JP2004504152A

JP2004504152A - レーザマーキング機械において塵および煙霧を除去するための方法およびシステム

Info

Publication number: JP2004504152A
Application number: JP2002513628A
Authority: JP
Inventors: スリトゥラノント，ソンブーン; ベサルチ，スパチャイ; パノモウパサム，パイロジ
Original assignee: Advanced Micro Devices Inc
Current assignee: Advanced Micro Devices Inc
Priority date: 2000-07-20
Filing date: 2001-06-08
Publication date: 2004-02-12
Also published as: WO2002007905A1; KR20030015891A; CN1443096A; EP1307300A1; US6384372B1; TW505958B; BR0112593A; AU2001275413A1

Abstract

レーザマーキング機械（１６）のために塵および煙霧を除去するための局面を示す。システムの局面において、このシステムは、コアンダ効果に従って動作して、レーザマーキング機械（１６）から吸引によって塵および煙霧を除去する真空アセンブリ（２０，２２，および２４）を含む。このシステムは、真空アセンブリ（２０，２２，および２４）に結合されて真空アセンブリ（２０，２２，および２４）をオンおよびオフにするための制御機構をさらに含む。排水システム（２８，３０）は真空アセンブリ（２０，２２，および２４）に結合されて、真空アセンブリ（２０，２２，および２４）からの塵および煙霧を、レーザマーキング機械（１６）を収容する設備から廃棄する。

Description

【０００１】
【技術分野】
この発明は、レーザマーキング機械に関し、より特定的に、レーザマーキング機械のための塵および煙霧の除去に関する。
【０００２】
【背景技術】
チップパッケージの表面にマーキングを行なうために、レーザビームを用いることがますます一般的になっている。レーザマーキングは高速であり、硬化時間を必要とせず、最小の設定時間で一貫して高品質のマークを生成する。レーザマーキング機械において、レーザビームは、基本的に、製造物の表面にマークを焼き付けて、永続するマークを生成する。パッケージされたチップの場合、レーザマーキング部分はパッケージ表面の他の部分とは異なる反射率を生じる。したがって、このチップを光源に対して或る角度に保持することによって、レーザによりチップ上に記された情報を容易に読取ることができる。
【０００３】
レーザマーキング機械を用いて、集積回路のパッケージに、ロゴ、日付、パート番号、および他のパッケージ識別子のマーキングを行なっている間に、設備のレーザマーキングチャンバ内に塵および煙霧が生じる。生じた塵および煙霧は、製品の品質に対して有害な影響を及ぼすのを防ぐために、迅速に、間断なく、効果的に除去されなければならない。従来では、塵および煙霧は、標準的な工業用真空クリーナを用いてレーザチャンバ等の作業環境から除去されている。図１は、従来の塵除去システムの図を示す。示されるとおり、このシステムは、真空クリーナ１２に結合され、かつ高くされた床１８上に位置づけられたレーザマーキング機械１６のレーザマーキングチャンバ１４内に挿入される、ノズル１０を含む。しかしながら、レーザマーキング作業から塵および煙霧を除去する標準的な真空クリーナ１２の性能は、いくつかの欠点により、それほど満足できるものではない。これらの欠点には、真空クリーナ１２の集塵袋を定期的に清掃する必要性が含まれる。さらに、真空クリーナ１２は、煙霧を効果的に除去せず、そのモータの雑音はかなり大きく、動作およびメンテナンスのコストが非常に高い。
【０００４】
したがって、従来の真空クリーナのアプローチの欠点をなくす、レーザマーキング機械のために塵および煙霧を除去するための方法および装置が必要とされる。
【０００５】
【発明の開示】
レーザマーキング機械のために塵および煙霧を除去するための局面を示す。或るシステムの局面において、このシステムは、コアンダ効果（ＣｏａｎｄａＥｆｆｅｃｔ）に従って動作して、レーザマーキング機械から吸引によって塵および煙霧を除去する真空アセンブリを含む。このシステムは、真空アセンブリに結合されて真空アセンブリをオンおよびオフにするための制御機構をさらに含む。排水システムは真空アセンブリに結合されて、真空アセンブリからの塵および煙霧を、レーザマーキング機械を収める設備から廃棄する。
【０００６】
この発明により、従来の真空システムに比べ、消費電力がほとんどなく、モータのメンテナンスが不要であり、塵袋がない等の結果により、作業コストを下げる真空アセンブリが提供される。この発明は、工場の設計の排水システムに容易に統合される、実質的にノイズのないアセンブリにおいて、効果的な吸引力と清掃とをさらに達成する。この発明のこれらのおよび他の利点は、以下の詳細な説明と添付の図面とにより、より容易に理解されるであろう。
【０００７】
【発明を実施するためのモード】
この発明は、レーザマーキング機械における塵および煙霧の除去に関する。以下の説明は、当業者がこの発明をなして用いることができるように示され、特許出願およびその要件という文脈で提供される。この明細書に記載される好ましい実施例ならびに包括的原理および特徴に対するさまざまな変更が、当業者には容易に明らかになるであろう。したがって、この発明は、示される実施例に限定されることが意図されるものではなく、この明細書に記載される原理および特徴と整合する最も広い範囲と調和することが意図される。
【０００８】
この発明は、電力をほとんど消費せず、ノイズをほとんど生じず、メンテナンスに関してほとんどコストをかけずに、閉塞された環境から塵および煙霧を効果的に除去するアセンブリを提供する。図２は、この発明に従った、塵および煙霧の除去システムを示す。図２のアセンブリには、ノズル２０、エアアンプ２２、ダストホース２４、および制御機構２６が含まれる。ノズル２０は、好ましくは、マーキングチャンバ１４内に設置するための正方形のステンレス鋼ノズルとして設けられる。ノズル２０は、それを通して真空アセンブリが吸引によってマーキングチャンバ１４から塵および煙霧を除去する導管として働く。
【０００９】
標準１．２５インチのヴァコン社製（ｖａｃｃｏｎ）エアアンプが、エアアンプ２２に好適であり、マーキングチャンバ１４から塵および煙霧を吸引する真空を生じる。真空は、ノズルから出た空気（または他の流体）の流れが、付近の湾曲した表面の曲率、すなわち、その表面が流れと形成する角度が鋭くなり過ぎない場合に、その表面に沿って進む傾向があるという観察のことを指すコアンダ効果に従って動作する。したがって、真空の動作において、大量の空気、気体、または塵が、環状の間隙から噴出して湾曲した表面上を通る、送りこまれた少量の圧縮空気とともにユニットの開口部に動かされる。真空が生じることにより、レーザマーキング機械を収容する設備内に通常は存在する排水システムの排水パイプ２８にヴァコン社製エアアンプ２２を接続するダストホース２４、たとえばＰＶＣダストホースを介して、塵および煙霧が除去される。排水パイプ２８は、好ましくは、設備の建物の外の排水溜め３０に至る。水ポンプ３２が排水システムを介して水を循環させ、塵および煙霧のすべてを設備の建物内の作業環境から迅速にかつ効果的に確実に除去する。
【００１０】
動作を制御するために、好ましくは、ソレノイドバルブ３４およびプログラマブル論理回路（ＰＬＣ）３６が制御機構２６として設けられ、エアアンプ２２に結合される。ソレノイドバルブ３４は、レーザマーキング機械１６に設置されたＰＬＣ３６によって活性化され、それにより、真空システムは、レーザマーキング機械１６とともに自動的にオンおよびオフに切換えられる。
【００１１】
この発明によって提供されるアセンブリにより、より低い動作コストが達成される。なぜなら、従来の真空システムに比べ、消費電力がほとんどなく、モータのメンテナンスが不要であり、塵袋がない等であるからである。この発明は、工場の設計の排水システムに容易に統合される、実質的にノイズのないアセンブリにおいて、効果的な吸引力と清掃とをさらに達成する。この発明は、工場の設計に統合されることにより、収集された塵を手動で除去する必要性を効率的になくす。
【００１２】
示された実施例に従ってこの発明を説明してきたが、当業者は、これらの実施例に対して変更があり得ること、およびこれらの変更がこの発明の精神および範囲内にあることを容易に認めるであろう。したがって、前掲の請求項の精神および範囲から逸脱することなく、当業者によって多くの変更が行なわれてよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】レーザマーキング機械のための、先行技術の塵除去システムを示す図である。
【図２】この発明に従った、塵および煙霧の除去システムを示す図である。

Claims

レーザマーキング機械のために塵および煙霧を除去するためのシステムであって、
コアンダ効果に従って動作して、レーザマーキング機械（１６）から吸引によって塵および煙霧を除去する真空アセンブリ（２０，２２，および２４）と、
前記真空アセンブリ（２０，２２，および２４）に結合されて、前記真空アセンブリ（２０，２２，および２４）をオンおよびオフにするための制御手段（２６）と、
前記真空アセンブリ（２０，２２，および２４）に結合されて、前記真空アセンブリ（２０，２２，および２４）からの前記塵および煙霧を、前記レーザマーキング機械（１６）を収容する設備から廃棄するための排水システム（２８，３０）とを含む、システム。
前記真空アセンブリ（２０，２２，および２４）はノズル（２０）をさらに含み、前記ノズル（２０）は、前記レーザマーキング機械（１６）のレーザマーキングチャンバ（１４）内に挿入される、請求項１に記載のシステム。
前記真空アセンブリ（２０，２２，および２４）は、前記ノズル（２０）に結合されて前記ノズル（２０）を介して真空吸引をもたらすためのエアアンプ（２２）をさらに含む、請求項２に記載のシステム。
前記真空アセンブリ（２０，２２，および２４）は、前記エアアンプ（２２）を前記排水システム（２８および３０）の排水パイプ（２８）に結合するダストホース（２４）をさらに含む、請求項３に記載のシステム。
前記排水システム（２８および３０）は、前記塵および煙霧を前記排水パイプ（２８）から洗い流すために前記排水パイプ（２８）を介して水を循環させるための水ポンプ（３２）を含む排水溜めシステム（３０）をさらに含む、請求項４に記載のシステム。
前記制御手段（２６）は、前記エアアンプ（２２）に結合されたソレノイドバルブ（３４）と、前記ソレノイドバルブ（３４）に結合されて前記ソレノイドバルブ（３４）を活性化するためのプログラマブル論理回路（３６）とをさらに含む、請求項３に記載のシステム。
前記制御手段（２６）は、前記レーザマーキング機械（１６）の活性化および終了とともに活性化して終了する、請求項６に記載のシステム。
レーザマーキング機械（１６）から塵および煙霧の除去を行なうための真空アセンブリであって、
ノズル（２０）を含み、前記ノズル（２０）は前記レーザマーキング機械（１６）のレーザマーキングチャンバ（１４）内に挿入され、前記真空アセンブリはさらに、
前記ノズル（２０）に結合されて前記ノズル（２０）を介して真空吸引をもたらすためのエアアンプ（２２）と、
前記エアアンプ（２２）を排水パイプ（２８）に結合するダストホース（２４）と、
前記真空アセンブリ（２０，２２，および２４）をオンおよびオフにするための制御手段（２６）とを含む、真空アセンブリ。
前記真空アセンブリ（２０，２２，および２４）は、コアンダ効果に従って動作して、レーザマーキング機械（１６）から吸引によって塵および煙霧を除去する、請求項８に記載のアセンブリ。
前記排水パイプ（２８）から前記塵および煙霧を洗い流すために前記排水パイプ（２８）を介して水を循環させるための水ポンプ（３２）を含む排水溜めシステム（３０）をさらに含む、請求項８に記載のアセンブリ。
前記制御手段（２６）は、前記エアアンプ（２２）に結合されたソレノイドバルブ（３４）と、前記ソレノイドバルブ（３４）に結合されて前記ソレノイドバルブ（３４）を活性化するためのプログラマブル論理回路（３６）とをさらに含む、請求項８に記載のアセンブリ。
前記制御手段（２６）は、前記レーザマーキング機械（１６）の動作の活性化および終了とともに活性化して終了する、請求項１１に記載のアセンブリ。