JP2004341527A - 液晶表示装置及びこの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 厚さ及び重さを減少し、輝度を向上させた液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を開示する。
【解決手段】 液晶表示パネルの第１基板及び第２基板のうち、いずれか１つに約４〜５μｍ程度の薄い厚さを有するＣ−プレート一軸性補償フィルムを形成又は配置する。Ｃ−プレート一軸性補償フィルムは、流動性のあるＣ−プレート一軸性補償物質を第１基板または第２基板のうち、いずれか１つに配置し、Ｃ−プレート一軸性補償物質を広く塗布して製作することにより、非常に薄い厚さに形成することができる。これにより、液晶表示装置の厚さ及び重さを減少させることができ、視野角を拡張すると共に、輝度を向上させることができる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、液晶表示装置及びこの製造方法に関し、より詳細には全体厚さ及び重さを減少させ、視野角及び輝度を向上させた液晶表示装置及びこの製造方法に関するものである。

一般に、固体と液体の中間的な物理的特性を有する液晶（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ）は、配置によって光の透過率が大きく変更され、液晶の配置は電気場により変更される。液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ ｄｅｖｉｃｅ、ＬＣＤ）は、このような液晶の特徴を用いて黒白映像またはカラー映像を表示する。

映像を表示するために、液晶表示装置は、非常に小さい面積単位で液晶に電気場を印加するために、離間した状態で向かい合う一対の電極と一対の電極との間に注入された液晶を含む。

このような液晶表示装置は、同一なスクリーンサイズを有する他の表示装置、例えば、ＣＲＴ方式のディスプレイ装置と比較して、大きさや重量を軽減することができるという長所を有する。

このような従来の液晶表示装置は、個人用ノートパソコン、携帯用時計及び移動通信器機は勿論、デスクトップコンピュータの表示装置としても広く用いられており、最近ではテレビにも用いられている。

しかし、このように多様な用途に用いられている液晶表示装置は、視野角（ｖｉｅｗｉｎｇ ａｎｇｌｅ）が狭いので、液晶表示装置の正面を基準として一定の角度を超える斜めから見た時、色が反転して見えたり、映像が歪むという問題点を有する。また、液晶表示装置は、他の表示装置と比較して光の利用効率が低いので、映像の品質を決定する重要な要因中の１つである輝度が低いという問題点もともに有する。

最近では、液晶表示装置の視野角を向上させるために、垂直配向モード液晶（Ｖｅｒｔｉｃａｌ ａｌｉｇｎｍｅｎｔ ｍｏｄｅ ＬＣ）を用いた広視野角液晶表示装置またはＩＰＳ方式液晶表示装置（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ ＬＣＤ）等が開発された。

垂直配向モード液晶を用いた広視野角液晶表示装置またはＩＰＳ方式液晶表示装置は、光の視野角をより向上させるために、視野角補償フィルムを用いている。

視野角補償フィルムは多様に開発されているが、特許文献１では、視野角をより向上させるために二軸性フィルム（ｂｉａｘｉａｌ ｆｉｌｍ）を用いる。しかし、二軸性フィルムは、約８０μｍ程度の厚さを有し、二軸性フィルムを液晶表示パネルに取り付けるためには、少なくとも２５μｍ程度の接着層を必要とする。
米国特許第６５１５７２８号公報 また、二軸性フィルムは、液晶表示パネルの両面に取り付けられる。従って、液晶表示装置の視野角を向上させるためには、２つの二軸性フィルムの厚さ１６０μｍ及び２つの接着層の厚さ５０μｍを必要とする。即ち、視野角を向上させるためには、少なくとも２１０μｍの厚さを必要とする。大きさ及び重さが重要な要素である液晶表示装置において、２１０μｍの厚さを有する視野角補償フィルムは、液晶表示装置の全体の大きさ及び重さに大きい影響を及ぼす。

また、視野角補償フィルムを用いることにより、液晶表示装置は他の構成要素、例えば、光学部材である導光板、ケース、液晶表示パネルの大きさ及び厚さをより減少させなければならない。

また、視野角補償フィルムを用いることにより、液晶表示装置を製造するのに必要な製造工程数が増加し、製造に必要となる製作時間が大きく増加するという問題点を有する。

従って、本発明はこのような従来の問題点を勘案したものであって、本発明の第１目的は、大きさ及び重さを減少させると同時に視野角と輝度を向上させた液晶表示装置を提供することにある。

本発明の第２目的は、前記液晶表示装置を製造するための液晶表示装置の製造方法を提供することにある。

このような本発明の第１目的を具現するために、本発明による液晶表示装置は、第１基板、第２基板、第１基板と第２基板との間に封入され、第１電極と第２電極との間に電界が印加されていない状態で第１基板及び第２基板の表面に対してほぼ垂直に配向される液晶を備えた液晶表示パネルと、前記第１基板に配置された第１偏光板、第２基板に配置された第２偏光板を含む偏光板と、第１基板と第１偏光板との間に、視野角及び輝度を増加させるために配置されたＣ−プレート一軸性補償フィルムとを含む液晶表示装置を提供する。

また、本発明の第２目的を具現するために、本発明による液晶表示装置の製造方法は、第１基板、第２基板、前記第１基板と第２基板との間に封入され、第１電極と第２電極との間に電界が印加されていない状態で第１基板及び第２基板の表面に対してほぼ垂直に配向される液晶を備えた液晶パネルを製造する段階と、視野角及び輝度を増加させるために流動性のあるＣ−プレート一軸性補償物質を第１基板及び第２基板のうち、いずれか１つにコーティングしてＣ−プレート一軸性補償フィルムを形成する段階と、第１基板に第１偏光板、第２基板に第２偏光板を配置する段階とを含む液晶表示装置の製造方法を提供する。

本発明によると、Ｃ−プレート一軸性補償フィルムを液晶表示パネルの一側面に形成して液晶表示装置の重量及び大きさを軽減し、液晶表示装置の輝度及び視野角を向上し、組立工程数及び組立に必要となる時間を大きく短縮できる。

前述したように、液晶表示装置の全体的な厚さを減少しながらも、ディスプレイに必要な輝度を大きく向上し、視野角を増加する。また、液晶表示装置を製造するのに必要な製造工程数及び製造に要する製造時間もともに減少できる効果を有する。

以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例をより詳細に説明する。

液晶表示装置の実施例
図１は、本発明の一実施例による液晶表示装置の概念図である。

図１を参照すると、液晶表示装置４００は、液晶表示パネル１００、偏光板２００及びＣ−プレート一軸性補償フィルム３００を含む。これ以外にも、液晶表示装置４００は、液晶表示パネル１００が表示を行うのに必要な光を提供するバックライトアセンブリを更に含む構成とすることができる。

液晶表示パネル１００は、第１基板１１０、第２基板１２０及び液晶１３０を含む。

図２は、図１の第１基板の一部を図示した概念図である。

図１または図２を参照すると、第１基板１１０は、第１透明基板１１２、画素電極（ｐｉｘｅｌ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１１４及び電圧印加装置１１６を含む。第１透明基板１１２は、ガラス基板であり、画素電極１１４は、第１透明基板１１２にマトリックス形態に配置される。

本実施例において、液晶表示装置４００の解像度が１０２４×７６８である時、画素電極１１４の個数は１０２４×７６８×３個である。画素電極１１４は、透明で導電性であるインジウムスズ酸化膜（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ ｆｉｌｍ、ＩＴＯ）又はインジウム亜鉛酸化膜（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ ｆｉｌｍ、ＩＺＯ）をパターニングして製作する。

電圧印加装置１１６は、第１透明基板１１２に形成された各画素電極１１４に連結される。電圧印加装置１１６は、各画素電極１１４に互いに異なる電圧を印加する。電圧印加装置１１６は、薄膜トランジスタ１１７、薄膜トランジスタ１１７に連結されたゲートバスライン１１８及びデータバスライン１１９を含む信号線で構成される。

薄膜トランジスタ１１７は、各画素電極１１４に対応して１つずつ形成される。薄膜トランジスタ１１７は、ゲート電極部Ｇ、ソース電極部Ｓ、ドレーン電極部Ｄ及びチャンネル層Ｃを含む。ゲート電極部Ｇは、金属薄膜をパターニングして形成される。ゲート電極部Ｇの上面には、ゲート電極部Ｇと絶縁されたチャンネル層Ｃが形成される。チャンネル層Ｃは、アモルファスシリコン薄膜（ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ ｆｉｌｍ）の単層構造であるか、アモルファスシリコン薄膜及びアモルファスシリコン薄膜の上面に形成されたｎ^＋アモルファスシリコン薄膜（ｎ^＋ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ ｆｉｌｍ）の複層構造である。

ソース電極部Ｓ及びドレーン電極部Ｄは、チャンネル層Ｃに連結される。この際、ソース電極部Ｓ及びドレーン電極部Ｄは、相互絶縁される。

信号線は、ゲートバスライン１１８及びデータバスライン１１９で構成される。ゲートバスライン１１８及びデータバスライン１１９は相互に絶縁され、互いに直交する状態に配置される。ゲートバスライン１１８には、薄膜トランジスタ１１７のゲート電極部Ｇが連結される。データバスライン１１９には、薄膜トランジスタ１１７のソース電極部Ｓが連結される。

第２基板１２０は、第１基板１１０と向かい合うように配置される。第２基板１２０は、第２透明基板１２２、共通電極１２４を含む。また、第２基板１２０は、選択的にカラーフィルターを更に含む構成とすることができる。

第２透明基板１２２は、ガラス基板であり、共通電極１２４は、第２透明基板１２２の全面積にかけて形成される。共通電極１２４は、第２透明基板１２２のうち、第１基板１１０の画素電極１１４と向かい合う面に配置される。共通電極１２４は、画素電極１１４と同様にインジウムスズ酸化膜またはインジウム亜鉛酸化膜をパターニングして用いることができる。カラーフィルターは、第２透明基板１２２及び共通電極１２４の間に配置することができる。具体的に、カラーフィルターは、画素電極１１４と向かい合う位置に、画素電極１１４と同一の面積で形成される。

本実施例では、第１基板１１０に画素電極１１４を形成し、第２基板１２０に共通電極１２４を形成しているが、これと異なり、第１基板１１０に共通電極１２４を形成し、第２基板１２０に画素電極１１４を形成しても良い。

一方、第１基板１１０及び第２基板１２０は、第１基板１１０の外縁に沿って塗布された帯形状のシーラント（ｓｅａｌａｎｔ）により相互に取り付けられる。シーラントは、第１基板１１０及び第２基板１２０の間に液晶が収納される空間も共に製作される。この際、第１基板１１０及び第２基板１２０の間に形成されるセルギャップ（ｃｅｌｌ ｇａｐ）は、３.７５μｍ〜４μｍであることが好ましい。

液晶１３０は、第１基板１１０及び第２基板１２０の間に滴下（ｄｒｏｐ ｆｉｌｌｉｎｇ）または真空注入される。本実施例において、液晶１３０は共通電極１２４及び画素電極１１４の間に電気場が形成されていない状態で、第１基板１１０及び第２基板１２０の間で垂直に配向される垂直配向モード液晶（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ ｍｏｄｅ ＬＣ）である。

偏光板２００は、第１偏光板２１０及び第２偏光板２２０で構成される。第１偏光板２１０は、第１基板１１０の外側面に取り付けられ、第２偏光板２２０は、第２基板１２０の外側面に取り付けられる。この際、第１偏光板２１０及び第２偏光板２２０は、光軸が相互平行であるか、相互直交するように配置される。

Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００は、例えば、第１偏光板２１０及び第１透明基板１１２の間に形成される。これと異なり、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００は、第２偏光板２２０及び第２透明基板１２２の間に形成しても良い。Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００は、液晶表示パネル１００を通過した光の視野角及び輝度を増加させる。

図３は、図１のＣ−プレート一軸性補償フィルムの一部を図示した概念図である。

図３に示すように、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００は、図３に図示された空間座標系によってｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚの屈折率を有する。屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙは、それぞれ図３に図示された空間座標系のＸＹ平面でのｘ軸方向の屈折率とｙ軸方向の屈折率であり、ｎ_ｚは、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００の法線方向、ｚ軸方向の屈折率である。

このように定義されたＣ−プレート一軸性補償フィルム３００の位相遅延値（Ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ ｖａｌｕｅ、Ｒｔｈ）は、次の式１により決定される。

Ｒｔｈ＝［（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ］ｄ ・・・（式１）
（但し、ｄは、Ｃ−プレート一軸性補償フィルムの厚さであり、ｎ_ｘ＝ｎ_ｙ＞／ｎ_ｚ）
本実施例において、式１により算出された位相遅延値Ｒｔｈは、２２０ｎｍ〜２７０ｎｍの間に存在する。この際、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００が、２２０ｎｍ〜２７０ｎｍの位相遅延値Ｒｔｈを有する理由は、位相遅延値Ｒｔｈが２２０ｎｍ〜２７０ｎｍに存在する時、視野角及び輝度が最も高く、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００の厚さを顕著に減少させることができるためである。シミュレーションの結果、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００の位相遅延値Ｒｔｈが２２０ｎｍより小さいか、２７０ｎｍより大きい場合には、輝度が減少し、色反転現象が大きくなる。

図４は、図１に図示されたＣ−プレート一軸性補償フィルムの位相遅延値を変更した時の輝度変化を図示したグラフである。図４のグラフａは、液晶のセルギャップが３.７５μｍである時の位相遅延値とセルギャップの関係を示し、図４のグラフｂは、液晶のセルギャップが４μｍである時の位相遅延値とセルギャップの関係を示す。

図４のグラフａ、グラフｂに示すように、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００の位相遅延値Ｒｔｈを１８０ｎｍ〜２９０ｎｍまで増加しながら輝度の変化を測定した時、位相遅延値Ｒｔｈが２２０ｎｍ〜２７０ｎｍの間で最も高い輝度を示した。

この際、輝度及び視野角を大きく向上させるために、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００は、位相遅延値Ｒｔｈが２２０ｎｍ〜２７０ｎｍを満足させるために、約４〜５μｍの厚さを有する。

Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００を約４〜５μｍに形成する場合、接着層の厚さを２５μｍに設定しても最大３０μｍにしかならない。これは、従来２枚の二軸性フィルムを用いて視野角を拡張する時に必要とする二軸性フィルムの厚さである約２１０μｍの１／７程度しかならない。本実施例において、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００の両方に２５μｍの厚さを有する接着層を形成しても、厚さの増加は５４μｍ〜５５μｍに過ぎず、従来二軸性補償フィルムと比較して約１／４の厚さを有する。

約４〜５μｍに過ぎないＣ−プレート一軸性補償フィルム３００は、流動性のあるＣ−プレート一軸性補償物質を第１基板１１０または第２基板１２０に配置した後、Ｃ−プレート一軸性補償物質を第１基板１１０または第２基板１２０に広く散布して形成する。

図５は、図１に図示されたＣ−プレート一軸性補償フィルム及び従来の二軸性補償フィルムの階調間色温度変化を図示したグラフである。図５のグラフｃは、２枚の二軸性フィルムを用いた時の階調間色温度変化を図示し、グラフｄは、１枚のＣ−プレート一軸性補償フィルムを用いた時の階調間色温度変化を図示する。

この際、色温度（又は、ケルビン温度、Ｋ）は、光源が放出する光の色調を物理的、客観的尺度を表示する。色温度が低いと、光はオレンジ系列の色を発生し、色温度が高いと、太陽光のような白色光が発生し、色温度がより高くなると、青色系列の色が発生する。たとえば、電球の光は２８００Ｋの色温度を有し、蛍光灯の光は４５００〜６５００Ｋの色温度を有し、正午の太陽光は５４００Ｋの色温度を有し、曇り日の光は６５００〜７０００Ｋの色温度を有し、晴れている日の青い空の光は１２０００〜１８０００Ｋ程度の色温度を有する。色温度の測定法は国際的に定められており、適当な色ガラスフィルターと標準光源を用いて測定する。

図５のグラフｃに示すように、２枚の二軸性フィルムを用いた液晶表示装置は、低い階調では色温度が非常に高いので、ディスプレイが全体的に青色系列を示し、約１６階調程度まで非常に高い色温度を有し、１６階調以下では太陽光と類似な色温度を有する。

図５のグラフｄに示すように、１枚のＣ−プレート一軸性補償フィルムを用いた液晶表示装置は、低い階調または高い階調と関係なく、太陽光と類似の色温度を有するので、階調間色温度偏差が非常に小さいという長所を有する。

このように、約４〜５μｍの厚さで液晶表示パネル１００に取り付けられたＣ−プレート一軸性補償フィルム３００は、液晶表示パネル１００の輝度を向上し、階調間色温度偏差を減少し、液晶表示装置４００の全体厚さ及び重さを減少させる。

図６は、図１に図示されたＣ−プレート一軸性補償フィルム及び偏光板を一体に形成したものを図示した概念図である。

図６に示すように、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００は、第１偏光板２１０に一体に形成された後、第１基板１１０に取り付けることができる。これと異なり、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００は、第２偏光板２２０に一体に形成された後、第２基板１２０に取り付けることができる。即ち、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００は、第１基板１１０に取り付けても良く、第２基板１２０に取り付けても良い。

図７は、図１に図示されたＣ−プレート一軸性補償フィルムに接着層を形成したことを図示した概念図である。

図７に示すように、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００には、第１基板１１０と第１偏光板２１０、第２基板１２０と第２偏光板２２０に取り付けられるために、両面に接着層３１１，３２１を塗布するようにする。この際、接着層３１１，３２１の厚さは、液晶表示装置４００の全体厚さを減少させるために、約２５μｍ以下になるようにすることが好ましい。

これと異なり、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００を形成するためのＣ−プレート一軸性補償物質に接着物質を混合する方法も可能である。

本実施例によると、液晶表示装置の重量及び大きさを減少しながらも、液晶表示装置の輝度及び視野角を向上し、液晶表示装置を組み立てるのに必要な組立工程数及び組立時間を大きく短縮することができる。
液晶表示装置の製造方法の実施例
図８〜図１１は、本発明による液晶表示装置の製造方法の実施例中、第１基板を製造する過程を図示した工程図である。

図８及び図９に示すように、第１透明基板１１２には、全面にかけてアルミニウムまたはアルミニウム合金からなるゲート金属がスパッタリングまたは化学気相蒸着により蒸着され、写真−エッチング工程によってパターニングされて、ゲートバスライン１１８及びゲートバスライン１１８から延長されたゲート電極部Ｇが形成される。

その後、第１透明基板１１２には、全面にかけてゲート絶縁膜１１３を化学気相蒸着などの方法により蒸着する。

ゲート絶縁膜１１３の上面には、アモルファスシリコン薄膜、ｎ^＋アモルファスシリコン薄膜及びソース／ドレーン金属薄膜からなる３層膜を順に蒸着し、ソース／ドレーン金属薄膜、アモルファスシリコン薄膜、ｎ^＋アモルファスシリコン薄膜をそれぞれパターニングして、ソース電極部Ｓ、ドレーン電極部Ｄ、チャンネル層Ｃを有する薄膜トランジスタ１１７及びデータバスライン１１９を製造する。

その後、図１０または図１１に示したように、薄膜トランジスタ１１７のドレーン電極部Ｄには、インジウムスズ酸化物質またはインジウム亜鉛酸化物質からなる画素電極１１４が形成される。第１透明基板１１２に画素電極１１４を形成した後、第１透明基板１１２には配向膜を形成し、配向膜には液晶を配向するための配向溝などを形成する。

図１２または図１３は、第２基板を製造する過程を図示した工程図である。

図１２または図１３に示すように、第２透明基板１２２には第１基板１１０の画素電極１１４の間を遮るためのブラックマトリックス１２３を格子形状に製造する。その後、第２透明基板１２２には、ブラックマトリックス１２３の間にカラーフィルター１２５を製造する。カラーフィルター１２５は、感光物質にＲＧＢ染料またはＲＧＢ顔料を混合して第２透明基板１２２に塗布した後、写真−エッチング工程によりパターニングすることにより製造できる。このような過程は、レッドカラーフィルター１２５ａ、グリーンカラーフィルター１２５ｂ及びブルーカラーフィルター１２５ｃを形成するために反復して行う。第２透明基板１２２にカラーフィルター１２５を形成した後、第２透明基板１２２には全面にかけて透明で導電性であるインジウムスズ酸化物質またはインジウム亜鉛酸化物質からなる共通電極１２４を製造する。

図１４は、本発明により第１基板及び第２基板が相互アセンブリされたことを図示した工程図である。

図１４に示すように、図８〜図１１の工程を経て製作された第１基板１１０及び図１２または図１３の工程を経て製作された第２基板１２０を相互にアセンブリする。この際、第１基板１１０の画素電極１１４及び第２基板１２０の共通電極１２４が互いに向き合うように第１基板１１０及び第２基板１２０をアセンブリする。この際、第１基板１１０及び第２基板１２０の間に形成されたセルギャップ（ｃｅｌｌ ｇａｐ）は、３.７５μｍ〜４μｍになるように形成することが好ましい。

アセンブリされた第１基板１１０及び第２基板１２０の間に液晶１３０を注入する。これと異なり、第１基板１１０及び第２基板１２０をアセンブリする前に、第１基板１１０または第２基板１２０に液晶を滴下した後、第１基板１１０及び第２基板１２０をアセンブリしても良い。

図１５は、図１４の第１基板にＣ−プレート一軸性補償物質を配置したことを図示した工程図である。

図１５に示すように、例えば、第１基板１１０には流動性のあるＣ−プレート一軸性補償物質３１０が配置される。Ｃ−プレート一軸性補償物質３１０は、接着成分を含む構成とすることができる。

図１６は、図１５のＣ−プレート一軸性補償物質を第１基板に塗布することを図示した工程図である。

図１６に示すように、第１基板１１０に配置されたＣ−プレート一軸性補償物質３１０はブレイド形状を有するスプレッダー（ｓｐｒｅａｄｅｒ）３０１により第１基板１１０の全面に均一な厚さに塗布される。以下、スプレッダー３０１により第１基板１１０に塗布されたＣ−プレート一軸性補償物質３１０による被膜をＣ−プレート一軸性補償被膜３２０と言う。Ｃ−プレート一軸性補償被膜３２０は、乾燥されてＣ−プレート一軸性補償フィルム３００になる。

このような過程を経て製造されたＣ−プレート一軸性補償フィルム３００は、約４〜５μｍの厚さを有する。Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００は、面内でｎ_ｘ、ｎ_ｙの屈折率を有し、法線方向でｎ_ｚの屈折率を有する。このように定義されたＣ−プレート一軸性補償フィルム３００の位相遅延値Ｒｔｈは、［（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ］ｄにより算出される。この際、ｄはＣ−プレート一軸性補償フィルムの厚さであり、ｎ_ｘ＝ｎ_ｙ＞ｎ_ｚである。本実施例において、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００の位相遅延値は、２２０ｎｍ〜２７０ｎｍの範囲に存在する。この際、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００が２２０ｎｍ〜２７０ｎｍの位相遅延値を有する理由は、位相遅延値が２２０ｎｍ〜２７０ｎｍの範囲に存在する時、視野角及び輝度が最も高いためである。シミュレーションの結果、Ｃ−プレート一軸性補償フィルム３００の位相遅延値が２２０ｎｍより小さいか、２７０ｎｍより大きい場合には、輝度が非常に減少し、色反転現象が大きくなった。

図１７は、図１４の液晶表示パネルに偏光板を取り付けたことを図示した概念図である。

図１７に示すように、液晶表示パネル１００にＣ−プレート一軸性補償フィルム３００が形成された後、液晶表示パネル１００の第１基板１１０には第１偏光板２１０を取り付け、第２基板１２０には第２偏光板２２０を取り付ける。この際、第１偏光板２１０及び第２偏光板２２０は、光軸が互いに平行であるか、光軸が互いに直交するように配置される。

本実施例のような方法により製造された液晶表示装置は、液晶表示装置の全体厚さ及び重さが減少し、輝度が増加し、視野角も向上することができ、製造工程数及び製造時間が非常に減少できるという長所を有する。

以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。

本発明の一実施例による液晶表示装置の概念図である。 図１は、第１基板の一部を図示した概念図である。 図１のＣ−プレート一軸性補償フィルムの一部を図示した概念図である。 図１に図示されたＣ−プレート一軸性補償フィルムの位相遅延値を変更した時の輝度変化を図示したグラフである。 図１に図示されたＣ−プレート一軸性補償フィルム及び従来二軸性補償フィルムでの階調間色温度変化を図示したグラフである。 図１に図示されたＣ−プレート一軸性補償フィルム及び偏光板が一体に形成されたことを図示した概念図である。 図１に図示されたＣ−プレート一軸性補償フィルムに接着層が形成されたことを図示した概念図である。 本発明による液晶表示装置の製造方法の実施例中、第１基板を製造する過程を図示した工程図である。 本発明による液晶表示装置の製造方法の実施例中、第１基板を製造する過程を図示した工程図である。 本発明による液晶表示装置の製造方法の実施例中、第１基板を製造する過程を図示した工程図である。 本発明による液晶表示装置の製造方法の実施例中、第１基板を製造する過程を図示した工程図である。 第２基板を製造する過程を図示した工程図である。 第２基板を製造する過程を図示した工程図である。 本発明により第１基板及び第２基板が相互アセンブリされたことを図示した工程図である。 図１４の第１基板にＣ−プレート一軸性補償物質を配置したことを図示した工程図である。 図１５のＣ−プレート一軸性補償物質を第１基板にスプレッドさせることを図示した工程図である。 図１４の液晶表示パネルに偏光板を付着したことを図示した概念図である。

符号の説明

１００ 液晶表示パネル
１１０ 第１基板
１１２ 第１透明基板
１１４ 画素電極
１１６ 電圧印加装置
１１７ 薄膜トランジスタ
１１８ ゲートバスライン
１１９ データバスライン
１２０ 第２基板
１２２ 第２透明基板
１２４ 共通電極
１２５ カラーフィルター
１３０ 液晶
２００ 偏光板
２１０ 第１偏光板
２２０ 第２偏光板
３００ Ｃ−プレート一軸性補償フィルム
３０１ スプレッダー
３１０ Ｃ−プレート一軸性補償物質
３１１，３２１ 接着層
３２０ Ｃ−プレート一軸性補償被膜
４００ 液晶表示装置

Claims (15)

1. 第１電極を備えた第１基板、第２電極を備えた第２基板、そして前記第１基板と第２基板との間に封入され、前記第１電極と第２電極との間に電界が印加されていない状態で前記第１基板及び第２基板の表面に対してほぼ垂直に配向される液晶を備えた液晶パネルと、
   前記第１基板に配置された第１偏光板、前記第２基板に配置された第２偏光板を含む偏光板と、
   前記第１基板と前記第１偏光板との間に、視野角及び輝度を増加させるために配置されたＣ−プレート一軸性補償フィルムと、
   を含むことを特徴とする液晶表示装置。
2. 前記Ｃ−プレート一軸性補償フィルムは、屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚのうち、前記Ｃ−プレート一軸性補償フィルムの面内方向の屈折率をｎ_ｘ、ｎ_ｙ、前記Ｃ−プレート一軸性補償フィルムの法線方向の屈折率をｎ_ｚ、一軸性補償フィルムの厚さをｄとした時、［（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ］ｄ（ｄは、Ｃ−プレート一軸性補償フィルムの厚さ）により定義される厚さ方向での位相遅延値（Ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ ｖａｌｕｅ、Ｒｔｈ）が２２０ｎｍ〜２７０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
3. 前記Ｃ−プレート一軸性補償フィルムの厚さｄは、４〜５μｍであることを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置。
4. 前記第１基板及び第２基板のセルギャップは、３.７５〜４μｍであることを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置。
5. 前記第１電極は画素電極であり、前記第２電極は前記画素電極と向かい合う共通電極であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
6. 前記第１電極は共通電極であり、前記第２電極は前記共通電極と向かい合う画素電極が形成されたことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
7. 前記Ｃ−プレート一軸性補償フィルムは、前記第１偏光板に一体に形成されたことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
8. 前記Ｃ−プレート一軸性補償フィルムは、前記液晶パネルに接着剤により接着されたことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
9. 第１基板、第２基板、前記第１基板と第２基板との間に封入され、前記第１電極と第２電極との間に電界が印加されていない状態で前記第１基板及び第２基板の表面に対してほぼ垂直に配向される液晶を備えた液晶パネルを製造する段階と、
   視野角及び輝度を増加させるために、流動性のあるＣ−プレート一軸性補償物質を、前記第１基板及び前記第２基板のうち、いずれか１つにコーティングして前記Ｃ−プレート一軸性補償フィルムを形成する段階と、
   前記第１基板に第１偏光板、前記第２基板に第２偏光板を配置する段階と、
   を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
10. 前記Ｃ−プレート一軸性補償フィルムは、屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚのうち、前記Ｃ−プレート一軸性補償フィルムの面内方向の屈折率をｎ_ｘ、ｎ_ｙ、前記Ｃ−プレート一軸性補償フィルムの法線方向の屈折率をｎ_ｚ、一軸性補償フィルムの厚さをｄとした時、［（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ］ｄ（ｄは、Ｃ−プレート一軸性補償フィルムの厚さ）により定義される厚さ方向での位相遅延値（Ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ ｖａｌｕｅ、Ｒｔｈ）が２２０ｎｍ〜２７０ｎｍであることを特徴とする請求項９記載の液晶表示装置の製造方法。
11. 前記Ｃ−プレート一軸性補償フィルムを形成する段階は、
    流動性のあるＣ−プレート一軸性補償物質を、前記第１基板又は第２基板のうち、いずれか１つに配置する段階と、
    前記Ｃ−プレート一軸性補償物質を薄い厚さにスプレッドさせて前記第１基板又は第２基板のうち、いずれか１つにコーティングしてＣ−プレート一軸性補償被膜を形成する段階と、
    前記Ｃ−プレート一軸性補償被膜を乾燥させる段階と、
    を含むことを特徴とする請求項９記載の液晶表示装置の製造方法。
12. 前記Ｃ−プレート一軸性補償フィルムの厚さは、４〜５μｍであることを特徴とする請求項９記載の液晶表示装置の製造方法。
13. 前記第１基板及び第２基板のセルギャップは、３.７５μｍ〜４μｍであることを特徴とする請求項９記載の液晶表示装置の製造方法。
14. 前記第１電極は画素電極であり、前記第２電極は前記画素電極と向かい合う共通電極であることを特徴とする請求項９記載の液晶表示装置の製造方法。
15. 前記第１電極は共通電極であり、前記第２電極は前記共通電極と向かい合う画素電極が形成されたことを特徴とする請求項９記載の液晶表示装置の製造方法。

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