(F)F MGOOQWWAVJJPBX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPNFILUQDVDXDA-UHFFFAOYSA-K 2-ethylhexanoate;lanthanum(3+) Chemical compound [La+3].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O PPNFILUQDVDXDA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- AGOMHFKGCMKLDA-UHFFFAOYSA-K 2-ethylhexanoate;yttrium(3+) Chemical compound [Y+3].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O AGOMHFKGCMKLDA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- OFYFURKXMHQOGG-UHFFFAOYSA-J 2-ethylhexanoate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O OFYFURKXMHQOGG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NJLQUTOLTXWLBV-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanoic acid titanium Chemical compound [Ti].CCCCC(CC)C(O)=O.CCCCC(CC)C(O)=O.CCCCC(CC)C(O)=O.CCCCC(CC)C(O)=O NJLQUTOLTXWLBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethyl-1h-pyrazole Chemical compound CC=1C=C(C)NN=1 SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- VIZORQUEIQEFRT-UHFFFAOYSA-N Diethyl adipate Chemical compound CCOC(=O)CCCCC(=O)OCC VIZORQUEIQEFRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDSFAEKRVUSQDD-UHFFFAOYSA-N Dimethyl adipate Chemical compound COC(=O)CCCCC(=O)OC UDSFAEKRVUSQDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004262 Ethyl gallate Substances 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N Propionic acid Chemical group CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N Titanium ion Chemical class [Ti+4] LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical class [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- UCYRAEIHXSVXPV-UHFFFAOYSA-K bis(trifluoromethylsulfonyloxy)indiganyl trifluoromethanesulfonate Chemical compound [In+3].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F UCYRAEIHXSVXPV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001622 bismuth compounds Chemical class 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PUQLFUHLKNBKQQ-UHFFFAOYSA-L calcium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Ca+2].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F PUQLFUHLKNBKQQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- QAEKNCDIHIGLFI-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);2-ethylhexanoate Chemical compound [Co+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O QAEKNCDIHIGLFI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- SEKCXMNFUDONGJ-UHFFFAOYSA-L copper;2-ethylhexanoate Chemical compound [Cu+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O SEKCXMNFUDONGJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical class O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 1
- MFGZXPGKKJMZIY-UHFFFAOYSA-N ethyl 5-amino-1-(4-sulfamoylphenyl)pyrazole-4-carboxylate Chemical compound NC1=C(C(=O)OCC)C=NN1C1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 MFGZXPGKKJMZIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N hydrazine monohydrate Substances O.NN IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- WGJJZRVGLPOKQT-UHFFFAOYSA-K lanthanum(3+);trifluoromethanesulfonate Chemical compound [La+3].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F WGJJZRVGLPOKQT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- MAZKNBXUMANNDL-UHFFFAOYSA-M lithium;2-ethylhexanoate Chemical compound [Li+].CCCCC(CC)C([O-])=O MAZKNBXUMANNDL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MCVFFRWZNYZUIJ-UHFFFAOYSA-M lithium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Li+].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F MCVFFRWZNYZUIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960001047 methyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L nickel(2+);(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Ni+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- VYPDUQYOLCLEGS-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethylhexanoate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)C([O-])=O VYPDUQYOLCLEGS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XGPOMXSYOKFBHS-UHFFFAOYSA-M sodium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F XGPOMXSYOKFBHS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000007725 thermal activation Methods 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- MBBWTVUFIXOUBE-UHFFFAOYSA-L zinc;dicarbamodithioate Chemical compound [Zn+2].NC([S-])=S.NC([S-])=S MBBWTVUFIXOUBE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NHXVNEDMKGDNPR-UHFFFAOYSA-N zinc;pentane-2,4-dione Chemical compound [Zn+2].CC(=O)[CH-]C(C)=O.CC(=O)[CH-]C(C)=O NHXVNEDMKGDNPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBNDTYKAOXLLID-UHFFFAOYSA-N zirconium(4+) ion Chemical class [Zr+4] GBNDTYKAOXLLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract
Description
【0001】
本発明は、新規ブロックトポリイソシアネート、その製造方法および一成分ポリウレタン系におけるその使用に関する。
【背景技術】
【0002】
イソシアネート基の一時的保護をもたらすためのポリイソシアネートのブロック化は、以前から知られている手順であり、例えば Houben Weyl, Methoden der organischen Chemie XIV/2, 第61〜70頁に記載されている。ブロックトポリイソシアネートを含有する硬化性組成物は、例えばポリウレタンラッカー、好ましくは一成分(1K)ポリウレタン系で使用される。
【0003】
一成分(1K)ポリウレタン系は、工業用焼付ラッカー、例えば大量生産の自動車塗装およびコイル塗装の分野で幅広く使用されており、その非常に良好な膜特性、例えば耐薬品性、耐引掻性および耐候性により特徴づけられる。これらのラッカーフィルムは、ブロックトポリイソシアネートとポリオールとの、任意に適当な触媒の存在下における熱活性化(焼付操作)により硬化される。この場合に基本的に適当なブロック化剤の概要は、例えば Wicks らによる Progress in Organic Coatings 1975年, 3, 第73〜79頁, 1981年, 9, 第3〜28頁および1999年, 36, 第148〜172頁で示されている。
自動車塗装の分野における使用のために、ブロックトポリイソシアネートは、140℃の最大焼付温度で硬化性でなければならず、焼付操作中で非常にわずかにしか、好ましくは全く黄変を示してはならない。焼付温度は、主としてブロックトポリイソシアネートの反応性を介して制御される。
【0004】
ほとんどの焼付系、例えばメラミン-ホルムアルデヒドおよび尿素-ホルムアルデヒド樹脂は、硬化中における揮発成分の放出により特徴づけられ、これは、VOC値を増大させる。その上、形成されるラッカーフィルム中に、或る割合のブロック化剤が残り、これはその特性に不利な影響を及ぼす。残留するブロック化剤により、一成分ラッカーフィルムの特性、例えば耐引掻性および耐酸性は、いわゆる二成分(2K)ポリウレタンラッカー塗膜のものに匹敵しない(例えば T. Engbert, E. Koenig, E. Juergens, Farbe&Lack, Curt R. Vincentz Verlag, ハノーファー 10/1995)。さらに、ブロック化剤の分離およびラッカーフィルムからのガス形態でのその漏出は、ラッカーフィルム中での泡形成にもつながり得る。放出ブロック化剤のその後の焼却が、時おり必要であり得る。
【0005】
マロン酸ジエチルでブロック化したイソシアネートは、主として、90〜120℃の範囲内の特に低い焼付温度のために近年使用されている(例えば EP-A 0947531)。複素環式N化合物、例えばカプロラクタムまたはブタノンオキシムを使用するブロック化手順とは対照的に、該ブロック化剤全体は、この場合に開裂または分離せず、むしろこのブロック化剤は、マロン酸ジエチルでブロック化されているイソシアネートに対するエステル交換反応を生ずる。このエステル交換中にエタノールが分離される。この方法は、第2の隣接エステル官能基が活性化エステルであるので、比較的低い焼付温度で使用することができる。この方法の欠点は、これらのような系は、不安定なエステル結合が急速に開裂し得ることにより、酸の影響を極端に受けやすいことである。それにより、これら生成物の使用可能性は制限されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明の目的は、ブロック化剤が分離せずに、即ちその放出無しで反応し、低い架橋温度を示す新規ブロックトポリイソシアネート系を提供することであった。本発明の目的はまた、これらブロックトポリイソシアネート系が周囲温度で貯蔵安定であり、適当なポリオール成分と組合せて一成分焼付ラッカーを製造するためにそれらを、特に適しているものにすべきことであった。
【課題を解決するための手段】
【0007】
驚くべきことに、活性化環式ケトンの基本構造、特にシクロペンタノン-2-カルボキシメチルエステルの基本構造を有する酸性のCH化合物が、黄変を示す傾向が減少した無放出塗料を得るためにポリイソシアネートをブロック化することに特に適していることを見出した。
【発明を実施するための形態】
【0008】
本発明は、少なくとも2つのイソシアネート基を有する有機ポリイソシアネートに関し、そのイソシアネート基は、一般式(I):
【化1】
〔式中、
Xは、電子求引性基であり、
R1およびR2は、相互に独立に、H、C1〜C20(シクロ)アルキル、C6〜C24アリール、C1〜C20(シクロ)アルキルエステル若しくはアミド、C6〜C24アリールエステル若しくはアミド、または1〜24個の炭素原子を有する混合脂肪族/芳香族基を表し、これらは、四員環〜八員環の一部を形成していても良く、
nは、0〜5の整数である。〕
で示される酸性のCH環式ケトンでブロック化されており、
合計で0.1〜20質量%のブロックトイソシアネート基含有量(NCOとして計算)を有する。
【0009】
0.1〜15.6質量%の範囲のブロックトイソシアネート基含有量(NCOとして計算)が好ましい。0.1〜14質量%の範囲のブロックトイソシアネート基含有量(NCOとして計算)が特に好ましい。ポリイソシアネートの部分ブロック化を、所望により行うことができる。次いでブロック化されていないポリイソシアネート基を、さらなる反応に使用することができる。典型的に全てのイソシアネート基がブロック化される。
【0010】
電子求引性基Xは、酸性のCH特性を示すα-末端水素を結果として生ずるあらゆる置換基を含み得る。この置換基は、エステル基、スルホキシド基、スルホン基、ニトロ基、ホスホネート基、ニトリル基、イソニトリル基またはカルボニル基を含み得る。ニトリルおよびエステル基が好ましく、他方でメチルカルボキシレートおよびエチルカルボキシレートの基が特に好ましい。
【0011】
環中に、任意にヘテロ原子、例えば酸素、硫黄または窒素原子が含まれる一般式(I)で示される化合物も適当である。
式(I)で示される活性化環式ケトンは、好ましくは5(n=1)または6(n=2)の環の大きさを有する。
一般式(I)で示される好ましい化合物は、シクロペンタノン-2-カルボキシメチルエステルおよび-カルボキシエチルエステル、シクロペンタノン-2-カルボニトリル、シクロヘキサノン-2-カルボキシメチルエステルおよび-カルボキシエチルエステル、またはシクロペンタノン-2-カルボニルメチルを含む。シクロペンタノン-2-カルボキシメチルエステルおよび-カルボキシエチルエステル並びにシクロヘキサノン-2-カルボキシメチルエステルおよび-カルボキシエチルエステルが特に好ましい。シクロペンタノン系は、アジピン酸ジメチルまたはアジピン酸ジエチルのディークマン縮合により工業的に容易に得ることができる。シクロペンタノン-2-カルボキシメチルエステルを、サリチル酸メチルの水素化により得ることができる。
【0012】
ブロック化されるポリイソシアネートは、活性水素を有する化合物を架橋するために適したあらゆる有機化合物、即ち少なくとも2つのイソシアネート基を有する脂肪族ポリイソシアネート(これは、脂環式ポリイソシアネートを含む。)並びに芳香族および複素環式ポリイソシアネート、並びにこれらの混合物であり得る。ポリイソシアネートの典型例は、脂肪族イソシアネート、例えばジ-またはトリイソシアネート、例えばブタンジイソシアネート(BDI)、ペンタンジイソシアネート、ヘキサンジイソシアネート(HDI)、4-イソシアナトメチル-1,8-オクタンジイソシアネート(トリイソシアナトノナン、TIN)、または環式系、例えば4,4'-メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)(Desmodur W(商標), Bayer AG, レーフエルクーゼン)、3,5,5-トリメチル-1-イソシアナト-3-イソシアナトメチルシクロヘキサン(IPDI)、およびω,ω'-ジイソシアナト-1,3-ジメチルシクロヘキサン(H6XDI)を含む。芳香族ポリイソシアネートの例は、1,5-ナフタレンジイソシアネート、ジイソシアナトジフェニルメタン(MDI)または粗MDI、ジイソシアナトメチルベンゼン(TDI)、特にその2,4-および2,6-異性体およびその2つの異性体の工業用混合物、並びに1,3-ビス(イソシアナトメチル)ベンゼン(XDI)を含む。
【0013】
また非常に適しているポリイソシアネートは、ジ-またはトリイソシアネート自身のそれらのイソシアネート基を介する反応により得ることができるもの、例えばウレトジオン若しくはカルボジイミド化合物、または例えば3つのイソシアネート基の反応により形成されるイソシアヌレート若しくはイミノオキサジアジンジオンである。ポリイソシアネートは、ビウレット、アロファネートおよびアシル尿素の構造要素を有するモノマージ-および/またはトリイソシアネートおよび/またはオリゴマーポリイソシアネート、低モノマー含有量を有するトリイソシアネート、あるいは部分変性モノマージ-またはトリイソシアネート、並びに上記ポリイソシアネートのあらゆる混合物も含有し得る。
【0014】
平均して1分子あたり1つよりも多いイソシアネート基を有するポリイソシアネートプレポリマーも、非常に適している。これらは、例えば、モル過剰の上記ポリイソシアネートの1つと、1分子あたり少なくとも2個の活性水素原子(例えばヒドロキシル基の形態)を有する有機物質とを予備反応させることにより得られる。
【0015】
好ましいポリイソシアネートは、ウレトジオン、イソシアヌレート、イミノオキサジアジンジオン、アシル尿素、ビウレットまたはアロファネートの構造を有するもの、例えばブタンジイソシアネート(BDI)、ペンタンジイソシアネート、ヘキサンジイソシアネート(HDI)、4-イソシアナトメチル-1,8-オクタンジイソシアネート(トリイソシアナトノナン、TIN)、または環式系、例えば4,4'-メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)(Desmodur W(商標), Bayer AG, レーフエルクーゼン)、3,5,5-トリメチル-1-イソシアナト-3-イソシアナトメチルシクロヘキサン(IPDI)、およびω,ω'-ジイソシアナト-1,3-ジメチルシクロヘキサン(H6XDI)をベースとするものである。芳香族ポリイソシアネートの例は、1,5-ナフタレンジイソシアネート、ジイソシアナトジフェニルメタン(MDI)または粗MDI、ジイソシアナトメチルベンゼン(TDI)、特にその2,4-および2,6-異性体およびその双方の異性体の工業用混合物、並びに1,3-ビス(イソシアナトメチル)ベンゼン(XDI)を含む。
特に好ましいポリイソシアネートは、ヘキサンジイソシアネート(HDI)、4,4'-メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)または3,5,5-トリメチル-1-イソシアナト-3-イソシアナトメチルシクロヘキサン(IPDI)をベースとするものである。
【0016】
本発明は、さらに、本発明のブロックト有機ポリイソシアネートの製造方法に関し、該方法は、ポリイソシアネートと、一般式(I):
【化2】
〔式中、
Xは、電子求引性基であり、
R1およびR2は、相互に独立に、H、C1〜C20(シクロ)アルキル、C6〜C24アリール、C1〜C20(シクロ)アルキルエステル若しくはアミド、C6〜C24アリールエステル若しくはアミド、または1〜24個の炭素原子を有する混合脂肪族/芳香族基を表し、これらは、四員環〜八員環の一部を形成していても良く、
nは、0〜5の整数である。〕
で示される酸性のCH環式ケトンとを、触媒の存在下で反応させ、
その中で、ブロック化されるポリイソシアネートのイソシアネート基1当量あたり、0.8〜1.2モルの式(I)で示される環式ケトンを使用することを特徴とする。
ブロック化されるポリイソシアネートのイソシアネート基1当量を、好ましくはブロック化剤1当量と反応させる。
【0017】
適当な触媒は、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の塩基、例えば粉末化炭酸ナトリウム(ソーダ)を含む。使用する環式ケトンに応じて、リン酸三ナトリウムまたは Dabco(1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン)を使用することもできる。第II亜族金属の炭酸塩も適当である。炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムを好ましくは使用する。代りに環式ケトンとイソシアネートとの反応を、触媒としての亜鉛塩の存在下で行うこともできる。亜鉛-2-エチルヘキサノエートによる反応が特に好ましい。
0.05〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の触媒が、本発明の方法を行う際に添加される。0.2〜1質量%の触媒を、最も好ましくは使用する。
【0018】
反応を、室温または140℃までの高温で行うことができる。40〜90℃の温度範囲が好ましく、15〜90℃が最も好ましい。
ブロック化を、無溶媒または適当な溶媒の存在下で行うことができる。適当な溶媒は、通常のラッカー溶媒、例えば酢酸ブチル、メトキシプロピルアセテート、または芳香族化合物を含有する溶媒として Exxon-Chemie (Esso Deutschland GmbH, ハンブルク)から供給されているソルベントナフサ、および上記溶媒の混合物を含む。ブロック化を、好ましくは上記溶媒中で、その固形分が10〜90%の範囲であるように調節して行う。
【0019】
本発明により使用する一般式(I)で示される環式ケトンに加えて、あらゆるブロック化剤の混合物も、各場合に要求されるラッカー特性を達成するために、本発明の方法と共に使用することができる。この場合、式(I)で示される化合物の割合は、少なくとも30質量%、好ましくは50質量%、最も好ましくは100質量%である。
【0020】
最後に本発明は、本発明の有機ポリイソシアネートを、有機ポリヒドロキシル化合物のための架橋成分として使用することを特徴とする、1K-PUR焼付ラッカーの製造方法にも関する。
本発明のブロックトポリイソシアネートは、適当な有機ポリヒドロキシル化合物と組合せて、適当な触媒の存在下で、15〜30分の焼付時間および110℃〜140℃、好ましくは120℃〜140℃の温度で硬化することにより特徴づけられる。焼付時間は、特に触媒の使用量に依存する。焼付を、好ましくは120℃〜140℃の温度で30分間行う。
【0021】
本発明のブロックトポリイソシアネートを、コイル塗膜を製造するために使用する場合、該塗膜は、最大2分の焼付時間、好ましくは5秒〜最大35秒の範囲内の焼付時間を使用して硬化される。オーブン温度は300〜400℃である。焼付条件は、当然、使用物質および塗装される薄板金片の薄板金厚みに依存する。オーブン温度は、一般に最小温度180℃〜最大温度260℃PMTの範囲である。210℃〜245℃PMTの温度範囲が好ましい。216℃〜241℃PMTの範囲が特に好ましい。焼付ラッカー塗膜のラッカー技術特性、例えば溶媒、例えばMEK(メチルエチルケトン)に対するその耐性、その硬度および所定焼付温度での弾性は、他の要因の中で、触媒の使用量に依存する。焼付を、好ましくは232℃の温度で38秒間行う。216℃の温度も可能である。アルミニウム基材は、33秒の焼付時間に帰着する。最適の特定条件は、当業者にとって通例の方法における有向予備試験により決定され、これはコイル塗装オーブン中の温度に関する適用中に、鋭敏な範囲で制御される。
【0022】
架橋のために適当な触媒の例は、DBTL(ジブチルスズジラウレート)、チタン-2-エチルヘキサノエート、チタンテトライソプロピレートおよび他の通常のチタン(IV)化合物、ジルコニウム-2-エチルヘキサノエートおよび他の通常のジルコニウム(IV)化合物、アルミニウムトリエチラート、スカンジウムトリフルオロメタンスルホネート、イットリウム-2-エチルヘキサノエート、イットリウムトリフルオロエタンスルホネート、ランタン-2-エチルヘキサノエート、ランタントリフルオロメタンスルホネート、コバルト-2-エチルヘキサノエート、銅-2-エチルヘキサノエート、インジウムトリフルオロメタンスルホネート、ガリウムアセチルアセトネート、ニッケルアセチルアセトネート、リチウム-2-エチルヘキサノエート、リチウムトリフルオロメタンスルホネート、ナトリウム-2-エチルヘキサノエート、酢酸ナトリウム、ナトリウムトリフルオロメタンスルホネート、マグネシウム-2-エチルヘキサノエート、マグネシウムトリフルオロメタンスルホネート、カルシウム-2-エチルヘキサノエート、マグネシウムトリフルオロメタンスルホネート、カルシウム-2-エチルヘキサノエート、カルシウムトリフルオロメタンスルホネート、亜鉛-2-エチルヘキサノエート、亜鉛ジチオカーバメート、亜鉛アセチルアセトネート、亜鉛テトラメチルヘプタジオネート、サリチル酸亜鉛、塩化亜鉛および他の通常の亜鉛(II)化合物、ビスマス-2-エチルヘキサノエートおよび酢酸ビスマスを含む。好ましい触媒は、亜鉛およびビスマス化合物であり、亜鉛-2-エチルヘキサノエートおよびビスマス-2-エチルヘキサノエートが特に好ましい。
【0023】
この使用の目的のために適当なポリヒドロキシル化合物、並びにこの種の焼付ラッカーの製造および使用に関するさらなる詳細は、文献、例えば DE-A 19 738 497 または EP-A 0 159 117 に示されている。本発明の生成物にとって特に好ましい適用分野は、自動車用フィラー中における架橋剤としてのその使用、およびコイル塗装分野における使用を含む。
黄変の傾向が減少したラッカーコートの高品位の非分離塗膜が、本発明のブロックトポリイソシアネートにより得られる。
【0024】
その上、本発明のブロックトポリイソシアネートを、ジ-またはポリアミンを使用して硬化させることができる。この反応を、好ましくは室温で行う。それを、ラッカー塗膜または加工物を製造するために使用することができる。
ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオールおよびポリアクリレートポリオールを、コイル塗膜を製造するために使用することができる。原理的に、充分に高いOH含有量を有するあらゆる結合剤ビヒクルを使用することができる。
【0025】
【表1】
【0026】
上記成分とは別に、本発明の結合剤ビヒクルは、他の安定化添加剤、例えばHALSアミンまたは溶媒、および5質量%までのOH官能性ヒドラジド化合物(最終ラッカーの固形分を基準)も含有し得る。他の添加剤の例は、CAB(セルロースアセトブチレート)および Acronal(商標) 4F(流れ増強および消泡剤)も含む。
熱黄変に対する安定化成分として使用することができる物質は、EP-A 0 829 500 中に既に引用されているもの、即ちヒドラジン水化物および2モルのプロピレンカーボネートから形成される付加生成物であり、それは次の式(II):
【化3】
を有する。
【実施例】
【0027】
使用したポリイソシアネートは、イソシアヌレート構造を有するHDIポリイソシアネートであり、そのNCO含有量は21.8%、粘度は3200mPasである(Desmodur(商標) N3300, Bayer AG, レーフエルクーゼン)。
ブロック化剤として使用したシクロペンタノン-2-カルボキシメチルエステルおよびシクロヘキサノン-2-カルボキシメチルエステルは、Fluka 社から入手し、さらなる精製をせずに使用した。
【0028】
酸性α - 環式ケトンによりブロック化したポリイソシアネートの製造
実施例1
酢酸ブチル81ml中 Desmodur(商標) N3300 58.5g(0.3当量)の溶液を、激しく攪拌しながら、酢酸ブチル20ml中に溶解させたシクロペンタノン-2-カルボキシメチルエステル(42.7g、0.3当量)の溶液にゆっくりと添加した。亜鉛-2-エチルヘキサノエート1.02gを触媒として添加した。NCO値の測定で約0.2%の値が得られるまで(約8時間)、バッチを50℃の温度に加熱した。理論ブロックトNCO含有量は6.2%であった。
【0029】
実施例2
酢酸ブチル71.4ml中 Desmodur(商標) N3300 42.6g(0.25当量)の溶液を、激しく攪拌しながら、酢酸ブチル20ml中に溶解させたシクロヘキサノン-2-カルボキシメチルエステル(42.6g、0.25当量)の溶液にゆっくりと添加した。亜鉛-2-エチルヘキサノエート0.9gを触媒として添加した。NCO値の測定で約0.3%の値が得られるまで(約6時間後)、バッチを80℃の温度に加熱した。理論ブロックトNCO含有量は5.75%であった。
【0030】
本発明のポリウレタンラッカーの製造
以下の表に掲げるポリイソシアネートを、化学量論量でポリオールにより加工し、通常の添加剤 Baysilone(商標) OL(Bayer AG, レーフエルクーゼン;流れ増強剤、結合剤ビヒクル固形分に対して固形分0.1%)および Modaflow(商標)(Monsanto Corp., Solutia Inc., USA;結合剤ビヒクル固形分に対して固形分0.01%)を添加して、以下に掲げた配合のクリアラッカーを形成した。
【0031】
実施例3
ラッカー配合物A
シクロペンタノン-2-カルボキシメチルエステルでブロック化した Desmodur(商標) N3300(Bayer AG, レーフエルクーゼン)(酢酸ブチル中約50%の溶液として供給、ブロックトNCO含有量:6.2%)(SN=ソルベントナフサ):
【表2】
この系は、非常にわずかにしか黄変を示さなかった。NCO/OH比が1:1.5である際にも、この系を首尾良く使用することができた。
【0032】
ラッカー配合物B(比較)
【表3】
この系は、溶媒含有ラッカーにおいて比較的低い焼付温度でさえ、明らかな黄の着色を示した。溶媒を含有する白色ベースラッカーに適用した際、140〜160℃(30分)のデルタb値は3.2であり、これは、わずかにしか黄変を示さない系(例えばジメチルピラゾール)のものよりも約4倍高い。
【0033】
過焼付による黄変測定:
ラッカーを140℃で30分間焼付けた後、最初の色測定を、CIELAB法と呼ばれる方法を使用して行った。この方法で測定されるより正のb値が高いほど、クリアラッカーはより黄色になる。この後に、160℃で30分間の過焼付を行った。続いて黄色の着色増加、即ち、CIELAB色系(DIN 6174, 「CIELAB式による本体の色に対する色分解の比色定量」(第01.79編))によるΔb値と呼ばれる値を測定した。未黄変クリアラッカーに対してこの値は、できる限り0に近くあるべきである。
【0034】
コイル塗料の適用例
出発物質:ブロックトポリイソシアネート
α - 酸性環式ケトンでブロック化したポリイソシアネートの製造
ブロックトポリイソシアネートA:
亜鉛-2-エチルヘキサノエート0.17g(0.05質量%)を触媒として、メトキシプロピルアセテート14g(8部)およびキシレン29.9g(17部)中に溶解させた Desmodur(商標) N3300 193.5g(1当量)の溶液(全体で70%の溶液)に添加した。引き続きの反応を、窒素雰囲気下で行った。混合物を均一に攪拌した後、シクロペンタノン-2-カルボキシエチルエステル(蒸留したもの)156.2g(1当量)を、反応温度が40℃を超えないように慎重に滴下して加えた。エステルの添加が完了した際、NCO値がゼロに達するまで(約6時間後)、バッチを40℃で攪拌した。理論ブロックトNCO含有量は8.3%であった。次いで所望の粘度を、固形分に対して7%の2-ブタノールにより調えた。次いで固形分に対して2.5%(8.7g)の Tinuvin(商標) 770 DF を添加した。添加したポリイソシアネートは、イソシアヌレート構造を有するHDIポリイソシアネートであり、そのNCO含有量は21.8%、粘度は3000mPasであった(Desmodur(商標) N3300, Bayer AG, レーフエルクーゼン)。
【0035】
ブロックトポリイソシアネートB:
Desmodur(商標) N3300 3当量(580.5g)および Desmodur(商標) Z4470 1当量(353g)を、窒素下でキシレン415g中に溶解させた(反応後70%の混合物)。亜鉛-2-エチルヘキサノエート1.45g(0.1質量%)を触媒として、この混合物に添加した。混合物を均一に攪拌した後、シクロペンタノン-2-カルボキシエチルエステル4当量(624.8g)を、反応温度が40℃を超えないように慎重に滴下して加えた。エステルの添加が完了した後、NCO値がゼロになるまで(約12時間)、バッチを40℃で攪拌した。その後、ブロックトNCO含有量は8.1%であった。反応が完了した後、2-ブタノール101.7g(固形分に対して7%)および Tinuvin(商標) 770 DF 29g(固形分に対して2%)を添加した。使用したポリイソシアネートは、イソシアヌレート構造を有するHDIポリイソシアネート(NCO含有量21.8%、粘度3000mPas、Desmodur(商標) N3300, Bayer AG, レーフエルクーゼン)およびイソシアヌレート構造を有し、IPDIをベースとするポリイソシアネート(NCO含有量11.9%、粘度2000mPas、Desmodur(商標) Z4470, Bayer AG, レーフエルクーゼン)の混合物であった。
【0036】
ブロックトポリイソシアネートC:
Desmodur(商標) N3300 0.9当量(174.2g)および Desmodur(商標) W トリマー 0.1当量(29g)を、窒素下でキシレン141.6g中に溶解させた(反応後70%の混合物)。亜鉛-2-エチルヘキサノエート0.351g(0.1質量%)を触媒として、この混合物に添加した。混合物を均一に攪拌した後、シクロペンタノン-2-カルボキシエチルエステル1当量(156.2g)を、反応温度が40℃を超えないように慎重に滴下して加えた。エステルの添加が完了した後、NCO値がゼロになるまで(約12時間)、バッチを40℃で攪拌した。その後、ブロックトNCO含有量は8.16%であった。反応が完了した後、Tinuvin(商標) 770 DF 7g(固形分に対して2%)を添加した。使用したポリイソシアネートは、イソシアヌレート構造を有するHDIポリイソシアネート(NCO含有量21.8%、粘度3000mPas、Desmodur(商標) N3300, Bayer AG, レーフエルクーゼン)およびイソシアヌレート構造を有し、Desmodur(商標) W をベースとするポリイソシアネート(Desmodur(商標) N3300 13.5%、三量化度20%、NCO含有量14.5%、固形分65%(キシレン/メトキシプロピルアセテート中に溶解))の混合物であった。
使用したシクロペンタノン-2-カルボキシエチルエステルブロック化剤は、Fluka 社から得た。
【0037】
比較として使用したブロックトポリイソシアネート:
BL 3175(Bayer AG):ヘキサメチレンジイソシアネートをベースとする架橋性ウレタン焼付樹脂、ソルベントナフサ中75%の溶液、粘度約3300mPas、NCO含有量(ブロック化)約11.1%、ブタノンオキシムブロック化剤。
BL 3370(Bayer AG):脂肪族架橋性ウレタン焼付樹脂、1-メトキシプロピルアセテート-2(MPA)中70%の溶液、度約3500 1200mPas、NCO含有量(ブロック化)約8.9%、ジイソプロピルアミンブロック化剤。
使用ポリオール:以下の表を参照。
【0038】
本発明のポリウレタンラッカーの製造
本発明のラッカーの製造を、ブロックトイソシアネート成分を製造するための指示により記載する。
【0039】
【表4】
【0040】
【表5】
【0041】
【表6】
【0042】
使用原料
Alkynol(商標) 1665;イソフタル酸/アジピン酸/NPG/プロピルグリコールをベースとするオイルフリーの飽和ポリエステル、Bayer AG, レーフエルクーゼン、OH含有量:1.7%(ソルベントナフサ100/イソブタノール(31.5:3.5)中65%の供給形態を基準)。
CAB(セルロースアセトブチレート);供給者:Krahn Chemie, ハンブルク、製造業者:Eastman Kingsport USA; CAB 531-1(ブチル含有量約53%、1.7%のヒドロキシル含有量は、計算に含めない)。
Acronal(商標) 4F;製造業者:BASF, ルートヴィスハーフェン、ブチルアクリレートをベースとするポリマー(流れ増強および消泡剤)。
Solvesso(商標) 220 S;製造業者:Esso/Exxon、溶媒の芳香族化合物含有量99%、蒸発速度(エーテル=1)〜1000。
【0043】
白色度指数の測定
ASTM E 313, 白色度指数(White index)
ベルガー(Berger)明度(非 DIN)
明度=Ry+3(Rz−Rx)
DIN 6167 黄色度指数Gは、次式から計算される:
【数1】
〔式中、
X、YおよびZは、DIN 5033 による CIE 座標である。
a=赤色/緑色軸*
b=青色/黄色軸**
* 正の値⇒より赤色、負の値⇒より緑色
** 正の値⇒より黄色、負の値⇒より青色〕
【0044】
MEKに対する耐性の測定
方法の説明(ECCA-T11 および DIN EN ISO 28 12-1 および DIN EN 12720 による):
MEKふきとり試験は、ラッカーコートの最終硬化を調べるための迅速な試験である。この目的のために、MEKで浸した綿棒を、ラッカーコート上で一定の圧力で前後に動かした。
装置および付属品:はかり(Bizerba 製)、100g、1kgおよび2kgの重り。
実験:
20μmまでの膜厚に対して1kgの対圧を使用し、20μmを超えるものには2kgの対圧を使用した。
試験パネルを、フィルムクリップおよび滑り防止フィルムにより、はかりの計量皿に動かないようにした。はかりを、100gの重りおよび風袋設定により調節した。MEKで浸した綿棒を、選択した試験圧でラッカーコートが損なわれるまで、ラッカー上で前後に動かした。
評価:
塗膜が損なわれるまで行った往復工程数を、試験報告に示し、最大100往復工程を報告する。100往復工程後にラッカーコートを、任意に変化(つやの消失、軟化)に対して評価した。
【0045】
T曲げ試験の実行
ECCA T 7 による(ECCA:European coil coating Association(欧州コイル塗装協会))
方法の説明:
目的:
この手法は、有機塗膜の180°に曲げた時の亀裂形成に対する抵抗性を測定する。
原理:
この試験において試料を、1〜2秒間、圧延方向に平行に180°曲げた。塗膜は、その外面上に設置されていた。均一な曲げを確保するために、パネル間で密着させなければならない。亀裂形成無しに試料を曲げさせる最小の曲げ半径は、180°曲げに対する抵抗性を決定する。その接着を、それぞれの曲げの後で、接着テープにより調べた。
装置:
この方法が行われた装置は、保護つかみ具を備えた万力からなるものであった。
準備:
試料を、試験室の温度および相対湿度で少なくとも24時間貯蔵した。測定を同じ条件下で行った。
より正確な条件が指定される場合、または仲裁の場合、ISO 3270-1984 による仕様、即ち温度23±2℃および相対湿度50±5%に従う必要がある。
【0046】
手順:
約2cm幅の薄板金片を、圧延方向に対する向きで切断し、圧延方向に対して平行に1〜2秒間180°に曲げた。塗膜はその外面上に設置されていた。その後に薄板金を、万力できつく圧縮した。
曲げ端で、20×拡大鏡を使用して亀裂を調べた。その後に接着テープを3回つけて、はがすことにより、接着を調べた。
T曲げの結果を、亀裂についてR、接着についてHで0〜5の評価を使用して評価づけた。0は最高の値であり、5は最低の値である。
次いで薄板金を、0の値が接着および亀裂形成に対して達成されるまで、それ自身について曲げた。
試験は、3回以下のT曲げで終わった。
【0047】
二次亀裂抵抗
異形T曲げ片を、100℃で30分間加熱し、その後に再び、亀裂を評価した。
ラッカー製造
試験を、標準配合(標準配合 RR 6830)の白色コイル塗装用被覆ラッカーで行った。この目的のために、以下のパールミル配合物の基礎材料を、オイルフリーの飽和ポリエステルを使用してまず製造した:
Alkynol(商標) 1665 オイルフリーポリエステル(65%の供給形態)9.8部
Solvesso(商標) 220 S 溶媒7.8部
Kronos 2330 白色顔料22.3部。
基礎材料を、2mmのシリカ石英ビーズにより分散させた。
分散を、Skandex(商標) ミキサー内で1時間行った。
(備考:同じ配合物を、ビーズミルまたは Skandex(商標) ミキサー内で加工することができる。Skandex(商標) ミキサーは、数個の試料を同時に分散し、密閉容器内で摩砕させるという利点を有する。ビーズは、その後に出口のふるいにより取り除かれる。)
【0048】
基礎材料を、ふるいによりガラスビーズから分離した。
残りのラッカー成分を攪拌しながら添加した。
Alkynol(商標) 1665 オイルフリーポリエステル(65%の供給形態)21.5部
ブロックトポリイソシアネート*)11.9部
DBTL(Solvesso(商標) 220 S 中10%の溶液)0.7部
CAB 531-1 セルロースアセトブチレート(Solvesso(商標) 220 S/ブチルジグリコール(2:1)中10%の溶液)7.3部
Acronal(商標) 4F(Solvesso(商標) 220 S 中50%の溶液)1.5部
Solvesso 220(商標) S X部(10.3部を、ブロックポリイソシアネートとしての BL 3175 により使用した)
*) ブロックトPICの添加量は、PICの当量に応じて異なった(この場合、Desmodur(商標) BL 3175 を比較として使用した)。ポリオールおよびブロックトポリイソシアネートを等しく組合せた。即ち、より少ないブロックトNCO基を利用できる場合、ブロックトPICの割合を上昇させる必要があった。その当量は指示中で与えられる。
【0049】
ラッカーを、約70秒(DIN 4/23℃)の加工粘度に Solvesso(商標) 220 S で調節した。
ラッカーを、クロメート処理アルミニウム板(厚み1mm)にドクターブレードを使用して適用した。
ラッカーの適用直後に、板を Aalborg オーブン内のターンテーブル上で焼付けた。
PMT210℃ オーブン温度350℃で30秒
PMT216℃ オーブン温度350℃で33秒
PMT224℃ オーブン温度350℃で35秒
PMT232℃ オーブン温度350℃で38秒
PMT>254℃ オーブン温度350℃で50秒。
乾燥膜厚は20〜22μmであった。
【0050】
【表7】
Claims (12)
- 少なくとも2つのイソシアネート基を有し、そのイソシアネート基は、一般式(I):
Xは、電子求引性基であり、
R1およびR2は、相互に独立に、H、C1〜C20(シクロ)アルキル、C6〜C24アリール、C1〜C20(シクロ)アルキルエステル若しくはアミド、C6〜C24アリールエステル若しくはアミド、または1〜24個の炭素原子を有する混合脂肪族/芳香族基を表し、これらは、四員環〜八員環の一部を形成していても良く、
nは、0〜5の整数である。〕
で示される酸性のCH環式ケトンでブロック化されており、
合計で0.1〜20質量%のブロックトイソシアネート基含有量(NCOとして計算)を有する、
有機ポリイソシアネート。 - 電子求引性基Xが、エステル、アミド、スルホキシド、スルホン、ニトロ、ホスホネート、ニトリル、イソニトリル、ポリハロゲン化アルキル基、フッ素、塩素またはカルボニル基からなる群から選ばれることを特徴とする、請求項1に記載の有機ポリイソシアネート。
- 一般式(I)で示される酸性のCH環式ケトンが、シクロペンタノン-2-カルボキシメチルエステルおよび-カルボキシエチルエステル、シクロペンタノン-2-カルボニトリル、シクロヘキサノン-2-カルボキシメチルエステルおよび-カルボキシエチルエステル、またはシクロペンタノン-2-カルボニルメチルであることを特徴とする、請求項1に記載の有機ポリイソシアネート。
- 一般式(I)で示される酸性のCH環式ケトンが、シクロペンタノン-2-カルボキシメチルエステルおよび-カルボキシエチルエステル、またはシクロヘキサノン-2-カルボキシメチルエステルおよび-カルボキシエチルエステルであることを特徴とする、請求項1に記載の有機ポリイソシアネート。
- ポリイソシアネートと、一般式(I):
Xは、電子求引性基であり、
R1およびR2は、相互に独立に、H、C1〜C20(シクロ)アルキル、C6〜C24アリール、C1〜C20(シクロ)アルキルエステル若しくはアミド、C6〜C24アリールエステル若しくはアミド、または1〜24個の炭素原子を有する混合脂肪族/芳香族基を表し、これらは、四員環〜八員環の一部を形成していても良く、
nは、0〜5の整数である。〕
で示される酸性のCH環式ケトンとを、触媒の存在下で反応させ、
その中で、ブロック化されるポリイソシアネートのイソシアネート基1当量あたり、0.8〜1.2モルの式(I)で示される環式ケトンを使用することを特徴とする、請求項1に記載の有機ポリイソシアネートの製造方法。 - 有機ポリイソシアネートが、ウレトジオン、イソシアヌレート、イミノオキサジアジンジオン、アシル尿素、ビウレットまたはアロファネート構造を有することを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- アルカリ金属およびアルカリ土類金属の塩基、亜鉛塩または他のルイス酸を、触媒として使用することを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 請求項1に記載の有機ポリイソシアネートを含有するPURラッカー。
- 1K-PURラッカーであることを特徴とする、請求項8に記載のPURラッカー。
- フィラー中における、請求項1に記載の有機ポリイソシアネートの使用。
- コイル塗膜中における、請求項1に記載の有機ポリイソシアネートの使用。
- 請求項1に記載のブロックト有機ポリイソシアネートを含有する塗料またはPURラッカー。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10132016A DE10132016A1 (de) | 2001-07-03 | 2001-07-03 | Cyclische Ketone als Blockierungsmittel |
DE2002126926 DE10226926A1 (de) | 2002-06-17 | 2002-06-17 | Blockierte Polyisocyanate |
PCT/EP2002/007325 WO2003004545A1 (de) | 2001-07-03 | 2002-07-03 | Cyclische ketone als blockierungsmittel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004533526A true JP2004533526A (ja) | 2004-11-04 |
JP4118803B2 JP4118803B2 (ja) | 2008-07-16 |
Family
ID=26009626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003510711A Expired - Fee Related JP4118803B2 (ja) | 2001-07-03 | 2002-07-03 | ブロック化剤としての環式ケトン |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1404737A1 (ja) |
JP (1) | JP4118803B2 (ja) |
KR (1) | KR100875808B1 (ja) |
CN (1) | CN100467511C (ja) |
BR (1) | BR0210799A (ja) |
CA (1) | CA2451744A1 (ja) |
HK (1) | HK1069181A1 (ja) |
HU (1) | HU226903B1 (ja) |
MX (1) | MXPA03011808A (ja) |
NZ (1) | NZ530396A (ja) |
PL (1) | PL367450A1 (ja) |
WO (1) | WO2003004545A1 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2006510783A (ja) * | 2002-12-20 | 2006-03-30 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 親水性ポリウレタン−ポリ尿素分散体 |
JP2006510786A (ja) * | 2002-12-20 | 2006-03-30 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 新規二重硬化系 |
JP2006510785A (ja) * | 2002-12-20 | 2006-03-30 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 無脱離粉体塗料架橋剤 |
JP2006510784A (ja) * | 2002-12-20 | 2006-03-30 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 親水化ブロックトポリイソシアネート |
JP2009504845A (ja) * | 2005-08-08 | 2009-02-05 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 新規ポリエステルアミドイミド及びポリエステルアミドをベースとする電線被覆用組成物 |
JP2010505013A (ja) * | 2006-09-29 | 2010-02-18 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | ブロックイソシアネートをベースとする系のための光潜在性塩基 |
JP2010513674A (ja) * | 2006-12-22 | 2010-04-30 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 新規ポリエステルアミドイミド及びポリエステルアミドをベースとする自己融着エナメル |
EP2492296A2 (en) | 2011-02-22 | 2012-08-29 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor and process for producing the same, and relief printing plate |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE10260299A1 (de) * | 2002-12-20 | 2004-07-01 | Bayer Ag | Reaktivsysteme, deren Herstellung und deren Verwendung |
DE10357713A1 (de) | 2003-12-09 | 2005-07-14 | Bayer Materialscience Ag | Beschichtungsmittel |
DE102004043342A1 (de) * | 2004-09-08 | 2006-03-09 | Bayer Materialscience Ag | Blockierte Polyurethan-Prepolymere als Klebstoffe |
GB2435472A (en) | 2006-02-23 | 2007-08-29 | 3M Innovative Properties Co | Method for forming an article having a decorative surface |
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Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5071937A (en) | 1987-12-22 | 1991-12-10 | Mobay Corporation | Coating compositions based on blocked polyisocyanates and sterically hindered aromatic polyamines |
-
2002
- 2002-07-03 PL PL02367450A patent/PL367450A1/xx not_active Application Discontinuation
- 2002-07-03 NZ NZ530396A patent/NZ530396A/en not_active IP Right Cessation
- 2002-07-03 CN CNB028135504A patent/CN100467511C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-07-03 HU HU0401289A patent/HU226903B1/hu not_active IP Right Cessation
- 2002-07-03 JP JP2003510711A patent/JP4118803B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-07-03 BR BR0210799-6A patent/BR0210799A/pt not_active Application Discontinuation
- 2002-07-03 CA CA002451744A patent/CA2451744A1/en not_active Abandoned
- 2002-07-03 MX MXPA03011808A patent/MXPA03011808A/es active IP Right Grant
- 2002-07-03 KR KR1020047000038A patent/KR100875808B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-07-03 WO PCT/EP2002/007325 patent/WO2003004545A1/de active IP Right Grant
- 2002-07-03 EP EP02782451A patent/EP1404737A1/de not_active Withdrawn
-
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- 2005-02-24 HK HK05101575.6A patent/HK1069181A1/xx not_active IP Right Cessation
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JP2006510784A (ja) * | 2002-12-20 | 2006-03-30 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 親水化ブロックトポリイソシアネート |
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JP2009504845A (ja) * | 2005-08-08 | 2009-02-05 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 新規ポリエステルアミドイミド及びポリエステルアミドをベースとする電線被覆用組成物 |
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EP2492296A2 (en) | 2011-02-22 | 2012-08-29 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor and process for producing the same, and relief printing plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1524099A (zh) | 2004-08-25 |
MXPA03011808A (es) | 2004-07-01 |
NZ530396A (en) | 2005-07-29 |
JP4118803B2 (ja) | 2008-07-16 |
HUP0401289A2 (hu) | 2004-09-28 |
KR20040015326A (ko) | 2004-02-18 |
WO2003004545A1 (de) | 2003-01-16 |
CN100467511C (zh) | 2009-03-11 |
BR0210799A (pt) | 2004-08-17 |
CA2451744A1 (en) | 2003-01-16 |
HU226903B1 (en) | 2010-01-28 |
EP1404737A1 (de) | 2004-04-07 |
HUP0401289A3 (en) | 2009-03-02 |
KR100875808B1 (ko) | 2008-12-24 |
HK1069181A1 (en) | 2005-05-13 |
PL367450A1 (en) | 2005-02-21 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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|
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |