JP2004522723A - 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした化粧品用サンスクリーン組成物及び使用 - Google Patents

Abstract

本発明は、化粧品的に許容可能な担体中に：(ｉ)第１の遮蔽剤として、ベンゾトリアゾール官能基を有する少なくとも一のシリコン誘導体、(ｉｉ)第２の遮蔽剤として、少なくとも一のジベンゾイルメタン、(ｉｉｉ)第３の遮蔽剤として、少なくとも一の４,４-ジアリールブタジエンを含有せしめてなることを特徴とする、特に皮膚及び／又は毛髪を光保護するための、局所使用される新規な化粧品用又は皮膚用組成物に関する。また本発明は、紫外線の影響から、皮膚及び毛髪を保護するためのそれらの使用に関する。

Description

【発明の開示】
【０００１】
本発明は、化粧品的に許容可能なビヒクル中に：
(ｉ)第１の遮蔽剤として、ベンゾトリアゾール官能基を有する少なくとも一のシリコン誘導体；
(ｉｉ)第２の遮蔽剤として、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体；
(ｉｉｉ)第３の遮蔽剤として、少なくとも一の４,４-ジアリールブタジエン化合物；
を含有してなることを特徴とする、特に皮膚及び／又は毛髪を光保護するための、局所使用される新規な化粧品用又は皮膚用組成物に関する。
また本発明は、紫外線の影響から、皮膚及び毛髪を保護するためのそれらの用途に関する。
【０００２】
２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は褐色となり、特にＵＶ-Ｂの名で知られている２８０ｎｍと３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は、自然なサンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態となったり、紅斑が形成されたりすることが知られている；よって、ＵＶ-Ｂ線は遮蔽されなくてはならない。
また、皮膚を褐色化する３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を有するＵＶ-Ａ線が皮膚に好ましくない変化を引き起こすおそれがあることが知られており、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている皮膚の場合にしかりである。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。ＵＶ-Ａ線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある個人においてはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。よって、ＵＶ-Ａ線もまた遮蔽することが望ましい。
【０００３】
皮膚の光(ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ)保護を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提供されている。
これら抗日光組成物は、かなり多くの場合、有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の従来からの親油性及び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含有してなる水中油型エマルション(すなわち、分散させる水性連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品的に許容可能なビヒクル)の形態であり、これらの遮蔽剤(及びその量)は、所望の日光保護ファクターに従って選択され、日光保護ファクター(ＳＰＦ)は、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要なＵＶ線の線量に対する、ＵＶ遮蔽剤を用いた場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要なＵＶ線の線量の比率を数学的に表したものである。
【０００４】
ＵＶ-Ａ線領域及びＵＶ-Ｂ線領域の双方において良好な遮蔽特性を示す、ベンゾトリアゾール官能基を有する親油性のシリコーン誘導体から形成される化粧品用ＵＶ遮蔽剤は、従来から公知である。それらは、欧州特許出願公開第０３９２８８３号、欧州特許出願公開第０６６０７０１号、欧州特許出願公開第０７０８１０８号、欧州特許出願公開第０７１１７７８号又は欧州特許出願公開第７１１７７９号の特許出願に開示されている。
欧州特許出願公開第０７４２００３号及び欧州特許出願公開第０８６０１６５号の特許出願には、日光保護ファクターの相乗活性を生じさせる目的で、ベンゾトリアゾール官能基を有するこれらのシリコーン遮蔽剤と、スルホン官能基を有する特定の水溶性遮蔽剤、すなわちベンゼン-１,４-ジ(３-メチリデン-１０-ショウノウスルホン酸)又は２-フェニルベンゾイミダゾール-５-スルホン酸及びその塩を組み合わせることが既に提案されている。これらの相乗遮蔽系では、水溶性の遮蔽剤を溶解させる少なくとも一の水相と、シリコーン遮蔽剤を溶解させるための脂肪相を使用することが必要であり、処方の可能性を大幅に減じる。
欧州特許出願第０９６７２００号、独国特許出願第１９７４６６５４号、独国特許出願第１９７５５６４９号、欧州特許出願第１００８５８６号、独国特許出願第１０００７０１７号、欧州特許出願第１１３３９８０号及び欧州特許出願第１１３３９８１号においては、４,４-ジアリールブタジエン類をベースとし、他の付加的な遮蔽剤を含有可能な抗日光組成物が知られている。
【０００５】
上述した光保護の分野において多くの研究を行ったところ、本出願人は、予期しないことに、また驚くべきことに、従来技術でそれ自体は既に知られている３種の特定のファミリーの遮蔽化合物−(１)ジベンゾイルメタン誘導体、(２)ベンゾトリアゾールシリコン誘導体及び(３)４,４-ジアリールブタジエンを組み合わせることで、相乗効果のために、顕著に改善された日光保護ファクターを示す抗日光組成物が得られることを見出した。このように組み合わせることで、顕著に改善された日光保護ファクターを有し、遮蔽剤の一方又は他方を単独で用いた場合に得ることができるものよりもさらに高い日光保護ファクターをとにかく有する抗日光組成物を得ることができる。
さらに、本発明の遮蔽剤の特定の組み合わせは、かなり広範囲の化粧品用ビヒクルに、容易に導入することができる。
この発見が、本発明の基礎を形成する。
【０００６】
よって、本発明の主題事項の一つでは、化粧品的に許容可能なビヒクル中に：
(ｉ)第１の遮蔽剤として、ベンゾトリアゾール官能基を有する少なくとも一のシリコン誘導体；
(ｉｉ)第２の遮蔽剤として、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体；
(ｉｉｉ)第３の遮蔽剤として、少なくとも一の４,４-ジアリールブタジエン化合物；
を含有してなることを特徴とする、新規な化粧品用組成物、特に抗日光組成物が提供される。
本発明の他の主題事項は、紫外線、特に太陽光線から、皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用組成物の製造における、上述した組成物の使用にある。
一般的に、前記第１、第２及び第３の遮蔽剤は、付与される日光保護ファクターに関して相乗活性を生じる割合で本発明の組成物中に存在する。
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろう。
【０００７】
本発明において、「４,４-ジアリールブタジエン化合物」なる用語は、少なくとも一の４,４-ジアリールブタジエン発色団を有する任意の分子を意味すると理解される。この分子は、鎖に発色団を含有するグラフトを有する単純化合物、オリゴマー、又はポリマーの形態で提供することができる。
【０００８】
本発明で使用されるベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体は、次の式(１)：
Ｏ_{( ３ - ａ ) ／２}Ｓｉ(Ｒ_７)_ａ-Ｇ (１)
{上式中：
− Ｒ_７はハロゲン化されていてもよいＣ_１-Ｃ_１０アルキル基又はフェニル基又はトリメチルシリルオキシ基を表し、
− ａは０〜３から選択される整数であり、
− 符号Ｇは、次の式(２)：
【化１】

［上式中：
− Ｙは同一又は異なっており、Ｃ_１-Ｃ_８アルキル基、ハロゲン及びＣ_１-Ｃ_４アルコキシ基から選択され、後者の場合、同じ芳香環上の隣接する２つのＹ基は、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を有するアルキリデンジオキシ基を共同して形成し得るものであると理解され、
− ＸはＯ又はＮＨを表し、
− Ｚは、水素又はＣ_１-Ｃ_４アルキル基を表し、
− ｎは０〜３の整数であり、
− ｍは０又は１であり、
− ｐは１〜１０の整数を表す］
に相当する、ケイ素原子に直接結合した一価の基を示す}
の少なくとも一の単位を含有するベンゾトリアゾール官能基を有するシロキサン類又はシラン類であることが好ましい。
【０００９】
これらの化合物は、特に欧州特許出願公開第０３９２８８３号、欧州特許出願公開第０６６０７０１号、欧州特出願公開第０７０８１０８号、欧州特許出願公開第０７１１７７８号及び欧州特許出願公開第７１１７７９号に開示されている。
好ましくは、本発明で使用されるシリコン誘導体は、特に欧州特許公開第０６６０７０１号に開示されているベンゾトリアゾールシリコーン類の一般ファミリーに属するものである。
【００１０】
本発明の実施に特に適切なベンゾトリアゾールシリコーン類のファミリーは、 次の式(５)及び(６)：
【化２】

{上式中：
− Ｒ_７は同一又は異なっており、Ｃ_１-Ｃ_１０アルキル、フェニル、３,３,３-トリフルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基から選択され、Ｒ_７基の数の少なくとも８０％はメチルであり；
− Ｄは同一又は異なっており、Ｒ_７基及びＧ基から選択され、
− ｒは０〜５０の整数であり、ｓは０〜２０の整数であり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｄの少なくとも一はＧを示し；
− ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものであり、
− 符号Ｇは上述した式(２)に相当するものである｝
に相当する化合物を含むものである。
【００１１】
上述した式(２)から明らかなように、ベンゾトリアゾール単位に対する-(Ｘ)_ｍ-(ＣＨ_２)_ｐ-ＣＨ(Ｚ)-ＣＨ_２-鎖の結合は、シリコーン鎖のケイ素原子に対する前記ベンゾトリアゾール単位の結合をなすものであるが、これは、本発明では、次の式：
【化３】

に示す、ベンゾトリアゾールの２つの芳香環によって提供される全ての利用可能な位置で起こり得る。
この結合は、好ましくは３、４又は５位(ヒドロキシル官能基を有する芳香環)、又は４'位(トリアゾール環に隣接したベンゼン環)で生じるか、さらに好ましくは３、４又は５位で生じる。本発明の好ましい実施態様では３位で結合する。
同様に、Ｙ置換基単位又は単位群の結合は、ベンゾトリアゾールの他の任意の利用可能な位置で生じ得る。しかしながら、この結合は、好ましくは３、４、４'、５及び／又は６位で生じる。本発明の好ましい実施態様においては、単位Ｙは５位で結合する。

【００１２】
上述した式(５)及び(６)において、アルキル基は直鎖状又は分枝状であってよく、特に、メチル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、ｎ-アミル、イソアミル、ネオペンチル、ｎ-ヘキシル、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチル、２-エチルヘキシル及びtert-オクチル基から選択され得る。本発明の好ましいＲ_７アルキル基は、メチル、エチル、プロピル、ｎ-ブチル、ｎ-オクチル及び２-エチルヘキシル基である。さらに好ましくは、Ｒ_７基は全てメチル基である。
上述した式(５)又は(６)の化合物の中でも式(５)に相当するもの、すなわち、短い直鎖を有するジオルガノシロキサン類が好ましく使用される。
上述した式(５)の化合物の中でも、Ｄ基が両方ともＲ_７基であるものが、好ましく使用される。
【００１３】
本発明の範囲内に入る直鎖状のジオルガノシロキサン類としては、次の特徴：
− ＤはＲ_７基であり、
− Ｒ_７はアルキル、さらに好ましくはメチルであり、
− ｒは０〜１５；ｓは１〜１０であり、
− ｎは０ではなく、好ましくは１であり、その場合、Ｙはメチル、tert-ブチル又はＣ_１-Ｃ_４アルコキシから選択され、
− Ｚは水素又はメチルであり、
− ｍ＝０、又は［ｍ＝１かつＸ＝Ｏ］、
− ｐは１である、
のうち、少なくとも１つ、好ましくは全てを示す統計的誘導体(statistical derivatives)又は交互のブロックで定まった誘導体が好ましい。
【００１４】
本発明に特に適したベンゾトリアゾールシリコーン類のファミリーは、次の一般式(７)：
【化４】

［上式中、０≦ｒ≦１０、１≦ｓ≦１０であり、Ｅは、
【化５】

の二価の基を表す］で定まるものである。
本発明の特に好ましい実施態様では、ベンゾトリアゾールシリコーンは、次の式：
【化６】

に相当する化合物ドロメトリゾールトリシロキサン(ＣＴＦＡ名)である。
【００１５】
上述した式(１)、(５)、(６)及び(７)の生成物を調製するために適した方法は、特に、米国特許第３２２０９７２号、米国特許第３６９７４７３号、米国特許第４３４０７０９号、米国特許第４３１６０３３号及び米国特許第４３２８３４６号、及び欧州特許出願公開第０３９２８８３号及び欧州特許出願公開第０７４２００３号に開示されている。
【００１６】
ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体は、組成物の全重量に対して０．５〜１５重量％、好ましくは１〜１０重量％、特に２〜８重量％の範囲の含有量で、本発明の組成物中に存在し得る。
【００１７】
上述したように、本発明で目的としているジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既によく知られている生成物であり、特に、仏国特許公開第２３２６４０５号、仏国特許公開第２４４０９３３号及び欧州特許公開第０１１４６０７号の公報に開示されており、該公報の教示は、これらの生成物の実際の定義に影響する限りにおいて、全てが本明細書に出典明示によって含まれるものである。
【００１８】
本発明で特に目的としているジベンゾイルメタン誘導体としては、これらに限定されるものではないが、特に：
− ２-メチルジベンゾイルメタン、
− ４-メチルジベンゾイルメタン、
− ４-イソプロピルジベンゾイルメタン、
− ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
− ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン、
− ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン、
− ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
− ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
− ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
− ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
− ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
− ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
を挙げることができる。
【００１９】
上述したジベンゾイルメタン誘導体の中でも、特にホフマン-ラロシュ社(Hoffman LaRoche)から「パルソール(Parsol)1789」の商品名で販売されている４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンが本発明において最も好ましく使用され、この遮蔽剤は次の展開式(Ｉ)：
【化７】

に相当するものである。
【００２０】
本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン誘導体は４-イソプロピルジベンゾイルメタンで、この遮蔽剤はメルク社(Merck)から「ユーソレックス(Eusolex)8020」の名前で販売されており、次の展開式(ＩＩ)：
【化８】

に相当するものである。
ジベンゾイルメタン誘導体は、組成物の全重量に対して好ましくは０．５〜１５重量％、さらに好ましくは１〜１０重量％、特に２〜８重量％の範囲の含有量で本発明の組成物中に存在する。
【００２１】
本発明における好ましい４,４-ジアリールブタジエン化合物としては、次の式(ＩＩＩ)：
【化９】

[上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっており、水素；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２-Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_１-Ｃ_１２アルコキシ基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルコキシカルボニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_１２モノアルキルアミノ基；直鎖状又は分枝状のジ(Ｃ_１-Ｃ_１２)アルキルアミノ基；アリール；ヘテロアリール又はカルボキシラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ^３は、ＣＯＯＲ^５、ＣＯＲ^５、ＣＯＮＲ^５Ｒ^６又はＣＮ基；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２-Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；Ｃ_６-Ｃ_１８アリール；又はＣ_３-Ｃ_７ヘテロアリールを示し；
− Ｒ^４は、ＣＯＯＲ^６、ＣＯＲ^６、ＣＯＮＲ^５Ｒ^６又はＣＮ基；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２-Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；アリール；又はヘテロアリールを示し；
− Ｒ^５及びＲ^６は同一又は異なっており、水素；[Ｖ]_ｏ-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＰＯ_３Ｕ；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２-Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；アリール；又はヘテロアリールを示し；
− Ｖは、-ＣＨ_２-ＣＨ_２-Ｗ-、-ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｗ-、-ＣＨ(ＣＨ_３)-ＣＨ_２-Ｗ-、-ＣＨ_２-ＣＨ_２-ＣＨ_２-ＣＨ_２-Ｗ-又は-ＣＨ_２-ＣＨ(ＣＨ_２ＣＨ_３)-Ｗ-基を示し；
− Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
− Ｕは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は-Ｎ(Ｒ^８)_４ ^＋を示し；
− Ｗは、Ｏ又はＮＨを示し；
− Ｒ^７及びＲ^８は同一又は異なっており、水素；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_６アルキル基；直鎖状又は分枝状のＣ_２-Ｃ_６アルケニル基；又は直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_６アシル基を示し；
− Ｒ^９は、水素；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_６アルキル基；又はＣ_２-Ｃ_６アルケニル基を示し；
− ｌは１〜３で変化し；
− ｏは０〜１５０で変化する]
に相当する化合物が選択される。
【００２２】
アルキル基としては、例えば：メチル、エチル、ｎ-プロピル、１-メチルエチル、ｎ-ブチル、１-メチルプロピル、２-メチルプロピル、１,１-ジメチルエチル、ｎ-ペンチル、１-メチルブチル、２-メチルブチル、３-メチルブチル、２,２-ジメチルプロピル、１-エチルプロピル、ｎ-ヘキシル、１,１-ジメチルプロピル、１,２-ジメチルプロピル、１-メチルペンチル、２-メチルペンチル、３-メチルペンチル、４-メチルペンチル、１,１-ジメチルブチル、１,２-ジメチルブチル、１,３-ジメチルブチル、２,２-ジメチルブチル、２,３-ジメチルブチル、３,３-ジメチルブチル、１-エチルブチル、２-エチルブチル、１,２,２-トリメチルプロピル、１-エチル-１-メチルプロピル、１-エチル-２-メチルプロピル、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチル、ｎ-ノニル、ｎ-デシル、ｎ-ウンデシル、ｎ-ドデシル、ｎ-トリデシル、ｎ-テトラデシル、ｎ-ペンタデシル、ｎ-ヘキサデシル、ｎ-ヘプタデシル、ｎ-オクタデシル、ｎ-ノナデシル又はｎ-エイコシルを挙げることができる。
【００２３】
Ｃ_２-Ｃ_１０アルケニル基としては、例えば：エテニル、ｎ-プロペニル、１-メチルエテニル、ｎ-ブテニル、１-メチルプロペニル、２-メチルプロペニル、１,１-ジメチルエテニル、ｎ-ペンテニル、１-メチルブテニル、２-メチルブテニル、３-メチルブテニル、２,２-ジメチルプロペニル、１-エチルプロペニル、ｎ-ヘキセニル、１,１-ジメチルプロペニル、１,２-ジメチルプロペニル、１-メチルペンテニル、２-メチルペンテニル、３-メチルペンテニル、４-メチルペンテニル、１,１-ジメチルブテニル、１,１-ジメチルブテニル、１,３-ジメチルブテニル、２,２-ジメチルブテニル、２,３-ジメチルブテニル、３,３-ジメチルブテニル、１-エチルブテニル、２-エチルブテニル、１,１,２-トリメチルプロペニル、１,２,２-トリメチルプロペニル、１-エチル-１-メチルプロペニル、１-エチル-２-メチルプロペニル、ｎ-ヘプテニル、ｎ-オクテニル、ｎ-ノネニル又はｎ-デセニルを挙げることができる。
【００２４】
Ｒ^１及びＲ^２基におけるＣ_１-Ｃ_１２アルコキシ基としては：メトキシ、ｎ-プロポキシ、１-メチルプロポキシ、１-メチルエトキシ、ｎ-ペントキシ、３-メチルブトキシ、２,２-ジメチルプロポキシ、１-メチル-１-エチルプロポキシ、オクトキシ、エトキシ、ｎ-プロポキシ、ｎ-ブトキシ、２-メチルプロポキシ、１,１-ジメチルプロポキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ又は２-エチルヘキソキシを挙げることができる。
Ｒ^６及びＲ^７基におけるＣ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基としては、例えば：シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、１-メチルシクロプロピル、１-エチルシクロプロピル、１-プロピルシクロプロピル、１-ブチルシクロプロピル、１-ペンチルシクロプロピル、１-メチル-１-ブチルシクロプロピル、１,２-ジメチルシクロプロピル、１-メチル-２-エチルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニル又はシクロデシルを挙げることができる。
Ｒ^６及びＲ^７基における一又は複数の二重結合を有するＣ_３-Ｃ_１０シクロアルケニル基としては：シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、１,３-シクロヘキサジエニル、１,４-シクロヘキサジエニル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シクロオクテニル、１,５-シクロオクタジエニル、シクロオクタテトラエニル、シクロノネニル又はシクロデセニルを挙げることができる。
シクロアルキル又はシクロアルケニル基は、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；アミノ；Ｃ_１-Ｃ_４アルキルアミノ；ジ(Ｃ_１-Ｃ_４)アルキルアミノ；Ｃ_１-Ｃ_４アルキル；Ｃ_１-Ｃ_４アルコキシ；又はヒドロキシルから選択される一又は複数(好ましくは１〜３)の置換基を有し得る。それらは、１〜３のヘテロ原子、例えば硫黄、酸素又は窒素で、そのフリーの結合価が水素又はＣ_１-Ｃ_４アルキル基により占有されていてもよいものをさらに有してもよい。
【００２５】
アシル基としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル又はｎ-ブチリルを挙げることができる。
ビシクロアルキル又はビシクロアルケニル基は、例えば、二環式テルペン類、例えばピナン、ボルナン、ピネン、又はショウノウ又はアダマンタン誘導体から選択される。
アリール基は、好ましくは、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；アミノ；Ｃ_１-Ｃ_４アルキルアミノ；ジ(Ｃ_１-Ｃ_４)アルキルアミノ；Ｃ_１-Ｃ_４アルキル；Ｃ_１-Ｃ_４アルコキシ；又はヒドロキシルから選択される一又は複数(好ましくは１〜３)の置換基を有し得るフェニル又はナフチル環から選択される。特に好ましくは、フェニル、メトキシフェニル及びナフチルである。
ヘテロアリール基は、一般的に、硫黄、酸素又は窒素から選択される一又は複数のヘテロ原子を含有する。
【００２６】
水可溶化基は、例えばカルボキシラート又はスルホナート基であり、特に、それらの生理学的に許容可能なカチオンとの塩、例えばアルカリ金属塩又はトリアルキルアンモニウム塩、例えばトリス(ヒドロキシアルキル)アンモニウム又は２-メチルプロパン-１-オール-２-アンモニウム塩である。さらに、アンモニウム基、例えばアルキルアンモニウム、及びそれらの生理学的に許容可能なアニオンとの塩の形態を挙げることもできる。
【００２７】
式(ＩＩＩ)の好ましい化合物は、次の式(ＩＩＩａ)：
【化１０】

[上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっており、水素；Ｃ_１-Ｃ_８アルキル基；Ｃ_１-Ｃ_８アルコキシ基；又はカルボキシラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ^３は、ＣＯＯＲ^５、ＣＯＮＲ^５Ｒ^６又はＣＮ基を示し；
− Ｒ^４は、ＣＯＯＲ^６又はＣＯＮＲ^５Ｒ^６基を示し；
− Ｒ^５は、水素；[Ｖ]_O-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；又はＣ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｒ^６は、[Ｖ]_ｏ-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；又はＣ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｖは、-ＣＨ_２-ＣＨ_２-Ｏ-、-ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ-又は-ＣＨ(ＣＨ_３)-ＣＨ_２-Ｏ-基を示し；
− Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
− Ｕは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は-Ｎ(Ｒ^８)_４ ^＋を示し、
− Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は同一又は異なっており、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_３アルキル基を示し；
− ｌは１〜３で変化し；
− ｏは０〜５０で変化する]
のものから選択される。
【００２８】
式(ＩＩＩ)のさらに好ましい化合物は、次の式(ＩＩＩｂ)：
【化１１】

[上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっており、水素；Ｃ_１-Ｃ_８アルキル基；又はＣ_１-Ｃ_８アルコキシ基を示し；
− Ｒ^３は、ＣＯＯＲ^５、ＣＯＮＲ^５Ｒ^６又はＣＮ基を示し；
− Ｒ^４は、ＣＯＯＲ^６又はＣＯＮＲ^５Ｒ^６基を示し；
− Ｒ^５は、水素；[Ｖ]_O-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；又はＣ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｒ^６は、[Ｖ]_ｏ-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；又はＣ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｖは、-ＣＨ_２-ＣＨ_２-Ｏ-、-ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ-又は-ＣＨ(ＣＨ_３)-ＣＨ_２-Ｏ-基を示し；
− Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
− Ｕは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は-Ｎ(Ｒ^８)_４ ^＋を示し、
− Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は同一又は異なっており、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_３アルキル基を示し；
− ｏは０〜５０で変化する]
に相当するものから選択される。
【００２９】
式(ＩＩＩ)のより好ましい化合物は、次の式(ＩＩＩｃ)：
【化１２】

[上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっており、水素；Ｃ_１-Ｃ_８アルキル基；又はＣ_１-Ｃ_８アルコキシ基を示し；
− Ｒ^３は、ＣＯＯＲ^５、ＣＯＮＲ^５Ｒ^６又はＣＮ基を示し；
− Ｒ^４は、ＣＯＯＲ^６又はＣＯＮＲ^５Ｒ^６基を示し；
− Ｒ^５は、水素；[Ｖ]_O-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；又はＣ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｒ^６は、[Ｖ]_ｏ-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；又はＣ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻を示し；
− Ｖは、-ＣＨ_２-ＣＨ_２-Ｏ-、-ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ-又は-ＣＨ(ＣＨ_３)-ＣＨ_２-Ｏ-基を示し；
− Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
− Ｕは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は-Ｎ(Ｒ^８)_４ ^＋を示し、
− Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は同一又は異なっており、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_３アルキル基を示し；
− ｏは０〜５０で変化する]
に相当するものから選択される。
【００３０】
特に好ましい式(ＩＩＩ)の化合物は、次の化合物：
【化１３】

から選択される。
上述した式(ＩＩＩ)の化合物はそれ自体公知であり、それらの構造及び合成方法は、欧州特許出願第０９６７２００号、独国特許出願第１９７４６６５４号及び独国特許出願第１９７５５６４９号(本明細書の内容の一体部分を形成)に開示されている。
【００３１】
本発明において好ましい４,４-ジアリールブタジエン化合物としては、次の式(ＩＶ)：
【化１４】

[上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
− Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びｌは、上述した式(ＩＩＩ)において示したものと同じ意味を有し；
− Ｙ'は、-Ｏ-又は-ＮＲ^１０-基を示し；
− Ｒ^１０は、水素；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２-Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；アリール；又はヘテロアリールを示し；
− Ｘ'は、結合価ｑと、２〜１０のヒドロキシル基を有する直鎖状又は分枝状で脂肪族又は脂環式のポリオール残基を示し；該残基の炭素性鎖は一又は複数の硫黄又は酸素原子；一又は複数のイミン基；又は一又は複数のＣ_１-Ｃ_４アルキルイミン基が挿入されていてもよく；
− ｑは２〜１０で変化する]
に相当するオリゴマーを挙げることができる。
【００３２】
Ｘ'は２〜１０のヒドロキシル基を有するポリオール残基、特に：
【化１５】

のものである。
【００３３】
さらに好ましい式(ＩＶ)の化合物は：
− Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっており、水素；Ｃ_１-Ｃ_１２アルキル基；Ｃ_１-Ｃ_８アルコキシ基；又はカルボキシラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ^３は、ＣＯＯＲ^５、ＣＯＮＲ^５Ｒ^６又はＣＮ基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；又はＣ_７-Ｃ_１０ビシクロアルキル基を示し；
− Ｒ^５及びＲ^６は同一又は異なっており、直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルキル基；又は置換されていてもよいナフチル又はフェニルを示し；
− Ｘ'は、２〜６、特に２〜４のヒドロキシル基を有するポリオール残基を示す；
ものである。
より好ましい式(ＩＶ)の化合物は：
− Ｘ'がエタノール又はペンタエリトリトール残基を示す；
ものである。
【００３４】
特に好ましい式(ＩＶ)の化合物は、次の化合物：
【化１６】

から選択される。
上述した式(ＩＶ)の化合物はそれ自体公知であり、それらの構造及び合成方法は、欧州特許出願公開第１００８５８６号(本明細書の内容の一体部分を形成)に開示されている。
本発明において、４,４-ジアリールブタジエン化合物は、組成物の全重量に対して、好ましくは０．５〜１５重量％、より好ましくは１重量％〜１０重量％、特に２〜８重量％で変化する含有量で、本発明の組成物中に一般的に存在する。
【００３５】
さらに、本発明の組成物は、ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のある他の付加的な有機ＵＶ遮蔽剤(吸収剤)をさらに含有可能であり、該遮蔽剤は、水溶性、脂溶性、もしくは一般的に使用されている化粧品用溶媒に不溶である。
付加的な有機ＵＶ遮蔽剤は、特にアントラニラート類；ケイ皮酸誘導体；サリチル酸誘導体；ｐ-メチルベンジリデンショウノウ以外のショウノウ誘導体；トリアジン誘導体、例えば米国特許第４３６７３９０号、欧州特許出願第８６３１４５号、欧州特許出願第５１７１０４号、欧州特許出願第５７０８３８号、欧州特許出願第７９６８５１号、欧州特許出願第７７５６９８号、欧州特許出願第８７８４６９号及び欧州特許出願第９３３３７６号に開示されているもの；ベンゾフェノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ビスベンゾアゾリル誘導体、例えば欧州特許第６６９３２３号及び米国特許第２４６３２６４号に開示されているもの；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体、例えば米国特許第５２３７０７１号、米国特許第５１６６３５５号、英国特許出願第２３０３５４９号、独国特許出願第１９７２６１８４号及び欧州特許第８９３１１９号に開示されているもの；本発明のもの以外の遮蔽シリコーン類及び遮蔽ポリマー、例えば特に国際公開第９３／０４６６５号に開示されているもの；又はα-アルキルスチレンから誘導される二量体、例えば独国特許出願第１９８５５６４９号に開示されているものから選択される。
【００３６】
ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のある付加的な有機遮蔽剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下に示すものが挙げられる：
パラ - アミノ安息香酸誘導体：
− ＰＡＢＡ、
− エチルＰＡＢＡ、
− エチル-ジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、
− 特に、ＩＳＰ社から「エスカロール(Escalol)５０７」の名称で販売されているエチルヘキシル-ジメチルＰＡＢＡ、
− グリセリルＰＡＢＡ、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌル(Uvinul)Ｐ２５」の名称で販売されているＰＥＧ-２５-ＰＡＢＡ。
【００３７】
サリチル酸誘導体：
− ロナ(Rona)／ＥＭインダストリーズ社から「ユーソレックス(Eusolex)ＨＭＳ」の名称で販売されているホモサラート(homosalate)、
− ハーマンアンドレイマー社(Haarmann and Reimer)から「ネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)ＯＳ」の名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
− スケル社(Scher)から「ディプサル(Dipsal)」の名称で販売されているジプロピレングリコールサリチラート、
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
【００３８】
ケイ皮酸誘導体：
− 特にホフマン-ラロシュ社から「パルソールＭＣＸ」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
− メトキシケイ皮酸イソプロピル、
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＥ１０００」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸イソアミル、
− シノキサート、
− ＤＥＡメトキシシンナマート、
− メチルケイ皮酸ジイソプロピル、
− グリセリル-エチルヘキサノアート-ジメトキシシンナマート。
β , β '- ジフェニルアクリラート誘導体：
− 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ５３９」の商品名で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、
− 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名で販売されているエトクリレン(Etocrylene)。
【００３９】
ベンゾフェノン誘導体：
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌル４００」の商品名で販売されているベンゾフェノン-１、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売されているベンゾフェノン-２、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン-３又はオキシベンゾン、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン-４、
− ベンゾフェノン-５、
− ノーケイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisorb)１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン-６、
− アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)から「スペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)ＵＶ-２４」の商品名で販売されているベンゾフェノン-８、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ-４９」の商品名で販売されているベンゾフェノン-９、
− ベンゾフェノン-１２。
【００４０】
ベンジリデンショウノウ誘導体：
− シメックス社(Chimex)から「メギゾリル(Mexoryl)ＳＤ」の名称で製造されている３-ベンジリデンショウノウ、
− シメックス社から「メギゾリルＳＬ」の名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸、
− シメックス社から「メギゾリルＳＯ」の名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム、
− シメックス社から「メギゾリルＳＸ」の名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
− シメックス社から「メギゾリルＳＷ」の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
ベンゾイミダゾール誘導体：
− 特にメルク社から「ユーソレックス２３２」の商品名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＡＰ」の商品名で販売されているフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
【００４１】
トリアジン誘導体：
− チバ・スペシャリティー・ケミカルズ(Ciba Specialty Chemicals)から「チノソーブ(Tinosorb)Ｓ」の商品名で販売されているアニソトリアジン、
− 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＴ１５０」の商品名で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、
− シグマ３Ｖ社(Sigma 3V)から「ユバソーブ(Uvasorb)ＨＥＢ」の商品名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザルマロナート)-ｓ-トリアジン。
フェニルベンゾトリアゾール誘導体：
− ロ−ディア・シミー社(Rhodia Chimie)から「シラトリゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロメトリゾールトリシロキサン、
− チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社から「チノソーブＭ」の商品名で水性分散液として微小化形態で、もしくはフェアマウント・ケミカル社(Fairmount Chemical)から「ミキシム(Mixxim)ＢＢ／１００」の商品名で固形形態で販売されているメチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール。
【００４２】
アントラニル誘導体：
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体：
− エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート。
ベンザルマロナート誘導体：
− ホフマン-ラロシュ社から「パルソールＳＬＸ」の商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン。
及びそれらの混合物。
【００４３】
特に好ましい溶解性の有機ＵＶ遮蔽剤は次の化合物：
− サリチル酸エチルヘキシル、
− メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
− オクトクリレン、
− フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− ベンゾフェノン-３、
− ベンゾフェノン-４、
− ベンゾフェノン-５、
− ４-メチルベンジリデンショウノウ、
− フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
− アニソトリアジン、
− エチルヘキシルトリアゾン、
− ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザルマロナート)-ｓ-トリアジン、
− メチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール、
及びそれらの混合物、
から選択される。
【００４４】
さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料(一次粒子の平均粒径：一般的に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、それ自体、全てＵＶ光保護剤としてよく知られている酸化チタン(アモルファス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムから形成されるナノ顔料をさらに含有してもよい。また、従来からのコーティング剤は、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウムである。このような、被覆又は非被覆の金属酸化物のナノ顔料としては、特に、欧州特許出願公開第０５１８７７２号及び欧州特許出願公開第０５１８７７３号に開示されているものがある。
また、本発明の組成物は、皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色にするための薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(ＤＨＡ)をさらに含有してもよい。
【００４５】
また本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカルに抗するための薬剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α-ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラー、ポリマー類、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、着色料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日光組成物の製造において通常使用されている任意の他の成分から選択される従来からの化粧品用アジュバントをさらに含有してもよい。
【００４６】
脂肪物質は油又はロウ又はそれらの混合物からなり得る。「油」という用語は、周囲温度で液状の化合物を意味すると理解される。「ロウ」という用語は、周囲温度で固体又は実質的に固体であり、その融点が一般的に３５℃を越える化合物を意味すると理解される。それらは、直鎖状又は環状の脂肪酸、脂肪アルコール、及び脂肪酸エステル、例えば安息香酸、トリメリト酸及びヒドロキシ安息香酸の誘導体を含み得る。
油としては、鉱物性油(流動パラフィン)；植物性油(スイートアルモンド油、マカダミア油、クロフサグスリ種油又はホホバ油)；合成油、例えばペルヒドロスクアレン、脂肪アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル(例えばファインテックス社(Finetex)から「フィンソルブ(Finsolv)ＴＮ」の商品名で販売されている安息香酸Ｃ_１２-Ｃ_１５アルキル、パルミチン酸オクチル、ラノリン酸イソプロピル、又はカプリン酸／カプリル酸のものを含むトリグリセリド類)、又はオキシエチレン化又はオキシプロピレン化された脂肪エステル及びエーテル；シリコーン油(シクロメチコーン、ポリジメチルシロキサン類又はＰＤＭＳ)；フッ化油；及びポリアルキレン類を挙げることができる。
ロウ状化合物としては、パラフィンロウ、カルナウバロウ、ミツロウ又は硬化ヒマシ油を挙げることができる。
【００４７】
もちろん、当業者であれば、本発明の組成物に固有の有利な特性、特に保護ファクターの相乗性が、考えられる添加により悪影響を受けないか、実質的に受けないように留意して、この又はこれらの任意の付加的な化合物及び／又はその量を選択するであろう。
【００４８】
本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製のための技術により調製することができる。
これらの組成物は、特に、単一又は複合エマルション(Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)の形態、例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリームゲル、パウダー又は固形チューブの形態で提供することができ、また場合によってはエアゾールとして包装することもでき、さらにフォーム又はスプレーの形態で提供することもできる。
エマルションである場合、このエマルションの水相は、公知の方法［バンガム(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)、J. Mol. Biol. 13, 238 (1965)、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］に従って調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【００４９】
本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日光組成物として又はメークアップ製品として使用することができる。
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒトの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、固形チューブ、パウダー、スティック、エアゾールフォーム又はスプレーの形態で提供することができる。
【００５０】
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線から毛髪を保護するために使用される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態で提供することができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、及びパーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化処理の前、処理中又は処理後に適用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローション又はスタイリング又はトリートメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネントウエーブ処理又は毛髪のストレート化、染色又は脱色のための組成物を構成し得る。
組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚用のメークアップ製品、例えば、表皮用トリートメントクリーム、ファンデーション、口紅チューブ、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、無水又は水性、ペースト状又は固体状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液として提供され得る。
【００５１】
指針として、水中油型エマルション型のビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して０．５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【００５２】
本明細書の最初に示したように、本発明の主題事項の一つは、紫外線、特に太陽光線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用組成物の調製における上述した組成物の使用にある。
【実施例】
【００５３】
以下に、本発明を例証するものであって限定するものではない具体例を付与する。
【表１】

【００５４】
【表２】

【００５５】
【表３】

【００５６】
【表４】

【００５７】
【表５】

Claims (33)

1. 化粧品的に許容可能なビヒクル中に：
   (ｉ)第１の遮蔽剤として、ベンゾトリアゾール官能基を有する少なくとも一のシリコン誘導体；
   (ｉｉ)第２の遮蔽剤として、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体；
   (ｉｉｉ)第３の遮蔽剤として、少なくとも一の４,４-ジアリールブタジエン化合物；
   を含有してなることを特徴とする、抗日光組成物等の化粧品用組成物。
2. 前記第１、第２及び第３の遮蔽剤が、得られる日光保護ファクターに関して相乗活性を生じる割合で組成物中に存在している、請求項１に記載の組成物。
3. ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体が、次の式(１)：
   Ｏ_{( ３ - ａ ) ／２}Ｓｉ(Ｒ_７)_ａ-Ｇ (１)
   {上式中：
   − Ｒ_７はハロゲン化されていてもよいＣ_１-Ｃ_１０アルキル基又はフェニル基又はトリメチルシリルオキシ基を表し、
   − ａは０〜３から選択される整数であり、
   − 符号Ｇは、次の式(２)：
   

   

   ［上式中：
   − Ｙは同一又は異なっており、Ｃ_１-Ｃ_８アルキル基、ハロゲン及びＣ_１-Ｃ_４アルコキシ基から選択され、後者の場合、同じ芳香環上の隣接する２つのＹ基は、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を有するアルキリデンジオキシ基を共同して形成し得るものであると理解され、
   − ＸはＯ又はＮＨを表し、
   − Ｚは、水素又はＣ_１-Ｃ_４アルキル基を表し、
   − ｎは０〜３の整数であり、
   − ｍは０又は１であり、
   − ｐは１〜１０の整数を表す］
   に相当する、ケイ素原子に直接結合した一価の基を示す}
   の少なくとも一の単位を含有するベンゾトリアゾール官能基を有するポリオルガノシロキサン類及び／又はシラン類から選択される、請求項１又は２に記載の組成物。
4. ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体が、 次の式(５)及び(６)：
   

   

   {上式中：
   − Ｒ_７は同一又は異なっており、Ｃ_１-Ｃ_１０アルキル、フェニル、３,３,３-トリフルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基から選択され、Ｒ_７基の数の少なくとも８０％はメチルであり；
   − Ｄは同一又は異なっており、Ｒ_７基及びＧ基から選択され、
   − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは０〜２０の整数であり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｄの少なくとも一はＧを示し；
   − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものであり、
   − 符号Ｇは請求項２に記載の式(２)に相当するものである｝
   の一方に相当することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の組成物。
5. ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体が、次の式(７)：
   

   

   ［上式中、０≦ｒ≦１０、１≦ｓ≦１０であり、Ｅは、
   

   

   の二価の基を表す]
   に相当することを特徴とする請求項４に記載の組成物。
6. ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体が、次の式：
   

   

   のドロメトリゾールトリシロキサンであることを特徴とする請求項５に記載の組成物。
7. ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体が、組成物の全重量に対して０．５重量％〜１５重量％、好ましくは１重量％〜１０重量％の範囲の含有量で存在していることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
8. ジベンゾイルメタン誘導体が：
   − ２-メチルジベンゾイルメタン、
   − ４-メチルジベンゾイルメタン、
   − ４-イソプロピルジベンゾイルメタン、
   − ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
   − ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン、
   − ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン、
   − ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
   − ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
   − ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
   − ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
   − ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
   − ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
   − ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
   から選択されることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の組成物。
9. ジベンゾイルメタン誘導体が４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項８に記載の組成物。
10. ジベンゾイルメタン誘導体が４-イソプロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項８に記載の組成物。
11. ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して０．５〜１５重量％、好ましくは１〜１０重量％、特に２〜８重量％の範囲の含有量で存在している、請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の組成物。
12. ４,４-ジアリールブタジエン化合物が、次の式(ＩＩＩ)：
    

    

    [上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
    − Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっており、水素；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２-Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_１-Ｃ_１２アルコキシ基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルコキシカルボニル基；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_１２モノアルキルアミノ基；直鎖状又は分枝状のジ(Ｃ_１-Ｃ_１２)アルキルアミノ基；アリール；ヘテロアリール又はカルボキシラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
    − Ｒ^３は、ＣＯＯＲ^５、ＣＯＲ^５、ＣＯＮＲ^５Ｒ^６又はＣＮ基；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２-Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；Ｃ_６-Ｃ_１８アリール；又はＣ_３-Ｃ_７ヘテロアリールを示し；
    − Ｒ^４は、ＣＯＯＲ^６、ＣＯＲ^６、ＣＯＮＲ^５Ｒ^６又はＣＮ基；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２-Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；アリール；又はヘテロアリールを示し；
    − Ｒ^５及びＲ^６は同一又は異なっており、水素；[Ｖ]_ｏ-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＰＯ_３Ｕ；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２-Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；アリール；又はヘテロアリールを示し；
    − Ｖは、-ＣＨ_２-ＣＨ_２-Ｗ-、-ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｗ-、-ＣＨ(ＣＨ_３)-ＣＨ_２-Ｗ-、-ＣＨ_２-ＣＨ_２-ＣＨ_２-ＣＨ_２-Ｗ-又は-ＣＨ_２-ＣＨ(ＣＨ_２ＣＨ_３)-Ｗ-基を示し；
    − Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
    − Ｕは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は-Ｎ(Ｒ^８)_４ ^＋を示し；
    − Ｗは、Ｏ又はＮＨを示し；
    − Ｒ^７及びＲ^８は同一又は異なっており、水素；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_６アルキル基；直鎖状又は分枝状のＣ_２-Ｃ_６アルケニル基；又は直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_６アシル基を示し；
    − Ｒ^９は、水素；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_６アルキル基；又はＣ_２-Ｃ_６アルケニル基を示し；
    − ｌは１〜３で変化し；
    − ｏは１〜１５０で変化する]
    に相当する、請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の組成物。
13. 式(ＩＩＩ)の化合物が、次の式(ＩＩＩａ)：
    

    

    [上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
    − Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっており、水素；Ｃ_１-Ｃ_８アルキル基；Ｃ_１-Ｃ_８アルコキシ基；又はカルボキシラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
    − Ｒ^３は、ＣＯＯＲ^５、ＣＯＮＲ^５Ｒ^６又はＣＮ基を示し；
    − Ｒ^４は、ＣＯＯＲ^６又はＣＯＮＲ^５Ｒ^６基を示し；
    − Ｒ^５は、水素；[Ｖ]_O-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；又はＣ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻を示し；
    − Ｒ^６は、[Ｖ]_ｏ-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；又はＣ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻を示し；
    − Ｖは、-ＣＨ_２-ＣＨ_２-Ｏ-、-ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ-又は-ＣＨ(ＣＨ_３)-ＣＨ_２-Ｏ-基を示し；
    − Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
    − Ｕは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は-Ｎ(Ｒ^８)_４ ^＋を示し；
    − Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は同一又は異なっており、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_３アルキル基を示し；
    − ｌは１〜３で変化し；
    − ｏは０〜５０で変化する]
    のものから選択される、請求項１２に記載の組成物。
14. 式(ＩＩＩ)の化合物が、次の式(ＩＩＩｂ)：
    

    

    [上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
    − Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっており、水素；Ｃ_１-Ｃ_８アルキル基；又はＣ_１-Ｃ_８アルコキシ基を示し；
    − Ｒ^３は、ＣＯＯＲ^５、ＣＯＮＲ^５Ｒ^６又はＣＮ基を示し；
    − Ｒ^４は、ＣＯＯＲ^６又はＣＯＮＲ^５Ｒ^６基を示し；
    − Ｒ^５は、水素；[Ｖ]_O-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；又はＣ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻を示し；
    − Ｒ^６は、[Ｖ]_ｏ-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；又はＣ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻を示し；
    − Ｖは、-ＣＨ_２-ＣＨ_２-Ｏ-、-ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ-又は-ＣＨ(ＣＨ_３)-ＣＨ_２-Ｏ-基を示し；
    − Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
    − Ｕは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は-Ｎ(Ｒ^８)_４ ^＋を示し、
    − Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は同一又は異なっており、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_３アルキル基を示し；
    − ｏは０〜５０で変化する]
    のものから選択される、請求項１３に記載の組成物。
15. 式(ＩＩＩ)の化合物が、次の式(ＩＩＩｃ)：
    

    

    [上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
    − Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっており、水素；Ｃ_１-Ｃ_８アルキル基；又はＣ_１-Ｃ_８アルコキシ基を示し；
    − Ｒ^３は、ＣＯＯＲ^５、ＣＯＮＲ^５Ｒ^６又はＣＮ基を示し；
    − Ｒ^４は、ＣＯＯＲ^６又はＣＯＮＲ^５Ｒ^６基を示し；
    − Ｒ^５は、水素；[Ｖ]_O-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；又はＣ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻を示し；
    − Ｒ^６は、[Ｖ]_ｏ-Ｒ^７；Ｃ_１-Ｃ_６-アルキレン-ＳＯ_３Ｕ；又はＣ_１-Ｃ_６-アルキレン-Ｎ(Ｒ^８)_３ ^＋Ａ⁻を示し；
    − Ｖは、-ＣＨ_２-ＣＨ_２-Ｏ-、-ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ-又は-ＣＨ(ＣＨ_３)-ＣＨ_２-Ｏ-基を示し；
    − Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ_４Ｒ^９を示し；
    − Ｕは、水素、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｌｉ^＋、Ａｌ^３＋又は-Ｎ(Ｒ^８)_４ ^＋を示し、
    − Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は同一又は異なっており、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_３アルキル基を示し；
    − ｏは０〜５０で変化する]
    に相当するものから選択される、請求項１４に記載の組成物。
16. ４,４-ジアリールブタジエン化合物が次の化合物：
    

    

    から選択される、請求項１５に記載の組成物。
17. ４,４-ジアリールブタジエン化合物が、次の式(ＩＶ)：
    

    

    [上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
    − Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びｌは、請求項１１に記載の式(ＩＩＩ)において示したものと同じ意味を有し；
    − Ｙ'は、-Ｏ-又は-ＮＲ^１０-基を示し；
    − Ｒ^１０は、水素；直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_２-Ｃ_１０アルケニル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルキル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルケニル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルケニル基；アリール；又はヘテロアリールを示し；
    − Ｘ'は、結合価ｑと、２〜１０のヒドロキシル基を有する直鎖状又は分枝状で脂肪族又は脂環式のポリオール残基を示し；該残基の炭素性鎖は一又は複数の硫黄又は酸素原子；一又は複数のイミン基；又は一又は複数のＣ_１-Ｃ_４アルキルイミン基が挿入されていてもよく；
    − ｑは２〜１０で変化する]
    に相当するオリゴマーである、請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の組成物。
18. 式(ＩＶ)の化合物が：
    − Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっており、水素；Ｃ_１-Ｃ_１２アルキル基；Ｃ_１-Ｃ_８アルコキシ基；又はカルボキシラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
    − Ｒ^３は、ＣＯＯＲ^５、ＣＯＮＲ^５Ｒ^６又はＣＮ基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；又はＣ_７-Ｃ_１０ビシクロアルキル基を示し；
    − Ｒ^５及びＲ^６は同一又は異なっており、直鎖状又は分枝状のＣ_１-Ｃ_２０アルキル基；Ｃ_３-Ｃ_１０シクロアルキル基；Ｃ_７-Ｃ_１０ビシクロアルキル基；又は置換されていてもよいナフチル又はフェニルを示し；
    − Ｘ'は、２〜６、特に２〜４のヒドロキシル基を有するポリオール残基を示す；
    ものから選択される、請求項１７に記載の組成物。
19. 式(ＩＶ)の化合物が：
    − Ｘ'がエタノール又はペンタエリトロール残基を示す；
    ものから選択される、請求項１８に記載の組成物。
20. 式(ＩＶ)の化合物が、次の化合物：
    

    

    から選択される、請求項１９に記載の組成物。
21. ４,４-ジアリールブタジエン化合物が、組成物の全重量に対して０．５〜１５重量％、好ましくは１〜１０重量％、特に２〜８重量％の範囲の含有量で存在していることを特徴とする、請求項１ないし２０のいずれか１項に記載の組成物。
22. ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のある他の有機遮蔽剤をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし２１のいずれか１項に記載の組成物。
23. 付加的な有機ＵＶ遮蔽剤が、アントラニラート類；ケイ皮酸誘導体；サリチル酸誘導体；ｐ-メチルベンジリデンショウノウ以外のショウノウ誘導体；トリアジン誘導体、ベンゾフェノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ビスベンゾアゾリル誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体；ベンゾトリアゾールシリコン誘導体以外の遮蔽シリコーン類及び遮蔽ポリマー；又はα-アルキルスチレンから誘導された二量体から選択される、請求項２２に記載の組成物。
24. 有機ＵＶ遮蔽剤が次の化合物：
    − サリチル酸エチルヘキシル、
    − エチルヘキシルメトキシシンナマート、
    − オクトクリレン、
    − フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
    − ベンゾフェノン-３、
    − ベンゾフェノン-４、
    − ベンゾフェノン-５、
    − ４-メチルベンジリデンショウノウ、
    − フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
    − アニソトリアジン、
    − エチルヘキシルトリアゾン、
    − ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
    − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザルマロナート)-ｓ-トリアジン、
    − メチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール、
    及びそれらの混合物、
    から選択されることを特徴とする請求項２３に記載の組成物。
25. 被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし２４のいずれか１項に記載の組成物。
26. 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非被覆の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム又は酸化セリウム及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項２５に記載の組成物。
27. 皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色にするための少なくとも一の薬剤をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし２６のいずれか１項に記載の組成物。
28. 脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカルに抗するための薬剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α-ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラー、ポリマー類、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、又は着色料から選択される少なくとも一のアジュバントをさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし２７のいずれか１項に記載の組成物。
29. ヒトの表皮を保護するための組成物又は抗日光組成物であり、非イオン性の小胞体分散液、水中油型エマルション等のエマルション、クリーム、ミルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、固形チューブ、フォーム又はスプレーの形態で提供されることを特徴とする請求項１ないし２８のいずれか１項に記載の組成物。
30. まつげ、眉毛又は皮膚をメークアップするための組成物であり、無水又は水性、ペースト状又は固体状の形態、エマルション、懸濁液又は分散液の形態で提供されることを特徴とする請求項１ないし２９のいずれか１項に記載の組成物。
31. 紫外線から毛髪を保護するための組成物であり、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態で提供されることを特徴とする請求項１ないし２９のいずれか１項に記載の組成物。
32. 太陽光線等の紫外線から、皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用組成物の調製における、請求項１ないし２９のいずれか１項に記載の組成物の使用。
33. 少なくとも一のベンゾトリアゾールシリコン誘導体型の遮蔽剤と、一のジベンゾイルメタン誘導体型の遮蔽剤を含有し、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用組成物の製造における、得られる日光保護ファクターに関して相乗効果を生じせしめるための、請求項１ないし３１のいずれか１項に記載の４,４-ジアリールブタジエン化合物の使用。