JP2004359667A - 新規な複素環式ビス(置換フェノール)類 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】テトラヒドロチオピラン−4−オンと置換フェノール類とを適宜の溶媒を使用して酸触媒の存在下に反応させることにより、一般式(1)で表わされる4,4’−テトラヒドロチオピラニリデンビス(置換フェノール)類を製造することができる。
一般式(1)(式中、R1はフェニル基又はシクロヘキシル基を示し、R2は水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を示し、nは1又は2の整数を表す。)
【選択図】なし
Description
また、本発明は、詳細にはヒドロキシフェニル基に、さらにフェニル基又はシクロヘキシル基が置換した、新規な4,4’−テトラヒドロチオピラニリデンビス(置換フェノール)類に関する。
このような複素環式ビス(置換フェノール)類は、例えば、透明性や屈折率の改良された芳香族ポリエステルやポリカーボネート樹脂等の光学系樹脂材料又は感光性レジスト等の原料として有用である。
それらのうちでも、イオウ原子を含有する複素環式ビスフェノール類は、分子中に硫黄原子が存在しているため、その分子の光学屈折率が高くなることが期待されている。
このようなビスフェノールとして、例えば、特開平6−263863号公報には、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)チオピランが開示されている。
しかしながら、前記ビスフェノールにおいて、ヒドロキシフェニル基に、さらにフェニル基又はシクロヘキシル基が置換した複素環ビスフェノール類は、光学用樹脂原料又は感光性レジスト原料等として用いた場合、耐熱性、親油性又は微細加工性の向上等が期待されるが、これらの化合物自体は勿論、その工業的製造法は知られてない。
一般式(1)
(式中、R1はフェニル基又はシクロヘキシル基を示し、R2は水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を示し、nは1又は2の整数を表す。)
式(2)
一般式(3)
(式中、R1、R2及びnは一般式1のそれと同じである。)
また、上記テトラヒドロチオピラン−4−オンと上記置換フェノール類との反応においては、反応溶媒は用いてもよいし、用いなくてもよいが、反応溶媒を用いる場合、例えば、脂肪族アルコール、芳香族炭化水素又はこれらの混合溶媒が用いられる。
アルコール溶媒としては、原料に用いる置換フェノール、得られる生成物の溶解度、反応条件又は反応の経済性等を考慮して、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−プロピルアルコール又はイソブチルアルコール等を挙げることができる。また、芳香族炭化水素溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン又はクメン等を挙げることができる。このような溶媒は、通常、原料のテトラヒドロチオピラン−4−オン100重量部に対して、100〜500重量部の範囲で用いられる。
また、反応の手順は、例えば、反応容器に、置換フェノール、溶媒及び酸触媒を仕込み、温度40℃〜60℃において、撹拌下に、これにテトラヒドロチオピラン−4−オンを添加し、2〜48時間程度反応を行えばよい。
得られた粗結晶は、このまま製品としてもよいが、さらに必要に応じて高純度品に精製してもよい。この精製方法は、例えば、粗結晶に、適宣の晶析溶媒と水を加え、水層を分離除去し、これを必要に応じて複数回行った後、得られた油層から目的物を晶析分離することにより、目的とする4,4’−テトラヒドロチオピラニリデンビス(置換フェノール)の高純度品を得ることができる。
温度計、滴下漏斗、還流冷却管及び撹拌機を備えた1L容量の四つ口フラスコに、オルソフェニルフェノール170g(1モル)、メタノール34gを仕込み、反応容器内温を40℃に加温し、溶解した。次いで、これに35%塩酸水34gを加えた。
その後、温度40℃に維持したまま、これにテトラヒドロチオピラン−4−オン11.6g(0.1モル)を撹拌下に1時間かけて滴下し、滴下終了後、さらに同温度を保ったまま、約25時間反応を行った。
反応終了後、反応混合物に、撹拌下、温度約55℃において、16%水酸化ナトリウム水溶液と75%リン酸水溶液を加え、PHを約4に中和した。
中和後の反応混合物にメチルイソブチルケトンと水を加えて、温度70℃に加温し、溶解し、その後、水相を分液分離することにより、目的物を含む油相が得られた。
得られた油相を減圧蒸留して、蒸留残液を得た。これを2回繰り返した後、得られた蒸留残液にトルエンを添加し、その後、冷却、晶析、乾燥して、目的物である4,4’−テトラヒドロチオピラニリデンビス(2−フェニルフェノール)7.3gを白色結晶として得た。
純度96.1%(液体クロマトグラフィー分析法)、原料テトラヒドロチオピラン−4−オンに対する収率8.3%であった。
融点(示差熱分析法):188.7℃
分子量(質量分析法):438.6
プロトンNMR分析(溶媒DMSO,400MHz)
温度計、適下漏斗、還流冷却管及び撹伴機を備えた1L容量の四つ口フラスコに、オルソシクロヘキシルフェノール88.2g(0.5モル)、メタノール35.3g及び1−ドデカンチオール4.6gを仕込み、反応容器内温を30℃に加温し、溶解した。溶解後、温度30℃に維持したまま、反応容器内に塩酸ガス26gを導入し飽和させた。次いで、これにメタノール27.7gを加えた後、テトラヒドロチオピラン−4−オン23.2g(0.2モル)を撹伴下に30分かけて滴下し、滴下終了後、さらに同温度に保ったまま、18時間、攪拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に、攪拌下、温度約55℃において、16%水酸化ナトリウム水溶液と75%リン酸水溶液を加え、PHを約6に中和した。中和後の反応混合物を濾過して、目的物を含む粗結晶82.1gを得た。
次いで、得られた粗結晶に、メチルエチルケトン164.2gと純水82.1gを加え、温度70℃にて溶解させ、その後、混合液から水相を分液分離するこ
とにより目的物を含む油相を得た。得られた油層を減圧蒸留して濃縮した後、これにトルエンを添加し、その後、冷却、晶析、濾過、乾燥して、目的物である4,4’−テトラヒドロチオピラニリデンビス(2−シクロヘキシルフェノール)62.5gを白色結晶として得た。
純度99.4%(液体クロマトグラフィー分析法)、原料テトラヒドロチオピラン−4−オンに対する収率は69.4%であった。
融点(示差熱分析法):234.6℃
分子量(質量分析法):450.7
プロトンNMR分析(溶媒DMSO,400MHz)
Claims (1)
- 一般式(1)で表される4,4’−テトラヒドロチオピラニリデンビス(置換フェノール)類
一般式(1)
(式中、R1はフェニル基又はシクロヘキシル基を示し、R2は水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を示し、nは1又は2の整数を表す。)
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2004039123A JP2004359667A (ja) | 2003-05-13 | 2004-02-17 | 新規な複素環式ビス(置換フェノール)類 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003134231 | 2003-05-13 | ||
JP2004039123A JP2004359667A (ja) | 2003-05-13 | 2004-02-17 | 新規な複素環式ビス(置換フェノール)類 |
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JP2004359667A true JP2004359667A (ja) | 2004-12-24 |
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Family Applications (1)
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JP2004039123A Pending JP2004359667A (ja) | 2003-05-13 | 2004-02-17 | 新規な複素環式ビス(置換フェノール)類 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2004359667A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63108023A (ja) * | 1986-06-20 | 1988-05-12 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 新規ポリカ−ボネ−ト系重合体とその製法 |
JPS6420228A (en) * | 1987-07-15 | 1989-01-24 | Idemitsu Kosan Co | Optical material |
JPH06263863A (ja) * | 1992-12-11 | 1994-09-20 | General Electric Co <Ge> | 複素環式ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロアルカン及びそれから製造されるポリカーボネート |
JP2001206863A (ja) * | 2000-01-25 | 2001-07-31 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン化合物及びその製造方法 |
JP2002105168A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-10 | Nagase Kasei Kogyo Kk | エポキシアクリレート樹脂および該樹脂を含有する樹脂組成物 |
-
2004
- 2004-02-17 JP JP2004039123A patent/JP2004359667A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63108023A (ja) * | 1986-06-20 | 1988-05-12 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 新規ポリカ−ボネ−ト系重合体とその製法 |
JPS6420228A (en) * | 1987-07-15 | 1989-01-24 | Idemitsu Kosan Co | Optical material |
JPH06263863A (ja) * | 1992-12-11 | 1994-09-20 | General Electric Co <Ge> | 複素環式ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロアルカン及びそれから製造されるポリカーボネート |
JP2001206863A (ja) * | 2000-01-25 | 2001-07-31 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン化合物及びその製造方法 |
JP2002105168A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-10 | Nagase Kasei Kogyo Kk | エポキシアクリレート樹脂および該樹脂を含有する樹脂組成物 |
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