JP2004508309A

JP2004508309A - 除草活性を持った５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体

Info

Publication number: JP2004508309A
Application number: JP2002524317A
Authority: JP
Inventors: リュー，ユン−クル; キム，ヒョン−レイ; ヨン，ドン−ユ; ソン，ヨン−ファン; キム，キョン−マン; リー，ユン−ノ; キム，ヒョン−チュル; ホン，キュン−シク
Original assignee: コーリア　リサーチ　インスティテュート　オブ　ケミカル　テクノロジー
Priority date: 2000-09-07
Filing date: 2001-09-05
Publication date: 2004-03-18
Anticipated expiration: 2021-09-05
Also published as: JP3968012B2; WO2002019825A1; KR20020019750A; AU2001286294B2; US6838416B2; CN1303081C; KR100392072B1; CN1452458A; US20040023808A1; AU8629401A

Abstract

本発明は、５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体、その製造方法及びその除草剤としての使用を提供する。本発明の５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体は、田の条件でイネに対する薬害が微小で、各種雑草に対する除草活性が優れるだけでなく、低い濃度で高い除草効果を示し、安全性が高い田の除草剤として使用できる。

Description

【０００１】
技術分野
本発明は、新規な５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体、該誘導体の製造方法及び該誘導体の除草剤としての使用に関するものである。
【０００２】
従来の技術
一般的に、５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン構造を持った化合物は、除草剤として有効であると知られている。例えば、米国特許第４，９８３，２１０号（特許文献１参照）には、除草剤として、３−置換−５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体が開示されている。該置換体は、チエニル、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、フェニルまたは置換されたフェニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフェニル、ピロリジニル、フラニル、ピロリル及びピリジル基からなる群の中から選択されたものである。また、米国特許第４，９８３，２１０号（特許文献１参照）には、高地の温室条件下でのアブラナやひまわり等の作物に選択性を示し雑草防除力がある化合物が開示されている。
【０００３】
また、米国特許第５，２６２，３８８号（特許文献２参照）には、３−位置にニトロフェニル基が置換された５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体が開示されている。特開平０９−１４３，１７１号（特許文献３参照）には、３位置がカルボニル基に置換された５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体が開示されている。しかしながら、高い除草活性と農作物に対する高い選択性を持った薬剤の開発が求められている。
【０００４】
本発明は、化学式１の化合物の製造に関するものである。前記化合物は、除草剤として開発されたことはなく、イネのような農作物に対してさらに向上した除草活性及び選択性を持っている。
【０００５】
【特許文献１】
米国特許第４，９８３，２１０号
【特許文献２】
米国特許第５，２６２，３８８号
【特許文献３】
特開平０９−１４３，１７１号
【０００６】
発明の開示
本発明の目的は、化学式１の新規な５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体を提供することである。
【０００７】
本発明の他の目的は、前記誘導体の製造方法を提供することである。
【０００８】
本発明のまた他の目的は、前記誘導体を有効成分として含む田の除草剤を提供することである。
【０００９】
本発明の除草剤用組成物は、田の雑草に対する高い除草活性及びイネに対する高い選択性を持っている。
【００１０】
本発明は、除草活性を持った下記一般式１の５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体、該誘導体の製造方法及び該誘導体を有効成分とする除草剤を提供する。
【００１１】
化学式１
【化３】

【００１２】
（式中、Ｘ_１、Ｘ_２及びＸ_３は、各々独立してＨ、−ＣＨ_３、−ＣＨ_２ＣＨ_３、ハロゲン原子、−ＯＣＨ_３または −ＮＯ_２であり（但し、Ｘ_１、Ｘ_２及びＸ_３の少なくとも一つはＨ以外である）、Ｙ_１、Ｙ_２及びＹ_３は各々独立してＨまたはＦである。）
【００１３】
好ましい化学式１の化合物を下記に示す。
１）５−ベンジルオキシ−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例１）、
２）５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例２）、
３）５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例３）、
４）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例４）、
５）５−ベンジルオキシメチル−５−メチル−３−（４−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例５）、
【００１４】
６）５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例６）、
７）５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例７）、
８）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例８）、
９）５−ベンジルオキシメチル−５−メチル−３−（２−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例９）、
１０）５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例１０）、
【００１５】
１１）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例１１）、
１２）５−ベンジルオキシメチル−５−メチル−３−（２，４−ジメチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例１２）、
１３）５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２，４−ジメチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例１３）、
１４）５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２，４−ジメチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例１４）、
１５）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２，４−ジメチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例１５）、
【００１６】
１６）５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−クロロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例１６）、
１７）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−クロロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例１７）、
１８）５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例１８）、
１９）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例１９）、
２０）５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メトキシチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例２０）、
【００１７】
２１）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メトキシチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例２１）、
２２）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−ブロモ−２−クロロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例２２）、
２３）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−ニトロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例２３）、及び
２４）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メチル−２−ニトロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（例２４）。
【００１８】
本発明の化合物の製造方法は、下記スキーム１に示したように、
ａ）ＩＩＩの化合物と化学式ＩＶの２−メチル−２−プロペン−１−オールを塩基存在下で、３−双極子環化付加反応（１，３−ｄｉｐｏｌａｒｃｙｃｌｏａｄｄｉｔｉｏｎ）させて化学式Ｖの中間体を製造する段階、及び
ｂ）化学式Ｖの中間体及び化学式ＶＩの化合物を塩基存在下で触媒が存在または存在しない状態で反応させる段階で行える。
【００１９】
スキーム１
【化４】

【００２０】
（式中、Ｘ_１、Ｘ_２、Ｙ_１、Ｙ_２及びＹ_３は、前記で定義したものと同様で、Ｘはハロゲン、メタンスルホニルオキシまたはトルエンスルホニルオキシを示す。）
【００２１】
本発明の５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体の製造方法に対する具体的な反応は、下記に記述した通りである。
段階ａ）中間体Ｖの製造
段階ａ）で化学式ＩＩＩの化合物と化学式ＩＶの２−メチル−２−プロペン−１−オールを１，３−双極子環化付加反応させ化学式Ｖの中間体を製造する。
【００２２】
前記反応は、塩基を含有した適当な有機溶媒下で行なうことが好ましい。
【００２３】
適当な塩基の例としては、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような有機塩基、及びＫ_２ＣＯ_３、ＣａＣＯ_３またはＮａＣＯ_３のような無機塩基を含む。
【００２４】
有機溶媒は、その範囲を限定しないが、Ｃ_１〜Ｃ_４のアルコール、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジメチルホルムアミド及びジメチルアセトアミドを使用することが好ましい。
【００２５】
段階ｂ）５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体の製造
段階ｂ）では、化学式Ｖの中間体と化学式ＶＩの化合物を反応させて本発明の化合物を製造する。
【００２６】
前記反応は、塩基を含有した適当な有機溶媒下で行なうことが好ましい。
段階ｂ）で適当な塩基の例としては、ナトリウムハイドライド、リチウムハイドライド及びカルシウムハイドライドのような金属ハイドライド、ナトリウムアルコキシド及びカリウムアルコキシドのような金属アルコキシド、リチウムアミド及びリチウムジイソプロピルアミドのような金属アミドまたは金属アルキルアミド、及びｔ−ブチルリチウムのようなアルキル金属を含む。
【００２７】
有機溶媒としては、前記記述した溶媒を使用できる。
【００２８】
前記反応は、触媒を添加しない状態で行なうことができ、Ｉ_２、ＮａＩ、ＫＩ及びテトラブチルヨウ化アンモニウム存在下で行なうことが好ましい。
【００２９】
本発明の好ましい例によると、化学式１の化合物は低い処理量でも田の雑草に対して充分に高い除草活性を示していて、イネ、特に移植イネに対する優れた選択性を示す。したがって、本発明の化合物は特に移植イネに対する有用で安全な除草剤として使用できる。
【００３０】
より詳細には、本発明の化合物は、ＥＣＨＯＲ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉｖａｒ．ｏｒｙｚｕｃｏｌａ）、ＳＣＰＪＵ（ＳｃｉｒｐｕｓｊｕｎｃｏｉｄｅｓＲＯＸＢ）、ＭＯＯＶＡ（ＭｏｎｏｃｈｏｒｉａｖａｇｉｎａｌｓＰＲＥＳＬ）、ＣＹＰＳＥ（ＣｙｐｅｒｕｓｓｅｒｏｔｉｎｕｓＲＯＴＴＢ）、及びＳＡＧＰＹ（ＳａｇｉｔｔａｒｉａｐｙｇｍａｅａＭＩＱ）を含む田の雑草、特にＣＨＯＲ及びＭＯＯＶＡを含む田の雑草に対して顕著に高い除草活性を示している。したがって、本発明の化合物は、すでに報告されている除草剤と比較して、田のイネに対する強い安全性とイネと田の雑草に対する選択性を持った除草剤として効果的に使用できる。
【００３１】
田の雑草を調節するために本発明の化学式１の化合物を直接的に使用でき、また有効成分として化学式１の化合物及び製薬的に許容可能な担体を含有した除草用組成物を提供する。本発明の化合物を含んだ除草用組成物は、湿潤剤、乳化剤、粒剤、ダスタブル　パウダー（ｄｕｓｔａｂｌｅｐｏｗｄｅｒ）、水溶性液剤、湿潤性粒剤、水分散性粒剤等の形態で剤形化できる。
【００３２】
前記除草用組成物は、剤形化において一種または二種以上の本発明の活性化合物と固体または液体担体を含有することが好ましい。
【００３３】
適当な担体としては、ベントナイト、モンモリロナイト、滑石、珪藻土、雲母、石膏、ＣａＣＯ_３、アパタイト及びシリコン水酸化物のような無機粉末、大豆粉、小麦粉、おがくず、タバコ、澱粉及び結晶性セルロースのような有機粉末、ケトン系列高分子樹脂、アルミナ及び蜜蝋を使用できる。
【００３４】
適当な液体担体としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール及びベンジルアルコールのようなアルコール、トルエン、ベンゼン、キシレン及びメチルナフタレンのような芳香族炭化水素、クロロホルム及びテトラクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素、ジオキサン及びテトラヒドロフランのようなエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン及びシクロヘキサノンのようなケトン類、エチルアセテート、ブチルアセテート及びエチレングリコールアセテートのようなエステル類、ジメチルホルムアミドのようなアミド類、アセトニトリルのようなニトリル類、エチレングリコールのようなエーテルアルコール類、ジエチルエーテル等及び水を使用できる。
【００３５】
適当な界面活性剤としては、セチルトリメチル臭化アンモニウムのような陽イオン界面活性剤、アルカリ金属、アルカリ土類金属及びアルキルアリルスルホン酸、アルキルオキシスルホン酸、アルキルスルホン酸のアンモニウム塩のような陰イオン界面活性剤、及び脂肪族アルコール類、ひまし油、ナフタレンまたはナフタレンスルホン酸フェノールまたはホルムアルデヒドの縮合生成物のような非イオン性界面活性剤を使用する。
【００３６】
例えば、本発明の除草用組成物は、分散溶液、粉末、懸濁液、分散剤、界面活性剤、オイル分散剤、ペーストまたは分散による粒子の形態で直接的に適用できる。
【００３７】
本発明の組成物は、湿潤剤、粒剤または乳化剤で使用できる。このような剤形は、最終製品に対して本発明の化合物を１〜５０重量％含有することが好ましい。
【００３８】
液体水和剤または水和性粒剤に製造する場合、最終製品に対して本発明の化合物を２〜４０重量％含有することが好ましい。
【００３９】
さらに、本発明の化合物は、必要に応じて除草活性を向上させ、除草スペクトルを広げ、そして相乗効果を達成するために、一種または二種以上の既知の除草剤、殺虫剤、殺菌剤、駆虫剤、植物生育促進剤、肥料または他の農業用加工物を混合して使用できる。補完的な有用な除草剤の例として、３−イソプロピル−１Ｈ−２，１，３−ベンゾチアジアジン−４（３Ｈ）オン−２，２−ジオキサイド（ベンタゾン）、メチル−２−［３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ウレイドスルホニル］ベンゾエート（ｂｅｎｓｕｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙ、Ｌｏｎｄａｘ）、エチル−５−［３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ウレイドスルホニル］−１−メチルピラゾール−４−カーボニルレイト（ｐｙｒａｚｏｓｕｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ、ＮＣ−３１１）のようなＮ−（ヘテロアリルアミノカルボニル）ベンゼンスルホン酸アミド類等がある。
さらに、本発明の除草剤用組成物は、一種または二種以上の、付加的な既知の除草剤、殺虫剤、殺菌剤、駆虫剤、植物生育促進剤、肥料または他の農業用化合物をさらに含む。
【００４０】
発明を実施するための最良の形態
以下、実施例を通して本発明をさらに詳細に説明する。これらの実施例は、どこまでも本発明をより詳細に説明するためのもので、これらの実施例によって本発明の範囲が限定されるものではない。本発明の思想および目的の範囲内で改変が可能なことは、当業界で通常の知識を持った者において自明なことである。
【００４１】
例１：５−ベンジルオキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
（１−１）５−ヒドロキシメチル−５−メチル−３（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
メタノール３０ｍｌに２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド（ｃａｒｂｏｘａｌｄｅｈｙｄｅ）（１．０ｍｍｏｌ）とヒドロキシルアミン塩酸塩（１．０ｍｍｏｌ）を溶解させ、常温で水酸化ナトリウム水溶液（１．１ｍｍｏｌ）３ｍｌを滴下した後、１時間撹拌した。反応の完了は、ＴＬＣを通して確認した。氷水（１００ｍｌ）を加えて生成された沈殿物の２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒドのオキシムを収得し、乾燥させた後、ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）に溶解させた。該溶液にＮ−クロロスクシンイミド（１．０ｍｍｏｌ）を常温で少しずつ加えて１時間撹拌し、２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒドのヒドロキシモイルクロライドを収得した。反応が完了後、これを氷水（１００ｍｌ）に滴下し、ジクロロメタン（１００ｍｌ）で抽出した。得られた有機層を塩水（５０ｍｌ）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。前記濾過液を減圧下で濃縮した。得られた残留物の（２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒドヒドロキシモイルクロライド）をジクロロメタン（２００ｍｌ）に溶解させ、該溶液をトリエチルアミド（１ｍｍｏｌ）を含有したジメチルホルムアミドと２−メチル−２−プロペン−１−オール（２．０ｍｍｏｌ）の溶液に添加し、該混合物を３０分間撹拌した。
【００４２】
反応完決後、前記反応混合物を１００ｍｌの氷水に入れ、１５０ｍｌジクロロメタンで抽出した。得られた有機層をＮａＣｌ溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで濃縮させた後、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（エチルアセテート：ｎ−ヘキサン＝１：５、ｖ／ｖ）で分離して中間体化合物の５−ヒドロキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンを収得した。
【００４３】
（１−２）５−ベンジルオキシル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）に５−ヒドロキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン（１．０ｍｍｏｌ）が溶解された溶液にナトリウムハイドライドをゆっくり加えて、０℃で３０分間撹拌した。該溶液にジメチルホルムアミドとベンジルクロライド（１．１ｍｍｏｌ）の溶液を滴下させた後、２時間撹拌した。反応を完決させた後、反応混合物を１００ｍｌの氷水に入れ、１５０ｍｌジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を水溶性ＮａＣｌ溶液で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下で乾燥した。
【００４４】
前記残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（エチルアセテート：ヘキサン＝１：５、ｖ／ｖ）を利用して５−ベンジルオキシル−５−メチル−３−（２−メチル−チオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンを得た。
【００４５】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４６（ｓ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．４０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１３．０Ｈｚ），
４．６０（ｓ，２Ｈ），６．６８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．５Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．５Ｈｚ），
７．２４−７．３６（ｍ，５Ｈ）
【００４６】
例２：５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
ベンジルクロライドの代わりに２−フルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンを製造した。
【００４７】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４６（ｓ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１４．０Ｈｚ），
４．６６（ｓ，２Ｈ），６．６７−６．７０（ｍ，１Ｈ），７．０１−７．３９（ｍ，５Ｈ）
【００４８】
例３：５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
ベンジルクロライドの代わりに３−フルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンを製造した。
【００４９】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４５（ｓ，３Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ），２．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．４０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５４（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１３．８Ｈｚ），
４．６５（ｓ，２Ｈ），６．６８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．５Ｈｚ），６．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．５Ｈｚ），
６．９２−７．４１（ｍ，４Ｈ）
【００５０】
例４：５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
ベンジルクロライドの代わりに２，６−ジフルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンを製造した。
【００５１】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４６（ｓ，３Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１４．０Ｈｚ），
４．６６（ｓ，２Ｈ），６．６７−６．７０（ｍ，１Ｈ），７．０１−７．３９（ｍ，５Ｈ）
【００５２】
例５：５−ベンジルオキシメチル−５−メチル−３−（４−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒドの代わりに３−メチルチオフェン−２−カルボキサルデヒドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００５３】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４５（ｓ，３Ｈ），２．４３（ｓ，３Ｈ），３．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．４４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１４．２Ｈｚ），
４．５９（ｓ，２Ｈ），６．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），７．２２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），
７．２３−７．３３（ｍ，５Ｈ）
【００５４】
例６：５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに３−メチルチオフェン−２−カルボキサルデヒドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００５５】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４７（ｓ，３Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），３．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．４６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１５．４Ｈｚ），
４．６７（ｓ，２Ｈ），６．８８−７．４３（ｍ，６Ｈ）
【００５６】
例７：５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに３−メチルチオフェン−２−カルボキサルデヒドを使用することを除いて化合物を製造した。
【００５７】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４６（ｓ，３Ｈ），２．４４（ｓ，３Ｈ），２．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．４４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１３．２Ｈｚ），
４．５８（ｓ，２Ｈ），６．８５−７．２７（ｍ，６Ｈ）
【００５８】
例８：５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに３−メチルチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び２，６−ジフルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００５９】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４２（ｓ，３Ｈ），２．４１（ｓ，３Ｈ），２．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１５．９Ｈｚ），
４．６８（ｓ，２Ｈ），６．８２−６．８９（ｍ，３Ｈ），７．２０−７．２５（ｍ，２Ｈ）
【００６０】
例９：５−ベンジルオキシメチル−５−メチル−３−（２−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒドの代わりに５−ブロモチオフェン−２−カルボキサルデヒドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００６１】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４６（ｓ，３Ｈ），２．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．３９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．２，１４．０Ｈｚ），
４．５９（ｓ，２Ｈ），６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），６．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），
７．２４−７．３５（ｍ，５Ｈ）
【００６２】
例１０：５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに各々５−ブロモチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び３−フルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００６３】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４８（ｓ，３Ｈ），２．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．７Ｈｚ），
３．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．７Ｈｚ），３．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．２，１３．４Ｈｚ），
４．６０（ｓ，２Ｈ），６．８７−７．１０（ｍ，５Ｈ），７．２４−７．３５（ｍ，１Ｈ）
【００６４】
例１１：５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに各々５−ブロモチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び２，６−ジフルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００６５】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４５（ｓ，３Ｈ），２．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．７Ｈｚ），
３．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．７Ｈｚ），３．５４（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．２，１５．８Ｈｚ），
４．６９（ｓ，２Ｈ），６．８２−７．００（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．３２（ｍ，１Ｈ）
【００６６】
例１２：５−ベンジルオキシメチル−５−メチル−３−（２，４−ジメチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒドの代わりに３，５−ジメチルチオフェン−２−カルボキサルデヒドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００６７】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４５（ｓ，３Ｈ），２．３６（ｓ，３Ｈ），２．４３（ｓ，３Ｈ），
２．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．５２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１３．２Ｈｚ），４．６１（ｓ，２Ｈ），６．５７（ｓ，１Ｈ），
７．２６−７．３４（ｍ，５Ｈ）
【００６８】
例１３：５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２，４−ジメチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに各々３，５−ジメチルチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び２−フルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００６９】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４５（ｓ，３Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ），２．４２（ｓ，３Ｈ），
２．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．３Ｈｚ），３．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．３Ｈｚ），
３．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１４．８Ｈｚ），４．６７（ｓ，２Ｈ），６．５６（ｓ，１Ｈ），
６．９７−７．４０（ｍ，４Ｈ）
【００７０】
例１４：５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２，４−ジメチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに各々３，５−ジメチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及び３−フルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００７１】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４６（ｓ，３Ｈ），２．３６（ｓ，３Ｈ），２．４２（ｓ，３Ｈ），
２．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．４０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．５３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．１，１３．６Ｈｚ），４．５９（ｓ，２Ｈ），６．５６（ｓ，１Ｈ），
６．９３−７．０９（ｍ，３Ｈ），７．２２−７．３０（ｍ，１Ｈ）
【００７２】
例１５：５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２，４−ジメチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに各々３，５−ジメチルチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び２，６−ジフルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００７３】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４３（ｓ，３Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ），２．４２（ｓ，３Ｈ），
２．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．５３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１５．７Ｈｚ），４．６９（ｓ，２Ｈ），６．５５（ｓ，１Ｈ），
６．８４−６．９２（ｍ，２Ｈ），７．２２−７．２７（ｍ，１Ｈ）
【００７４】
例１６：５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−クロロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに各々３−クロロチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び２−フルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００７５】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４３（ｓ，３Ｈ），２．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．３９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１５．９Ｈｚ），
４．６５（ｓ，２Ｈ），６．７５−７．１１（ｍ，６Ｈ）
【００７６】
例１７：５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−クロロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに各々３−クロロチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び２，６−ジフルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００７７】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４２（ｓ，３Ｈ），２．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１５．９Ｈｚ），
４．６６（ｓ，２Ｈ），６．８５−７．２０（ｍ，５Ｈ）
【００７８】
例１８：５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに各々３−ブロモチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び３−フルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００７９】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．５７（ｓ，３Ｈ），３．２８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），
３．６９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），３．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．２，１５．７Ｈｚ），
４．６１（ｓ，２Ｈ），６．９８−７．０６（ｍ，３Ｈ），７．２５−７．３０（ｍ，３Ｈ）
【００８０】
例１９：５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに各々３−ブロモチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び２，６−ジフルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００８１】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４５（ｓ，３Ｈ），３．２２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．３Ｈｚ），
３．６５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．３Ｈｚ），３．５５（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１４．２Ｈｚ），
４．７０（ｓ，２Ｈ），６．８４−６．９９（ｍ，３Ｈ），７．２３−７．２９（ｍ，２Ｈ）
【００８２】
例２０：５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メトキシチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに各々３−メトキシチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び３−フルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００８３】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４５（ｓ，３Ｈ），３．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．３Ｈｚ），
３．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．３Ｈｚ），３．５２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１５．７Ｈｚ），
３．８６（ｓ，３Ｈ），４．５９（ｓ，２Ｈ），６．７９−７．２９（ｍ，６Ｈ）
【００８４】
例２１：５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メトキシチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに各々３−メトキシチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び２，６−ジフルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００８５】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４２（ｓ，３Ｈ），３．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．３Ｈｚ），
３．４７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．３Ｈｚ），３．５３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．１，１４．２Ｈｚ），
３．８７（ｓ，３Ｈ），４．７０（ｓ，２Ｈ），６．８０−６．９２（ｍ，３Ｈ），７．２１−７．２６（ｍ，２Ｈ）
【００８６】
例２２：５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−ブロモ−２−クロロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルアルデヒドの代わりに各々３−ブロモ−５−クロロチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び２，６−ジフルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００８７】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４３（ｓ，３Ｈ），２．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），
３．３６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０，１５．９Ｈｚ），
４．６８（ｓ，２Ｈ），６．８５−７．３１（ｍ，４Ｈ）
【００８８】
例２３：５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−ニトロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに５−ニトロチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び２，６−ジフルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００８９】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４６（ｓ，３Ｈ），２．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．４Ｈｚ），
３．４２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．４Ｈｚ），３．５７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．１，１９．５Ｈｚ），
４．６８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．３，１２．３Ｈｚ），６．８８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），
７．０５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．３Ｈｚ），７．２１−７．３３（ｍ，１Ｈ），７．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．３Ｈｚ）
【００９０】
例２４：５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メチル−２−ニトロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンの製造
２−メチルチオフェン−５−カルボキサルデヒド及びベンジルクロライドの代わりに各々３−メチル−５−ニトロチオフェン−２−カルボキサルデヒド及び２，６−ジフルオロベンジルクロライドを使用することを除いて、例１と同様な方法で化合物を製造した。
【００９１】
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： δ１．４５（ｓ，３Ｈ），２．４３（ｓ，３Ｈ），２．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．７Ｈｚ），
３．４２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），３．５６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．２，２０．９Ｈｚ），
４．６８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１１．２，１４．８Ｈｚ），６．８８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），
７．２０−７．３５（ｍ，１Ｈ），７．６９（ｓ，１Ｈ）
【００９２】
実験例１：除草活性測定
本発明の化合物が、田のイネ（ＯＲＹＳＡ：ＯｒｙｚａｓａｔｉｖａＬ．）の雑草に対する除草活性を調べるために、本発明の例で製造した化合物と米国特許第４，９８３，２１０号に開示された化合物中、本発明の化合物と最も類似な化合物番号１０９の化合物（化合物Ａ）の除草活性を比較した。試験に使用した田の雑草は、ＥＣＨＯＲ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉｖａｒ．ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）、ＳＣＰＪＵ（ＳｃｉｒｐｕｓｊｕｎｃｏｉｄｅｓＲＯＸＢ）、ＭＯＯＶＡ（ＭｏｎｏｃｈｏｒｉａｖａｇｉｎａｌｉｓＰＲＥＳＬ）、ＣＹＰＳＥ（ＣｙｐｅｒｕｓｓｅｒｏｔｉｎｕｓＲＯＴＴＢ）、及びＳＡＧＰＹ（ＳａｇｉｔｔａｒｉａｐｙｇｍａｅａＭＴＱ）であった。
【００９３】
１．２％の有機物質を含んだ砂質土壌（ｐＨ６．０）を容積が１４０ｃｍ^２の試験用プラスチックポットに入れた後、３葉期のイネ（ＯＲＹＳＡ）とすでに発芽させたイネの種子を各々２ｃｍの深さに移植及び播種し、同一ポットに田の雑草であるヒエ（ＥＣＨＯＲ）、ホタルイ（ＳＣＰＪＵ）、コナギ（ＭＯＯＶＡ）、ミズガヤツリ（ＣＹＰＳＥ）及びウリカワ（ＳＡＧＰＹ）の種子を播種後、水を３ｃｍの深さまで供給した。
【００９４】
２日後に、５０％アセトンに溶解させた前記実験化合物及びと非イオン界面活性剤のツイーン２０を、水で希釈して各々０．０１６、０．０６３、０．２５、１及び４．０ｋｇ／ｈａの濃度の液状製剤を製造し、各濃度の液状製剤を前記ポットに均等に散布した。
【００９５】
３週間経過後、各種田の雑草に対する除草効果と田の条件におけるイネに対する薬害を、直接肉眼で観察して百分率で表した。ここで、０は除草効果が全く無いことを示し、１００は植物体が全部死滅したことを示す。結果を下記表１に示した。
【００９６】
【表１】

【００９７】
【表２】

前記表１における、除草活性を比較するために対照群として米国特許第４，９８３，２１０号にしたがって製造した化合物Ａの構造を下記に示す。
【００９８】
【化５】

【００９９】
前記結果から分かるように、本発明の化合物は、化合物Ａに比べて低い濃度で雑草に対する除草活性を示し、特に移植イネは、本発明の化合物に対して耐性を示すことが分かった。
【０１００】
実験例２：２葉期のヒエとイネに対する田の条件での除草活性測定
１．２％の有機物質を含んだ砂質土壌（ｐＨ６．０）を容積が１４０ｃｍ^２の試験用プラスチックポットに入れた後、前もって発芽させたイネ（ＯＲＹＳＡ）とヒエ（ＥＣＨＯＲ）の種子を各々土壌の表面に蒔き、播種直後に深さ３ｃｍになるように水を供給した。
【０１０１】
播種７日後、前もって発芽させたイネ（ＯＲＹＳＡ）の種子を、土壌表面に蒔いた。この時、前もって播種したイネとヒエが２葉期に達していた。２日後、５０％アセトンに溶解させた例８で製造した化合物と非イオン界面活性剤のツイーン−２０の溶液を水で希釈して各々０．０１６、０．０６３、０．２５、１及び４．０ｋｇ／ｈａ濃度の液状製剤を製造し、各濃度の液状製剤を前記試験ポットに均等に散布した。
【０１０２】
散布して３週間後、ヒエ及びその他の田の雑草に対する除草効果と田の条件におけるイネに対する薬害を、直接肉眼で観察して百分率で表した。ここで、０は除草効果が全く無いことを示し、１００は植物体が全部死滅したことを示す。結果を下記表２に示した。
【０１０３】
【表３】

【０１０４】
前記表１及び表２から分かるように、本発明の化合物は移植イネに対し１Ｋｇ／ｈａまで薬害が微小であり、ヒエに対して０．０６３ｋｇ／ｈａ〜０．２５０ｋｇ／ｈａの薬量で極めて優れた除草効果を示した。さらに、本発明の化合物は、ホタルイ（ＳＣＰＪＵ）、コナギ（ＭＯＯＶＡ）、ミズガヤツリ（ＣＹＰＳＥ）、チョウジタデ（ＬＵＤＰＲ（ＬｕｄｗｉｇｉａｐｒｏｓｔｒａｔａＲＯＸＢ））、タマガヤツリ（ＣＹＰＤＩ（ＣｙｐｅｒｕｓｄｉｆｆｏｒｍｉｓＬ．））、キカシグサ（ＲＯＴＩＮ（ＲｏｔａｌａｉｎｄｉｃａＫＯＥＨＥ））、アゼナ（ＬＩＤＰＹ（ＬｉｎｄｅｒｎｉａｐｙｘｉｄａｒｉａＬ．））及びウリカワ（ＳＡＧＰＹ）等の種々な田の雑草に対して一様に優れた除草効果を示す。
【０１０５】
特に、例１９で製造した化合物は、０．０６３ｋｇ／ｈａでもヒエを完全に防除する優秀な除草活性を示している。一方、米国特許第４，９８３，２１０号に記載された化合物Ａは、高い処理量で活性が見られるが、低い処理量では、除草活性が見られない。このように、本発明の化合物は、優れた除草活性及び移植イネに対する選択性を示していて、有用で安全な除草剤として使用できる。
【０１０６】
本発明は説明的に記載されていて、そして用いられている用語は記載のためのものであって限定するためのものではないことを理解されたい。本発明においては、前記記載に鑑み多くの修正および改変が可能である。したがって、以下の請求の範囲の範囲内において、具体的に記載されていない態様において本発明を実施してもよいことを理解されたい。

Claims

下記化学式１

式中、Ｘ_１、Ｘ_２及びＸ_３は、各々独立してＨ、−ＣＨ_３、−ＣＨ_２ＣＨ_３、ハロゲン原子、−ＯＣＨ_３または−ＮＯ_２であり（但し、Ｘ_１、Ｘ_２及びＸ_３の少なくとも一つはＨ以外である）、並びに、Ｙ_１、Ｙ_２及びＹ_３は、各々独立してＨまたはＦである、
で表される５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体。
Ｘ_１及びＸ_２が独立してＨ、ハロゲン原子、または −ＣＨ_３であり、Ｘ_３が −ＣＨ_３、ハロゲン原子または −ＮＯ_２であり、並びにＹ_１、Ｙ_２及びＹ_３中の少なくとも一つがＦであることを特徴とする請求項１に記載の誘導体。
１）５−ベンジルオキシ−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
２）５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
３）５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
４）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
５）５−ベンジルオキシメチル−５−メチル−３−（４−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
６）５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
７）５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
８）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
９）５−ベンジルオキシメチル−５−メチル−３−（２−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
１０）５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
１１）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
１２）５−ベンジルオキシメチル−５−メチル−３−（２，４−ジメチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
１３）５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２，４−ジメチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
１４）５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２，４−ジメチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
１５）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２，４−ジメチルチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
１６）５−（２−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−クロロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
１７）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−クロロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
１８）５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
１９）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−ブロモチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
２０）５−（３−フルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メトキシチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
２１）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メトキシチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
２２）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−ブロモ−２−クロロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、
２３）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（２−ニトロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリン、及び
２４）５−（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル−５−メチル−３−（４−メチル−２−ニトロチオフェン−５−イル）−１，２−イソオキサゾリンからなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の誘導体。
田の作物であるイネの、ＥＣＨＯＲ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉｖａｒ．ｏｒｙｚｕｃｏｌａ）、ＳＣＰＪＵ（ＳｃｉｒｐｕｓｊｕｎｃｏｉｄｅｓＲＯＸＢ）、ＭＯＯＶＡ（ＭｏｎｏｃｈｏｒｉａｖａｇｉｎａｌｓＰＲＥＳＬ）、ＣＹＰＳＥ（ＣｙｐｅｒｕｓｓｅｒｏｔｉｎｕｓＲＯＴＴＢ）、及びＳＡＧＰＹ（ＳａｇｉｔｔａｒｉａｐｙｇｍａｅａＭＩＱ）を含む雑草に対して除草活性を持つことを特徴とする請求項１に記載の誘導体。
ａ）化学式ＩＩＩの化合物と化学式ＩＶの２−メチル−２−プロペン−１−オールを塩基存在下で、１，３−双極子環化付加反応させ、化学式Ｖの中間体を製造する段階、及び
ｂ）化学式Ｖの中間体及び化学式ＶＩの化合物を、塩基存在下で触媒が存在または存在しない状態で反応させる段階を含む、請求項１に記載の５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体の製造方法。

（式中、Ｘ_１、Ｘ_２、Ｙ_１、Ｙ_２及びＹ_３は、前記で定義したものと同様で、Ｘはハロゲン、メタンスルホニルオキシまたはトルエンスルホニルオキシを示す。）
段階ａ）の塩基が、トリエチルアミン、トリメチルアミン及びジイソプロピルエチルアミンを含む有機塩基、及びＫ_２ＣＯ_３、ＣａＣＯ_３及びＮａ_２ＣＯ_３を含む無機塩基からなる群から選択されたものであることを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
反応が、Ｃ_１〜Ｃ_４のアルコール、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジメチルホルムアミド及びジメチルアセトアミドからなる群から選択された有機溶媒存在下で行なわれることを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
段階ｂ）の塩基が、金属ハイドライド、金属アルコキシド、金属アミドまたは金属アルキルアミド及びアルキル金属からなる群から選択されたことを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
段階ｂ）の塩基が、リチウムハイドライド、カルシウムハイドライド、ナトリウムアルコキシド、カリウムアルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド及びｔ−ブチルリチウムからなる群から選択されたことを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
段階ｂ）の触媒が、Ｉ_２、ＮａＩ、ＫＩ及びテトラブチルヨウ化アンモニウムからなる群から選択されたことを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
請求項１に記載の５−ベンジルオキシメチル−１，２−イソオキサゾリン誘導体を有効成分として有効量含む、除草剤組成物。
組成物が、田の作物であるイネの、田の雑草であるＥＣＨＯＲ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉｖａｒ．ｏｒｙｚｕｃｏｌａ）、ＳＣＰＪＵ（ＳｃｉｒｐｕｓｊｕｎｃｏｉｄｅｓＲＯＸＢ）、ＭＯＯＶＡ（ＭｏｎｏｃｈｏｒｉａｖａｇｉｎａｌｓＰＲＥＳＬ）、ＣＹＰＳＥ（ＣｙｐｅｒｕｓｓｅｒｏｔｉｎｕｓＲＯＴＴＢ）、及びＳＡＧＰＹ（ＳａｇｉｔｔａｒｉａｐｙｇｍａｅａＭＩＱ）を防除することを特徴とする請求項１１に記載の除草剤組成物。
前記組成物が、一種または二種以上の既知の除草剤、殺虫剤、殺菌剤、駆虫剤、植物生育促進剤、肥料または他の農業用化合物をさらに含む請求項１１に記載の除草剤組成物。