JP2004513934A - 保護された1−(1−アミノアルキル)−オキシランの調製方法 - Google Patents

保護された1−(1−アミノアルキル)−オキシランの調製方法 Download PDF

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Abstract

式(明細書に記載してある式を参照されたい)中、Rが、アミノ酸のアミノ基の保護基であり;R’が、C−C10アルキル基、アリール基、アラルキル基又は基ArX(CH[式中、Arはアリール基、X=O,S,NR”であり;R”はC−Cアルキル基又はアリール基であり、mは0から5の整数である]である化合物を調製する方法が記述されている。該方法では、a)式(明細書に記載してある式を参照されたい)の化合物のカルボキシル基を、カルボキシル基の活性化剤である群で処理することによって活性化させる工程;b)そうして活性化された化合物を、トリメチルスルホキソニウムイリド又はトリメチルスルホニウムイリドと縮合させる工程;c)そうして得られたケト−イリドを、ケトン−還元剤と反応させることによって還元する工程;d)そうして得られた化合物を塩基と反応させることにより環化する工程によって、式IVの化合物を生成させる。

Description

【書類名】明細書
【発明の名称】保護された1−(1−アミノアルキル)−オキシランの調製方法
【特許請求の範囲】
【請求項1】下式
【化1】
Figure 2004513934
(式中、Rは、アミノ酸のアミノ基の保護基であり;R’は、直線状又は枝分れC−C10アルキル基、アリール基(必要な場合は置換される)、アラルキル基(必要な場合は置換される)又は基ArX(CH[式中、Arはアリール基(必要な場合は置換される)、X=O,S,NR”であり;R”はC−Cアルキル基又はアリール基であり、mは0から5の整数である]である)の化合物を調製する方法であって、
a)下式
【化2】
Figure 2004513934
(式中、R及びR’は上で説明した意味を有する)で表される化合物のカルボキシル基を、カルボキシル基の活性化剤である群で処理することによって活性化させる工程;
b)そうして活性化された化合物を、トリメチルスルホキソニウムイリド又はトリメチルスルホニウムイリドと縮合させる工程;
c)そうして得られたケト−イリドを、ケトン−還元剤と反応させることによって還元する工程;
d)そうして得られた化合物を塩基と反応させることにより環化して、式IVの化合物を生成させる工程
を特徴とする前記方法。
【請求項2】R’が、ベンジル基であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項3】Rが、t−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基又はメトキシカルボニル基であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項4】該活性化工程(a)を、1,1−カルボニルジイミダゾール、アルキルクロロホルメート又はハロゲン化アシル、好ましくは塩化アシル若しくはフッ化アシルで処理することによって行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項5】該活性化工程(a)を、トルエン若しくは酢酸エチルのような非プロトン性非極性有機溶媒中で、及び/又は塩化メチレン若しくはクロロホルムのようなハロゲン化有機溶媒中で、及び/又はTHFのような双極性非プロトン性有機溶媒中で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項6】該活性化工程(a)を、−50℃から該溶媒の還流温度で、好ましくは−15℃から+30℃の温度で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項7】該縮合工程(b)で用いられる該イリドが、トリメチルスルホキソニウムクロリド及び/若しくはハイドライドのイリド、及び/又はトリメチルスルホニウムクロリド及び/若しくはハイドライドのイリドであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項8】該縮合工程(b)を、0℃から+60℃の温度で、好ましくは室温で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項9】該還元工程(c)を、メタノールのようなアルコール溶媒中で;アセトニトリル及びTHFのような双極性非プロトン性溶媒中で;塩化メチレンのような塩素化溶媒中で;又はそれらの混合物中で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項10】該還元工程(c)を、−78℃から該溶媒の還流温度で、好ましくは−15℃から+30℃の温度で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項11】該ケトン−還元剤を、水素化物、例えば水素化ホウ素ナトリウムから選択することを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項12】該水素化物を、蟻酸、酢酸及び塩化アンモニウムのような活性化剤の存在下で用いることを特徴とする請求項11に記載の方法。
【請求項13】該環化工程(d)で用いられる塩基を、アルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウムの水酸化物、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の炭酸塩、ナトリウム若しくはカリウムのアルコラートから選択することを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項14】該環化工程(d)を、アセトニトリル、水、アルコール、塩素化溶媒、トルエン又はそれらの混合物中で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項15】該環化工程(d)を、−50℃から該溶媒若しくは該溶媒の混合物の還流温度で、好ましくは−20℃から+30℃の温度で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項16】該環化工程(d)を、相間移動触媒、例えばアンモニウム塩、ホスホニウム塩又はクラウンエーテルの存在下で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項17】下式
【化3】
Figure 2004513934
の化合物(式中、R及びR’は上記の意味を有する)から出発して、下式
【化4】
Figure 2004513934
の化合物を調製するための請求項1から16のいずれか一項に記載の方法。
【請求項18】請求項1から18に記載の方法を含むアスパルテートプロテアーゼ阻害薬を調製する方法。
【請求項19】下式
【化5】
Figure 2004513934
(式中、Rは、アミノ酸のアミノ基の保護基であり;R’は、直線状又は枝分れC−C10アルキル基、アリール基(必要な場合は置換される)、アラルキル基(必要な場合は置換される)又は基ArX(CH[式中、Arはアリール基(必要な場合は置換される)、X=O,S,NR”であり;R”はC−Cアルキル基又はアリール基であり、mは0から5の整数である]である)の化合物。
【請求項20】R’がベンジル基であり、Rがtert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基又はメトキシカルボニル基であることを特徴とする請求項19に記載の化合物。
【発明の詳細な説明】
【0001】
本発明は、下式
【0002】
【化6】
Figure 2004513934
(式中、Rは、アミノ酸のアミノ基の通常の保護基、例えばt−ブトキシカルボニル(BOC)、ベンジルオキシカルボニル(Cbz)、メトキシカルボニル(Moc)の一つであり;R’は、直線状又は枝分れC−C10アルキル基、アリール基(必要な場合は置換される)、アラルキル基(必要な場合は置換される)又は基ArX(CH[式中、Arはアリール基(必要な場合は置換される)、X=O,S,NR”であり;R”はC−Cアルキル基又はアリール基であり、mは0から5の整数である]である)を有する保護された1−(1−アミノアルキル)−オキシランの調製方法に関する。
【0003】
技術の状況
式IVのオキシラン誘導体、特に下式
【0004】
【化7】
Figure 2004513934
(式中、Rは既に上で規定した意味を有する)で表される化合物は、以下の特許明細書:すなわち、その内容全体を本明細書に完全に引用したものとするWO 96/16980、EP−337714、EP−356223、EP−434365、US−5,886,046、US−6,034,247、EF−480711、EP−482797、EP−480624、US−5,770,732、EP−528661で説明されているアスパルテートプロテアーゼ阻害薬の調製で用いることができる中間体である。
【0005】
保護されたフェニルアラニンおよびリシン誘導体に関しては、J.Enzyme Inhib.,vol.6,no.3,1992,181〜194頁、XP−0011037438、J.Biol.Chem.,vol.263,no.6,1968,2768〜2772頁、XP−001034096、およびBiochem.Journal,vol.250,no.3,1988,871〜876頁、XP−001034063に開示されている。
【0006】
式IVの上記化合物を調製する技術において既知の方法は、一般的に収率が、15%から20%程度と低く(US−5,693,847;EP−206090)、且つ/又は容易にラセミ化し、その後に分離及び精製の段階を必要とするα−アミノアルデヒドのような不安定中間体を利用する(US−5,693,847;WO 98/46577;WO 96/04277;US−5,643,878;EP−626178;EP−528661;EP−434365;EP−356223)ことから、工業的な観点からは比較的殆ど関心が持たれていない。
【0007】
(発明の説明)
上記の欠点を有していない、式IVの中間体を合成する新規な方法を見出した;本発明の目的を構成するこの方法は、概略以下の通りである:
【0008】
【化8】
Figure 2004513934
【0009】
本方法では、まず最初に、式Iのアミノ保護α−アミノ酸のカルボキシル基を活性化させる(アミノ酸のアミノ基を保護する方法は、従来技術において既知であり、例えば、その内容全体を本明細書に引用したものとするGreeneら、Protective Groups in Organic Synthesis, 1999, J. Wiley & Sonsで説明されており;実際に、前記方法は、アミノ水素を、BOC,Cbz,Mocのような保護基で置換することから成っている);活性化は、式Iの化合物を、カルボキシル基に関して特異的な活性化剤で、例えば1’1,1−カルボニルジイミダゾール、アルキルクロロホルメートで、又は例えば塩化物若しくはフッ化物のようなハロゲン化アシルで処理することによって行なう。溶媒は、一般的に、非プロトン性無極性有機溶媒、例えばトルエン又は酢酸エチル、及び/又はハロゲン化有機溶媒、例えば塩化メチレン若しくはクロロホルム、及び/又は非プロトン性双極性有機溶媒、例えばTHFであり;反応は、通常は−50℃から溶媒の還流温度で、好ましくは−15℃から+30℃の温度で行う。
【0010】
次に、上記のようにして活性化された保護アミノ酸を、トリメチルスルホキソニウムイリド又はトリメチルスルホニウムイリドと縮合させる。好ましいイリドは、トリメチルスルホキソニウム又はトリメチルスルホニウムの塩化物及びヨウ化物のイリドが挙げられるが;これらのイリドは、例であって、これらに限定されると考えるべきではない;実際、他のイリド、例えばアセテート、パークロレート、ブロミド、アリールスルホネートなどのイリドを本発明のために用いることができる。
【0011】
その場合、その内容全体が本明細書に組み込まれる、例えばE.J.Coreyら、J. Am. Chem. Soc.,(1965)87, 1353−1364に記載されているように、0℃から溶媒の還流温度において、例えばジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、THFのような双極性非プロトン性溶媒中において、水素化ナトリウム若しくはアルカリ金属のアルコラートのような強塩基で、又は例えばトルエンのような非極性溶媒中において若しくは塩化メチレンのようなハロゲン化溶媒中において、相間移動条件下で、水酸化ナトリウム若しくは水酸化カリウムのような無機塩基で、対応するスルホニウム塩又はスルホキソニウム塩を処理することによって、上記イリドを調製する。
【0012】
式Iの保護化合物とトリメチルスルホキソニウムイリド又はトリメチルスルホニウムイリドとの反応は、通常は、−50℃から+60℃の温度で、一般的には−15℃から+30℃の温度で行い;その反応溶媒は、通常は、保護α−アミノ酸の活性化が実行され、且つそのイリドが調製された溶媒から成る混合物である。このようにして、式IIのケト−イリド(式中、nは0または1の整数である)が得られ、当業者に既知の技術を用いて単離し、更なる精製を行わなくても、次の反応で用いることができる。
【0013】
次に、当業者に既知のケトン還元剤、例えば水素化物(水素化ホウ素ナトリウム)又はこれらの水素化物の混合物を用いて、活性化剤、例えば蟻酸、酢酸、塩化アンモニウムの存在下で、式IIのケト−イリドを還元して対応アルコールにする;この還元は、通常は、メタノールのようなアルコール溶媒中で;アセトニトリル及びTHFのような双極性非プロトン性溶媒中で;塩化メチレンのような塩素化溶媒中で行われる。反応温度は、一般的に−78℃から溶媒の還流温度、好ましくは−15℃から+30℃である。これにより、当業者に既知の技術によって単離でき、更に精製せずに、次の反応で用いることができる式III(式中、nは既に上で説明した意味を有する)の化合物が得られる;別法として、式IIIの化合物を含む還元反応から生じる反応混合物を、式IIIの化合物を単離せずに、次の反応のために直接用いることができる。
【0014】
次に、そのようにして得られた化合物IIIを、アセトニトリル、水、アルコール、塩素化溶媒、トルエン又はそれらの混合物のような溶媒中において、−50℃から溶媒(又は溶媒混合物)の還流温度で、好ましくは−20℃から+30℃の温度で、必要ならば、相間移動触媒、例えばアンモニウム塩、ホスホニウム塩又はクラウンエーテルの存在下で、塩基(アルカリ金属の水酸化物又はアンモニウムの水酸化物、アルカリ金属の炭酸塩、ナトリウム若しくはカリウムのアルコラート)を用いて環化し、式IVのエポキシドを得る。
【0015】
その好ましい態様では、本発明による方法を用いて、以下に示した反応スキーム:
【0016】
【化9】
Figure 2004513934
にしたがって保護された1−(1−アミノアルキル)−オキシランを調製し、更に特に、下式
【0017】
【化10】
Figure 2004513934
(式中、Rは既に上で説明した意味を有し、好ましくはBOC,Cbz又はMocである)で表される保護された1−(1−アミノアルキル)−オキシランを合成するために、本発明による方法を用いることができる。
【0018】
該方法の最適な実施形態では、下式
【0019】
【化11】
Figure 2004513934
(式中、Rは既に上で説明した意味を有する)で表される化合物を、通常はTHF中で、1,1−カルボニルジイミダゾール(CDI)又はアルキルクロロホルメートで活性化し、次にトリメチルスルホキソニウムイリド又はトリメチルスルホニウムイリドと反応させる;これらのイリドは好ましくはジメチルスルホキシド中で調製されるので、反応は、活性化されたα−アミノ酸を含むTHF溶液を、該イリドを含むジメチルスルホキシド溶液に滴下して加えることによって行う。
【0020】
これにより、下式
【0021】
【化12】
Figure 2004513934
(式中、nは既に上で説明した意味を有する)の化合物が得られ、次に、それを、一般的にアセトニトリル中で且つ蟻酸の存在下で、水素化ホウ素ナトリウムと反応させると、下式
【0022】
【化13】
Figure 2004513934
(式中、nは既に上で説明した意味を有する)で表される対応する還元化合物が得られる。
【0023】
次に、式VIIの化合物を、相間移動触媒、例えばテトラデシルトリメチルアンモニウムブロミドの存在下で、好ましくは塩化メチレンのような塩素化有機溶媒中で又はトルエンのような非極性有機溶媒中で作用する塩基と、一般的にはNaOH又はKOHと反応させることによって、環化して、式VIIIの化合物を得る。
【0024】
nが1である場合、式II,IIビス,III及びIIIビスの化合物は新規であり、本発明の更なる目的を構成する。
【0025】
純粋に説明のためであって、本発明を限定するものではない以下に掲げた実施例から理解できるように、本発明による方法により、従来技術で既知の方法に比べて、且つα−アミノアルデヒドのような不安定な化合物を厳密に用いることなく、はるかに高い収率で、所望の化合物を得ることができる。
【0026】
実施例1
ジメチルスルホキソニウム[2−オキソ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド
BOC−フェニルアラニン(30g)及びカルボニルジイミダゾール(21.8g)をテトラヒドロフラン(420ml)中に溶かし、そうして得られた溶液を還流下で1.5時間加熱し、次に20℃まで冷却する。別のフラスコでは、水素化ナトリウム(5.4g)をジメチルスルホキシド(296ml)に対して室温でゆっくりと加え、次にトリメチルスルホキソニウムハイドライド(29.8g)を少しずつ添加する。活性化されたBOC−フェニルアラニン溶液を、予め調製しておいたスルホキソニウムメチルイリド溶液に対して、室温で、ゆっくりと滴下して加える。添加し終わったら、その反応混合物を約2時間撹拌し、次に、それを水(800ml)の中に注ぎ、酢酸エチル(3×300ml)で抽出する。有機相を混合し、水(3×150ml)で洗浄し、濃縮する。そうして得られた固体を真空下で乾燥させると、更に精製しなくても次の反応で用いられるジメチルスルホキソニウム[2−オキソ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド(収率97%)が37.3g得られる。
【0027】
実施例2
ジメチルスルホキソニウム[2−ヒドロキシ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド
水素化ホウ素ナトリウム(4.4g)を、アセトニトリル(76ml)及び蟻酸(7.6ml)中ジメチルスルホキソニウム[2−オキソ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド(12.7g)溶液に対して、少しずつ加える。その反応混合物を約1時間撹拌し;その懸濁液をセライトで濾過し、アセトニトリル(10ml)で洗浄する。還元生成物、すなわちジメチルスルホキソニウム[2−ヒドロキシ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリドを含む溶液は、更に精製しなくても、次の反応で直接用いられる。
【0028】
実施例3
1−[1−(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ−2−フェニルエチル]オキシラン
実施例2から得られたジメチルスルホキソニウム[2−ヒドロキシ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリドの溶液を、塩化メチレン(150ml)中、砕かれた水酸化ナトリウム(12.2g)とテトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド(0.7g)との混合物に対して滴下して加え、温度を40℃よりも高温に保つ。その反応混合物を30℃から40℃で30分間撹拌する。次に、その反応混合物を、25℃まで冷却し、シリカゲル(42g)を用いて濾過し、塩化メチレン(70ml)で洗浄する。その溶液を真空下で濃縮し、そうして得られた固体を塩化メチレン(4.5ml)中で懸濁させ;その懸濁液を45℃で15分から30分間撹拌し、次に25℃まで冷却する。ヘキサン(45ml)を加え、その懸濁液を0℃から3℃に冷却し、その温度で30分間撹拌する。固体を濾過し、ヘキサンで洗浄し、真空下で乾燥させると、1−[1−(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ−2−フェニルエチル]オキシランが5.4g得られる(2パスで収率55%)。
【0029】
実施例4
1−[1−(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ−2−フェニルエチル]オキシラン
実施例2から得られたアセトニトリル溶液中ジメチルスルホキソニウム[2−ヒドロキシ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリドの環化は、実施例3で説明したのと同様な条件で行うことができる。反応条件の例及び対応する収率は表1に掲げてある。
【0030】
【表1】
Figure 2004513934
【0031】
実施例5
ジメチルスルホキソニウム[2−オキソ−3−[(ベンジルオキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド
Cbz−フェニルアラニン(4g)及びカルボニルジイミダゾール(2.6g)をテトラヒドロフラン(50ml)中に溶かし、そうして得られた溶液を還流下で1.5時間加熱し、次に20℃まで冷却する。別のフラスコでは、水素化ナトリウム(0.6g)をジメチルスルホキシド(19ml)に対して室温でゆっくりと加え、次にトリメチルスルホキソニウムハイドライド(3.0g)を少しずつ添加する。活性化されたCbz−フェニルアラニン溶液を、予め調製しておいたスルホキソニウムメチルイリド溶液に対して、室温で、ゆっくりと滴下して加える。添加し終わったら、その反応混合物を約2時間撹拌し、次に、それを水(80ml)の中に注ぎ、酢酸エチル(3×30ml)で抽出する。有機相を混合し、水(3×15ml)で洗浄し、濃縮する。そうして得られた固体を真空下で乾燥させると、更に精製しなくても次の反応で用いられるジメチルスルホキソニウム[2−オキソ−3−[(ベンジルオキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド(収率78%)が3.9g得られる。
【0032】
実施例6
ジメチルスルホキソニウム[2−ヒドロキシ−3−[(ベンジルオキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド
水素化ホウ素ナトリウム(0.15g)を、アセトニトリル(10ml)及び蟻酸(0.5ml)中ジメチルスルホキソニウム[2−オキソ−3−[(ベンジルオキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド(1.0g)溶液に対して、25℃で少しずつ加える。その反応混合物を約1時間撹拌し、その懸濁液をセライトで濾過し、アセトニトリル(10ml)で洗浄する。そうして得られた溶液を真空下で濃縮し、残留物をイソプロピルアルコール(10ml)中に再溶解させる。還元生成物、すなわちジメチルスルホキソニウム[2−ヒドロキシ−3−[(1,1−ジメチルオキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリドを含む溶液は、更に精製しなくても、次の反応で直接用いられる。
【0033】
実施例7
1−[1−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−2−フェニルエチル]オキシラン
40%(1.3g)水酸化ナトリウム水溶液を、実施例5から得られたジメチルスルホキソニウム[2−ヒドロキシ−3−[(ベンジルオキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド溶液に対して加える。その反応混合物(二相)を室温で30分間撹拌する。次に、水性相を分離させ、酢酸エチル(100ml)で有機相を希釈し、水(3×10ml)で洗浄する。その有機相を硫酸マグネシウムで無水にし、真空下で濃縮すると、塩化メチレン(0.2ml)及びヘキサンを加えることによって結晶化させることができる粗1−[1−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−2−フェニルエチル]オキシランが0.45g得られる。その固体を濾過し、ヘキサン(8ml)で洗浄し、真空下で乾燥させると、1−[1−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ−2−フェニルエチル]オキシランが0.37g(2パスで収率37%)得られる。
【0034】
実施例8
ジメチルスルホキソニウム[2−オキソ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド
カルボニルジイミダゾール(13.4g)を3℃のテトラヒドロフラン(40ml)中BOC−フェニルアラニン(20g)溶液に少しずつ加える。そうして得られた溶液を3℃で2時間撹拌し、次にトルエン(200ml)と水(100ml)との混合物中に注ぎ、生じた2つの相を分離し、水(2×100ml)で有機相を洗浄する。別のフラスコでは、水素化ナトリウム(2.7g)をジメチルホルムアミド(200ml)に対して室温でゆっくりと加え、次にトリメチルスルホキソニウムハイドライド(14.9g)を少しずつ加え、その混合物を、透明な溶液が得られるまで、室温で2時間撹拌する。その溶液を、活性化されたBOC−フェニルアラニンのトルエン溶液に対して、3℃において、ゆっくりと滴下して加える。添加し終わったら、その反応混合物を約2時間撹拌し、次に、それを水(1000ml)の中に注ぐ。そうして得られた混合物を3℃で15分間撹拌してから、生成した固体を濾過し、洗浄液が中性となるまで、冷水で洗浄する。そうして得られた生成物を真空下で乾燥させると、更に精製しなくても次の反応で用いられるジメチルスルホキソニウム[2−オキソ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド(収率70%)が16g得られる。
【0035】
実施例9
ジメチルスルホキソニウム[2−ヒドロキシ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド
水素化ホウ素ナトリウム(3.1g)を、アセトニトリル(86ml)及び蟻酸(8.5ml)中ジメチルスルホキソニウム[2−オキソ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド(16g)溶液に対して、3℃において、約45分間かけて少しずつ加えた。その反応混合物を約1時間撹拌し、その懸濁液をセライトで濾過し、次にアセトニトリル(14ml)で洗浄した。還元生成物、すなわちジメチルスルホキソニウム[2−ヒドロキシ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリドを含む溶液は、更に精製することなく、次の反応に直接用いられた。
【0036】
実施例10
1−[1−(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ−2−フェニルエチル]オキシラン
実施例9から得られたジメチルスルホキソニウム[2−ヒドロキシ−3−[(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ]−4−フェニル]ブチルイリド溶液を、塩化メチレン(170ml)中砕かれた水酸化ナトリウム(10.2g)とテトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド(0.8g)との混合物に対して滴下して加え、温度を40℃よりも高温に保った。その反応混合物を30℃から40℃で30分間撹拌した。その反応混合物を、25℃まで冷却し、シリカゲル(32g)で濾過し、塩化メチレン(80ml)で洗浄した。そうして得られた溶液を真空下で濃縮し、得られた固体をイソプロパノール(24ml)中に吸収し、形成した固体を濾別する。そのアルコール溶液を真空下で蒸発させて乾燥させ、得られた粗生成物を、シリカゲル(溶出液:塩化メチレン)を用いたカラムクロマトグラフィーで精製する。精製された生成物をアセトン(11ml)中に溶解し、3℃において、水(44ml)に対してゆっくりと滴下して加える。生成した固体を濾過し、水で洗浄し、真空下で乾燥させると、1−[1−(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ−2−フェニルエチル]オキシランが得られる。

Claims (20)

  1. 下式
    Figure 2004513934
    (式中、Rは、アミノ酸のアミノ基の保護基であり;R’は、直線状又は枝分れC−C10アルキル基、アリール基(必要な場合は置換される)、アラルキル基(必要な場合は置換される)又は基ArX(CH[式中、Arはアリール基(必要な場合は置換される)、X=O,S,NR”であり;R”はC−Cアルキル基又はアリール基であり、mは0から5の整数である]である)の化合物を調製する方法であって、
    a)下式
    Figure 2004513934
    (式中、R及びR’は上で説明した意味を有する)で表される化合物のカルボキシル基を、カルボキシル基の活性化剤である群で処理することによって活性化させる工程;
    b)そうして活性化された化合物を、トリメチルスルホキソニウムイリド又はトリメチルスルホニウムイリドと縮合させる工程;
    c)そうして得られたケト−イリドを、ケトン−還元剤と反応させることによって還元する工程;
    d)そうして得られた化合物を塩基と反応させることにより環化して、式IVの化合物を生成させる工程
    を特徴とする前記方法。
  2. R’が、ベンジル基であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. Rが、t−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基又はメトキシカルボニル基であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  4. 該活性化工程(a)を、1,1−カルボニルジイミダゾール、アルキルクロロホルメート又はハロゲン化アシル、好ましくは塩化アシル若しくはフッ化アシルで処理することによって行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  5. 該活性化工程(a)を、トルエン若しくは酢酸エチルのような非プロトン性非極性有機溶媒中で、及び/又は塩化メチレン若しくはクロロホルムのようなハロゲン化有機溶媒中で、及び/又はTHFのような双極性非プロトン性有機溶媒中で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  6. 該活性化工程(a)を、−50℃から該溶媒の還流温度で、好ましくは−15℃から+30℃の温度で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  7. 該縮合工程(b)で用いられる該イリドが、トリメチルスルホキソニウムクロリド及び/若しくはハイドライドのイリド、及び/又はトリメチルスルホニウムクロリド及び/若しくはハイドライドのイリドであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  8. 該縮合工程(b)を、0℃から+60℃の温度で、好ましくは室温で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  9. 該還元工程(c)を、メタノールのようなアルコール溶媒中で;アセトニトリル及びTHFのような双極性非プロトン性溶媒中で;塩化メチレンのような塩素化溶媒中で;又はそれらの混合物中で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  10. 該還元工程(c)を、−78℃から該溶媒の還流温度で、好ましくは−15℃から+30℃の温度で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  11. 該ケトン−還元剤を、水素化物、例えば水素化ホウ素ナトリウムから選択することを特徴とする請求項1に記載の方法。
  12. 該水素化物を、蟻酸、酢酸及び塩化アンモニウムのような活性化剤の存在下で用いることを特徴とする請求項11に記載の方法。
  13. 該環化工程(d)で用いられる塩基を、アルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウムの水酸化物、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の炭酸塩、ナトリウム若しくはカリウムのアルコラートから選択することを特徴とする請求項1に記載の方法。
  14. 該環化工程(d)を、アセトニトリル、水、アルコール、塩素化溶媒、トルエン又はそれらの混合物中で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  15. 該環化工程(d)を、−50℃から該溶媒若しくは該溶媒の混合物の還流温度で、好ましくは−20℃から+30℃の温度で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  16. 該環化工程(d)を、相間移動触媒、例えばアンモニウム塩、ホスホニウム塩又はクラウンエーテルの存在下で行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  17. 下式
    Figure 2004513934
    の化合物(式中、R及びR’は上記の意味を有する)から出発して、下式
    Figure 2004513934
    の化合物を調製するための請求項1から16のいずれか一項に記載の方法。
  18. 請求項1から18に記載の方法を含むアスパルテートプロテアーゼ阻害薬を調製する方法。
  19. 下式
    Figure 2004513934
    (式中、Rは、アミノ酸のアミノ基の保護基であり;R’は、直線状又は枝分れC−C10アルキル基、アリール基(必要な場合は置換される)、アラルキル基(必要な場合は置換される)又は基ArX(CH[式中、Arはアリール基(必要な場合は置換される)、X=O,S,NR”であり;R”はC−Cアルキル基又はアリール基であり、mは0から5の整数である]である)の化合物。
  20. R’がベンジル基であり、Rがtert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基又はメトキシカルボニル基であることを特徴とする請求項19に記載の化合物。
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