JP2004521086A - 無機遮蔽剤を含む化粧品組成物 - Google Patents

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Abstract

本発明は、少なくとも一のコーティングされた無機酸化物とグリコシド基(群)を有するポリジメチルシロキサンを含有する組成物に関するものである。グリコシド基は、好ましくはグルコシド基である。前記組成物は、特に、非常に流動的であるけれども経時的に優れた安定性を有している油中水型エマルションの形態をとることができる。また本発明は、特に化粧品における、特に皮膚、唇及び毛髪の手入れ及び/又は太陽光線からの保護のための、前記組成物の使用にも関するものである。

Description

【発明の開示】
【0001】
本発明は、コーティングされた無機酸化物とグリコシド基を有するポリジメチルシロキサンを含有し、特に油中水型エマルションの形態をした組成物、及び特に化粧品、特に皮膚、唇及び毛髪の抗日光のための手入れ及び/又は保護のための化粧品における、前記組成物の使用に関する。
【0002】
化粧品の分野では、抗日光製品を得るために化学的遮蔽剤を使用することが一般的に行われている。これら化学的遮蔽剤は、親油性であるか親水性であるかに応じて、エマルションの油相又は水相に分散させることによって、かなり容易にエマルション中に導入することができる。
高い保護ファクターを得るためには、化学的遮蔽剤の含有量を増加させる必要がある。しかし、耐性の理由から、過度に高レベルの化学的遮蔽剤を使用することを避けることが求められており、化学的遮蔽剤と共に、又はこれに代えて、優れた抗UV特性と非常に良好な皮膚耐性を提供する無機の物理的な遮断剤、特に例えば二酸化チタン及び酸化亜鉛のような金属酸化物を導入することが好まれている。
しかしながら、これらの金属酸化物を導入すると、化粧品としての許容性の問題があった。すなわち、それらを含む抗日光製品は、多くの場合、比較的増粘したエマルションの形態であり、塗布して伸ばすことが難しく、重く、粘着質なものであった。加えて、ある種の無機遮蔽剤、例えば二酸化チタンでは、これらの欠点の他に、皮膚へ伸ばしている間に皮膚が白くなってしまう問題が付随する。
【0003】
さらに、流動性のあるテクスチャーを持つ抗日光エマルションを得ることが求められているが、これは流動性のあるテクスチャーはより実用的で、適用が容易であり、快適な使用感があるからである。しかし、金属酸化物は、それらを導入することが望まれるエマルションを不安定にさせるという欠点があり、特にそれらが非常に流動的なエマルションである場合にはしかりであるため、無機遮蔽剤を含有する流動的なエマルションを作製することはより困難であった。この金属酸化物の導入の困難性は、最終組成物中の酸化物の含有量が1%を超えると、より大きくなる。
不安定性の現象は、特に固形粒子の凝集、エマルションのクリーム状化及び沈殿、エマルションの不均質な外観、及び経時的なテクスチャー変化に現れ、この変化は、また粒状化及び不均質化するテクスチャーの増粘に現れる。
【0004】
本発明の目的は、これらの欠点を克服することにあり、非常に流動的である場合でさえ、無機遮蔽剤が存在するため高い保護ファクターを有し、また顕著な化粧品としての許容性を有する、安定したエマルション得るための組成物を提案することにある。
本出願人は、驚くべきことに、特定のシリコーン界面活性剤と疎水性コーティングを有する金属酸化物を使用することでこの目的を達成可能であり、特に、エマルションが非常に流動的であり、かなりの割合で金属酸化物を含有する場合でさえ、良好な化粧品特性(軽く、フレッシュでリッチな感触)と、経時的に良好な安定性を有する、金属酸化物を含む油中水型エマルションを得ることができることを見出した。安定な流動的エマルションは、アビル(Abil)EM90等のアルキルジメチコーンコポリオール型の標準的なシリコーン界面活性剤では得ることはできない。
【0005】
よって、本発明の主題は、生理学的に許容可能な媒体中に、疎水性コーティングを有する少なくとも一の金属酸化物と、少なくとも一のグリコシド残基を含む少なくとも一のオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンを含んでなる組成物にある。
また本発明の主題は、疎水性コーティングを有する少なくとも一の金属酸化物を含む組成物を安定化するための、少なくとも一のグリコシド残基を含む少なくとも一のオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンの使用にある。
本特許出願において、「生理学的に許容可能な媒体」なる表現は、頭皮を含む皮膚、粘膜及び/又は目と融和性のある媒体を意味する。
さらに、「疎水性コーティング」なる表現は、ここでは、水に対して何ら親和性を持たず、また水で湿らないコーティングを意味する。このコーティングは、一又は複数の疎水性化合物を用いての、金属酸化物の一又は複数の表面処理により得られる。
本発明の主題は、より詳細には、生理学的に許容可能な媒体中に、疎水性コーティングを有する少なくとも一の金属酸化物と、少なくとも一のグリコシド残基を含む少なくとも一のオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンを含有してなる、油中水型エマルションにある。
【0006】
本発明によって得られた組成物は、特にエマルションの形態である場合、容易に伸ばすことができ、皮膚に素早くかつ完全に吸収されるという利点を有している。リッチで滋養のある感触と共に、さっぱりしているという驚くべき感触を提供する。製品が浸透した後は、皮膚は柔軟でマットなままである。
さらに、本発明の組成物は、全く安定し、快適な使用感があると同時に、かなりのパーセンテージで物理的遮蔽剤を含有することができるので、高いSPF(日光保護ファクター)を付与する。
【0007】
少なくとも一のグリコシド残基を含むオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンは、例えば次の式(I):
Figure 2004521086
[上式中:
mは同一でも異なっていてもよく、0又は1〜200の数であり、
nは同一でも異なっていてもよく、0又は1〜1000の数であり、
xは0又は1であり、
yは0又は1〜1200の数であり、
Rは同一でも異なっていてもよく、水素原子、又は1〜18の炭素原子を有する置換されていてもよい炭化水素ベース基を表し、
は同一でも異なっていてもよく、次の式(II):
Z-(RO-)-R (II)
の基を表し、ここで:
Zは1〜10の単糖単位又はオリゴ糖単位から誘導されたグリコシド残基を表し、
は同一でも異なっていてもよく、アルキレン基を表し、
cは0又は1〜20の数であり、
はアルキレン基を表し、
但し、該化合物は少なくとも一のR基を含有する]
の化合物から選択されうる。
【0008】
式(II)において、Zは好ましくは単糖類から誘導された残基である。Zが誘導され得る単糖類としては、特にヘキソース類及びペントース類、例えばグルコース、フルクトース、ガラクトース、マンノース、タロース、アロース、アルトロース、アラビノース、キシロース、リキソース及びリボースを挙げることができる。Zは好ましくはグルコースから誘導された残基である。
【0009】
本発明の組成物に使用される式(I)の化合物は、任意の適切なプロセスによって調製することができ、特に出典明示によりここに取り込まれる欧州特許出願公開第612769号公報に記載されているプロセスに従って調製され、次の式(III):
HO-(RO-)-R (III)
[上式中、Rはアルキレン基を表す]
の化合物と単糖又はオリゴ糖を反応させることによりグリコシドを得て、得られたグリコシドを適切な有機ケイ素化合物と反応させる。
【0010】
少なくとも一のグリコシド残基を含むオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンは、未変性の形態で使用してもよく、又は油性媒体、特に一又は複数のシリコーン油、より詳細には一又は複数の揮発性シリコーン油との混合物として使用してもよい。
特に使用されうる式(I)の化合物には、R基の一つがオクチル基を表し、Z-(RO-)-Rがグルコースから誘導される基(Z=グルコシド残基)を表し、ここでROはCHOであり、Rがプロピル基(CH)である化合物が含まれる。これは、より特定的には、ワッカー社(Wacker)からSPG128の名称で販売されている、シクロペンタジメチルシロキサン中に20%の活性物質を含有する分散液としての、プロピル-ポリエトキシルジグルコシド及びオクチル基を有するポリジメチルシロキサン(CTFA名:シクロペンタシロキサン/カプリリル-ジメチコーンエトキシグルコシド)であってよい。
【0011】
本発明の組成物は、グリコシド残基を含むオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンを、組成物の全重量に対して活性物質で0.1重量%〜20重量%、好ましくは0.5重量%〜10重量%の範囲になるような量で含みうる。
【0012】
本発明において使用されうる金属酸化物は、それ自体の光保護活性が既に知られている任意のものである。よって、それらは特に、酸化チタン(アモルファスの形態又はルチル及び/又はアナターゼ型の結晶の形態の二酸化チタン)、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム又は酸化セリウム、あるいはそれらの混合物から選択されうる。
これらの金属酸化物はミクロンサイズの粒子又はナノメーターサイズの粒子(ナノ顔料)の形態をしていてよい。ナノ顔料の形態の場合、平均粒径は、例えば5〜10nmの範囲である。本発明の組成物においては、ナノ顔料が好ましく使用される。
【0013】
本発明で使用される疎水性コーティングを有する金属酸化物は、例えばアルミナ、シリカ、アルミニウム誘導体(例えばステアリン酸塩及びラウリン酸塩)、ケイ素化合物(例えばシリコーン類、ポリジメチルシロキサン類、アルコキシシラン類又はシロキシシリケート類)、ナトリウム化合物、酸化鉄、鉄エステル(例えばステアラート)、脂肪酸、脂肪アルコール及びその誘導体(例えばステアリン酸、ヒドロキシステアリン酸、ステアリルアルコール、ヒドロキシステアリルアルコール及びラウリルアルコール、及びその誘導体)、レシチン、ロウ(例えばカルナウバロウ)、(メタ)アクリルポリマー(例えばポリメチルメタクリレート)及びフッ化(フルオロ)化合物(例えばペルフルオロアルキル化合物及びペルフルオロアルキルエーテル)から選択される一又は複数の化合物で、一又は複数の処理を受けたものであってもよい。また酸化物は、これらの化合物の混合物で処理されてもよく、あるいはこれらのいくつかを連続させたコーティングを有していてもよい。
本発明の組成物に使用されるコーティングされた金属酸化物は、好ましくは、酸化チタン及び酸化亜鉛、及びそれらの混合物から選択される。
【0014】
より詳細には、本発明の組成物に使用される疎水性コーティングを有する金属酸化物は次のもので処理がなされた酸化チタン及びナノ酸化チタン:
− アルミナ及びステアリン酸で処理されたもの、例えばイナナタ社(Inanata)からST-430Cの名称で販売されている製品、及びケミラ社(Kemira)からUVチタン(UV-Titan)M160の名称で販売されている製品;
− ポリジメチルシロキサン類(PDMS)で処理されたもの、例えばミヨシ社(Myoshi)からSi-UFTR-Zの名称で、エカート社(Eckart)からUVチタンX170の名称で、又はメルク社(Merck)からユーソレックス(Eusolex)T-2000の名称で販売されている製品;
− アルコキシシラン類で処理されたもの、例えばワックハー社(Wackherr)からコバスクリーン(Covascreen)T1の名称で販売されている製品;
− ペルフルオロアルキル化合物で処理されたもの、例えばダイトウ社(Daito)からPF-7 TiO2 MT-600Bの名称で販売されている製品;
− ペルフルオロアルキルエーテルで処理されたもの、例えばトシキ社(Toshiki)からTiO2 VF-25-3Aの名称で販売されている製品;
− シロキシシリケート類で処理されたもの、例えばISK社からTSS-1の名称で販売されている製品;
− ポリメチルメタクリレートで処理されたもの、例えばワックハー社からPWコバシル(Covasil)Sの名称で販売されている製品;
− レシチンで処理されたもの、例えばサヒトゥレーベン社(Sachtleben)からデュオターク(Duoterc)CW5-25の名称で販売されている製品;
− カルナウバロウで処理されたもの、例えばケミラ社からUVT-PT951101の名称で販売されている製品;
− シリカ及びアルミナで処理されたもの、例えばユニケマ社(Uniquema)からチオベイル(Tioveil)IPM、チオベイルMOTG、チオベイルOP及びチオベイル・フィン(Fin)、タイカ社(Tayca)からマイクロチタニウムジオキサイドMT100SA及びマイクロチタニウムジオキサイドMT500SAの名称で販売されている製品;
− アルミナ及びステアリン酸アルミニウムで処理されたもの、例えばタイカ社からマイクロチタニウムジオキサイドMT100Tの名称で販売されている製品;
− アルミナ及びラウリン酸アルミニウムで処理されたもの、例えばタイカ社からマイクロチタニウムジオキサイドMT100Sの名称で販売されている製品;
− 酸化鉄及びステアリン酸鉄で処理されたもの、例えばタイカ社からマイクロチタニウムジオキサイドMT100Fの名称で販売されている製品;
− シリカ、アルミナ及びシリコーンで処理されたもの、例えばタイカ社からマイクロチタニウムジオキサイドMT500SAS、マイクロチタニウムジオキサイドMT600SAS、及びマイクロチタニウムジオキサイドMT100SASの名称で販売されている製品;
− オクチルトリメトキシシランで処理されたもの、例えばデグサ社(Degussa)からT-805の名称で販売されている製品;
− アルミナ及びグリセロールで処理されたもの、例えばケミラ社からUVT-M212の名称で販売されている製品;
− アルミナ及びシリコーンで処理されたもの、例えばケミラ社からUVT-M262の名称で販売されている製品;
から選択されうる。
【0015】
これらの疎水性コーティングを有する酸化チタン及びナノ酸化チタンは、固形フィラーの形態、もしくは油性媒体中に分散した形態であってよい。挙げることのできるコーティングされた酸化チタンの分散液の例には、上述したようなユニケマ社からチオベイル・フィン(分散剤として、ヒドロキシステアリン酸の重縮合物を用いた、C12-C15安息香酸アルキル中に分散させたナノ酸化チタン)及びチオベイルMOTG(分散剤として、ヒドロキシステアリン酸の重縮合物を用い、鉱物性油/トリグリセリド中に分散させたナノ酸化チタン)の名称で販売されている製品;ワックハー社からコバスクリーンTIの名称で販売されている製品(60%の、トリメトキシオクチルシランでコーティングされたTiO2の油性分散液);ダイトウ社からダイトウパージョン(Daitopersion)TI-30の名称で販売されている製品(シクロメチコーン及びジメチコーンコポリオールにポリメチルヒドロゲノシロキサンでコーティングされたナノ酸化チタンを分散させた分散液);コラボラティブ研究所(Collaborative Laboratories)からチオスパース・ウルトラ(Tiosperse Ultra)の名称で販売されている製品(2-エチルヘキシルヒドロキシステアラートベンゾアート中に、ステアリン酸/アルミナでコーティングされたナノ酸化チタンを分散させたもの);ミヨシ社からミブリド・ディスパージョン(Mibrid Dispersion)SAS4 5050の名称で販売されている製品(シクロペンタシロキサン中に、アルミナ/ステアリン酸と、次いでポリジメチルシロキサンでコーティングされたナノ酸化チタンを分散させたもの);信越(Shin-Etsu)からSPD-T1の名称で販売されている製品(シクロペンタジメチルシロキサン中に、シリコーングラフト化アクリルポリマーでコーティングされたナノ酸化チタンを分散させたもの)が含まれる。
【0016】
本発明の好ましい一実施態様では、次の酸化チタンが本発明の組成物に使用される:SI-UFTR-Z、チオベイルMOTG、UV-チタンM160、ユーソレックスT-2000、PF-7 TI02 MT-600B、PW コバシル S、TSS-1、コバスクリーンTI、ダイトウパージョンTI-30、チオスパース・ウルトラ、UV-チタンX170、ミブリド・ディスパージョンSAS4 5050、SPD-T1、チオベイル・フィン、より好ましくは製品名UV-チタンX170、チオスパース・ウルトラ、PW コバシル S、ミブリド・ディスパージョンSAS4 5050及びSPD-T1。
【0017】
本発明の組成物に使用されうる酸化亜鉛の例としては、ポリメチルヒドロゲノシロキサンでコーティングされたナノ酸化亜鉛を30%又は50%含有し、シクロポリメチルシロキサン/オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中に分散させた分散液である、ダイトウ社からダイトウパージョンZn-30及びZn-50の名称で販売されているナノ酸化亜鉛の分散液を挙げることができる。
【0018】
一又は複数の種類のコーティングされた金属酸化物が、本発明の組成物に使用される。
本発明の組成物中の金属酸化物の量は、例えば組成物の全重量に対して活性物質で0.5重量%〜30重量%、好ましくは2重量%〜20重量%、より好ましくは7重量%〜15重量%の範囲とされうる。
【0019】
本発明の組成物は、局所適用のためのもので、特に、皮膚、毛髪及び/又は粘膜への適用を意図したものである。それは、特に、化粧品用及び/又は皮膚科用組成物を構成しうる。
この組成物は、特に、化粧品及び皮膚科学において通常使用される任意の製薬的形態であってよく、特にゲル化していてもよい油性溶液、2相を有していてもよいローション型の分散液、水相に脂肪(油)相を分散させて得られる(O/W)又は逆の(W/O)エマルション、又は多相エマルション、例えば3相エマルション(W/O/W又はO/W/O)又はイオン型(リポソーム)及び/又は非イオン型の小胞体分散液の形態であってよい。これらの組成物は常法に従って調製される。
本発明の組成物は、例えば比較的流動的なローション、ミルク又はクリームを構成し得る。それは不安定になることがなく、非常に流動的なものである。ここで「非常に流動的」なる表現は、約60〜600cポアズ(60〜600mPa.s)の範囲の粘度を有する組成物を意味する。
【0020】
本発明の組成物は、任意の脂肪物質、特に化粧品に従来より使用されている任意の油からなる油相を一般に含有する。本発明の好ましい一実施態様では、組成物は少なくとも一の油を含有する。
本発明の組成物に使用可能な油として挙げることのできる例には、植物性油、例えばアプリコット核油及び大豆油;鉱物性油、例えば流動ワセリン;合成油、例えばイソヘキサデカン;揮発性又は非揮発性シリコーン油及びフルオロ油が含まれる。特に挙げることのできる揮発性シリコーン油には、環状ポリジメチルシロキサン類、又は約3〜9のケイ素原子、好ましくは4〜6のケイ素原子を有するシクロメチコーン類、例えばシクロヘキサジメチルシロキサン(つまりシクロヘキサメチコーン)及びシクロペンタジメチルシロキサン(つまりシクロペンタメチコーン)、及び約3〜9のケイ素原子を有する揮発性で直鎖状のポリジメチルシロキサン類が含まれる。本発明の好ましい一実施態様では、組成物は少なくとも一のシリコーン油を含有する。
油相に存在し得る他の脂肪物質は、例えば脂肪酸、脂肪アルコール及びロウ、例えばワセリン又はミツロウでありうる。
【0021】
組成物が無水(非水系)である場合、油相の量は、金属酸化物と少なくとも一のグリコシド基を有するオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンの量の100重量%に対する差であり、つまり油相の量は、例えば組成物の全重量に対して50重量%〜99.4重量%の範囲となりうる。
本発明の好ましい一実施態様では、組成物はエマルションの形態、特にW/Oエマルションの形態、さらには流動的エマルションの形態、すなわち60〜600cP(60〜600mPa.s)、好ましくは80〜250cP(80〜250mPa.s)の範囲の粘度を有するエマルションであり、その粘度は200rpmの速度、25℃で、M2スピンドルを用いてメトラー(Metler)RM180粘度計(レオマット社製)を使用して測定される。このようにして、脂性感や荒れたもしくは粘着質の皮膜を残すことなく、容易に均質に伸びるので非常に心地よい使用感がある、かなり流動的なエマルションが得られる。
本発明のエマルション、特にW/Oエマルション中の油相の量は、エマルションの全重量に対して、例えば5重量%〜80重量%、好ましくは40重量%〜70重量%の範囲をとりうる。エマルションの水相は、エマルションの全重量に対して、例えば50重量%〜95重量%、好ましくは60重量%〜90重量%でありうる。
【0022】
知られた方法で、本発明の組成物は、化粧品において通常のアジュバント、例えば活性剤、防腐剤、酸化防止剤、錯化剤、溶媒、香料、フィラー、サンスクリーン剤、殺菌剤、電解質(例えば硫酸マグネシウム)、臭気吸収剤、染料及び脂質小胞体をさらに含有してよい。これらの種々のアジュバントの量は、当該分野で従来から使用されていた量、例えば組成物の全重量に対して0.01%〜20%である。これらのアジュバントはその性質に応じて、油相、水相及び/又は脂質小胞体中に導入されうる。これらのアジュバント及びその濃度は、本発明の組成物に対して所望される特性を変化させないようなものでなければならない。
本発明の好ましい一実施態様では、組成物は少なくとも一のサンスクリーン剤を含有する。サンスクリーン剤として、本発明の組成物は、化粧品に使用可能なUVA及びUVB遮蔽剤を含有してよい。
【0023】
挙げることのできるUVB遮蔽剤の例には:
(1)サリチル酸誘導体、特にサリチル酸ホモメンチル及びサリチル酸オクチル;
(2)ケイ皮酸誘導体、特にパルソール(Parsol)MCXの名称でジボーダン社(Givaudan)から販売されているp-メトキシケイ皮酸2-エチルヘキシル;
(3)液状のβ,β'-ジフェニルアクリレート誘導体、特にユビヌル(Uvinul)N539の名称でBASF社から販売されているα-シアノ-α,β'-ジフェニルアクリル酸2-エチルヘキシル、すなわちオクトクリレン(octocrylene);
(4)p-アミノ安息香酸誘導体;
(5)ユーソレックス6300の名称でメルク社(Merck)から販売されている4-メチルベンジリデンショノウ;
(6)メルク社からユーソレックス232の名称で販売されている2-フェニルベンゾイミダゾール-5-スルホン酸;
(7)1,3,5-トリアジン誘導体、特に:
− ユビヌルT150の名称でBASF社から販売されている2,4,6-トリス[p-(2'-エチルヘキシル-1'-オキシカルボニル)アニリノ]-1,3,5-トリアジン、及び
− ユバソーブ(Uvasorb)HEBの名称でシグマ(Sigma)3V社から販売されているジオクチルブタミドトリアゾン;
(8)これらの遮蔽剤の混合物;
が含まれる。
【0024】
挙げることのできるUVA遮蔽剤の例には、次のものが含まれる。
(1)ジベンゾイルメタン誘導体、特にパルソール1789の名称でジボーダン社から販売されている4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
(2)次の式(IV):
Figure 2004521086
[上式中:
− R及びRは同一でも異なっていてもよく、水素、ハロゲン、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC-C10アルキル基;飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC-C10アルコキシ基、又はHSO基を示し;
− R10は、水素又はHSOを示し;
− Rは、OH基;R11が飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC-C10アルキル基であるOR11基;又は次の構造:
Figure 2004521086
(R12は水素又はHSOを示す)
を有する基;
又は次の構造:
Figure 2004521086
を有する基;
又は次の構造
Figure 2004521086
を有する基を示し、ここで:
− Zは酸素原子又は-NH-基を示し;
− R13、R14、R15及びR16は同一でも異なっていてもよく、水素、ハロゲン、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC-C10アルキル基;飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC-C10アルコキシ基、又はHSO基を示す]
のUVA活性遮蔽剤。
特に挙げることのできる式(IV)の化合物は、次の式(V):
Figure 2004521086
[上式中、Dは、水素原子、アルカリ金属、又はNH(R25) 基を示し、ここでR25基は同一でも異なっていてもよく、水素原子、C-Cアルキル又はヒドロキシアルキル基又はMn+/n基を示し、Mn+はnが2又は3又は4に等しい多価金属カチオンを示し、Mn+は、好ましくはCa2+、Zn2+、Mg2+、Ba2+、Al3+及びZr4+から選択される金属カチオンを示す]
に相当する、部分的又は全体的に中和された形態であってもよいベンゼン-1,4-ビス(3-メチリデンショウノウ-10-スルホン酸)、特にシメックス社(Chimex)からメギゾリル(Mexoryl)SXの名称で販売されているベンゼン-1,4-ビス(3-メチリデン-10-ショウノウスルホン酸)である。
【0025】
(3)ベンゾフェノン誘導体、例えば:
− 2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン(ベンゾフェノン-1);
− 2,2',4,4'-テトラヒドロキシベンゾフェノン(ベンゾフェノン-2);
− BASF社からユビヌルM40の名称で販売されている2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(ベンゾフェノン-3);
− BASF社からユビヌルMS40の名称で販売されている2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン-5-スルホン酸(ベンゾフェノン-4)及びそのスルホナートの形態(ベンゾフェノン-5);
− 2,2'-ジヒドロキシ-4,4'-ジメトキシベンゾフェノン(ベンゾフェノン-6);
− 5-クロロ-2-ヒドロキシベンゾフェノン(ベンゾフェノン-7);
− 2,2'-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(ベンゾフェノン-8);
− 2,2'-ジヒドロキシ-4,4'-ジメトキシベンゾフェノン-5,5'-ジスルホン酸の二ナトリウム塩(ベンゾフェノン-9);
− 2-ヒドロキシ-4-メトキシ-4'-メチルベンゾフェノン(ベンゾフェノン-10);
− ベンゾフェノン-11;
− 2-ヒドロキシ-4-(オクチルオキシ)ベンゾフェノン(ベンゾフェノン-12)。
【0026】
(4)ベンゾフェノン基を有するポリオルガノシロキサン類又はシラン誘導体;
(5)アントラニラート類、特にハーマンアンドレイマー社(Haarman & Reimer)からネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)MAの名称で販売されているアントラニル酸メンチル;
(6)分子当たり少なくとも二のベンザゾリル基又は少なくとも一のベンゾジアゾリル基を有する化合物、特にハーマンアンドレイマー社から販売されている次の式(VI):
Figure 2004521086
の構造のフェニレン-1,4-ビス-(ベンゾイミダゾリル-3,3',5,5'-テトラスルホン酸)とその塩;
【0027】
(7)N置換されたベンゾイミダゾリルベンザゾール類又はベンゾフリルベンザゾール類のケイ素誘導体、特に:
− 2-[1-[3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピル]-1H-ベンゾイミダゾール-2-イル]ベンゾオキサゾール;
− 2-[1-[3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピル]-1H-ベンゾイミダゾル-2-イル]ベンゾチアゾール;
− 2-[1-(3-トリメチルシラニルプロピル)-1H-ベンゾイミダゾル-2-イル]ベンゾオキサゾール;
6-メトキシ-1,1'-ビス(3-トリメチルシラニルプロピル)-1H,1'H-[2,2']ビベンゾイミダゾリルベンゾオキサゾール;
2-[1-(3-トリメチルシラニルプロピル)-1H-ベンゾイミダゾル-2-イル]ベンゾチアゾールで;
欧州特許出願公開第1028120号に記載されているもの;
(8)トリアジン誘導体、特にチノソーブ(Tinosorb)Sの名称でチバ・ガイギー社(Ciba Geigy)から販売されている2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、及びチノソーブMの名称でチバ・ガイギー社から販売されている2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール];
(9)それらの混合物。
これらの遮蔽剤のいくつかの混合物、及びUVB遮蔽剤とUVA遮蔽剤の混合物も使用してよい。
【0028】
本発明の組成物は、多くの処理、特に頭皮を含む皮膚、唇及び毛髪の美容処理、さらには皮膚、唇及び/又は毛髪の保護及び/又は手入れ、及び/又は皮膚及び/又は唇のメークアップに有用である。
本発明の組成物は、例えばクリーム又はミルクの形態をし、顔及び/又は体のための抗日光手入れ用及び/又は保護用製品として使用することができる。
【0029】
よって、本発明の主題は、皮膚、唇及び/又は毛髪の抗日光的手入れ及び/又は保護のため、及び/又は皮膚及び/又は唇のメークアップのための上述した組成物の美容的用途にある。
さらに本発明の主題は、上述した組成物を皮膚、毛髪及び/又は唇に適用することからなることを特徴とする、太陽光線から頭皮を含む皮膚、毛髪及び/又は唇を保護するための美容処理方法にある。
【実施例】
【0030】
本発明のエマルションの以下の実施例は例証のために付与されるもので、発明を限定する性質のものではない。そこでの量は、特にそれ以外の定義がない限り、重量パーセントとして付与している。
実施例1:SPF40のW/Oエマルション
Figure 2004521086
【0031】
手順:二相のそれぞれをホモジナイズし、ついで攪拌しつつ、油相に水相を分散させることによって互いに混合する。
非常に柔軟で流動的なミルクが得られ、これは塗布時に白くならない。顕微鏡下では、微細で均質な外観であり、顔料の良好な分散が観察された。
このエマルションは45℃で2ヶ月間保管した後でも安定したままである。
【0032】
比較例1:コーティングされていない酸化チタンを含むW/Oエマルション
コーティングされた酸化チタンを、同量のコーティングされていない酸化チタン(デグサ社から販売されている二酸化チタンP25)に代えた以外は、実施例1を繰り返す。
きめが粗く不安定なエマルションが得られた:水滴の凝集及び水及び油の分離が、エマルションの調製後、数時間で起こった。顕微鏡によるエマルションの検査で、この不安定さが確認された。
【0033】
比較例2:アルキルジメチコーンコポリオールを含むW/Oエマルション
ポリエトキシル化プロピルジグルコシドとオクチル基を有するPDMSを、活性物質で同量(4%)のアルキルジメチコーンコポリオール(セチルジメチコーンコポリオール:ゴールドシュミット社のアビルEM90)に代えた以外は、実施例1を繰り返す。
不安定なエマルションが得られた:時間が経つと、二酸化チタンと水相の小滴の沈殿が生じ、それはもはや油相に均質に分散せず、その結果、油がまた表面に現れる。
【0034】
実施例2:SPF20の流動性ファンデーション
Figure 2004521086
【0035】
手順:二相をホモジナイズし、ついで攪拌しつつ、油相に水相を分散させて、エマルションを形成する。
非常に柔軟で流動的なファンデーションが得られ、これは皮膚に繻子のようなつやを残す。顕微鏡では微細で均質な外観であり、顔料の良好な分散性が観察された。
このエマルションは45℃で2ヶ月間保管した後でも安定したままである。

Claims (21)

  1. 生理学的に許容可能な媒体中に、疎水性コーティングを有する少なくとも一の金属酸化物と、少なくとも一のグリコシド残基を含む少なくとも一のオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンを含有してなる組成物。
  2. 少なくとも一のグリコシド残基を含むオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンが、次の式(I):
    Figure 2004521086
    [上式中:
    mは同一でも異なっていてもよく、0又は1〜200の数であり、
    nは同一でも異なっていてもよく、0又は1〜1000の数であり、
    xは0又は1であり、
    yは0又は1〜1200の数であり、
    Rは同一でも異なっていてもよく、水素原子、又は1〜18の炭素原子を有する置換されていてもよい炭化水素ベース基を表し、
    は同一でも異なっていてもよく、次の式(II):
    Z-(RO-)-R (II)
    の基を表し、ここで:
    Zは1〜10の単糖又はオリゴ糖単位から誘導されたグリコシド残基を表し、
    は同一でも異なっていてもよく、アルキレン基を表し、
    cは0又は1〜20の数であり、
    はアルキレン基を表し、
    但し、該化合物は少なくとも一のR基を含有する]
    の化合物から選択されることを特徴とする請求項1に記載の組成物。
  3. Zがヘキソース類及びペントース類から選択される単糖類から誘導された残基であることを特徴とする請求項2に記載の組成物。
  4. Zがグルコースから誘導された残基であることを特徴とする請求項3に記載の組成物。
  5. 式(I)において、R基の一つがオクチル基を表し、Z-(RO-)-Rがグルコースから誘導される基を表し、ここでROがCHOであり、Rがプロピル基であることを特徴とする請求項2ないし4のいずれか1項に記載の組成物。
  6. 少なくとも一のグリコシド残基を含むオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンが一又は複数のシリコーン油との混合物であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の組成物。
  7. グリコシド残基を含むオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンの量が、組成物の全重量に対して活性物質で0.1重量%〜20重量%、好ましくは0.5重量%〜10重量%の範囲であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の組成物。
  8. 疎水性コーティングを有する金属酸化物が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム、又はそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の組成物。
  9. 疎水性コーティングを有する金属酸化物がナノ顔料の形態であることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載の組成物。
  10. 疎水性コーティングを有する金属酸化物が、アルミナ、シリカ、アルミニウム誘導体、ケイ素化合物、ナトリウム化合物、酸化鉄、鉄エステル、脂肪酸、脂肪アルコール及びその誘導体、レシチン、ロウ、(メタ)アクリルポリマー及びフッ化化合物から選択される一又は複数の化合物で、一又は複数の処理を受けていることを特徴とする、請求項1ないし9のいずれか1項に記載の組成物。
  11. コーティングされた金属酸化物が、酸化チタン及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか1項に記載の組成物。
  12. 金属酸化物の量が、組成物の全重量に対して活性物質で0.5重量%〜30重量%、好ましくは2重量%〜20重量%の範囲であることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか1項に記載の組成物。
  13. 少なくとも一の油をさらに含有していることを特徴とする請求項1ないし12のいずれか1項に記載の組成物。
  14. サンスクリーン剤をさらに含有していることを特徴とする請求項1ないしの13いずれか1項に記載の組成物。
  15. エマルションであることを特徴とする請求項1ないし14のいずれか1項に記載の組成物。
  16. 油相が組成物の全重量に対して5重量%〜80重量%であることを特徴とする請求項15に記載の組成物。
  17. 顔及び/又は体のための抗日光手入れ用又は保護用製品であることを特徴とする請求項1ないし16のいずれか1項に記載の組成物。
  18. 生理学的に許容可能な媒体中に、疎水性コーティングを有する少なくとも一の金属酸化物と、少なくとも一のグリコシド残基を含む少なくとも一のオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンを含有してなる油中水型エマルション。
  19. 皮膚、唇及び/又は毛髪の抗日光の手入れ及び/又は保護のため、及び/又は皮膚及び/又は唇のメークアップのための、請求項1ないし17のいずれか1項に記載の組成物又は請求項18に記載のエマルションの美容的使用。
  20. 請求項1ないし17のいずれか1項に記載の組成物又は請求項18に記載のエマルションを、皮膚、毛髪及び/又は唇に適用することからなることを特徴とする、太陽光線から皮膚、毛髪及び/又は唇を保護するための美容処理方法。
  21. 疎水性コーティングを有する少なくとも一の金属酸化物を含有する組成物を安定化させるための、少なくとも一のグリコシド残基を含む少なくとも一のオキシアルキレン化ポリジメチルシロキサンの使用。
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