JP2004326083A - ミラーの製造方法とミラーデバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 シリコンからなる基板に、前記基板表面に対してマスク材を形成し、異方性ドライエッチングし、異方性ウエットエッチングし、前記基板表面に直交する結晶面と略平行な面を前記異方性ドライエッチングした後、前記異方性ウエットエッチング工程によって、反射面を形成する。
【選択図】 図2
Description
(工程2)水酸化カリウム水溶液(KOH)や、水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液(TMAH)などのアルカリ溶液を用いた異方性ウエットエッチングによってシリコン基板に結晶面で構成されるアライメントパターンを形成する
(工程3)結晶面で構成されたアライメントパターンと微小ミラーを形成するためのマスクの方向を一致させてアライメントを行う
異方性ウエットエッチングによって作製された微小ミラーの反射面は、結晶面で構成されるため表面粗さが小さく、高い反射率が得られるとともに垂直度も高い。
G.Ensell: Alignment of mask patterns to crystal orientation, Sensors and Actuators A 53. (1996) 345-348 M.Sasaki: Anisotropic Si Etching Technique for Optically Smooth Surfaces, TRANSDUCERS’01 2B3.03
図1は、本発明の実施の形態1に係る微小ミラーの製造方法を説明する断面図であり、図1(a)はシリコン基板3上にマスク材4を形成した状態を示している。図1(b)は、DRIE(Deep Reactive Ion Etching)を用いて、シリコンの深堀エッチングを行った状態を示している。図1(c)は、アルカリ溶液で異方性ウエットエッチングを行った状態を示している。微小ミラー1は、シリコンマイクロマシニングプロセス技術を用いて作製する。図1(a)において、マスク材4は、レジスト、二酸化珪素(SiO2)、またはクロム(Cr)やアルミニウム(Al)などの金属である。マスク材4は、フォトリソグラフィによって形成される。
(実施の形態2)
次に、本発明の実施の形態2に係る微小ミラーの作製方法について説明する。なお、実施の形態1と同じ構成は同一符号を用い説明を省略する。実施の形態1に係る図5に示した結晶方位に関して、結晶面30が{100}であるシリコン基板について述べる。この結晶面30に直交する結晶面31は、{100}面、{110}面である。例えば、{100}基板に、{100}面からなる反射面25,26を作製する場合、{100}基板上にレジストを塗布し、図5に示すマスク材4のパターン方向Pが<100>方向となるようにマスク材4をパターニングする。その後、そのマスク材を用いてDRIEでシリコンの深堀エッチングを行い、反射面22,23を露出させる。このとき、反射面22,23は完全な{100}面ではないが、{100}面に極めて近い面となっている。
(実施の形態3)
次に、本発明の実施の形態3に係る微小ミラーの作製方法について説明する。なお、実施の形態1と同じ構成は、同一符号を用い、説明を省略する。実施の形態1に係る図5に示した結晶方位に関して、結晶面30が{110}であるシリコン基板について述べる。{110}面に直交する結晶面は、{100}面、{110}面、{111}面である。例えば、{110}基板に、{100}面からなる反射面25,26を作製する場合、{110}基板上にレジストを塗布し、図5に示すマスク材4のパターン方向Pが<100>方向となるようにマスク材4をパターニングする。その後、そのマスク材を用いてDRIEでシリコンの深堀エッチングを行い、反射面22,23を露出させる。このとき、反射面22,23は完全な{100}面ではないが{100}面に略平行な面となっている。
(実施の形態4)
次に本発明の実施の形態4に係る微小ミラーの作製方法について説明する。なお、実施の形態1と同じ構成は同一符号を用い、説明を省略する。実施の形態1に係る図5に示した結晶方位に関して、結晶面30が{111}であるシリコン基板について述べる。{111}面に直交する結晶面は、{110}面である。例えば、{111}基板上に、{110}面からなる反射面25,26を作製する場合、{111}基板にレジストを塗布し、図5に示すマスク材4のパターン方向Pが<110>方向となるようにマスク材4をパターニングする。その後、そのマスク材を用いてDRIEでシリコンの深堀エッチングを行い、反射面22,23を露出させる。このとき、反射面22,23は完全な{110}面ではないが{110}面に極めて近い面となっている。
(実施の形態5)
図4は本発明の実施の形態5に係るミラーデバイスの斜視図である。このミラーデバイスの製造方法は、実施の形態1の製造方法と同様であり、異方性ドライエッチング工程と異方性ウエットエッチング工程を組み合わせて作製する。ここでは、ミラーがリトロリフレクターとして機能する場合を例にとり説明する。リトロリフレクター5は、実施の形態1に記載の結晶面31の特徴を有する2枚の反射面6、7からなる。リトロリフレクターを構成する2枚の反射面6,7におけるそれぞれの寸法は、微小ミラー1と同等である。
(実施の形態6)
図6は、本発明の実施の形態6に係るミラーデバイスの例として2×2の光スイッチを説明する上面図であり、図6(a)は、光路に可動ミラー43が入っている状態を示している。図6(b)は、光路に可動ミラー43が入っていない状態を示している。図6(a),図6(b)で例にとる光スイッチ40は、可動ミラー43、固定ミラー45、ステージ42、4本のバネ41、フレーム44からなり、可動ミラー43と一体であるステージ42は4本のバネ41を介してフレーム44と接続している。また、固定ミラー45はフレーム44と一体である。ステージ42上に、磁性体を接着し、電磁石や永久磁石など磁力を発生するものでステージ42を紙面に対して上下に移動させ、可動ミラー43を光路に対して出し入れする。
11 微小ミラー前駆体
3 シリコン基板
4,84,85 マスク材
5 リトロリフレクター
8 光ファイバ
9 ディテクター
22,23,25,26,6,7,51,52,53,54 反射面
40 光スイッチ
41 バネ
42 ステージ
43 可動ミラー
44 フレーム
45 固定ミラー
70,80 SOI基板
71 ミラーデバイスパターン
72 ダミーパターン
81 活性層
82 BOX酸化膜
83 支持層
86 接着剤
87 補強基板
88 金属膜
Claims (33)
- シリコンからなる基板に、前記基板表面に対して垂直な反射面を有するミラーを形成する製造方法であって、前記基板表面にマスク材を形成するマスク形成工程と、前記基板を異方性ドライエッチングする異方性ドライエッチング工程と、前記基板を異方性ウエットエッチングする異方性ウエットエッチング工程と、前記基板の前記基板表面に直交する結晶面と略平行な面を異方性ドライエッチング工程で形成した後、異方性ウエットエッチング工程によって、前記反射面を形成するミラーの製造方法。
- 前記異方性ドライエッチング工程において、前記基板に形成した加工側壁のうち少なくとも前記反射面に対応する部分と、前記基板表面のなす角度が90°±3°であることを特徴とする請求項1に記載のミラーの製造方法。
- 前記異方性ドライエッチング工程において、前記基板に形成した加工側壁のうち少なくとも前記反射面に対応する部分の表面粗さが300nm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のミラーの製造方法。
- 前記異方性ドライエッチング工程において、前記基板外周部にシリコンの露出した部分を設けることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記異方性ドライエッチング工程と前記異方性ウエットエッチング工程の間にクリーニング工程を含むことを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記クリーニング工程において、前記基板に対して酸素プラズマを照射することを特徴とする請求項5に記載のミラーの製造方法。
- 前記クリーニング工程において、前記基板に対してアルゴンプラズマを照射することを特徴とする請求項5に記載のミラーの製造方法。
- 前記クリーニング工程において、前記基板を硫酸と過酸化水素水の混合液に浸水させることを特徴とする請求項5に記載のミラーの製造方法。
- 前記クリーニング工程において、前記基板を加熱した硫酸に浸水させることを特徴とする請求項5に記載のミラーの製造方法。
- 前記異方性ウエットエッチング工程において、そのエッチャントが水酸化カリウム水溶液であることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記異方性ウエットエッチング工程において、そのエッチャントが水酸化カリウムにイソプロピルアルコールを添加したものであることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記異方性ウエットエッチング工程において、そのエッチャントが水酸化テトラメチルアンモニウムであることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記異方性ウエットエッチング工程において、そのエッチャントが水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液であり、その液温は60℃以上70℃以下であることを特徴とする請求項12に記載のミラーの製造方法。
- 前記異方性ウエットエッチング工程において、そのエッチャントが水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液であり、そのエッチング量は0.5μm以上3μm以下であることを特徴とする請求項12に記載のミラーの製造方法。
- 前記異方性ウエットエッチング工程において、そのエッチャントが水酸化テトラメチルアンモニウムにシリコンを添加したものであることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記異方性ウエットエッチング工程において、そのエッチャントが水酸化テトラメチルアンモニウムにシリコンと過硫酸アンモニウムを添加したものであることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記異方性ウエットエッチング工程において、そのエッチャントがアンモニアに酸化砒素を添加したものであることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記基板において、前記基板表面の結晶面が{100}面であり、前記反射面となる結晶面が{100}面または{110}面であることを特徴とする請求項1から17のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記基板において、前記基板表面の結晶面が{110}面であり、前記反射面となる結晶面が{100}面または{110}面または{111}面であることを特徴とする請求項1から17のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記基板において、前記基板表面の結晶面が{111}面であり、前記反射面となる結晶面が{110}面であることを特徴とする請求項1から17のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記反射面上に、薄膜を被覆する工程を含むことを特徴とする請求項1から20のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記反射面に薄膜を被覆する工程において、前記薄膜が少なくとも一層の金属膜で形成されていることを特徴とする請求項21に記載のミラーの製造方法。
- 前記反射面に薄膜を被覆する工程において、前記薄膜が少なくとも一層の誘電体で形成されていることを特徴とする請求項21に記載のミラーの製造方法。
- 前記反射面に薄膜を被覆する工程において、前記薄膜の成膜方法が真空蒸着法を用いた斜方蒸着であることを特徴とする請求項1から23のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記反射面に薄膜を被覆する工程において、前記薄膜の成膜方法がスパッタリング法であることを特徴とする請求項1から23のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記反射面に薄膜を被覆する工程において、前記薄膜の成膜方法がメッキ法であることを特徴とする請求項1から23のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記反射面に薄膜を被覆する工程において、前記薄膜の成膜方法がイオンプレーティング法であることを特徴とする請求項1から23のいずれかに記載のミラーの製造方法。
- 前記基板に形成され、前記基板の表面に対して垂直な面からなる少なくとも2枚の反射面を有し、少なくとも2枚の前記反射面のなす角度が90度であって、請求項1から27のいずれかに記載のミラーの製造方法によって作製されたことを特徴とするミラーデバイス。
- 前記基板に形成された少なくとも2枚の前記反射面が、同一の結晶面であることを特徴とする請求項28に記載のミラーデバイス。
- 二組の可動リトロリフレクターと二組の固定された固定リトロリフレクターと、前記固定リトロリフレクターと一体の固定部と、前記可動リトロリフレクターと一体の可動部と、前記固定部と前記可動部を接続するバネからなり、前記可動部を駆動させることによって光路切り替えを行う光スイッチであって、請求項1から27のいずれかに記載のミラーの製造方法によって、前記可動リトロリフレクター及び前記固定リトロリフレクターが作製された光スイッチ。
- 前記基板に、前記可動リトロリフレクターと前記固定リトロリフレクターと前記可動部及び前記固定部を作製するリトロリフレクター形成工程と、前記バネを作製するバネ形成工程とを含む光スイッチの製造方法において、請求項1から27のいずれかに記載のミラーの製造方法によって、前記可動リトロリフレクター及び前記固定リトロリフレクターが作製された光スイッチの製造方法。
- 前記リトロリフレクター形成工程の後に、前記バネ形成工程を行うことを特徴とする請求項31に記載の光スイッチの製造方法。
- 前記基板がSOI基板であり、一方のシリコン層に、前記リトロリフレクター形成工程を実施し、もう一方のシリコン層に前記バネ形成工程を実施することを特徴とする請求項31に記載の光スイッチの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004062184A JP2004326083A (ja) | 2003-04-09 | 2004-03-05 | ミラーの製造方法とミラーデバイス |
US10/820,312 US20040232106A1 (en) | 2003-04-09 | 2004-04-08 | Method of manufacturing a mirror and a mirror device |
US11/729,754 US20070177287A1 (en) | 2003-04-09 | 2007-03-28 | Method of manufacturing a mirror and a mirror device |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003105129 | 2003-04-09 | ||
JP2004062184A JP2004326083A (ja) | 2003-04-09 | 2004-03-05 | ミラーの製造方法とミラーデバイス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004326083A true JP2004326083A (ja) | 2004-11-18 |
Family
ID=33455432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004062184A Withdrawn JP2004326083A (ja) | 2003-04-09 | 2004-03-05 | ミラーの製造方法とミラーデバイス |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20040232106A1 (ja) |
JP (1) | JP2004326083A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007025720A (ja) * | 2006-10-17 | 2007-02-01 | Japan Aviation Electronics Industry Ltd | 微小光デバイスの作製方法 |
JP2010237301A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Citizen Holdings Co Ltd | 光学部材および光学装置の製造方法と光学装置 |
JP2011024278A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Murata Mfg Co Ltd | 振動発電素子の製造方法および振動発電素子 |
CN108415109A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-08-17 | 常熟市浙大紫金光电技术研究中心 | 一种光学回反射器及反射器阵列 |
JP2019090956A (ja) * | 2017-11-16 | 2019-06-13 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 光学素子の製造方法 |
DE112005002793B4 (de) | 2004-11-10 | 2021-12-30 | Showa Denko Packaging Co. | Verpackungsbeutel mit einem in ihn verpackten elektronischen Produkt |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005107180A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Japan Aviation Electronics Industry Ltd | 微小光デバイスおよびその作製方法 |
WO2005119309A1 (ja) * | 2004-06-04 | 2005-12-15 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | 反射ミラー製作方法および反射ミラー |
US20060048798A1 (en) * | 2004-09-09 | 2006-03-09 | Honeywell International Inc. | Methods of cleaning optical substrates |
US8059634B1 (en) * | 2005-04-27 | 2011-11-15 | Sprint Communications Company L.P. | Method, system, and apparatus for estimating voice quality in a voice over packet network |
WO2006128028A2 (en) * | 2005-05-25 | 2006-11-30 | The Regents Of The University Of Michigan Office Of Technology Transfer | Wafer-level, polymer-based encapsulation for microstructure devices |
JP4812512B2 (ja) * | 2006-05-19 | 2011-11-09 | オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド | 半導体装置の製造方法 |
US8388851B2 (en) | 2008-01-08 | 2013-03-05 | Micron Technology, Inc. | Capacitor forming methods |
US9039908B2 (en) * | 2008-08-27 | 2015-05-26 | Applied Materials, Inc. | Post etch reactive plasma milling to smooth through substrate via sidewalls and other deeply etched features |
US8723276B2 (en) | 2008-09-11 | 2014-05-13 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor structure with lamella defined by singulation trench |
US8809982B2 (en) * | 2008-09-30 | 2014-08-19 | Nxp B.V. | Robust high aspect ratio semiconductor device |
US8107147B2 (en) * | 2009-03-27 | 2012-01-31 | Microvision, Inc. | Two-mirror scanning system |
CN102234098B (zh) * | 2010-04-21 | 2014-02-26 | 汉积科技股份有限公司 | 微机电结构的制造方法 |
US8518788B2 (en) | 2010-08-11 | 2013-08-27 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming a plurality of capacitors |
CN102442634B (zh) * | 2010-10-05 | 2016-04-20 | 英飞凌科技股份有限公司 | 通过形成牺牲结构而提供半导体结构的方法 |
US8518732B2 (en) | 2010-12-22 | 2013-08-27 | Infineon Technologies Ag | Method of providing a semiconductor structure with forming a sacrificial structure |
US9076680B2 (en) | 2011-10-18 | 2015-07-07 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuitry, methods of forming capacitors, and methods of forming integrated circuitry comprising an array of capacitors and circuitry peripheral to the array |
US8946043B2 (en) | 2011-12-21 | 2015-02-03 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming capacitors |
US20130228692A1 (en) * | 2012-03-05 | 2013-09-05 | Honeywell International Inc. | Flame detector with optics array |
US8652926B1 (en) | 2012-07-26 | 2014-02-18 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming capacitors |
US9224615B2 (en) * | 2013-09-11 | 2015-12-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Noble gas bombardment to reduce scallops in bosch etching |
EP2937311B1 (fr) * | 2014-04-25 | 2019-08-21 | Rolex Sa | Procédé de fabrication d'un composant horloger renforcé, composant horloger et pièce d'horlogerie correspondants |
CN109218945A (zh) * | 2018-08-07 | 2019-01-15 | 瑞声科技(新加坡)有限公司 | Mems结构的制造方法、mems结构及硅麦克风 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5999306A (en) * | 1995-12-01 | 1999-12-07 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing spatial light modulator and electronic device employing it |
US6108121A (en) * | 1998-03-24 | 2000-08-22 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Micromachined high reflectance deformable mirror |
US6639572B1 (en) * | 1998-10-28 | 2003-10-28 | Intel Corporation | Paper white direct view display |
US6229640B1 (en) * | 1999-08-11 | 2001-05-08 | Adc Telecommunications, Inc. | Microelectromechanical optical switch and method of manufacture thereof |
WO2002061486A1 (en) * | 2000-12-19 | 2002-08-08 | Coventor, Incorporated | Bulk micromachining process for fabricating an optical mems device with integrated optical aperture |
DE10102161B4 (de) * | 2001-01-19 | 2006-06-22 | Wobben, Aloys, Dipl.-Ing. | Ringförmige Dichtung |
US6520777B2 (en) * | 2001-01-26 | 2003-02-18 | Chromux Technologies, Inc. | Micro-machined silicon on-off fiber optic switching system |
US20020134749A1 (en) * | 2001-01-26 | 2002-09-26 | Chromux Technologies. Inc. | Method of making a vertical, mirror quality surface in silicon and mirror made by the method |
FR2828185A1 (fr) * | 2001-07-31 | 2003-02-07 | Memscap | Procede de fabrication d'un composant optique microelectromecanique |
JP4234338B2 (ja) * | 2001-12-21 | 2009-03-04 | Tdk株式会社 | フィルムの蒸着方法 |
US6985271B2 (en) * | 2002-03-12 | 2006-01-10 | Corning Incorporated | Pointing angle control of electrostatic micro mirrors |
-
2004
- 2004-03-05 JP JP2004062184A patent/JP2004326083A/ja not_active Withdrawn
- 2004-04-08 US US10/820,312 patent/US20040232106A1/en not_active Abandoned
-
2007
- 2007-03-28 US US11/729,754 patent/US20070177287A1/en not_active Abandoned
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112005002793B4 (de) | 2004-11-10 | 2021-12-30 | Showa Denko Packaging Co. | Verpackungsbeutel mit einem in ihn verpackten elektronischen Produkt |
JP2007025720A (ja) * | 2006-10-17 | 2007-02-01 | Japan Aviation Electronics Industry Ltd | 微小光デバイスの作製方法 |
JP2010237301A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Citizen Holdings Co Ltd | 光学部材および光学装置の製造方法と光学装置 |
JP2011024278A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Murata Mfg Co Ltd | 振動発電素子の製造方法および振動発電素子 |
JP2019090956A (ja) * | 2017-11-16 | 2019-06-13 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 光学素子の製造方法 |
CN108415109A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-08-17 | 常熟市浙大紫金光电技术研究中心 | 一种光学回反射器及反射器阵列 |
CN108415109B (zh) * | 2018-01-30 | 2021-07-13 | 常熟市浙大紫金光电技术研究中心 | 一种光学回反射器及反射器阵列 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070177287A1 (en) | 2007-08-02 |
US20040232106A1 (en) | 2004-11-25 |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A761 | Written withdrawal of application |
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