JP2004354749A - 電磁波遮蔽部材、電磁波遮蔽方法、及び基板処理システム - Google Patents

Abstract

【課題】装置及び制御の複雑化を招くことなく、電磁波遮蔽性能に優れ、且つ振動伝搬を抑制することが可能な電磁波遮蔽部材、電磁波遮蔽方法、及び基板処理システムを提供する。
【解決手段】電磁波遮蔽部材７０は、基板部８０及び屈曲板部８２を有する導電性の第１ブラケット７２と、基板部８８を有する導電性の第２ブラケット７４とを備える。第１ブラケット７２の基板部８０には長穴８４が設けられ、屈曲板部８２にはネジ穴８６が設けられている。第２ブラケット７４の基板部８８には長穴９４が設けられている。第２ブラケット７４の縁部には、弾性及び導電性を有するガスケット７６が設けられている。第２ブラケット７４の基板部８８に設けられた長穴９４を通して、第１ブラケット７２の屈曲板部８２に設けられたネジ穴８６に雄ネジ７８が噛合されて、第１及び第２ブラケット７２，７４が連結されている。
【選択図】 図５

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電磁波遮蔽部材、電磁波遮蔽方法、及び基板処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
高度にデジタル制御された機器は、他からの電磁波の影響を受けやすく、誤動作の原因となっている。そこで、他からの電磁波の影響を受けないように進入を抑えたり、自機で発生した電磁波を外部に漏れないようにしたりして、電子機器に電磁波対策を施す必要がある。
【０００３】
基板処理システムとしての露光システムも電磁波の影響を受けるため、誤動作等を抑制して信頼性の向上を図るべく、電磁波対策が施される。例えば、特許文献１に開示の露光システムでは、レクチルのパターンを基板に露光する露光部、及びレクチルや基板を露光部に搬送する搬送部をそれぞれ第１及び第２遮蔽壁（特許文献１では、第１及び第２チャンバと呼んでいる）で包囲し、これら第１及び第２遮蔽壁の間に形成される隙間を導電性ゴムにより遮蔽している。これにより、電磁波遮蔽と振動伝搬の抑制とを図っている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１１−１３５４２２号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した露光システムの電磁波遮蔽構造では、第１及び第２遮蔽壁の間に形成される隙間を完全に遮蔽するために、第１及び第２遮蔽壁内の圧力を正圧とし、この圧力によって第１遮蔽壁に固定された導電性ゴムを第２遮蔽壁に押し付ける必要があった。従って、第１及び第２遮蔽壁内の圧力を制御する装置が必要となり、装置及び制御の複雑化を招くという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記した課題を解決するために為されたものであり、装置及び制御の複雑化を招くことなく、電磁波遮蔽性能に優れ、且つ振動伝搬を抑制することが可能な電磁波遮蔽部材、電磁波遮蔽構造及び基板処理システムを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る電磁波遮蔽部材は、（１）第１の方向に沿って延びる基板部、及び基板部の縁部に屈曲して設けられた第１の方向に沿って延びる屈曲板部を有する導電性の第１ブラケットと、（２）第１の方向に沿って延びる基板部を有する導電性の第２ブラケットと、（３）第１の方向に沿って延びるように設けられており、第２ブラケットに連結される弾性及び導電性を有するガスケットと、（４）第１ブラケットの屈曲板部に対して第２ブラケットの基板部を連結する連結手段であって、第１の方向と交差する第２の方向に屈曲板部と基板部とを相対的にスライド可能に連結固定する固定手段と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明に係る電磁波遮蔽方法は、第１物体と第２物体との間に形成された第１の方向に延びる間隙を、上記した電磁波遮蔽部材を用いて遮蔽する電磁波遮蔽方法である。この方法では、（１）第１ブラケットの屈曲板部に第２ブラケットの基板部を連結固定するとき、屈曲板部に対して基板部を第２の方向にスライドさせて位置決めし、（２）第１物体に第１ブラケットの基板部を連結固定するとき、第１物体に対して基板部を第１及び第２の方向と交差する第３の方向にスライドさせて位置決めして、（３）ガスケットが第１の方向に沿って第２物体と接触するようにすることを特徴とする。
【０００９】
この電磁波遮蔽部材及び方法によれば、第１の方向と交差する異なる二方向（第２及び第３の方向）についてガスケットを位置決めすることができる。これにより、装置及び制御の複雑化を招くことなく、電磁波遮蔽部材を介して第１物体と第２物体とを弾性的に接触させることができ、振動伝搬を抑制した状態で電磁波遮蔽を図ることができる。
【００１０】
本発明に係る電磁波遮蔽部材において、固定手段は、第２ブラケットの基板部に板面を貫通するように設けられており、長軸が第２の方向に沿う長穴と、第１ブラケットの屈曲板部に板面を貫通するように設けられた孔と、第２ブラケットの基板部に設けられた長穴を通して、第１ブラケットの屈曲板部に設けられた孔に嵌められて、第１及び第２ブラケットを連結固定する連結ピンと、を有することを特徴としてもよい。このようにすれば、第２ブラケットの長穴を利用して、第２の方向にガスケットを位置決めすることができる。
【００１１】
本発明に係る電磁波遮蔽部材は、第１ブラケットの基板部に板面を貫通するように設けられており、長軸が第１及び第２の方向と交差する第３の方向に沿う長穴を更に備えることを特徴としてもよい。このようにすれば、第１ブラケットの長穴を利用して、第３の方向にガスケットを位置決めすることができる。
【００１２】
本発明に係る電磁波遮蔽部材は、（１）第１の方向に沿って延びる基板部を有する導電性のブラケットと、（２）第１の方向に沿って延びるように設けられており、ブラケットに連結される弾性及び導電性を有するガスケットと、を備えることを特徴とする。
【００１３】
本発明に係る電磁波遮蔽方法は、第１物体と第２物体との間に形成された第１の方向に延びる間隙を、上記した電磁波遮蔽部材を用いて遮蔽する電磁波遮蔽方法である。この方法では、（１）第１物体にブラケットの基板部を連結固定するとき、第１物体に対して基板部を第１の方向と交差する第２の方向にスライドさせて位置決めして、（２）ガスケットが第１の方向に沿って第２物体と接触するようにすることを特徴とする。
【００１４】
この電磁波遮蔽部材及び方法によれば、第１の方向と交差する第２の方向についてガスケットを位置決めすることができる。これにより、装置及び制御の複雑化を招くことなく、電磁波遮蔽部材を介して第１物体と第２物体とを弾性的に接触させることができ、振動伝搬を抑制した状態で電磁波遮蔽を図ることができる。
【００１５】
本発明に係る電磁波遮蔽部材は、ブラケットの基板部に板面を貫通するように設けられており、長軸が第１の方向と交差する第２の方向に沿う長穴を更に備えることを特徴としてもよい。このようにすれば、ブラケットの長穴を利用して、第２の方向にガスケットを位置決めすることができる。
【００１６】
本発明に係る電磁波遮蔽部材において、ガスケットは、弾性体の表面を金属箔により被覆して構成されていることを特徴としてもよい。このようにすれば、弾性体の弾性を利用して振動伝搬の抑制を図ることができ、また金属箔の導電性を利用して電磁波遮蔽を図ることができる。
【００１７】
本発明に係る電磁波遮蔽方法は、上記した電磁波遮蔽部材を第１の方向に複数配置して、間隙を遮蔽することを特徴としてもよい。このようにすれば、間隙の幅が第１の方向に変化する場合であっても、間隙をより確実に電磁波遮蔽することができる。
【００１８】
本発明に係る基板処理システムは、（１）基板の処理を行うためのチャンバと、（２）チャンバを包囲して電磁的に遮蔽するチャンバ用遮蔽壁と、（３）チャンバ内での処理の制御を行う制御装置と、（４）制御装置を包囲して電磁的に遮蔽する制御装置用遮蔽壁と、（５）チャンバ用遮蔽壁と制御装置用遮蔽壁との間に形成された間隙を遮蔽する上記した電磁波遮蔽部材と、を備えることを特徴とする。
【００１９】
この基板処理システムでは、チャンバと制御装置とが、振動伝搬を抑制された状態で内外部から電磁波遮蔽されるため、信頼性の向上を図ることが可能となる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００２１】
図１は、本実施形態に係る基板処理システムとしての電子ビーム露光システム（以下、単に「露光システム」ともいう）の構成を示す斜視図である。また図２は、メンテナンス時における露光システムの各装置ブロックの配置を示す斜視図である。なお、図１及び図２に示すように、本実施形態では説明の便宜のためｘｙｚ座標系を設定する。
【００２２】
図１及び図２に示すように、露光システム１は複数の装置ブロックを統合して構成されている。具体的には、露光装置ブロック２、メイン制御ブロック３、マスクストッカーブロック４、ミニエンバイロメントブロック５、サブ制御ブロック６、及び操作盤ブロック７を統合して、露光システム１が構成されている。図１及び図２に示すように、ミニエンバイロメントブロック５、露光装置ブロック２、及びメイン制御ブロック３の並び方向を、ｘ方向と設定する。また、鉛直方向をｚ方向と設定する。そして、これらｘ方向及びｚ方向と直交する方向を、ｙ方向と設定する。
【００２３】
露光装置ブロック２は、図２に示すように、電子ビーム露光装置（以下、単に「露光装置」ともいう）１０を備えている。この露光装置１０は、真空チャンバ１２を有している。真空チャンバ１２は、図３に示すように、上端が開口した容器本体１６と、この容器本体１６の上部開口を塞ぐ上蓋１８とを有している。
【００２４】
上蓋１８は、平断面が矩形状をなし、中央に電子ビームを照射するための電子ビーム照射部２０が設けられている。電子ビーム照射部２０は、上壁部と側壁部とを含む電子鏡筒２２と、電子鏡筒２２内で上壁部に設けられた電子銃２４と、電子銃２４から出射された電子ビームをコリメートするレンズ２６と、偏光器２８とを有している。これら電子銃２４、レンズ２６、及び偏光器２８は、鉛直下方に向かってこの順に配置されており、電子銃２４から出射された電子ビームは、レンズ２６によりコリメートされ、偏光器２８により走査されて半導体ウェハＷ上に照射される。
【００２５】
容器本体１６は、図３に示すように、平断面が矩形状をなす底壁部１６ａとこの底壁部１６ａの縁部に立設された２組の側壁部１６ｂとを有する。この容器本体１６内には、露光処理を行うための半導体ウェハＷを保持するウェハステージ３０が収容されている。ウェハステージ３０は、半導体ウェハＷの位置決めを行う位置決めステージ３２と、この位置決めステージ３２上に搭載され半導体ウェハＷを吸着して保持する静電チャック３４とを有している。従って、半導体ウェハＷは静電チャック３４により吸着された状態で、位置決めステージ３２により位置決めがなされる。
【００２６】
また容器本体１６内には、図３に示すように、所望パターンが形成されたマスクＭを位置決め保持するためのマスクステージ３６が収容されている。このマスクステージ３６は、真空チャンバ１２内に固定された基準ベース３５上に搭載されている。
【００２７】
また容器本体１６内には、マスクＭ上及び半導体ウェハＷ上に光を照射し、図示しないアライメントマークによって散乱された光を検出する白色光顕微鏡などの光検出器３７が設けられている。この光検出器３７は、基準ベース３５上に搭載されている。この光検出器３７により検出されたデータは、メイン制御ブロック３に含まれる図示しない画像処理装置に送られて処理され、アライメントマークの重なり具合からマスクＭと半導体ウェハＷとの位置関係が求められる。そして、マスクＭと半導体ウェハＷとに位置ズレがあるときには、マスクＭ及び／又は半導体ウェハＷの位置を修正する信号が生成され、この信号に基づいてマスクＭ及び／又は半導体ウェハＷの位置が微修正される。このようにして、マスクＭと半導体ウェハＷとの精密な位置決めがなされる。なお本実施形態では、マスクＭは半導体ウェハＷに近接（マスクＭと半導体ウェハＷとの間隙が５０μｍ程度）して配置される。
【００２８】
この真空チャンバ１２は、図示しない真空ポンプにより内部空間が減圧される。この減圧環境下において、電子ビーム照射部２０から出射された電子ビームによりマスクＭの全面を走査することで、所望パターンが半導体ウェハＷ上のレジストに等倍で転写される。
【００２９】
この真空チャンバ１２は、図３に示すように、底壁部１６ａの下方に設けられた除震台３８上に搭載されている。また、真空チャンバ１２の右側壁部には、開閉可能な開閉扉４０が設けられている。従って、この開閉扉４０を開き、ウェハステージ３０を水平方向（ｘ方向）にスライドさせて引き出すことで、ウェハステージ３０のメンテナンスを行うことが可能となっている。
【００３０】
上記した構成の露光装置１０は、筐体（チャンバ用遮蔽壁）４２に包囲されている。この筐体４２は、真空チャンバ１２の４つの角に対応して立設された四本の縦枠４３，４４，４５，４６と、この縦枠４３，４４，４５，４６の上端に横架された天板４７とを含んでいる。これら縦枠４３，４４，４５，４６及び天板４７は、ＳＵＳ等の導電性を有する材料から形成されている。図２において、手前の二本の縦枠４３，４４及び天板４７により規定される前部開口は、一対の扉４８により開閉可能とされている。また、後ろの二本の縦枠４５，４６及び天板４７により規定される後部開口も、一対の扉４８により開閉可能とされている。これら扉４８も、ＳＵＳ等の導電性を有する材料から形成されている。これら扉４８の内側の表面の縁部には、導電性のガスケットによりライニングが施されており、導通が取れるようになっている。なお、筐体４２の右部開口及び左部開口には扉が設けられることなく、開放されている。
【００３１】
メイン制御ブロック３は、図１に示すように、通常運転時において、真空チャンバ１２の開閉扉４０が設けられた右側壁部に沿うように、露光装置ブロック２の右隣に隣接して配置されている。このメイン制御ブロック３は、半導体ウェハＷとマスクＭとの位置決めや、露光補正を行うための画像処理等の、真空チャンバ１２内で半導体ウェハＷに露光処理を施すに際して必要な制御を行うための種々の制御装置（制御装置）を含んでいる。そして、これら制御装置は外形が直方体状をなす筐体（制御装置用遮蔽壁）５０内に収容されている。この筐体５０は、ＳＵＳ等の導電性を有する材料から形成されている。図２に示すように、筐体５０の下部は空洞とされて空間部５２が形成されており、真空チャンバ１２と制御装置とを繋ぐケーブル５４の余長部を収容可能になっている。
【００３２】
このメイン制御ブロック３は、図２に示すように、ウェハステージ３０の引き出し方向（ｘ方向）に沿って移動可能に設けられている。すなわち、メイン制御ブロック３は、真空チャンバ１２の右側壁部に沿う通常運転位置と、ウェハステージ３０の引き出し方向に沿って真空チャンバ１２から所定距離だけ離れたメンテナンス位置との間を、ガイド機構により案内されて移動可能に設けられている。ガイド機構は、上記した通常運転位置とメンテナンス位置との間で互いに平行に敷設される一対のレール５６を有している。そして、メイン制御ブロック３は、筐体５０下部に設けられた図示しない車輪を介して、レール５６上を案内されるようになっている。
【００３３】
マスクストッカーブロック４は、図１に示すように、通常運転時において、露光装置ブロック２の右隣に隣接して、かつメイン制御ブロック２に隣接して配置されている。マスクストッカーブロック４は、マスクストッカーを含んでいる。マスクストッカーは、所望パターンが形成された複数のマスクＭからなるマスクセットを貯蔵する。このマスクストッカーから、真空チャンバ１２の後壁部に設けられた図示しないマスクローダに、マスクＭが順次供給される。そして、マスクローダは、マスクストッカーから受け取ったマスクＭを真空チャンバ内に供給する。このマスクストッカーは、外形が直方体状をなす筐体６０内に収容されている。この筐体６０は、ＳＵＳ等の導電性を有する材料から形成されている。筐体６０下部には、図示しない車輪が設けられており、マスクストッカーブロック４は、図２に示すように、ウェハステージ３０の引き出し方向（ｘ方向）に沿って移動可能になっている。
【００３４】
ミニエンバイロメントブロック５は、図１に示すように、通常運転時において、サブ制御ブロック６及び操作盤ブロック７に挟まれた状態で、露光装置ブロック２の左隣に隣接して配置されている。ミニエンバイロメントブロック５は、真空チャンバ１２の左側壁部に設けられた図示しないウェハローダに対し、半導体ウェハＷの供給及び引き取りを行うＩ／Ｏ部を、外形が直方体状をなす筐体６２で囲った局所的高清浄度空間である。筐体６２は、ＳＵＳ等の導電性を有する材料から形成されている。このミニエンバイロメントブロック５は、図２に示すように、露光装置ブロック２の左隣に隣接した状態で固定されている。
【００３５】
サブ制御ブロック６は、図１に示すように、通常運転時において、露光装置ブロック２の左隣に隣接して、かつミニエンバイロメントブロック５に隣接して配置されている。サブ制御ブロック６は、露光装置１０の電子ビーム照射部２０を制御する制御装置を含んでいる。この制御装置は、外形が直方体状をなす筐体６４内に収容されている。筐体６４は、ＳＵＳ等の導電性を有する材料から形成されている。筐体６４下部には、図示しない車輪が設けられており、サブ制御ブロック６は、図２に示すように、ｘｙ平面内で自由に移動可能になっている。
【００３６】
操作盤ブロック７は、図１に示すように、通常運転時において、露光装置ブロック２の左隣に隣接して、かつミニエンバイロメントブロック５に隣接して配置されている。操作盤ブロック７は、この露光システム１を操作するための操作盤を含んでいる。この操作盤を介して、作業者は露光システム１による露光処理の条件を設定する。この操作盤は、外形が直方体状をなす筐体６６内に収容されている。筐体６６は、ＳＵＳ等の導電性を有する材料から形成されている。筐体６６下部には、図示しない車輪が設けられており、操作盤ブロック７は、図２に示すように、ｘｙ平面内で自由に移動可能になっている。
【００３７】
このように、上記した露光装置ブロック２、メイン制御ブロック３、マスクストッカーブロック４、ミニエンバイロメントブロック５、サブ制御ブロック６、及び操作盤ブロック７を統合することで、露光システム１が構成されている。図１に示すように、通常運転時には、露光システム１全体として外形が略直方体状をなすように、これら各装置ブロックが隣接して配置される。そして、メンテナンス時においてミニエンバイロメントブロック５を除く各装置ブロックは、図２に示すように、ｘｙ平面内において所望方向に移動される。
【００３８】
なお、この露光システム１では、高精度位置決め技術を使ってナノメートルの微細加工を行っている。従って、半導体ウェハＷの処理の信頼性を向上させるためには、可能な限り振動を排除する必要がある。このことから、露光装置ブロック２は、図１に示すように、他の装置ブロックが載置される床面と分離された床面Ｆに載置されている。この床面Ｆは、スラブ（建屋）に直接建立された剛性架台（嫌震架台）上に設けられており、振動が抑制されている。
【００３９】
ここで、電磁波の影響による誤動作等を抑制して信頼性の向上を図るためには、外部からの露光システム１内への電磁波の進入を阻止する必要がある。従って、通常運転時には、図１に示すように、各装置ブロックは統合され、互いに隣接するように配置される。このとき、完全な電磁波遮蔽を実現するためには、各装置ブロック間に隙間ができないように、各装置ブロック２，３，４，５，６，７を直接接触させて導通を図るのが好ましい。しかしながら、各装置ブロック２，３，４，５，６，７を直接接触させたのでは、露光装置ブロック２周辺の装置ブロック３，４，５，６，７の振動が露光装置ブロック２に伝搬されてしまうため、各装置ブロックは離間させるのが好ましい。
【００４０】
このような相反する要求を充足するため、各装置ブロック２，３，４，５，６，７間に意図的に間隙を設け、この間隙を電磁波遮蔽部材により遮蔽している。
【００４１】
図４は、第１実施形態に係る電磁波遮蔽部材の構成を示す断面図である。また図５は、この電磁波遮蔽部材の構成を示す分解斜視図である。この電磁波遮蔽部材７０は、図１においてＩＶ−ＩＶ線で示すように、露光装置ブロック２の縦枠４３とメイン制御ブロック３との間隙Ｓを電磁波遮蔽するものである。
【００４２】
図４及び図５に示すように、電磁波遮蔽部材７０は、第１ブラケット７２、第２ブラケット７４、ガスケット７６、及び雄ネジ７８を備えている。
【００４３】
第１ブラケット７２は、基板部８０と、基板部８０の縁部を９０度屈曲して設けられた屈曲板部８２とを有する。これら基板部８０及び屈曲板部８２はｚ方向（第１の方向）に沿って延びており、第１ブラケット７２はｚ方向に垂直な断面がＬ字状をなす。この第１ブラケット７２は、ステンレス鋼板等の導電性を有する材料から形成されている。基板部８０には、板面を貫通するように複数の長穴８４が設けられている。長穴８４の長軸は、ｘ方向（第３の方向）に沿っている。これら長穴８４は、基板部８０においてｚ方向に所定間隔をおいて設けられている。屈曲板部８２には、板面を貫通するように複数のネジ穴（孔）８６が設けられている。これらネジ穴８６は、屈曲板部８２においてｚ方向に所定間隔をおいて設けられている。
【００４４】
第２ブラケット７４は、基板部８８と、基板部８８の両縁部をそれぞれ逆方向に９０度屈曲して設けられた屈曲板部９０，９２とを有する。これら基板部８８及び屈曲板部９０，９２はｚ方向に沿って延びており、第２ブラケット７４はｚ方向に垂直な断面が略Ｚ字状をなす。この第２ブラケット７４は、ステンレス鋼板等の導電性を有する材料から形成されている。基板部８８には、板面を貫通するように複数の長穴９４が設けられている。長穴９４の長軸は、ｙ方向（第２の方向）に沿っている。これら長穴９４は、第１ブラケット７２の屈曲板部８２に設けられたネジ穴８６に対応するように、基板部８８においてｚ方向に所定間隔をおいて設けられている。
【００４５】
ガスケット７６は、ｚ方向に沿って延びており、第２ブラケット７４の屈曲板部９０に固着されている。このガスケット７６は、弾性及び導電性を有する。ガスケット７６は、ＥＰＤＭ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ−ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ−ｄｉｅｎ−ｍｅｔｈｙｌｅｎｅ）スポンジ等の材料からなる弾性体９６の表面を、アルミ箔等の材料からなる金属箔９８により被覆して構成すると好ましい。
【００４６】
雄ネジ（連結ピン）７８は、第２ブラケット７４の基板部８８に設けられた長穴９４を通して、第１ブラケット７２の屈曲板部８２に設けられたネジ穴８６に噛合される。これにより、屈曲板部８２と基板部８８とが重なり合った状態で、第１ブラケット７２と第２ブラケット７４とが連結されている。なお、雄ネジ７８、長穴９４、及びネジ穴８６により、第１ブラケット７２と第２ブラケットとを連結固定する固定手段が構成されている。
【００４７】
次に、かかる構造の電磁波遮蔽部材７０を利用した電磁波遮蔽方法について説明する。この電磁波遮蔽部材７０は、露光装置ブロック２の縦枠４３に固定される。縦枠４３には、図５に示すように、第１ブラケット７２の基板部８０に設けられた複数の長穴８４に対応するように、所定間隔でネジ穴１００が設けられている。第１ブラケット７２は、基板部８０に設けられた長穴８４を通して、雄ネジ１０２が縦枠４３のネジ穴１００に噛合されることで、縦枠４３に対してネジ止めされる。この状態で、基板部８０はｘｚ平面に沿っている。このとき、図６に示すように、長穴８４の長軸方向（ｘ方向）に第１ブラケット７２をシフトさせて位置決めする。
【００４８】
また第２ブラケット７４は、基板部８８に設けられた長穴９４を通して、第１ブラケット７２の屈曲板部８２に設けられたネジ穴８６に雄ネジ７８を噛合させることで、屈曲板部８６に対してネジ止めされる。この状態で、基板部８８はｙｚ平面に沿っている。このとき、図６に示すように、長穴９４の長軸方向（ｙ方向）に第２ブラケット７４をシフトさせて位置決めする。図４に示すように、メイン制御ブロック３はｘ方向に移動可能であり、確実に固定されている場合と比べて間隙Ｓの遮蔽が難しいが、この電磁波遮蔽部材７０によれば、ガスケット７６をｘ方向及びｙ方向に位置決め調整できるため、ガスケット７６をメイン制御ブロック３（より詳細には筐体５０の枠の角）に確実に線接触させて導通を取ることができる。このとき、メイン制御ブロック３の振動はガスケット７６の弾性により吸収されるため、振動の伝搬を抑制することができる。
【００４９】
なお、この電磁波遮蔽部材７０は、図７に示すように、第１ブラケット７２に対して第２ブラケット７４をｙｚ平面内で傾斜させることができ、隙間Ｓの状態に応じて第２ブラケット７４を傾斜させてもよい。また、縦枠４３に対して第１ブラケット７２をｘｚ平面内で傾斜させることができ、隙間Ｓの状態に応じて第１ブラケット７２を傾斜させてもよい。
【００５０】
また、図８に示すように、上記した電磁波遮蔽部材７０をｚ方向に複数配置して、間隙Ｓを遮蔽してもよい。このようにすれば、間隙Ｓの幅がｚ方向に変化する場合であっても、各々の電磁波遮蔽部材７０を調整することで、間隙Ｓをより確実に電磁波遮蔽することができる。このとき、ガスケット７６は間隙Ｓの方向に連続して設けると好ましい。このようにすれば、間隙Ｓをより一層確実に電磁波遮蔽することができる。なお、本実施形態に係る電磁波遮蔽部材７０は、上記説明したように枠との線接触を図る場合に好適である。
【００５１】
次に、第２実施形態に係る電磁波遮蔽部材について説明する。尚、第１実施形態で説明した要素と同一の要素には同一の符号を附し、重複する説明を省略する。図９は、第２実施形態に係る電磁波遮蔽部材の構成を示す断面図である。また図１０は、この電磁波遮蔽部材の構成を示す分解斜視図である。この電磁波遮蔽部材１１０は、図１においてＩＸ−ＩＸ線で示すように、露光装置ブロック２の縦枠４４とサブ制御ブロック６との間隙Ｓを電磁波遮蔽するものである。
【００５２】
図９及び図１０に示すように、電磁波遮蔽部材１１０は、ブラケット１０２、及びガスケット７６を備えている。ブラケット１０２は、基板部１０４と、基板部１０４の縁部を９０度屈曲して設けられた屈曲板部１０６とを有する。これら基板部１０４及び屈曲板部１０６はｚ方向（第１の方向）に沿って延びており、ブラケット１０２はｚ方向に垂直な断面がＬ字状をなす。このブラケット１０２は、ステンレス鋼板等の導電性を有する材料から形成されている。基板部１０４には、板面を貫通するように複数の長穴１０８が設けられている。長穴１０８の長軸は、ｘ方向（第２の方向）に沿っている。これら長穴１０８は、基板部１０４においてｚ方向に所定間隔をおいて設けられている。
【００５３】
ガスケット７６は、ｚ方向に沿って延びており、ブラケット１０２の屈曲板部１０６に固着されている。このガスケット７６は、第１実施形態と同様のものである。
【００５４】
次に、かかる構造の電磁波遮蔽部材１１０を利用した電磁波遮蔽方法について説明する。この電磁波遮蔽部材１１０は、露光装置ブロック２の縦枠４４に固定される。縦枠４４には、図１０に示すように、ブラケット１０２の基板部１０４に設けられた複数の長穴１０８に対応するように、所定間隔でネジ穴１１１が設けられている。ブラケット１０２は、基板部１０４に設けられた長穴１０８を通して、雄ネジ１１２が縦枠４４のネジ穴１１１に噛合されることで、縦枠４４に対してネジ止めされる。この状態で、基板部１０４はｘｚ平面に沿っている。このとき、図１０に示すように、長穴１０８の長軸方向（ｘ方向）にブラケット１０２をシフトさせて位置決めする。図９に示すように、サブ制御ブロック６はｘ方向及びｙ方向に移動可能であり、確実に固定されている場合と比べて間隙Ｓの遮蔽が難しいが、この電磁波遮蔽部材１１０によれば、ガスケット７６をｘ方向に位置決め調整できるため、ガスケット７６をサブ制御ブロック６（より詳細には筐体６４の壁面）に確実に面接触させて導通を取ることができる。このとき、サブ制御ブロック６の振動はガスケット７６の弾性により吸収されるため、振動の伝搬を抑制することができる。
【００５５】
なお、この電磁波遮蔽部材１１０でも、第１実施形態で図７を参照して説明したのと同様に、縦枠４４に対してブラケット１０２をｘｚ平面内で傾斜させることができ、隙間Ｓの状態に応じてブラケット１０２を傾斜させてもよい。また、第１実施形態で図８を参照して説明したのと同様に、上記した電磁波遮蔽部材１１０をｚ方向に複数配置して、間隙Ｓを遮蔽してもよい。このようにすれば、間隙Ｓの幅がｚ方向に変化する場合であっても、各々の電磁波遮蔽部材１１０を調整することで、間隙Ｓをより確実に電磁波遮蔽することができる。なお、本実施形態に係る電磁波遮蔽部材１１０は、上記説明したように壁面との面接触を図る場合に好適である。
【００５６】
上記した第２実施形態に係る電磁波遮蔽部材１１０は、図１においてＸＩ−ＸＩ線で示すように、露光装置ブロック２の縦枠４５とマスクストッカーブロック４との間隙Ｓを電磁波遮蔽するのにも利用できる。この場合、図１１に示すように、電磁波遮蔽部材１１０は露光装置ブロック２の縦枠４５に固定される。この利用例では、縦枠４５に固定されるブラケット１０２の基板部１０４の面として、図９に示す場合とは逆の面を利用する。
【００５７】
この利用例においても、縦枠４５にはブラケット１０２の基板部１０４に設けられた複数の長穴１０８に対応するように、所定間隔でネジ穴１１１が設けられている。ブラケット１０２は、基板部１０４に設けられた長穴１０８を通して、雄ネジ１１２が縦枠４５のネジ穴１１１に噛合されることで、縦枠４５に対してネジ止めされる。この状態で、基板部１０４はｘｚ平面に沿っている。このとき、図１１に示すように、長穴１０８の長軸方向（ｘ方向）にブラケット１０２をシフトさせて位置決めする。図１１に示すように、マスクストッカーブロック４はｘ方向に移動可能であり、確実に固定されている場合と比べて間隙Ｓの遮蔽が難しいが、この電磁波遮蔽部材１１０によれば、ガスケット７６をｘ方向に位置決め調整できるため、ガスケット７６をマスクストッカーブロック４（より詳細には筐体６０の壁面）に確実に面接触させて導通を取ることができる。このとき、マスクストッカーブロック４の振動はガスケット７６の弾性により吸収されるため、振動の伝搬を抑制することができる。
【００５８】
次に、第３実施形態に係る電磁波遮蔽部材について説明する。尚、第１及び第２実施形態で説明した要素と同一の要素には同一の符号を附し、重複する説明を省略する。図１２は、第３実施形態に係る電磁波遮蔽部材の構成を示す断面図である。この電磁波遮蔽部材１２０は、図１においてＸＩＩ−ＸＩＩ線で示すように、露光装置ブロック２の縦枠４６と操作盤ブロック７との間隙Ｓの上端付近を電磁波遮蔽するものである。
【００５９】
図１２に示すように、電磁波遮蔽部材１２０は、第１ブラケット７２、第２ブラケット１２２、ガスケット７６、及び雄ネジ７８を備えている。第１ブラケット７２は、第１実施形態に係る電磁波遮蔽部材７０が備える第１ブラケット７２と同様である。
【００６０】
第２ブラケット１２２は、ｚ方向に沿って延びる基板部１２４を有する。この第２ブラケット１２２は、ｚ方向に垂直な断面がＩ字状をなす。この第２ブラケット１２２は、ステンレス鋼板等の導電性を有する材料から形成されている。基板部１２４には、板面を貫通するように複数の長穴１２６が設けられている。長穴１２６の長軸は、ｙ方向に沿っている。これら長穴１２６は、第１ブラケット７２の屈曲板部８２に設けられたネジ穴８６に対応するように、基板部１２４においてｚ方向に所定間隔をおいて設けられている。
【００６１】
ガスケット７６は、ｚ方向に沿って延びており、第２ブラケット１２２の縁部に固着されている。このガスケット７６は、第１実施形態に係る電磁波遮蔽部材７０が備えるガスケット７６と同様である。
【００６２】
雄ネジ７８は、第２ブラケット１２２の基板部１２４に設けられた長穴１２６を通して、第１ブラケット７２の屈曲板部８２に設けられたネジ穴８６に噛合される。これにより、屈曲板部８２と基板部１２４とが重なり合った状態で、第１ブラケット７２と第２ブラケット１２２とが連結されている。
【００６３】
次に、かかる構造の電磁波遮蔽部材１２０を利用した電磁波遮蔽方法について説明する。この電磁波遮蔽部材１２０は、露光装置ブロック２の縦枠４６に固定される。縦枠４６には、第１ブラケット７２の基板部８０に設けられた複数の長穴８４に対応するように、所定間隔でネジ穴１００が設けられている。第１ブラケット７２は、基板部８０に設けられた長穴８４を通して、雄ネジ１０２が縦枠４６のネジ穴１００に噛合されることで、縦枠４６に対してネジ止めされる。この状態で、基板部８０はｘｚ平面に沿っている。このとき、図１２に示すように、長穴８４の長軸方向（ｘ方向）に第１ブラケット７２をシフトさせて位置決めする。
【００６４】
また第２ブラケット１２２は、基板部１２４に設けられた長穴１２６を通して、第１ブラケット７２の屈曲板部８２に設けられたネジ穴８６に雄ネジ７８を噛合させることで、屈曲板部８２に対してネジ止めされる。この状態で、基板部１２４はｙｚ平面に沿っている。このとき、図１２に示すように、長穴１２６の長軸方向（ｙ方向）に第２ブラケット１２２をシフトさせて位置決めする。図１２に示すように、操作盤ブロック７はｘ方向及びｙ方向に移動可能であり、確実に固定されている場合と比べて間隙Ｓの遮蔽が難しいが、この電磁波遮蔽部材１２０によれば、ガスケット７６をｘ方向及びｙ方向に位置決め調整できるため、ガスケット７６を操作盤ブロック７（より詳細には筐体６６の壁面）に確実に面接触させて導通を取ることができる。このとき、操作盤ブロック７の振動はガスケット７６の弾性により吸収されるため、振動の伝搬を抑制することができる。
【００６５】
なお、この電磁波遮蔽部材１２０は、第１実施形態で図７を参照して説明したのと同様に、第１ブラケット７２に対して第２ブラケット１２２をｙｚ平面内で傾斜させることができ、隙間Ｓの状態に応じて第２ブラケット１２２を傾斜させてもよい。また、縦枠４６に対して第１ブラケット７２をｘｚ平面内で傾斜させることができ、隙間Ｓの状態に応じて第１ブラケット７２を傾斜させてもよい。
【００６６】
本実施形態に係る電磁波遮蔽部材１２０は、上記説明したように壁面との面接触を図る場合に好適である。なお、図１においてＩＶａ−ＩＶａ線で示すように、露光装置ブロック２の縦枠４６と操作盤ブロック７との間隙Ｓの残り部分を電磁波遮蔽する電磁波遮蔽部材７０は、第１実施形態において図４を参照して説明したものと同様のものを用いる。
【００６７】
上記した第３実施形態に係る電磁波遮蔽部材１２０は、図１においてＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線で示すように、露光装置ブロック２の天板４７とサブ制御ブロック６との間隙Ｓを電磁波遮蔽するのにも利用できる。この場合、図１３に示すように、電磁波遮蔽部材１２０は露光装置ブロック２の天板４７に固定される。この利用例では、天板４７に固定される第１ブラケット７２の基板部８０の面として、図１２に示す場合とは逆の面を利用する。
【００６８】
この利用例においても、天板４７には第１ブラケット７２の基板部８０に設けられた複数の長穴８４に対応するように、所定間隔でネジ穴１００が設けられている。第１ブラケット７２は、基板部８０に設けられた長穴８４を通して、雄ネジ１０２が天板４７のネジ穴１００に噛合されることで、天板４７に対してネジ止めされる。この状態で、基板部８０はｙｚ平面に沿っている。このとき、図１３に示すように、長穴８４の長軸方向（ｚ方向）に第１ブラケット７２をシフトさせて位置決めする。
【００６９】
また第２ブラケット１２２は、基板部１２４に設けられた長穴１２６を通して、第１ブラケット７２の屈曲板部８２に設けられたネジ穴８６に雄ネジ７８を噛合させることで、屈曲板部８２に対してネジ止めされる。この状態で、基板部１２４はｘｙ平面に沿っている。このとき、図１３に示すように、長穴１２６の長軸方向（ｘ方向）に第２ブラケット１２２をシフトさせて位置決めする。図１３に示すように、サブ制御ブロック６はｘ方向及びｙ方向に移動可能であり、確実に固定されている場合と比べて間隙Ｓの遮蔽が難しいが、この電磁波遮蔽部材１２０によれば、ガスケット７６をｘ方向及びｚ方向に位置決め調整できるため、ガスケット７６をサブ制御ブロック６（より詳細には筐体６４の壁面）に確実に面接触させて導通を取ることができる。このとき、サブ制御ブロック６の振動はガスケット７６の弾性により吸収されるため、振動の伝搬を抑制することができる。
【００７０】
なお、図１においてＸＩＩＩａ−ＸＩＩＩａ線で示すように、露光装置ブロック２の天板４７と操作盤ブロック７との間隙Ｓの電磁波遮蔽であるが、この部分の電磁波遮蔽にも、上記した第３実施形態に係る電磁波遮蔽部材１２０と同様のものが用いられている。
【００７１】
次に、第４実施形態に係る電磁波遮蔽部材について説明する。尚、第１〜第３実施形態で説明した要素と同一の要素には同一の符号を附し、重複する説明を省略する。図１４は、第４実施形態に係る電磁波遮蔽部材の構成を示す断面図である。この電磁波遮蔽部材１３０は、図１においてＸＩＶ−ＸＩＶ線で示すように、露光装置ブロック２の天板４７とメイン制御ブロック３との間隙Ｓを電磁波遮蔽するものである。
【００７２】
図１４に示すように、電磁波遮蔽部材１３０は、ブラケット１３２、及びガスケット７６を備えている。ブラケット１３２は、基板部１３４と、基板部１３４の縁部を反時計回りに３０度程度屈曲して設けられた屈曲板部１３６とを有する。屈曲板部１３６は、その縁部が時計回りに３０度程度屈曲されている。これら基板部１３４及び屈曲板部１３６はｙ方向に沿って延びており、ブラケット１３２はｙ方向に垂直な断面が略ステップ状をなす。このブラケット１３２は、ステンレス鋼板等の導電性を有する材料から形成されている。基板部１３４には、板面を貫通するように複数の長穴１３８が設けられている。長穴１３８の長軸は、ｚ方向に沿っている。これら長穴１３８は、基板部１３４においてｙ方向に所定間隔をおいて設けられている。
【００７３】
ガスケット７６は、ｙ方向に沿って延びており、ブラケット１３２の屈曲板部１３６に固着されている。このガスケット７６は、第１実施形態に係る電磁波遮蔽部材７０のガスケット７６と同様のものである。
【００７４】
次に、かかる構造の電磁波遮蔽部材１３０を利用した電磁波遮蔽方法について説明する。この電磁波遮蔽部材１３０は、露光装置ブロック２の天板４７に固定される。天板４７には、ブラケット１３２の基板部１３４に設けられた複数の長穴１３８に対応するように、所定間隔でネジ穴１４０が設けられている。ブラケット１３２は、基板部１３４に設けられた長穴１３８を通して、雄ネジ１４２が天板４７のネジ穴１４０に噛合されることで、天板４７に対してネジ止めされる。この状態で、基板部１３４はｙｚ平面に沿っている。このとき、図１４に示すように、長穴１３８の長軸方向（ｚ方向）にブラケット１３２をシフトさせて位置決めする。図１４に示すように、メイン制御ブロック３はｘ方向に移動可能であり、確実に固定されている場合と比べて間隙Ｓの遮蔽が難しいが、この電磁波遮蔽部材１３０によれば、ガスケット７６をｚ方向に位置決め調整できるため、ガスケット７６をメイン制御ブロック３（より詳細には筐体５０の枠の角）に確実に線接触させて導通を取ることができる。このとき、メイン制御ブロック３の振動はガスケット７６の弾性により吸収されるため、振動の伝搬を抑制することができる。
【００７５】
なお、この電磁波遮蔽部材１３０でも、第１実施形態で図７を参照して説明したのと同様に、天板４７に対してブラケット１３２をｙｚ平面内で傾斜させることができ、隙間Ｓの状態に応じてブラケット１３２を傾斜させてもよい。また、第１実施形態で図８を参照して説明したのと同様に、上記した電磁波遮蔽部材１３０をｙ方向に複数配置して、間隙Ｓを遮蔽してもよい。このようにすれば、間隙Ｓの幅がｙ方向に変化する場合であっても、各々の電磁波遮蔽部材１３０を調整することで、間隙Ｓをより確実に電磁波遮蔽することができる。なお、本実施形態に係る電磁波遮蔽部材１３０は、上記説明したように枠との線接触を図る場合に好適である。
【００７６】
上記した第４実施形態に係る電磁波遮蔽部材１３０は、図１においてＸＶ−ＸＶ線で示すように、露光装置ブロック２の天板４７とミニエンバイロメントブロック５との間隙Ｓを電磁波遮蔽するのにも利用できる。この場合、図１５に示すように、電磁波遮蔽部材１３０は露光装置ブロック２の天板４７に固定される。
【００７７】
この利用例においても、天板４７にはブラケット１３２の基板部１３４に設けられた複数の長穴１３８に対応するように、所定間隔でネジ穴１４０が設けられている。ブラケット１３２は、基板部１３４に設けられた長穴１３８を通して、雄ネジ１４２が天板４７のネジ穴１４０に噛合されることで、天板４７に対してネジ止めされる。この状態で、基板部１３４はｙｚ平面に沿っている。このとき、図１５に示すように、長穴１３８の長軸方向（ｚ方向）にブラケット１３２をシフトさせて位置決めする。図１５に示すように、この電磁波遮蔽部材１３０によれば、ガスケット７６をｚ方向に位置決め調整できるため、ガスケット７６をミニエンバイロメントブロック５（より詳細には筐体６２の枠の角）に確実に線接触させて導通を取ることができる。このとき、ミニエンバイロメントブロック５の振動はガスケット７６の弾性により吸収されるため、振動の伝搬を抑制することができる。
【００７８】
次に、第５実施形態に係る電磁波遮蔽部材について説明する。尚、第１〜第４実施形態で説明した要素と同一の要素には同一の符号を附し、重複する説明を省略する。図１６は、第５実施形態に係る電磁波遮蔽部材の構成を示す断面図である。この電磁波遮蔽部材１５０は、図１においてＸＶＩ−ＸＶＩ線で示すように、露光装置ブロックの天板とマスクストッカーブロックとの間隙Ｓを電磁波遮蔽するものである。
【００７９】
図１６に示すように、電磁波遮蔽部材は、第１ブラケット、第２ブラケット、ガスケット、及び雄ネジを備えている。
【００８０】
第１ブラケット７２は、第１実施形態に係る電磁波遮蔽部材７０の第１ブラケット７２と同様のものである。
【００８１】
第２ブラケット１５２は、基板部１５４と、基板部１５４の縁部を９０度屈曲して設けられた屈曲板部１５６とを有する。これら基板部１５４及び屈曲板部１５６はｙ方向に沿って延びており、第２ブラケット１５２はｙ方向に垂直な断面が略Ｌ字状をなす。この第２ブラケット１５２は、ステンレス鋼板等の導電性を有する材料から形成されている。基板部１５４には、板面を貫通するように複数の長穴１５８が設けられている。長穴１５８の長軸は、ｘ方向に沿っている。これら長穴１５８は、第１ブラケット７２の屈曲板部８２に設けられたネジ穴８６に対応するように、基板部１５４においてｙ方向に所定間隔をおいて設けられている。
【００８２】
ガスケット７６は、ｙ方向に沿って延びており、第２ブラケット１５２の屈曲板部１５６に固着されている。このガスケット７６は、第１実施形態に係る電磁波遮蔽部材７０のガスケット７６と同様のものである。
【００８３】
雄ネジ７８は、第２ブラケット１５２の基板部１５４に設けられた長穴１５８を通して、第１ブラケット７２の屈曲板部８２に設けられたネジ穴８６に噛合される。これにより、屈曲板部８２と基板部１５４とが重なり合った状態で、第１ブラケット７２と第２ブラケット１５２とが連結されている。このとき、第１ブラケット７２の基板部８０と第２ブラケット１５２の屈曲板部１５６とは対面した状態にある。
【００８４】
次に、かかる構造の電磁波遮蔽部材１５０を利用した電磁波遮蔽方法について説明する。この電磁波遮蔽部材１５０は、露光装置ブロック２の天板４７に固定される。天板４７には、図１６に示すように、第１ブラケット７２の基板部８０に設けられた複数の長穴８４に対応するように、所定間隔でネジ穴１６２が設けられている。第１ブラケット７２は、基板部８０に設けられた長穴８４を通して、雄ネジ１６０が天板４７のネジ穴１６２に噛合されることで、天板４７に対してネジ止めされる。この状態で、基板部８０はｙｚ平面に沿っている。このとき、図１６に示すように、長穴８４の長軸方向（ｚ方向）に第１ブラケット７２をシフトさせて位置決めする。
【００８５】
また第２ブラケット１５２は、基板部１５４に設けられた長穴１５８を通して、第１ブラケット７２の屈曲板部８２に設けられたネジ穴８６に雄ネジ７８を噛合させることで、屈曲板部８２に対してネジ止めされる。この状態で、基板部１５４はｘｙ平面に沿っている。また屈曲板部１５６はｙｚ平面に沿っている。このとき、図１６に示すように、長穴１５８の長軸方向（ｘ方向）に第２ブラケット１５２をシフトさせて位置決めする。図１６に示すように、マスクストッカーブロック４はｘ方向に移動可能であり、確実に固定されている場合と比べて間隙Ｓの遮蔽が難しいが、この電磁波遮蔽部材１５０によれば、ガスケット７６をｘ方向及びｚ方向に位置決め調整できるため、ガスケット７６をマスクストッカーブロック４（より詳細には筐体６０の壁面）に確実に面接触させて導通を取ることができる。このとき、マスクストッカーブロック４の振動はガスケット７６の弾性により吸収されるため、振動の伝搬を抑制することができる。
【００８６】
なお、この電磁波遮蔽部材１５０は、第１実施形態において図７を参照して説明したのと同様に、第１ブラケット７２に対して第２ブラケット１５２をｘｙ平面内で傾斜させることができ、隙間Ｓの状態に応じて第２ブラケット１５２を傾斜させてもよい。また、天板４７に対して第１ブラケット７２をｙｚ平面内で傾斜させることができ、隙間Ｓの状態に応じて第１ブラケット７２を傾斜させてもよい。なお、本実施形態に係る電磁波遮蔽部材１５０は、上記説明したように筐体との面接触を図る場合に好適である。
【００８７】
ここで、本実施形態に係る露光システム１では、メイン制御ブロック３とマスクストッカーブロック４との間には、シールドのための導電性の板が挟まれている。また、ミニエンバイロメントブロック５とサブ制御ブロック６との間、及びミニエンバイロメントブロック５と操作盤ブロック７との間にも、シールドのための導電性の板が挟まれている。
【００８８】
このようにして、本実施形態に係る露光システム１では、露光装置ブロック２への振動の伝搬を抑制した状態で、各装置ブロックの間の間隙Ｓが確実に電磁波遮蔽されており、半導体ウェハＷの処理の信頼性が高い。
【００８９】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されることなく種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、基板処理システムとして電子ビーム露光システム１の実施形態について説明したが、これに限定されない。例えば、紫外線を用いた露光システムなどにも適用可能である。また、露光システムに限定されることなく、半導体基板上に成膜する成膜システム（例えば、ＣＶＤ装置やＰＶＤ装置）やエッチングシステムなどにも適用可能である。更に、半導体基板の処理に限らず、ガラス基板上にＩＴＯ膜などの成膜処理等を行う液晶パネル製造システムなどにも適用可能である。
【００９０】
また、電磁波遮蔽部材のブラケットに設けられる長穴の形状は、長円に限らず矩形であってもよい。また長穴は、一方向に間隙を設けて複数配列された円孔の集合であってもよく、このような円孔の集合も本発明における「長穴」に含まれる。
【００９１】
また、ガスケットは弾性体の表面を金属箔で被覆したものに限定されず、例えば、所定軸を中心として細い金属板を螺旋状に巻いて形成される、いわゆるエラストマーシールドスパイラルと呼ばれるものを利用してもよい。
【００９２】
【発明の効果】
本発明によれば、装置及び制御の複雑化を招くことなく、電磁波遮蔽性能に優れ、且つ振動伝搬を抑制することが可能な電磁波遮蔽部材、電磁波遮蔽方法、及び基板処理システムが提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】電子ビーム露光システムの構成を示す斜視図である（通常運転状態）。
【図２】電子ビーム露光システムの構成を示す斜視図である（メンテナンス状態）。
【図３】真空チャンバ内の構成を説明する断面図である。
【図４】第１実施形態に係る電磁波遮蔽部材の構成を示す断面図である。
【図５】第１実施形態に係る電磁波遮蔽部材の構成を示す分解斜視図である。
【図６】第１及び第２ブラケットの位置決めの様子を説明する斜視図である。
【図７】第１及び第２ブラケットの位置決めの様子を説明する斜視図である。
【図８】電磁波遮蔽部材を複数配列して電磁波遮蔽を図る様子を説明する斜視図である。
【図９】第２実施形態に係る電磁波遮蔽部材の構成を示す断面図である。
【図１０】第２実施形態に係る電磁波遮蔽部材の構成を示す分解斜視図である。
【図１１】第２実施形態に係る電磁波遮蔽部材の異なる利用例を示す断面図である。
【図１２】第３実施形態に係る電磁波遮蔽部材の構成を示す断面図である。
【図１３】第３実施形態に係る電磁波遮蔽部材の異なる利用例を示す断面図である。
【図１４】第４実施形態に係る電磁波遮蔽部材の構成を示す断面図である。
【図１５】第４実施形態に係る電磁波遮蔽部材の異なる利用例を示す断面図である。
【図１６】第５実施形態に係る電磁波遮蔽部材の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１…電子ビーム露光システム、１２…真空チャンバ、Ｗ…半導体ウェハ、４２，５０，６０，６２，６４，６６…筐体、７０，１１０，１２０，１３０，１５０…電磁波遮蔽部材、７２…第１ブラケット、７４，１２２，１５２…第２ブラケット、８４，９４，１０８，１３８…長穴、８６…ネジ穴、７６…ガスケット、７８…雄ネジ、１０２，１３２…ブラケット、９６…弾性体、９８…金属箔、２…露光装置ブロック、３…メイン制御ブロック、４…マスクストッカーブロック、５…ミニエンバイロメントブロック、６…サブ制御ブロック、７…操作盤ブロック。

Claims (6)

1. 第１の方向に沿って延びる基板部、及び該基板部の縁部に屈曲して設けられた該第１の方向に沿って延びる屈曲板部を有する導電性の第１ブラケットと、
   前記第１の方向に沿って延びる基板部を有する導電性の第２ブラケットと、
   前記第１の方向に沿って延びるように設けられており、前記第２ブラケットに連結される弾性及び導電性を有するガスケットと、
   前記第１ブラケットの前記屈曲板部に対して前記第２ブラケットの前記基板部を連結する連結手段であって、前記第１の方向と交差する第２の方向に該屈曲板部と該基板部とを相対的にスライド可能に連結固定する固定手段と、
   を備えることを特徴とする電磁波遮蔽部材。
2. 第１の方向に沿って延びる基板部を有する導電性のブラケットと、
   前記第１の方向に沿って延びるように設けられており、前記ブラケットに連結される弾性及び導電性を有するガスケットと、
   を備えることを特徴とする電磁波遮蔽部材。
3. 第１物体と第２物体との間に形成された第１の方向に延びる間隙を、請求項１に記載の電磁波遮蔽部材を用いて遮蔽する電磁波遮蔽方法であって、
   前記第１ブラケットの前記屈曲板部に前記第２ブラケットの前記基板部を連結固定するとき、該屈曲板部に対して該基板部を前記第２の方向にスライドさせて位置決めし、
   前記第１物体に前記第１ブラケットの前記基板部を連結固定するとき、該第１物体に対して該基板部を前記第１及び第２の方向と交差する第３の方向にスライドさせて位置決めして、
   前記ガスケットが前記第１の方向に沿って前記第２物体と接触するようにすることを特徴とする電磁波遮蔽方法。
4. 請求項１に記載の電磁波遮蔽部材を前記第１の方向に複数配置して、前記間隙を遮蔽することを特徴とする請求項３に記載の電磁波遮蔽方法。
5. 第１物体と第２物体との間に形成された第１の方向に延びる間隙を、請求項２に記載の電磁波遮蔽部材を用いて遮蔽する電磁波遮蔽方法であって、
   前記第１物体に前記ブラケットの前記基板部を連結固定するとき、該第１物体に対して該基板部を前記第１の方向と交差する第２の方向にスライドさせて位置決めして、
   前記ガスケットが前記第１の方向に沿って前記第２物体と接触するようにすることを特徴とする電磁波遮蔽方法。
6. 基板の処理を行うためのチャンバと、
   前記チャンバを包囲して電磁的に遮蔽するチャンバ用遮蔽壁と、
   前記チャンバ内での処理の制御を行う制御装置と、
   前記制御装置を包囲して電磁的に遮蔽する制御装置用遮蔽壁と、
   前記チャンバ用遮蔽壁と前記制御装置用遮蔽壁との間に形成された間隙を遮蔽する請求項１又は２に記載の電磁波遮蔽部材と、
   を備えることを特徴とする基板処理システム。

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