JP2004530742A - 研磨組成物におけるシリコーン系界面活性剤の使用 - Google Patents

Abstract

【課題】研磨組成物におけるシリコーン系界面活性剤の使用を提供する。
【解決手段】薄膜形成ポリマーとイオン性シリコーン系界面活性剤とを含む水性研磨組成物を記載する。前記研磨剤を、種々の基材、特に床面に塗布できる。被膜は滑らかであり、また防汚性でもある。前記研磨組成物は、フッ化炭素系界面活性剤を含有する当業界における技術的水準の配合物と同等の性能を有する。

Description

【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜形成ポリマーおよびイオン性シリコーン系界面活性剤を含む防汚性の水性研磨組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明は、研磨組成物、特に床研磨剤に関するものである。基材に施された研磨剤の適合性は、界面活性剤の選択によって影響を受ける種々の物性に依存することが多い。例えば、研磨剤の滑らかさと防汚性は、界面活性剤に依存すると考えられる。「滑らかさ」とは、研磨が施された表面が乾燥して薄膜（ｆｉｌｍ）が形成された後の被膜（ｃｏａｔｉｎｇ）の均一性を云う。「防汚性」とは、汚染曝露後に外観を維持する研磨剤の能力を云う。
【０００３】
界面活性剤は、研磨剤の表面張力を減少させ、それによって研磨剤の湿潤化と均一化（ｌｅｖｅｌｉｎｇ）を改善する。１９５０年代中頃、フッ化炭素系界面活性剤は、床研磨産業によって用いられた最も人気のある湿潤均一化剤であった。さらに米国特許第２，９３７，０９８号（グリーン（Ｇｅｅｎ））および米国特許第３，１６３，５４７号（バイエッター（Ｖｉｅｔｏｒ））に記載されたこれらの界面活性剤は、典型的には配合物全体の約０．０１重量％というような極低濃度で使用される。フッ化炭素系界面活性剤は、このような低濃度で使用できるので、これらは典型的に、乾燥研磨剤薄膜の防汚性などの目標特性に対して悪影響が少ない。
【０００４】
多くのフッ化炭素系界面活性剤は、ペルフルオロオクチル部分を含有する。これらの界面活性剤は、究極的にはペルフルオロオクチル含有化合物に分解する。ある一定のペルフルオロオクチル含有化合物は、生物中に生体蓄積する傾向があり得ることが報告されている。すなわち、この傾向が、幾つかのフッ素化学化合物に関する潜在的懸念として特記されている。例えば、米国特許第５，６８８，８４４号（ベーカー（Ｂａｋｅｒ）ら）を参照されたい。その結果、床研磨剤においてフッ化炭素系界面活性剤に代替する必要性が認識されている。
【０００５】
床研磨剤のための幾つかの非フッ素系界面活性剤が当業界に知られている。米国特許第３，７２８，４１８号（グリーソン（Ｇｌｅａｓｏｎ））は、種々のリン酸塩化合物を開示している。米国特許第４，１６８，２５５号（ルイス（Ｌｅｗｉｓ）ら）、米国特許第４，０１７，６６２（ゲーマン（Ｇｅｈｍａｎ）ら）および米国特許第３，５５４，７９０号（ゲーマン（Ｇｅｈｍａｎ））は、アルカリ金属および１２個から１８個の炭素数を有する脂肪酸のアミン塩を開示している。米国特許第４，１３１，５８５号（フェイジン（Ｆｅｉｇｉｎ））は、均一化剤として８個から１５個の炭素数を含有する非直鎖脂肪族炭化水素または炭化水素の混合物またはアルキル鎖に８個から１２個の炭素原子を含有するアルキルベンゼン部分の利用を考察している。
【０００６】
１個以上の活性水素原子を含有する化合物に対するエチレンオキシドの付加により調製された種々の湿潤剤の使用が、米国特許第４，０１７，６６２号（ゲーマン（Ｇｅｈｍａｎ）ら）に開示されている。米国特許第４，３１７，７５５号（グレゴリー（Ｇｒｅｇｏｒｙ））には、アニオン性界面活性剤を時には床研磨剤に使用できるが、非イオン性界面活性剤が好ましいことを列挙している。好ましい非イオン性界面活性剤には、アルキルフェノール類、脂肪酸類、脂肪族アルコール類、グリコール類、グリコールエーテル類、アルキルアリールエステル類および植物油のエチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシド誘導体である。米国特許第４，９２３，５１４号（ブロウン（Ｂｒｏｗｎ））は、ノニルフェノールエトキシル化体、アルコキシル化アミンおよびエトキシル化脂肪族アミン類などの界面活性剤を用いた床研磨配合物を開示している。
【０００７】
約２５，０００以下の分子量を有する加水分解に安定なポリシロキサンーオキシアルキレンブロックコポリマーの使用が、床研磨剤中の均一化剤として米国特許第３，３０６，８６９号（ラール（Ｌａｈｒ）ら）および米国特許第３，４２９，８４２号（ウォルシュトンクロフト（Ｗｏｌｓｔｏｎｃｒｏｆｔ））に開示されている。
【０００８】
これらの非フッ素化均一化剤の多くは、床研磨配合物においてフッ素化物質よりも高濃度で使用しなければならない。その結果、これらは、防汚性などの被膜の重要な物性に悪影響をより与え易い。幾つかの界面活性剤は、基材表面に効果的に移動して滑らかな被膜の生産に必要な所望の表面張力を減少させることのできない高分子量を有する。さらに、炭化水素系表面活性剤は、典型的に研磨組成物の重要な基準である防汚性の被膜を生産しない。
【０００９】
発明者らは、乾燥被膜の目標特性に対し悪影響が最少の界面活性剤を提供している。イオン性シリコーン系界面活性剤は、良好な防汚性を維持しながら、滑らかな被膜の生産を促進する良好な湿潤化特性および均一化特性を有する。イオン性シリコーン系界面活性剤は、当業界の技術的水準におけるフッ化炭素系界面活性剤と同等の性能を有している。
【発明の開示】
【００１０】
本発明は、イオン性シリコーン系界面活性剤および薄膜形成ポリマーを含む水性研磨組成物を提供する。前記研磨組成物は、例えば床、壁および浴室面などの基材に塗布された場合に滑らかで防汚性の被膜を生じることができる。前記研磨剤は、特に床面への塗布によく適する。前記研磨組成物は、当業界における技術的水準におけるフッ化炭素を含有する配合物と同等の性能を有している。
【００１１】
前記研磨組成物は、典型的には前記研磨組成物の重量を基準として約０．０１重量パーセントから約５．０重量パーセントのイオン性シリコーン系界面活性剤を含有する。前記イオン性シリコーン系界面活性剤は、シリコーン基と１個以上のイオン性基を含む。１つの好適な実施形態において、前記イオン性基はアニオン性である。適切なアニオン性基としては、カルボン酸塩、ホスホン酸塩、リン酸塩、硫酸塩およびスルホン酸塩などが挙げられる。好ましくは、アニオン性基はカルボン酸塩である。特に好ましいカルボン酸塩基はフタル酸塩である。アニオン性基の一部は、カルボン酸塩、ホスホン酸塩、リン酸塩、硫酸塩およびスルホン酸塩などの酸性部分であり得る。前記界面活性剤の平均分子量は、約１０，０００未満である。
【００１２】
前記薄膜形成ポリマーは、典型的にはアクリルポリマー類、アクリルコポリマー類、スチレン−アクリルコポリマー類およびそれらの混合物である。床研磨組成物は、多価金属化合物類、アルカリ溶解樹脂、ワックス類、恒久的および一時的な可塑剤類、消泡剤類、殺生物剤類もまた含有できる。
【００１３】
前記研磨剤の固体含量は、前記研磨組成物の重量を基準として約１０重量パーセントから約５０重量パーセントの範囲である。この静止表面張力は、典型的には約１８ダイン／ｃｍから約３０ダイン／ｃｍの範囲である。
【００１４】
本発明の他の態様は、本発明の研磨組成物の使用法を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明は、イオン性シリコーン系界面活性剤および薄膜形成ポリマーを含む水性研磨組成物を提供する。前記研磨組成物は、例えば床、壁および浴室面などの種々の基材に塗布できる。好ましくは、前記基材は床である。前記被膜は滑らかで防汚性である。
【００１６】
前記イオン性シリコーン系界面活性剤は、シリコーン基と１個以上のイオン性基を含む。イオン性基は、カチオン性またはアニオン性のいずれでもあり得る。カチオン性基として、例えば、塩基性部分の酸性塩が挙げられる。適切なカチオン基は、アンモニア、アミン類、アミド類などの酸性塩が挙げられる。カチオン性基に対する適切な対イオンは、ハロゲン化物、硫酸塩、炭酸塩、リン酸塩などである。アニオン性基として、酸性部の塩基性塩が挙げられる。適切なアニオン性基としては、カルボン酸塩、スルホン酸塩、ホスホン酸塩、硫酸塩、リン酸塩などが挙げられる。アニオン性基に対する好ましい対イオンは、ナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属、カルシウムやマグネシウムなどのアルカリ土類金属、カチオン類を含む窒素である。イオン性基としては、酸性塩および塩基性塩の混合物を挙げることができる。酸性塩または塩基性塩の部分は、対応する塩基または酸の形態であり得る。
【００１７】
本発明の好ましい実施形態において、界面活性剤は、カルボン酸塩であるアニオン基を有する。適切なカルボン酸基としては、例えば、安息香酸塩、フタル酸塩、酢酸塩、ギ酸塩、グリコール酸塩、オクタン酸塩、グルコン酸塩、蓚酸塩、乳酸塩などが挙げられる。フタル酸塩が特に好ましい。フタル酸塩イオンは、部分的にフタル酸の形態であり得る。
【００１８】
イオン性シリコーン界面活性剤は、さらにポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリブチレンオキシド、およびそれらの混合物などのポリアルキレンオキシドを含むことができる。好ましくは、前記ポリアルキレンオキシドはポリエチレンオキシドである。１つの好適な実施形態において、界面活性剤は、シロキサン骨格およびイオン性末端基を含有するアルコキシペンダント基を有する「Ｔ」構造を有する。
【００１９】
研磨組成物には、典型的には前記研磨組成物の重量を基準として約０．０１重量パーセントから約５．０重量パーセント、好ましくは約０．１重量パーセントから約２．０重量パーセント、より好ましくは約０．１重量パーセントから約１．５重量パーセントのイオン性シリコーン界面活性剤を含有する。界面活性剤の平均分子量は、典型的には約１０，０００未満、好ましくは約６，０００未満である。
【００２０】
前記薄膜形成ポリマーは、典型的にはアクリルポリマー類、アクリルコポリマー類、スチレン−アクリルコポリマー類およびそれらの混合物である。アクリルポリマー類は、１種だけのアクリル酸エステルモノマーを含むが、一方、アクリルコポリマー類は、２種以上の異なる種類のアクリル酸エステルモノマー類を含む。スチレン−アクリルコポリマー類は、少なくとも１種のスチレンモノマーおよび１種のアクリル酸エステルモノマーを含む。アクリル酸エステルモノマー類としては、アクリル酸、アクリル酸ブチル、アクリル酸エチル、アクリル酸メチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリルアミドなどが挙げられる。スチレンモノマー類としては、スチレン、α−メチルスチレンなどが挙げられる。
【００２１】
薄膜形成ポリマーとして適切なアクリルポリマー類としては、例えば、サウスカロライナ州チェスターのオムノバ・ソリューションズ・インク（Ｏｍｎｏｖａ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ、Ｉｎｃ．ｏｆ Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＳＣ）のモル・グロ ２ ラテックス（Ｍｏｒ−ｇｌｏ ２ ｌａｔｅｘ）が挙げられる。
【００２２】
研磨組成物に適切な商品として入手できるアクリルポリマー類として、限定しないが、メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／メタクリル酸（ＭＭＡ／ＢＡ／ＭＡＡ）コポリマー類、メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／アクリル酸（ＭＭＡ／ＢＡ／ＡＡ）コポリマー類などが挙げられる。ＭＭＡ／ＢＡ／ＭＡＡおよびＭＭＡ／ＢＡ／ＡＡコポリマー類は、サウスカロライナ州チェスターのオムノバ・ソリューションズ・インク（Ｏｍｎｏｖａ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ、Ｉｎｃ．ｏｆ Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＳＣ）から入手できる。
【００２３】
商品として入手できる適切なスチレン−アクリルコポリマー類として、限定しないが、スチレン／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／メタクリル酸（Ｓ／ＭＭＡ／ＢＡ／ＭＡＡ）コポリマー類、スチレン／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／アクリル酸（Ｓ／ＭＭＡ／ＢＡ／ＡＡ）コポリマー類などが挙げられる。Ｓ／ＭＭＡ／ＢＡ／ＭＡＡおよびＳ／ＭＭＡ／ＢＡ／ＡＡコポリマー類は、サウスカロライナ州チェスターのオムノバ・ソリューションズ・インク（Ｏｍｎｏｖａ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ、Ｉｎｃ．ｏｆ Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＳＣ）から入手できる。
【００２４】
前記研磨組成物は、前記研磨組成物の重量を基準として約５重量パーセントから約５０重量パーセント、好ましくは約１０重量パーセントから約３５重量パーセントの塗膜形成ポリマー類を含有する。
【００２５】
床研磨組成物はまた、多価金属化合物、アルカリ溶解樹脂、ワックス、恒久的および一時的な可塑剤、消泡剤、殺生物剤もまた含有できる。多価金属化合物は、薄膜におけるポリマー類の架橋結合を改善し、研磨剤の耐洗剤性を増加する。可塑剤またはポリマーの合体物を、薄膜形成温度を低下させるために加えることができる。アルカリ溶解樹脂は、新鮮な被膜の再塗布前に研磨剤の基材から剥がれる能力を改善する。ワックス類は、仕上げの光沢を改善し、研磨仕上げを可能にする。殺生物剤は、被膜内のカビ類または白カビ形成の最少化を補助する。抗発泡剤と消泡剤は、被膜内の泡形成を最少にする。
【００２６】
適切な多価金属としては、ベリリウム、カドミウム、銅、カルシウム、マグネシウム、亜鉛、ジルコニウム、バリウム、ストロンチウム、アルミニウム、ビスマス、アンチモン、鉛、コバルト、鉄、ニッケルなどが挙げられる。多価金属化合物は、粉末などの乾燥形態で研磨組成物に添加できるが、溶液として添加するのが好ましい。前記多価金属化合物は、典型的には金属錯体、有機酸の金属塩、または金属キレート剤である。これら金属のアンモニア錯体およびアミン錯体は、高溶解性のため特に有用である。多くの金属を錯体化できるアミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエチルアミノエタノールおよびエチレンジアミンが挙げられる。多価金属錯体および有機酸塩は、アルカリ性ｐＨの範囲で典型的に溶解する。有機酸のアニオン類としては、酢酸塩、ギ酸塩、炭酸塩、グリコール酸塩、オクタン酸塩、安息香酸塩、グルコン酸塩、蓚酸塩、乳酸塩などが挙げられる。リガンドが、グリシンまたはアラニンなどの二座のアミノ酸である多価金属キレート類もまた、使用できる。
【００２７】
亜鉛およびカドミウムは、好ましい多価金属イオン類である。好ましい多価金属化合物としては、酢酸亜鉛、酢酸カドミウム、グリシン酸亜鉛、グリシン酸カドミウム、炭酸亜鉛、炭酸カドミウム、安息香酸亜鉛、サリチル酸亜鉛、グリコール酸亜鉛、およびグリコール酸カドミウムが挙げられる。幾つかの適用においては、アンモニアのような一時的なリガンドが好ましい。研磨剤が乾燥して基材上に薄膜が形成されるにつれ、リガンドの少なくとも一部が揮発する傾向がある場合、リガンドは一時的なものと考えられる。
【００２８】
アルカリ溶解樹脂としては、スチレンまたはビニルトルエンと、少なくとも１種のα−β−モノエチレン不飽和酸またはスチレン−マレイン酸無水物樹脂、ポリオール類などと縮合されるロジン／マレイン酸無水物付加体などの無水物とのコポリマー類が挙げられる。前記アルカリ溶解樹脂は、典型的に約５００から１０，０００、好ましくは約１，０００から５，０００の重量平均分子量を有する。樹脂は、樹脂と水酸化アンモニウムなどの一時的カチオンを有するアルカリ物質との水溶液である従来の樹脂カットとして使用することが多い。アルカリ溶解樹脂を、研磨組成物の重量を基準として０から約２０重量パーセントの量で、好ましくは０から約１５重量パーセントの量で典型的に使用する。
【００２９】
使用できるワックスまたはワックスの混合物は、植物、動物、合成、および／または鉱物起源を含む。代表的なワックス類としては、例えば、カルヌバ、カンデリラ、ラノリン、ステアリン、蜜蝋、酸化ポリエチレンワックス、ポリエチレン乳剤、ポリプロピレン、エチレンとアクリルエステル類のコポリマー類、水素化ココナツ油または大豆油、およびパラフィンまたはセレシンなどの鉱物ワックスが挙げられる。ワックス類は典型的には、研磨組成物の重量を基準として０から約１５重量パーセント、好ましくは約２重量パーセントから約１０重量パーセントの範囲である。
【００３０】
水性研磨組成物は典型的には、研磨組成物の重量を基準として約１重量パーセントから約１０重量パーセントの可塑剤を含有する。前記可塑剤は、薄膜形成を促進し、基材に塗布された被膜を硬化させるために使用する温度を低下させることを可能にする。研磨剤の被膜は、本質的に強くて柔軟性があることが多いので、可塑剤から被膜にさらに柔軟性を与える必要はないことが多い。その結果、一時的または半一時的可塑剤が、多くの塗布用にとって恒久的な可塑剤よりも好ましい。一時的または半一時的な可塑剤は、被膜が乾燥するにつれ、少なくとも部分的に蒸発する可塑剤である。恒久的な可塑剤は蒸発しない。一時的可塑剤と恒久的可塑剤の混合物が使用できる。使用される具体的な可塑剤と量は、配合物との適合性、薄膜形成温度を低下させる効率性、被膜の透明性に対する要求に従って選択される。
【００３１】
一時的可塑剤または合体剤としては、例えば、ジエチレングリコールまたはジプロピレングリコールのモノブチル、モノエチル、モノメチル、または他のモノアルキルエーテル類、イソホロン、ベンジルアルコール、ブチルセロソルブおよび３−メトキシブタノール−１が挙げられる。恒久的可塑剤としては、例えば、フタル酸ベンジルブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジメチル、リン酸トリフェニル、ベンジルフタル酸２−エチルヘキシル、カプロラクタムの脂肪油酸エステル類、クエン酸アセチルトリブチル、トルエンエチルスルホンアミド、リン酸トリブトキシエチルおよびリン酸トリブチルが挙げられる。リン酸トリブトキシエチルなどの幾つかの可塑剤は、均一化剤としても役立てることができる。恒久的可塑剤は、研磨剤の防汚性を損失することなく使用できる。
【００３２】
本発明の研磨組成物は、典型的に約１０重量パーセントから約５０重量パーセントの固体含量を有する。１つの実施形態において、固体は、研磨組成物の重量を基準として約１０重量パーセントから約３０重量パーセント、好ましくは約１５重量パーセントから約２５重量パーセントの範囲である。本発明の他の実施形態において、研磨組成物の重量を基準として約３５重量パーセントから約５０重量パーセントまでの固体を含有させた濃縮研磨組成物が提供される。このような濃縮組成物は、濃縮液を水と混ぜるか、または研磨剤を湿ったモップまたはアプリケータで塗布することにより使用前に希釈する。
【００３３】
前記研磨組成物のｐＨは、典型的に約６から約１０．５の範囲である。好ましくは、ｐＨは、約７．５と約９．９との間である。ｐＨは、種々の塩基または緩衝剤を用いて調整できる。適切な塩基または緩衝剤としては、例えば、ホウ砂、水酸化ナトリウム、リン酸アルカリ、珪酸アルカリ、炭酸アルカリ、アンモニア、およびジエタノールアミンまたはトリエタノールアミンなどのアミン類が挙げられる。
【００３４】
本発明の他の態様は、本発明の研磨組成物を塗布する方法を提供する。研磨剤を、床、壁および浴室面などの種々の基材に塗布できる。基材としては、繊維、金属、プラスチック、木材、石材、れんが、ガラス、セメント、コンクリート、セラミック、メゾナイト、乾燥壁、石膏、プラスチックなどを挙げることができる。浴室面としては、カウンタートップ、シャワー仕切、トイレおよび小便器を挙げることができる。１つの好適な実施形態において、基材は床面である。床面は、木材、ビニール、リノリウム、アスファルト、アスベスト、コンクリート、セラミックなどを挙げることができる。
【００３５】
典型的に、研磨組成物の１回から約８回の塗布を基材に施す。その結果、研磨組成物は、基材と研磨組成物から形成された被膜との双方を湿潤化できるに違いない。研磨組成物の表面張力を、典型的に基材の表面エネルギーよりも低くなるように調整する。床タイルへの塗布のために、研磨組成物の表面張力は、約３０ダイン／ｃｍ未満となるようにイオン性界面活性剤の添加により調整される。静止表面張力の典型的な範囲は、約１８ダイン／ｃｍから約３０ダイン／ｃｍ、好ましくは約２３ダイン／ｃｍから約２８ダイン／ｃｍである。
【００３６】
イオン性シリコーン系界面活性剤および薄膜形成ポリマーを含む本発明の研磨組成物は、基材に塗布して防汚性の被膜を作る。前記研磨剤は、非イオン性シリコーン系界面活性剤または炭化水素系界面活性剤を含有するものよりも性能がよい。さらに、これらは、当業界の技術的水準のフッ化炭素を含有する配合物以上の性能がある。
【００３７】
以下の実施例は、さらに本発明の研磨組成物、本発明の研磨組成物の使用法、および研磨組成物の種々の特性を決定するために実施された試験を記載する。実施例は、本発明の理解を深めるために例示的な目的で提供するものであって、本発明を実施例に限定するものとして解してはならない。
【実施例】
【００３８】
用語
ジエチレングリコールモノエチルエーテル−一時的可塑剤−ウィスコンシン州ミルウォーキーのアルドリッチ・ケミカルカンパニー・インク（Ａｌｄｒｉｃｈｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ．；Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，ＷＩ）から入手可能。
ＳＥ２１−シリコーン液の水性乳剤−消泡剤−ミシガン州アドリアンのワッカー・シリコーンズ・コープ（Ｗａｃｋｅｒ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ Ｃｏｒｐ．；Ａｄｒｉａｎ，ＭＩ）から入手可能。
ケイソン（Ｋａｔｈｏｎ）ＣＧ／ＩＣＰ−２種のイソチアゾリノンの混合物−殺生物剤−ペンシルバニア州フィラデルフィアのローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ；Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ，ＰＡ）から入手可能。
フタル酸ジブチル−可塑剤−ウィスコンシン州ミルウォーキーのアルドリッチ・ケミカルカンパニー・インク（Ａｌｄｒｉｃｈｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ．；Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，ＷＩ）から入手可能。
ＫＰ−１４０−リン酸トリブトキシエチル−可塑剤−インディアナ州ウエスト・ラファイエットのグレート・レークス・ケミカル・コーポレーション（Ｇｒｅａｔ ＬａｋｅｓＣｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ；Ｗｅｓｔ Ｌａｆａｙｅｔｔｅ，ＩＮ）から入手可能。
モル・グロ２ラテックス（Ｍｏｒ−ｇｌｏ ２ ｌａｔｅｘ）スチレン／アクリル乳剤コポリマー−薄膜形成ポリマー−サウスカロライナ州チェスターのオムノバ・ソリューションズ・インク（Ｏｍｎｏｖａ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ、Ｉｎｃ．；Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＳＣ）から入手可能。
シントラン（Ｓｙｎｔｒａｎ）３Ｍ２８０−アクリル酸エステルコポリマー−薄膜形成ポリマー−マサチューセッツ州キャントンのインターポリマー・コーポレーション（Ｉｎｔｅｒｐｏｌｕｍｅｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ；Ｃａｎｔｏｎ，ＭＡ）から入手可能。
ＭＣ−２８−スチレン／アクリル溶液−アルカリ溶解樹脂−サウスカロライナ州チェスターのオムノバ・ソリューションズ・インク（Ｏｍｎｏｖａ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ、Ｉｎｃ．；Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＳＣ）から入手可能。
３２５Ｎ３５Ｌ−高密度ポリエチレン乳剤−ワックス−ニューヨーク州チェスターのケム・コール（ＣｈｅｍＣｏｒ；Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＮＹ）から入手可能。
４３Ｎ４０−ポリオレフィンワックス乳剤−ワックス−ニューヨーク州チェスターのケム・コール（ＣｈｅｍＣｏｒ；Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＮＹ）から入手可能。
テルギトール（Ｔｅｒｇｉｔｏｌ）ＴＭＮ−６−高分枝ラウリルエトキシラート−末端水酸基を含有し、５４３の平均分子量を有する９０％活性界面活性剤−コネチカット州ダンベリーのユニオン・カーバイド・コーポレーション（Ｕｎｉｏｎ Ｃａｒｂｉｄｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ；Ｄａｎｂｕｒｙ，ＣＴ）から入手可能。
ダイノール（Ｄｙｎｏｌ）６０４−アルコキシル化アルキノール−１００％活性界面活性剤−ペンシルバニア州アレンタウンのエア・プロダクツ・アンド・ケミカルズ・インク（Ａｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ ａｎｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．；Ａｌｌｅｎｔｏｗｎ，ＰＡ）から入手可能。
トリトン（Ｔｒｉｔｏｎ）ＸＬ−８０Ｎ−Ｃ₈からＣ₁₀第一級アルコールアルコキシラート−末端水酸基を含有し、４４２の平均分子量を有する１００％活性界面活性剤−コネチカット州ダンベリーのユニオン・カーバイド・コーポレーション（Ｕｎｉｏｎ Ｃａｒｂｉｄｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ；Ｄａｎｂｕｒｙ，ＣＴ）から入手可能。
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＤＳ１０）−１００％活性界面活性剤−ウィスコンシン州ミルウォーキーのアルドリッチ・ケミカル（Ａｌｄｒｉｃｈｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ；Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，ＷＩ）から入手可能。
ラウリル酸ナトリウム−ラウリル酸を水酸化ナトリウムで中和−１００％活性界面活性剤−イリノイ州ノースフィールドのステパン（Ｓｔｅｐａｎ；Ｎｏｒｔｈｆｉｅｌｄ，ＩＬ）から入手可能。
ローダファック（Ｒｏｄａｆａｃ）ＰＥ−５１０−ノノキシノール−６−ホスファート−１００％活性界面活性剤−ジョ−ジア州マリエッタのローディア・インク（Ｒｈｏｄｉａ，Ｉｎｃ；Ｍａｒｉｅｔｔａ，ＧＡ）から入手可能。
シルウェット（Ｓｉｌｗｅｔ）Ｌ−７７−ポリアルキレンオキシド修飾ヘプタメチルトリシロキサン−メチル末端基と１個のペンダント基を含有し、６４５の平均分子量を有する１００％活性シリコーン系界面活性剤−コネチカット州グリーンウィッチのＯＳｉスペシャルティーズ（ＯＳｉ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ；Ｇｒｅｅｎｗｉｃｈ，ＣＴ）から入手可能。
シルウェット（Ｓｉｌｗｅｔ）Ｌ−７６０８−ポリアルキレンオキシド修飾ヘプタメチルトリシロキサン−水素末端基と１個のペンダント基を含有し、６３０の平均分子量を有する１００％活性シリコーン系界面活性剤−コネチカット州グリーンウィッチのＯＳｉスペシャルティーズ（ＯＳｉ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ；Ｇｒｅｅｎｗｉｃｈ，ＣＴ）から入手可能。
ＭＦＦ−１９９−ＳＷ−シリコーンコポリオール−水素末端基と１個のペンダントポリエチレンオキシド基を含有し、６００から１，０００の間の平均分子量を有する１００％活性シリコーン系界面活性剤−ジョージア州ノースクロスのランベント・テクノロジーズ・インク（Ｌａｍｂｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｉｎｃ．；Ｎｏｒｔｈｃｒｏｓｓ，ＧＡ）から入手可能。
ＳＷ−ＣＰ−Ｋ−シリコーンコポリオールベースのカルボン酸エステル、カリウム塩−フタル酸エステル末端基と１個のポリエチレンオキシドペンダント基を含有し、８００から１，１００の間の平均分子量を有する４０％活性シリコーン系界面活性剤−ジョージア州ノースクロスのランベント・テクノロジーズ・インク（Ｌａｍｂｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｉｎｃ．；Ｎｏｒｔｈｃｒｏｓｓ，ＧＡ）から入手可能。
ルーベ（Ｌｕｂｅ）ＣＰＩ−シリコーンコポリオールベースのカルボン酸エステル、カリウム塩−フタル酸末端基と３個から５個のペンダント基を含有し、２，９００から５，３００の間の平均分子量を有する１００％活性シリコーン系界面活性剤−ジョージア州ノースクロスのランベント・テクノロジーズ・インク（Ｌａｍｂｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｉｎｃ．；Ｎｏｒｔｈｃｒｏｓｓ，ＧＡ）から入手可能。
３Ｍスパングル（商標）フロア・フィニッシュ（３Ｍ Ｓｐａｎｇｌｅ^TM Ｆｌｏｏｒ Ｆｉｎｉｓｈ）−フッ化炭素界面活性剤を含有する研磨組成物−ミネソタ州セントポールの３Ｍカンパニー（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ；Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から入手可能。
【００３９】
試験法
周囲条件での薄膜形成試験は、６滴の仕上げ液を用いて為され、外層を剥いだタイルにナイフコーター（１０ミル間隙および３／４インチ幅）で塗布した。ミネソタ州セントポールのセントポール・リノリウム社（Ｓｔ．Ｐａｕｌ Ｌｉｎｏｌｅｕｍ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）のニューアームストロング（Ｎｅｗ Ａｒｍｓｔｒｏｎｇ）黒色ビニール複合タイルを用いて、またミネソタ州セントポール、３Ｍ社の３Ｍツイスト・アンド・フィル（商標）ＴＭアプリケータ（Ｔｗｉｓｔ ａｎｄ Ｆｉｌｌ^TM ａｐｐｌｉｃａｔｏｒ）を用いて希釈された３Ｍローオーダー・ストリッパー（３ＭＬｏｗ Ｏｄｏｒ Ｓｔｒｉｐｐｅｒ）（２２Ｈ）との３Ｍスーパーポリッシュ（商標）（ホワイト）フロアパッド（３ＭＳｕｐｅｒ^TM（Ｗｈｉｔｅ）Ｆｌｏｏｒ Ｐａｄ）を用いて外層を剥いだ。コントロール仕上げ剤（フッ化界面活性剤を含有する３Ｍスパングル（商標）フロア・フィニッシュ（３ＭＳｐａｎｇｌｅ^TM Ｆｌｏｏｒ Ｆｉｎｉｓｈ））を、各タイルに塗布した。各配合物を２種類のタイルに塗布した。仕上げの湿潤化と均一化に関して視覚評価を行った。評価は、段階５が最良として１から５段階で行った。前記スパングル（商標）コントロール仕上げ剤は評価５が得られた。２種のタイルにおける前記配合物の平均評価を報告した。
【００４０】
汚染試験において、ミネソタ州セントポール、セントポール・リノリウム社のニューアームストロング（ｎｅｗ Ａｒｍｓｔｒｏｎｇ）白色ビニール複合タイルを、上記のとおり外層を剥がした。１−ｆｔ²（平方フット）タイルを３等分し、スパングル（商標）コントロールと２種の実験的研磨剤を同じタイルに塗布した（１．３ｍＬｓの各研磨剤が使用された）。４種の研磨剤被膜を施し、各被膜を少なくとも２０分間乾燥させた。少なくとも２４時間経過するまではタイルを試験しなかった。メリーランド州シルバー・スプリング、バイク・ガードナー社（Ｂｙｋ Ｇａｒｄｎｅｒ−Ｓｉｌｖｅｒ Ｓｐｒｉｎｇ，ＭＤ）のガードナー・ストレートライン・ウォッシャビィリティー・アンド・アブレージョン・マシン（Ｇａｒｄｎｅｒ Ｓｔｒａｉｇｈｔ Ｌｉｎｅ ａｎｄ Ａｂｒａｓｉｏｎ Ｍａｃｈｉｎｅ）を用いた。ループナイロン・キッチン様式のカーペットをローラーに付け、２グラムのＣＳＭＡ汚染（ペンシルバニア州フィラデルフィア、ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ＆Ｈａａｓ））をカーペット上に置いた。２５サイクル後、タイル表面上の散開した汚染を除き、機械装置をさらに１７５サイクル操作した。仕上げの汚染に関して視覚評価を行った。評価は、段階５を最良として１から５段階で行った。前記スパングル（商標）コントロール仕上げ剤は評価５が得られた。２種のタイル上における前記配合物の平均評価を報告した。
【００４１】
マイクロフラッシュ（Ｍｉｃｒｏｆｌａｓｈ）（登録商標）２００ｄ装置（１インチアパーチャの照度＝ｄ６５／１０°−ニュージャージー州ローレンスビレ、データカラー・インターナショナル社）を用いて、汚染前後のタイルのカラー変化を測定した。ＣＩＥＬＡＢカラースペースを用いて計算が為された。各配合物について３回の測定を行い、明度変化（ΔＬ^*）を測定した。この適用は特殊ではあるが、概括的な規則として１未満のΔＬ^*は許容できるカラー変化と云えよう。各タイルに関して、スパングル（Ｓｐａｎｇｌｅ）（商標）コントロール並びに２種の実験的研磨剤のΔＬ^*値（３回の読み取り平均）を記録した。次に、実験的配合物のΔＬ^*値を、同じタイル上に被膜されたスパングル（商標）コントロール（対照）のΔＬ^*値から差し引かれた（ΔＬ^*対照−ΔＬ^*実験）。ΔＬ^*値における変化を記録した。各配合物は、２種類のタイルに被膜された。各配合物に関するΔＬ^*値における平均変化を測定し、記録した。この変化ΔＬ^*の負の値は、実験的被膜が、参照スパングル（商標）被膜よりも良好な結果を与えたことを示す。
【００４２】
保存溶液
表１に記載された組成物を有する床仕上げ剤の保存溶液（界面活性剤を含まない）を作製した。番号１〜４の成分を加え、１５分間混合した。次に番号５〜６の成分を加え、１５分間混合し、番号７〜８の成分を加え、１５分間混合した。成分９〜１１を加え、配合物全体を３０分間混合した。上記成分を混合するために、攪拌羽根を具備したエアミキサーを用いた。
【００４３】
【表１】

【００４４】
界面活性剤を、床仕上げ剤保存溶液に組み入れた。これらの配合物の性能試験は、周囲条件での薄膜形成（被膜の「滑らかさ」）および防汚性を含んだ。
【００４５】
比較例１
３種の異なる非イオン性炭化水素系界面活性剤を、２つの異なる有効濃度（溶液全体の０．５重量％と１．０重量％）で床仕上げ剤保存溶液に各々個別に組み入れた。テルギトール（Ｔｅｒｇｉｔｏｌ）ＴＭＮ−６は、比較例１ａの界面活性剤であり、ダイノール（Ｄｙｎｏｌ）６０４は、比較例１ｂの界面活性剤であり、トリトン（Ｔｒｉｔｏｎ）ＸＬ−８０Ｎは、比較例１ｃの界面活性剤であった。これらの溶液を、磁気攪拌バーを用いて少なくとも３０分間混合した。これらの非イオン性炭化水素系界面活性剤は、防汚特性が不良であることを示した（表２）。界面活性剤の濃度を０．５％から１％に増加させると、防汚性がさらに悪化した。また、非イオン性炭化水素系界面活性剤を用いて作製した薄膜は、３Ｍスパングル（Ｓｐａｎｇｌｅ）（商標）対照研磨剤から作られた薄膜と同じ「滑らかさ」を示さなかった（表２）。斯様に、非イオン性炭化水素系界面活性剤は、対照床仕上げ剤の湿潤化と均一化とに匹敵しなかった。
【００４６】
比較例２
３種の異なるイオン性炭化水素系界面活性剤を、２つの異なる有効濃度（溶液全体の０．５重量％と１．０重量％）で床仕上げ剤保存溶液に各々個別に組み入れた。ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＤＳ１０）は、比較例２ａの界面活性剤であり、ラウリル酸ナトリウムは、比較例２ｂの界面活性剤であり、ローダファック（Ｒｏｄａｆａｃ）ＰＥ−５１０は、比較例２ｃの界面活性剤であった。これらの溶液を、磁気攪拌バーを用いて少なくとも３０分間混合した。これらのイオン性炭化水素系界面活性剤は、防汚特性が不良であることを示した（表２）。また、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの界面活性剤を用いて作製した薄膜は、３Ｍスパングル（Ｓｐａｎｇｌｅ）（商標）対照研磨剤から作られた薄膜と同じ「滑らかさ」を示さなかった（表２）。
【００４７】
比較例３〜５
３種の異なる非イオン性シリコーン系界面活性剤（比較例３ではシルウェット（Ｓｉｌｗｅｔ）Ｌ−７７、比較例４ではシルウェット（Ｓｉｌｗｅｔ）Ｌ−７６０８、比較例５ではランベント（Ｌａｍｂｅｎｔ）ＭＦＦ−１９９−ＳＷ）を、２つの異なる有効濃度（溶液全体の０．５重量％と１．０重量％）で床仕上げ剤保存溶液に各々個別に組み入れた。これらの溶液を、磁気攪拌バーを用いて少なくとも３０分間混合した。これらの非イオン性シリコーン系界面活性剤は、防汚特性が不良であることを示し、それらの濃度を増加させると、さらに悪化した（表２）。これらの溶液で作製した薄膜は、対照仕上げ剤の「滑らかな」外観に近かった。
【００４８】
実施例１
アニオン性シリコーン系界面活性剤のランベント（Ｌａｍｂｅｎｔ）ＳＷ−ＣＰ−Ｋを、２つの異なる有効濃度（溶液全体の０．５重量％と１．０重量％）で床仕上げ剤保存溶液に個々に組み入れた。このアニオン性シリコーン系界面活性剤は、比較例５で考察した非イオン性シリコーン系界面活性剤の直接的な類似体であった。この溶液を、磁気攪拌バーを用いて少なくとも３０分間混合した。ランベント（Ｌａｍｂｅｎｔ）ＳＷ−ＣＰ−Ｋは、乾燥薄膜の目標特性に対する最少の悪影響を有した。すなわち、良好な防汚特性を維持した（表２）。この溶液で作製した薄膜は、対照仕上げ剤の「滑らかな」外観に匹敵した（表２）。斯様に、このシリコーン系界面活性剤は、対照床仕上げ剤の湿潤化と均一化とに匹敵した。
【００４９】
実施例２
より高分子量のアニオン性シリコーン系界面活性剤（櫛形構造を有する）であるランベントルーベ（Ｌａｍｂｅｎｔ Ｌｕｂｅ）ＣＰＩを、２つの異なる有効濃度（溶液全体の０．５重量％と１．０重量％）で床仕上げ剤保存溶液に個々に組み入れた。この溶液を、磁気攪拌バーを用いて少なくとも３０分間混合した。ランベントルーベ（Ｌａｍｂｅｎｔ Ｌｕｂｅ）ＣＰＩは、乾燥薄膜の目標特性に対する最少の悪影響を有した。すなわち、良好な防汚特性を維持した（表２）。この溶液で作製した薄膜は、対照仕上げ剤の「滑らかな」外観に匹敵した（表２）。斯様に、このシリコーン系界面活性剤は、対照床仕上げ剤の湿潤化と均一化とに匹敵した。
【００５０】
アニオン性シリコーン系界面活性剤と、同様の薄膜形成特性を有する非イオン性シリコーン系の化学的性質とを比較すると、発明者らは、非イオン性シリコーン系界面活性剤を用いた配合物の防汚特性が低下することを観察した。この汚染増加は、比色計により測定でき、また人の目により容易に検出できる。
【００５１】
【表２】

【表３】

【００５２】
前述の詳細な記載から、本発明の精神と範囲から逸脱しない本発明の方法の中での修飾が可能であることが明白である。したがって、本発明の精神から逸脱しない全ての修飾および変更は、請求項およびその等価物の範囲内に入ることが意図されている。

Claims (44)

1. 基材に被膜を施すための水性研磨組成物であって、
   （ａ）薄膜形成ポリマーと、
   （ｂ）イオン性シリコーン系界面活性剤と、
   を含み、前記被膜が防汚性である研磨組成物。
2. 前記基材が床、壁および浴室面からなる群より選択される請求項１に記載の研磨組成物。
3. 前記基材が床面である請求項１に記載の研磨組成物。
4. 前記イオン性シリコーン系界面活性剤がアニオン性シリコーン界面活性剤である請求項１に記載の研磨組成物。
5. 前記アニオン性シリコーン系界面活性剤がカルボン酸塩、ホスホン酸塩、リン酸塩、硫酸塩およびスルホン酸塩からなる群より選択される塩基性塩を含有する請求項４に記載の研磨組成物。
6. 前記アニオン性シリコーン系界面活性剤がカルボン酸塩を含有する請求項４に記載の研磨組成物。
7. 前記カルボン酸塩がフタル酸塩である請求項６に記載の研磨組成物。
8. 前記研磨組成物が約０．０１重量パーセントから約５重量パーセントの前記イオン性シリコーン系界面活性剤を含有する請求項１に記載の研磨組成物。
9. 前記研磨組成物が約０．１重量パーセントから約２重量パーセントの前記イオン性シリコーン系界面活性剤を含有する請求項１に記載の研磨組成物。
10. 前記イオン性シリコーン系界面活性剤が約１０，０００未満の平均分子量を有する請求項１に記載の研磨組成物。
11. 前記分子量が約６，０００未満である請求項１０に記載の研磨組成物。
12. 前記研磨組成物が約６から約１０．５の範囲のｐＨを有する請求項１に記載の研磨組成物。
13. 前記研磨組成物が約７．５から約９．９の範囲のｐＨを有する請求項１２に記載の研磨組成物。
14. 前記イオン性シリコーン系界面活性剤がさらにポリアルキレンオキシドを含む請求項１に記載の研磨組成物。
15. 前記ポリアルキレンオキシドがポリエチレンオキシドである請求項１４に記載の研磨組成物。
16. 前記薄膜形成ポリマーがアクリルポリマー、アクリルコポリマー、スチレン−アクリルコポリマーおよびそれらの混合物からなる群より選択される請求項１に記載の研磨組成物。
17. 前記研磨組成物が前記研磨組成物の重量を基準として約５重量パーセントから約５０重量パーセントの前記薄膜形成ポリマーを含有する請求項１に記載の研磨組成物。
18. 前記研磨組成物が前記研磨組成物の重量を基準として約１０重量パーセントから約３５重量パーセントの前記薄膜形成ポリマーを含有する請求項１に記載の研磨組成物。
19. 前記研磨組成物が前記研磨組成物の重量を基準として約１０重量パーセントから約５０重量パーセントの範囲の固体含量を有する請求項１に記載の研磨組成物。
20. 前記固体含量が前記研磨組成物の重量を基準として約１０重量パーセントから約３０重量パーセントの範囲である請求項１９に記載の研磨組成物。
21. 前記固体含量が前記研磨組成物の重量を基準として約３５重量パーセントから約５０重量パーセントの範囲である請求項１９に記載の研磨組成物。
22. 前記研磨組成物が約１８ダイン／ｃｍと約３０ダイン／ｃｍとの間の表面張力を有する請求項１に記載の研磨組成物。
23. 基材に被膜を施すための水性研磨組成物であって、
    （ａ）薄膜形成ポリマーと、
    （ｂ）イオン性シリコーン系界面活性剤と、
    （ｃ）多価金属化合物、アルカリ溶解樹脂、ワックス、可塑剤、消泡剤、殺生物剤、またはそれらの混合物と、
    を含み、前記被膜が防汚性である研磨組成物。
24. 前記基材が床、天井および浴室面からなる群より選択される請求項２３に記載の研磨組成物。
25. 前記基材が床面である請求項２３に記載の研磨組成物。
26. 前記イオン性シリコーン系界面活性剤がアニオン性シリコーン界面活性剤である請求項２３に記載の研磨組成物。
27. 前記アニオン性シリコーン系界面活性剤がカルボン酸塩、ホスホン酸塩、リン酸塩、硫酸塩およびスルホン酸塩からなる群より選択される塩基性塩を含有する請求項２６に記載の研磨組成物。
28. 前記アニオン性シリコーン系界面活性剤がカルボン酸塩を含有する請求項２６に記載の研磨組成物。
29. 前記カルボン酸塩がフタル酸塩である請求項２８に記載の研磨組成物。
30. 前記研磨組成物が約０．０１重量パーセントから約５重量パーセントの前記イオン性シリコーン系界面活性剤を含有する請求項２３に記載の研磨組成物。
31. 前記イオン性シリコーン系界面活性剤が約１０，０００未満の平均分子量を有する請求項２３に記載の研磨組成物。
32. 前記研磨組成物が約６から約１０．５の範囲のｐＨを有する請求項２３に記載の研磨組成物。
33. 前記イオン性シリコーン系界面活性剤がさらにポリアルキレンオキシドを含む請求項２３に記載の研磨組成物。
34. 前記薄膜形成ポリマーがアクリルポリマー、アクリルコポリマー、スチレン−アクリルコポリマーおよびそれらの混合物からなる群より選択される請求項２３に記載の研磨組成物。
35. 前記研磨組成物が前記研磨組成物の重量を基準として約１０重量パーセントから約５０重量パーセントの範囲の固体含量を有する請求項２３に記載の研磨組成物。
36. 前記研磨組成物が前記研磨組成物の重量を基準として約５重量パーセントから約５０重量パーセントの前記薄膜形成ポリマーを含有する請求項２３に記載の研磨組成物。
37. 前記研磨組成物が前記研磨組成物の重量を基準として約１０重量パーセントから約３５重量パーセントの前記薄膜形成ポリマーを含有する請求項２３に記載の研磨組成物。
38. 前記研磨組成物が約１８ダイン／ｃｍと約３０ダイン／ｃｍとの間の表面張力を有する請求項２３に記載の研磨組成物。
39. 請求項１に記載の研磨組成物で基材を被膜することを含む、基材を研磨する方法。
40. 前記基材が床、壁および浴室面からなる群より選択される請求項３９に記載の方法。
41. 前記基材が床面である請求項３９に記載の方法。
42. 請求項２３に記載の研磨組成物で基材を被膜することを含む、基材を研磨する方法。
43. 前記基材が床、壁および天井面からなる群より選択される請求項４２に記載の方法。
44. 前記基材が床面である請求項４２に記載の方法。