JP2004351494A - レーザーに対して透明な材料の穴あけ加工方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】レーザーに対して透明な材料にできるだけストレートな円柱形状の微細貫通穴を形成すること。
【解決手段】レーザーに対して透明な石英ガラスなどの材料20の内部に超短パルスレーザー11を照射し、材料20の表面21と裏面22の間の材料厚さ方向に沿う変質層23を材料20の内部にのみ生じさせる工程と、材料20の表面21と裏面22の変質層23に対応する領域で開口しその他の領域を覆うエッチング保護膜25を材料20にパターニングする工程と、材料20をエッチング液30に浸し、変質層23を挟んで向かい合う表面21と裏面22の開口26間の材料を除去する工程とを備える。
【選択図】 図1
【解決手段】レーザーに対して透明な石英ガラスなどの材料20の内部に超短パルスレーザー11を照射し、材料20の表面21と裏面22の間の材料厚さ方向に沿う変質層23を材料20の内部にのみ生じさせる工程と、材料20の表面21と裏面22の変質層23に対応する領域で開口しその他の領域を覆うエッチング保護膜25を材料20にパターニングする工程と、材料20をエッチング液30に浸し、変質層23を挟んで向かい合う表面21と裏面22の開口26間の材料を除去する工程とを備える。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はパルス幅が特に短い、ピコ秒以下のいわゆる超短パルスレーザーの照射とエッチングプロセスを併用し、レーザーに対して透明な材料に穴を形成する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
石英ガラス等のレーザーに対して透明な材料の加工に超短パルスレーザーを用いることが知られている。超短パルスレーザーを透明材料の内部に集光すると、焦点近傍の微小領域において材料の変質が起こる。そして、その変質部をフッ化水素HFのエッチャントに浸漬すると、変質部のエッチレートは母材に対し向上することが知られている。従って、超短パルスレーザーの集光点を走査し、3次元的に変質層を形成すれば、材料内部に3次元的な穴の作製が可能となる(例えば、非特許文献1参照)。
【0003】
【非特許文献1】
Andrius Marcinkevicius 他6名、論文名 Femtosecond laser−assistedthree−dimensional microfabrication in silica、”OPTICS LETTERS”、U.S.A.、Optical Society of America、2001年3月1日 第26巻第5号、p277−279。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、エッチングの進行は材料界面(材料表面)から進むため、エッチング液の入口付近の穴径は、材料の中心部より大きくなり、最終的に形成された穴にテーパが生じてしまう。また、材料表面では、レーザによるいわゆるアブレーション加工が生じ凹部が形成される。さらに、穴の入口付近と出口付近における壁面の品質は、エッチング前の材料の表面精度に影響される。したがって、アブレーションによって材料表面に凹部が形成されると、穴の入口付近と出口付近における壁面の品位低下と、穴形状の不確定性を増す要因となる。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、レーザーに対して透明な材料を、超短パルスレーザーの照射とウェットエッチングとを併用して穴あけを加工する方法において、材料に形成される穴の入口、出口付近の表面及び穴壁面における加工品質の向上と、材料に形成される穴形状をできるだけストレートな円柱形状にする方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の方法は、照射されるレーザーの波長に対して透明な材料の内部に超短パルスレーザーを集光照射し、前記材料の表面と裏面の間の材料厚さ方向に沿う変質層を前記材料の内部にのみ生じさせる工程と、前記材料の表面と裏面の前記変質層に対応する領域で開口しその他の領域を覆うエッチング保護膜を前記材料にパターニングする工程と、前記材料をエッチング液に浸し、前記変質層を挟んで向かい合う前記表面と前記裏面の前記開口間の材料を除去する工程と、を備えることを特徴とする。
こうすることで、穴が形成される領域及びその近傍の材料表面及び裏面でアブレーションが発生しないため、アブレーションに起因するドロスやデブリの発生がなくなって、ドロスやデブリに起因する材料表面及び裏面での凹凸を防止することができる。また、材料に形成される穴は、エッチング液により材料が除去されて形成されるので、レーザー照射により直接穴をあける場合に比べて穴の壁面の凹凸をより低減できる。
【0006】
本発明の第2の方法は、照射されるレーザーの波長に対して透明な材料の表面と裏面における穴あけ予定位置に対応する領域で開口しその他の領域を覆うエッチング保護膜を前記材料にパターニングする工程と、前記エッチング保護膜の開口から前記材料の内部に超短パルスレーザーを集光照射し、前記材料の表面と裏面の間の材料厚さ方向に沿う変質層を前記材料の内部にのみ生じさせる工程と、前記材料をエッチング液に浸し、前記変質層を挟んで向かい合う前記表面と前記裏面の前記開口間の材料を除去する工程と、を備えることを特徴とする。
これは、先に示した方法の、レーザー照射工程とエッチング保護膜パターニング工程の順序を入れ替えたもので、第1の方法とほぼ同様の効果が得られる。
【0007】
本発明の第3の方法は、照射されるレーザーの波長に対して透明な材料の表面に前記レーザーに対して透明なエッチング保護膜を成膜する工程と、前記エッチング保護膜を通して前記材料の内部に超短パルスレーザーを集光照射し、前記材料の表面と裏面の間の材料厚さ方向に沿う変質層を前記材料の内部のみに生じさせる工程と、前記材料の表面と裏面の前記変質層に対応する領域の前記エッチング保護膜を除去して開口を形成する工程と、前記材料をエッチング液に浸し、前記変質層を挟んで向かい合う前記表面と前記裏面の前記開口間の材料を除去する工程と、を備えることを特徴とする。
これは、エッチング保護膜の上からレーザーの照射を行う場合の方法であり、第1の方法とほぼ同様の効果が得られる。
【0008】
また、前記レーザーの集光照射において、レーザー集光点を前記材料の厚さ方向の深い位置から浅い位置へ徐々に移動ながら前記変質層を形成することを特徴とする。これにより、材料の厚さ方向に変質層を安定して形成できる。
【0009】
また、前記変質層を前記材料の表面部及び裏面部より中央部でその直径が大きくなる樽状又はテーパ状に形成することを特徴とする。エッチング加工では、材料の中央部に行くほど、エッチング液に浸漬されている時間が短くなるが、この態様により材料の中央部になるほど変質層の領域が多くなるため、材料のエッチレートが高くなって、結果として形成される穴の径の均一化が図れる。
【0010】
また、前記材料の表面と裏面における前記開口の直径を前記変質層の直径より小さくすることを特徴とする。材料の表面及び裏面部は、エッチング液に浸漬されている時間がもっとも多くなり、材料の中央部ほどエッチング液に浸漬されている時間が少なくなる。従って、このような態様とすることにより、材料の表面及び裏面部でエッチングにより形成される穴幅を、材料の中央部付近でエッチングにより形成される穴幅に近づけることができ、材料に形成される穴の径の均一化を図ることができる。
【0011】
さらに、前記超短パルスレーザーをフェムト秒レーザーとすることを特徴とする。フェムト秒レーザーは周囲への熱拡散が防止でき、多光子吸収の範囲が回折限界以下で可能であるなどの特徴を有し、変質領域を微細化できる利点がある。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の方法で加工対象となる材料は、用いるレーザーの波長に対して透明な材料である。これは材料の内部にレーザーを集光照射させて、多光子吸収によってその内部にのみ変質層を形成するためである。レーザーに対して透明な材料として、例えば、波長800nmのレーザー使用の場合、石英ガラスが上げられる。石英ガラスは機械的、熱的、化学的に安定であり、通信、バイオ等、今後拡大が予想される市場において欠くことの出来ない材料の一つである。そのため今後、石英ガラスに対して高品位、高精度な深穴加工を施す要求はさらに増加することが予想される材料である。
【0013】
上記のような透明材料の内部における変質層の形成は、いわゆる超短パルスレーザーの照射により実現される。そのような超短パルスレーザーとして、例えば、フェムト秒(10−15秒)パルス幅のフェムト秒レーザーが使用できる。
【0014】
以下に、フェムト秒レーザーの照射による材料変質とエッチングによる材料除去とを利用して、石英ガラスに穴あけ加工を施す例を説明する。図1は本発明の方法の実施形態を示す加工工程図であり、この図に沿って説明する。
(a)まず、石英ガラス20の表面21及び裏面22を研磨する。この工程は、必ずしも必要なものではないが、石英ガラス20の表面21及び裏面22に面精度が要求される場合には必須である。
(b)次に、穴あけ加工予定箇所である石英ガラス20の内部にフェムト秒レーザー11を集光照射して変質層23を形成する。この場合、レーザー集光点を石英ガラス20の厚さ方向の下部から上部へ徐々に移動させながら、変質層23をその厚さ方向に沿って形成する。なお、レーザーの集光点は、石英ガラス20の裏面22及び表面21のいずれの界面にもレーザーに起因する変質層を到達させないように制御する。これにより、石英ガラス20の裏面22及び表面21にはアブレーションによる影響を生じさせることなく、石英ガラス20の内部にのみ変質層23を形成できる。
(c)次に、石英ガラスの表面21と裏面22に、後述するエッチング液に対して耐性を有するエッチング保護膜25をパターニングする。そのパターニングは、エッチング保護膜25が石英ガラス20の表面21と裏面22の変質層23に対応する領域で開口26を形成し、その他の領域を被膜して覆い石英ガラス20をエッチング液から保護するものである。なお、エッチング液をフッ化水素(HF)の水溶液とした場合には、エッチング保護膜25として、クロム(Cr)、金(Au)又はこれらの合金等が利用できる。このパターニングは次のような効果を奏する。すなわち、(i)エッチングによる材料厚み低減の防止と表面面精度の維持、(ii)材料表面の穴周辺に形成された素子、配線の保護、そして、(iii)形成される穴の形状及び径を制御すること等である。
(d)次に、エッチング保護膜25がパターニングされた石英ガラス20をエッチング液30に浸漬させる。このとき、エッチング液30に触れる時間は、石英ガラス20の内部ではその表面部及び裏面部より短くなるが、石英ガラス20の変質層23のエッチングレートが変質していない部分のそれより向上しているので、エッチングによって形成される穴の径の深さ方向における差違を、小さくできる。
(e)そして、石英ガラス20の変質層23がエッチングにより除去されたら、石英ガラス20をエッチング液30中から取り出す。エッチング液30中から取り出された石英ガラス20には、その厚さ方向に、円柱形状の貫通穴27が形成されている。
(f)最後に、必要に応じて、石英ガラス20からエッチング保護膜25を取り除いて、穴あけ加工を終了する。
【0015】
以上が、石英ガラス20に対する穴あけ加工の一例である。これにより、穴27の入口及び出口ではアブレーションによる加工品位の低下を防止でき、しかも穴27の深さ方向における径の差違を小さくした高品位の穴加工が実現できる。なお、石英ガラス20に変質層23を形成した後、石英ガラス20の表面21上に、電子素子や配線を配置し、その後、石英ガラス20の表面21にエッチング保護膜23をパターニングして、上記のエッチング処理を行うこともできる。
【0016】
また、上記加工工程において、石英ガラス20の表面21と裏面22における穴あけ予定位置に対応する領域で開口26を有し、その他の領域を覆うエッチング保護膜25を、先に石英ガラス20にパターニングし、その後、エッチング保護膜25の開口26から石英ガラス20の内部に超短パルスレーザーを集光照射して、変質層23を形成するようにしてもよい。
【0017】
また、図2に示すように、照射されるレーザーの波長に対して透明なエッチング保護膜25Aを成膜した後に、レーザーの照射を行ってもよい。例えば、波長λ=800nmのレーザーに対して、ポリシリコン膜等をエッチング保護膜25Aとして石英ガラス20に成膜し、そのエッチング保護膜25Aを通して石英ガラス20の内部に超短パルスレーザーを照射して、変質層23を形成するようにしてもよい。ただし、その場合には、石英ガラス20をエッチング液30の中に入れる前に、石英ガラス20の表面21と裏面22の変質層23に対応する領域を覆うエッチング保護25Aを除去して、エッチング液30の侵入口を確保しておく必要がある。
【0018】
上記加工工程において、変質層23の形状は、図1と図2に示した円柱状より、むしろ石英ガラス20の厚さ方向の中央部の径が表面部及びを裏面部の径より徐々に広くなるようにするのが好ましい。このようにすると、エッチング液30によるエッチングの幅方向(穴径方向)へのエッチング速度が、石英ガラス20の中央部に進むほど早まる。従って、石英ガラス20の中央部に対するエッチング時間が他の部分に比べて短くなっても、石英ガラス20に形成される穴27の深さ方向における径をより均一化することができる。このような変質層23の形状として、例えば、図3(a)に示す樽型形状、図3(b)に示すテーパ形状等が挙げられる。また、エッチング液30に浸漬されている時間の長い石英ガラス20の表面部及び裏面部では幅方向(穴径方向)のエッチング量が中央部でのそれより多くなることを考慮して、エッチング保護膜25の開口26の径を変質層23の径より小さくしてもよい。例えば、図3の(c)に示すように、開口26の径を変質層23の径より小さくすることで、石英ガラス20に最終的に形成される穴27の径の均一化を図ることができる。
【0019】
さらに、上記の(d)のエッチング工程を2ステップに分けて行うこともできる。この場合、第1ステップでは、フッ化水素水溶液等のエッチング液を利用して、石英ガラス20を変質層23が露出するまでエッチングする。これに続く第2ステップでは、石英ガラス20の変質していない部分に対する変質層23のエッチングレートが、第1ステップで利用したフッ化水素水溶液よりもできるだけ大きなエッチングレートを有するエッチング液、もしくは変質層23だけをエッチングできるエッチング液を使用して、変質層23を除去するエッチングを行う。こうすることにより、穴27の入口及び出口付近の穴径を他の部分の穴径と大差なくでき、ほぼ変質層23の形状に等しいストレートな微小穴の形成が可能となる。
【0020】
(本発明に利用するレーザー照射装置について)
図4は本発明に利用するレーザー照射装置の一例を示す構成図である。このレーザー照射装置は、フェムト秒等の超短パルスレーザを発生するレーザーパルス光源1、レーザーパルス光源1から発振されたレーザービーム(パルス光)11のパルス幅を調整するパルス幅調整器2、レーザービーム11の出力を調整する出力調整器3、レーザービーム11の径を調整するレーザービーム径調整器4、レーザービーム11の通過/遮断を決定するシャター5、レーザービーム11の集光位置を調整する焦点位置調整器6(空間フィルタ又は回折光学素子7と屈折型集光レンズ8を備える)、石英ガラス20等の被加工部材を載置してX,Y,Z方向に移動可能な3軸自動ステージ9、そして、シャッター5、焦点位置調整器6及び3軸自動ステージ9等を制御する加工制御器10等からなる。
【0021】
なお、上記レーザー照射装置では、被加工部材とそこに照射されるレーザービーム11の水平方向位置及び集光位置の決定を3軸自動ステージ9の移動により行っているが、それらをレーザービーム11の方を走査させて行ってもよいし、3軸自動ステージ9とレーザービーム11の走査を組み合わせて行っても良い。なお、レーザービーム11を水平方向に走査させる手段としては、例えば、ガルバノミラーを2台組み合わせたガルバノスキャナが利用できる。
【0022】
実施例
ここで、上記実施形態におけるを条件の一例を実施例として示しておく。
・被加工材料:石英ガラス
・照射レーザー:波長λ=800nm、パルス幅=100fs、Power=500mW、パルス繰り返し=1kHz
・集光系:N.A.=0.8対物レンズ
・エッチング保護膜:クロム膜
【0023】
本発明は、砥粒加工では不可能な、例えば、1mm厚のガラス基板に、約140μmピッチで流路抵抗が低い微小な貫通穴を開けるような加工に利用できる。なお、上記実施形態においては、石英ガラスに対する穴あけ加工を説明したが、この発明の方法は、それに限らず、レーザーに対して透明性を有する他の材料も加工できる。そのような性質を有するものとしては、石英ガラス以外の各種ガラス、水晶、サファイア等が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法の実施形態に係る加工工程図。
【図2】エッチング保護膜を通してのレーザー集光照射の説明図。
【図3】レーザー集光照射によって形成する変質層の形状例示図。
【図4】本発明に利用するレーザー照射装置の一例を示す構成図。
【符号の説明】
1…レーザーパルス光源、2…パルス幅調整器、3…出力調整器、4…レーザービーム径調整器、5…シャッター、6…焦点位置調整器、7…空間フィルタ又は回折光学素子、8…屈折型集光レンズ、9…3軸自動ステージ、10…加工制御器、11…レーザービーム、20…石英ガラス、21…石英ガラスの表面、22…石英ガラスの裏面、23…変質層、25,25A…エッチング保護膜、26…エッチング保護膜の開口、27…穴、30…エッチング液。
【発明の属する技術分野】
本発明はパルス幅が特に短い、ピコ秒以下のいわゆる超短パルスレーザーの照射とエッチングプロセスを併用し、レーザーに対して透明な材料に穴を形成する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
石英ガラス等のレーザーに対して透明な材料の加工に超短パルスレーザーを用いることが知られている。超短パルスレーザーを透明材料の内部に集光すると、焦点近傍の微小領域において材料の変質が起こる。そして、その変質部をフッ化水素HFのエッチャントに浸漬すると、変質部のエッチレートは母材に対し向上することが知られている。従って、超短パルスレーザーの集光点を走査し、3次元的に変質層を形成すれば、材料内部に3次元的な穴の作製が可能となる(例えば、非特許文献1参照)。
【0003】
【非特許文献1】
Andrius Marcinkevicius 他6名、論文名 Femtosecond laser−assistedthree−dimensional microfabrication in silica、”OPTICS LETTERS”、U.S.A.、Optical Society of America、2001年3月1日 第26巻第5号、p277−279。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、エッチングの進行は材料界面(材料表面)から進むため、エッチング液の入口付近の穴径は、材料の中心部より大きくなり、最終的に形成された穴にテーパが生じてしまう。また、材料表面では、レーザによるいわゆるアブレーション加工が生じ凹部が形成される。さらに、穴の入口付近と出口付近における壁面の品質は、エッチング前の材料の表面精度に影響される。したがって、アブレーションによって材料表面に凹部が形成されると、穴の入口付近と出口付近における壁面の品位低下と、穴形状の不確定性を増す要因となる。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、レーザーに対して透明な材料を、超短パルスレーザーの照射とウェットエッチングとを併用して穴あけを加工する方法において、材料に形成される穴の入口、出口付近の表面及び穴壁面における加工品質の向上と、材料に形成される穴形状をできるだけストレートな円柱形状にする方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の方法は、照射されるレーザーの波長に対して透明な材料の内部に超短パルスレーザーを集光照射し、前記材料の表面と裏面の間の材料厚さ方向に沿う変質層を前記材料の内部にのみ生じさせる工程と、前記材料の表面と裏面の前記変質層に対応する領域で開口しその他の領域を覆うエッチング保護膜を前記材料にパターニングする工程と、前記材料をエッチング液に浸し、前記変質層を挟んで向かい合う前記表面と前記裏面の前記開口間の材料を除去する工程と、を備えることを特徴とする。
こうすることで、穴が形成される領域及びその近傍の材料表面及び裏面でアブレーションが発生しないため、アブレーションに起因するドロスやデブリの発生がなくなって、ドロスやデブリに起因する材料表面及び裏面での凹凸を防止することができる。また、材料に形成される穴は、エッチング液により材料が除去されて形成されるので、レーザー照射により直接穴をあける場合に比べて穴の壁面の凹凸をより低減できる。
【0006】
本発明の第2の方法は、照射されるレーザーの波長に対して透明な材料の表面と裏面における穴あけ予定位置に対応する領域で開口しその他の領域を覆うエッチング保護膜を前記材料にパターニングする工程と、前記エッチング保護膜の開口から前記材料の内部に超短パルスレーザーを集光照射し、前記材料の表面と裏面の間の材料厚さ方向に沿う変質層を前記材料の内部にのみ生じさせる工程と、前記材料をエッチング液に浸し、前記変質層を挟んで向かい合う前記表面と前記裏面の前記開口間の材料を除去する工程と、を備えることを特徴とする。
これは、先に示した方法の、レーザー照射工程とエッチング保護膜パターニング工程の順序を入れ替えたもので、第1の方法とほぼ同様の効果が得られる。
【0007】
本発明の第3の方法は、照射されるレーザーの波長に対して透明な材料の表面に前記レーザーに対して透明なエッチング保護膜を成膜する工程と、前記エッチング保護膜を通して前記材料の内部に超短パルスレーザーを集光照射し、前記材料の表面と裏面の間の材料厚さ方向に沿う変質層を前記材料の内部のみに生じさせる工程と、前記材料の表面と裏面の前記変質層に対応する領域の前記エッチング保護膜を除去して開口を形成する工程と、前記材料をエッチング液に浸し、前記変質層を挟んで向かい合う前記表面と前記裏面の前記開口間の材料を除去する工程と、を備えることを特徴とする。
これは、エッチング保護膜の上からレーザーの照射を行う場合の方法であり、第1の方法とほぼ同様の効果が得られる。
【0008】
また、前記レーザーの集光照射において、レーザー集光点を前記材料の厚さ方向の深い位置から浅い位置へ徐々に移動ながら前記変質層を形成することを特徴とする。これにより、材料の厚さ方向に変質層を安定して形成できる。
【0009】
また、前記変質層を前記材料の表面部及び裏面部より中央部でその直径が大きくなる樽状又はテーパ状に形成することを特徴とする。エッチング加工では、材料の中央部に行くほど、エッチング液に浸漬されている時間が短くなるが、この態様により材料の中央部になるほど変質層の領域が多くなるため、材料のエッチレートが高くなって、結果として形成される穴の径の均一化が図れる。
【0010】
また、前記材料の表面と裏面における前記開口の直径を前記変質層の直径より小さくすることを特徴とする。材料の表面及び裏面部は、エッチング液に浸漬されている時間がもっとも多くなり、材料の中央部ほどエッチング液に浸漬されている時間が少なくなる。従って、このような態様とすることにより、材料の表面及び裏面部でエッチングにより形成される穴幅を、材料の中央部付近でエッチングにより形成される穴幅に近づけることができ、材料に形成される穴の径の均一化を図ることができる。
【0011】
さらに、前記超短パルスレーザーをフェムト秒レーザーとすることを特徴とする。フェムト秒レーザーは周囲への熱拡散が防止でき、多光子吸収の範囲が回折限界以下で可能であるなどの特徴を有し、変質領域を微細化できる利点がある。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の方法で加工対象となる材料は、用いるレーザーの波長に対して透明な材料である。これは材料の内部にレーザーを集光照射させて、多光子吸収によってその内部にのみ変質層を形成するためである。レーザーに対して透明な材料として、例えば、波長800nmのレーザー使用の場合、石英ガラスが上げられる。石英ガラスは機械的、熱的、化学的に安定であり、通信、バイオ等、今後拡大が予想される市場において欠くことの出来ない材料の一つである。そのため今後、石英ガラスに対して高品位、高精度な深穴加工を施す要求はさらに増加することが予想される材料である。
【0013】
上記のような透明材料の内部における変質層の形成は、いわゆる超短パルスレーザーの照射により実現される。そのような超短パルスレーザーとして、例えば、フェムト秒(10−15秒)パルス幅のフェムト秒レーザーが使用できる。
【0014】
以下に、フェムト秒レーザーの照射による材料変質とエッチングによる材料除去とを利用して、石英ガラスに穴あけ加工を施す例を説明する。図1は本発明の方法の実施形態を示す加工工程図であり、この図に沿って説明する。
(a)まず、石英ガラス20の表面21及び裏面22を研磨する。この工程は、必ずしも必要なものではないが、石英ガラス20の表面21及び裏面22に面精度が要求される場合には必須である。
(b)次に、穴あけ加工予定箇所である石英ガラス20の内部にフェムト秒レーザー11を集光照射して変質層23を形成する。この場合、レーザー集光点を石英ガラス20の厚さ方向の下部から上部へ徐々に移動させながら、変質層23をその厚さ方向に沿って形成する。なお、レーザーの集光点は、石英ガラス20の裏面22及び表面21のいずれの界面にもレーザーに起因する変質層を到達させないように制御する。これにより、石英ガラス20の裏面22及び表面21にはアブレーションによる影響を生じさせることなく、石英ガラス20の内部にのみ変質層23を形成できる。
(c)次に、石英ガラスの表面21と裏面22に、後述するエッチング液に対して耐性を有するエッチング保護膜25をパターニングする。そのパターニングは、エッチング保護膜25が石英ガラス20の表面21と裏面22の変質層23に対応する領域で開口26を形成し、その他の領域を被膜して覆い石英ガラス20をエッチング液から保護するものである。なお、エッチング液をフッ化水素(HF)の水溶液とした場合には、エッチング保護膜25として、クロム(Cr)、金(Au)又はこれらの合金等が利用できる。このパターニングは次のような効果を奏する。すなわち、(i)エッチングによる材料厚み低減の防止と表面面精度の維持、(ii)材料表面の穴周辺に形成された素子、配線の保護、そして、(iii)形成される穴の形状及び径を制御すること等である。
(d)次に、エッチング保護膜25がパターニングされた石英ガラス20をエッチング液30に浸漬させる。このとき、エッチング液30に触れる時間は、石英ガラス20の内部ではその表面部及び裏面部より短くなるが、石英ガラス20の変質層23のエッチングレートが変質していない部分のそれより向上しているので、エッチングによって形成される穴の径の深さ方向における差違を、小さくできる。
(e)そして、石英ガラス20の変質層23がエッチングにより除去されたら、石英ガラス20をエッチング液30中から取り出す。エッチング液30中から取り出された石英ガラス20には、その厚さ方向に、円柱形状の貫通穴27が形成されている。
(f)最後に、必要に応じて、石英ガラス20からエッチング保護膜25を取り除いて、穴あけ加工を終了する。
【0015】
以上が、石英ガラス20に対する穴あけ加工の一例である。これにより、穴27の入口及び出口ではアブレーションによる加工品位の低下を防止でき、しかも穴27の深さ方向における径の差違を小さくした高品位の穴加工が実現できる。なお、石英ガラス20に変質層23を形成した後、石英ガラス20の表面21上に、電子素子や配線を配置し、その後、石英ガラス20の表面21にエッチング保護膜23をパターニングして、上記のエッチング処理を行うこともできる。
【0016】
また、上記加工工程において、石英ガラス20の表面21と裏面22における穴あけ予定位置に対応する領域で開口26を有し、その他の領域を覆うエッチング保護膜25を、先に石英ガラス20にパターニングし、その後、エッチング保護膜25の開口26から石英ガラス20の内部に超短パルスレーザーを集光照射して、変質層23を形成するようにしてもよい。
【0017】
また、図2に示すように、照射されるレーザーの波長に対して透明なエッチング保護膜25Aを成膜した後に、レーザーの照射を行ってもよい。例えば、波長λ=800nmのレーザーに対して、ポリシリコン膜等をエッチング保護膜25Aとして石英ガラス20に成膜し、そのエッチング保護膜25Aを通して石英ガラス20の内部に超短パルスレーザーを照射して、変質層23を形成するようにしてもよい。ただし、その場合には、石英ガラス20をエッチング液30の中に入れる前に、石英ガラス20の表面21と裏面22の変質層23に対応する領域を覆うエッチング保護25Aを除去して、エッチング液30の侵入口を確保しておく必要がある。
【0018】
上記加工工程において、変質層23の形状は、図1と図2に示した円柱状より、むしろ石英ガラス20の厚さ方向の中央部の径が表面部及びを裏面部の径より徐々に広くなるようにするのが好ましい。このようにすると、エッチング液30によるエッチングの幅方向(穴径方向)へのエッチング速度が、石英ガラス20の中央部に進むほど早まる。従って、石英ガラス20の中央部に対するエッチング時間が他の部分に比べて短くなっても、石英ガラス20に形成される穴27の深さ方向における径をより均一化することができる。このような変質層23の形状として、例えば、図3(a)に示す樽型形状、図3(b)に示すテーパ形状等が挙げられる。また、エッチング液30に浸漬されている時間の長い石英ガラス20の表面部及び裏面部では幅方向(穴径方向)のエッチング量が中央部でのそれより多くなることを考慮して、エッチング保護膜25の開口26の径を変質層23の径より小さくしてもよい。例えば、図3の(c)に示すように、開口26の径を変質層23の径より小さくすることで、石英ガラス20に最終的に形成される穴27の径の均一化を図ることができる。
【0019】
さらに、上記の(d)のエッチング工程を2ステップに分けて行うこともできる。この場合、第1ステップでは、フッ化水素水溶液等のエッチング液を利用して、石英ガラス20を変質層23が露出するまでエッチングする。これに続く第2ステップでは、石英ガラス20の変質していない部分に対する変質層23のエッチングレートが、第1ステップで利用したフッ化水素水溶液よりもできるだけ大きなエッチングレートを有するエッチング液、もしくは変質層23だけをエッチングできるエッチング液を使用して、変質層23を除去するエッチングを行う。こうすることにより、穴27の入口及び出口付近の穴径を他の部分の穴径と大差なくでき、ほぼ変質層23の形状に等しいストレートな微小穴の形成が可能となる。
【0020】
(本発明に利用するレーザー照射装置について)
図4は本発明に利用するレーザー照射装置の一例を示す構成図である。このレーザー照射装置は、フェムト秒等の超短パルスレーザを発生するレーザーパルス光源1、レーザーパルス光源1から発振されたレーザービーム(パルス光)11のパルス幅を調整するパルス幅調整器2、レーザービーム11の出力を調整する出力調整器3、レーザービーム11の径を調整するレーザービーム径調整器4、レーザービーム11の通過/遮断を決定するシャター5、レーザービーム11の集光位置を調整する焦点位置調整器6(空間フィルタ又は回折光学素子7と屈折型集光レンズ8を備える)、石英ガラス20等の被加工部材を載置してX,Y,Z方向に移動可能な3軸自動ステージ9、そして、シャッター5、焦点位置調整器6及び3軸自動ステージ9等を制御する加工制御器10等からなる。
【0021】
なお、上記レーザー照射装置では、被加工部材とそこに照射されるレーザービーム11の水平方向位置及び集光位置の決定を3軸自動ステージ9の移動により行っているが、それらをレーザービーム11の方を走査させて行ってもよいし、3軸自動ステージ9とレーザービーム11の走査を組み合わせて行っても良い。なお、レーザービーム11を水平方向に走査させる手段としては、例えば、ガルバノミラーを2台組み合わせたガルバノスキャナが利用できる。
【0022】
実施例
ここで、上記実施形態におけるを条件の一例を実施例として示しておく。
・被加工材料:石英ガラス
・照射レーザー:波長λ=800nm、パルス幅=100fs、Power=500mW、パルス繰り返し=1kHz
・集光系:N.A.=0.8対物レンズ
・エッチング保護膜:クロム膜
【0023】
本発明は、砥粒加工では不可能な、例えば、1mm厚のガラス基板に、約140μmピッチで流路抵抗が低い微小な貫通穴を開けるような加工に利用できる。なお、上記実施形態においては、石英ガラスに対する穴あけ加工を説明したが、この発明の方法は、それに限らず、レーザーに対して透明性を有する他の材料も加工できる。そのような性質を有するものとしては、石英ガラス以外の各種ガラス、水晶、サファイア等が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法の実施形態に係る加工工程図。
【図2】エッチング保護膜を通してのレーザー集光照射の説明図。
【図3】レーザー集光照射によって形成する変質層の形状例示図。
【図4】本発明に利用するレーザー照射装置の一例を示す構成図。
【符号の説明】
1…レーザーパルス光源、2…パルス幅調整器、3…出力調整器、4…レーザービーム径調整器、5…シャッター、6…焦点位置調整器、7…空間フィルタ又は回折光学素子、8…屈折型集光レンズ、9…3軸自動ステージ、10…加工制御器、11…レーザービーム、20…石英ガラス、21…石英ガラスの表面、22…石英ガラスの裏面、23…変質層、25,25A…エッチング保護膜、26…エッチング保護膜の開口、27…穴、30…エッチング液。
Claims (7)
- 照射されるレーザーの波長に対して透明な材料の内部に超短パルスレーザーを集光照射し、前記材料の表面と裏面の間の材料厚さ方向に沿う変質層を前記材料の内部にのみ生じさせる工程と、
前記材料の表面と裏面の前記変質層に対応する領域で開口しその他の領域を覆うエッチング保護膜を前記材料にパターニングする工程と、
前記材料をエッチング液に浸し、前記変質層を挟んで向かい合う前記表面と前記裏面の前記開口間の材料を除去する工程と、
を備えることを特徴とする材料の穴あけ加工方法。 - 照射されるレーザーの波長に対して透明な材料の表面と裏面における穴あけ予定位置に対応する領域で開口しその他の領域を覆うエッチング保護膜を前記材料にパターニングする工程と、
前記エッチング保護膜の開口から前記材料の内部に超短パルスレーザーを集光照射し、前記材料の表面と裏面の間の材料厚さ方向に沿う変質層を前記材料の内部にのみ生じさせる工程と、
前記材料をエッチング液に浸し、前記変質層を挟んで向かい合う前記表面と前記裏面の前記開口間の材料を除去する工程と、
を備えることを特徴とする材料の穴あけ加工方法。 - 照射されるレーザーの波長に対して透明な材料の表面に前記レーザーに対して透明なエッチング保護膜を成膜する工程と、
前記エッチング保護膜を通して前記材料の内部に超短パルスレーザーを集光照射し、前記材料の表面と裏面の間の材料厚さ方向に沿う変質層を前記材料の内部のみに生じさせる工程と、
前記材料の表面と裏面の前記変質層に対応する領域の前記エッチング保護膜を除去して開口を形成する工程と、
前記材料をエッチング液に浸し、前記変質層を挟んで向かい合う前記表面と前記裏面の前記開口間の材料を除去する工程と、
を備えることを特徴とする材料の穴あけ加工方法。 - 前記レーザーの集光照射において、レーザー集光点を前記材料の厚さ方向の深い位置から浅い位置へ徐々に移動しながら前記変質層を形成することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の材料の穴あけ加工方法。
- 前記変質層を前記材料の表面部及び裏面部より中央部でその直径が大きくなる樽状又はテーパ状に形成することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の材料の穴あけ加工方法。
- 前記材料の表面と裏面における前記開口の直径を前記変質層の直径より小さくすることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の材料の穴あけ加工方法。
- 前記超短パルスレーザーをフェムト秒レーザーとすることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の材料の穴あけ加工方法。
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