JP2004302174A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、情報機器等の表示部に用いられる液晶表示装置及びその製造方法に関し、製造コストを上昇させずに良好な表示特性が得られる液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】対向配置された基板２、４と、基板２、４間に封止され、電圧無印加時に基板に対してほぼ垂直に配向する液晶６と、基板２、４の外側にそれぞれ配置された一対の１／４波長板５０、５１と、１／４波長板５１、５０の外側にそれぞれ配置された一対の偏光板８７、８６と、ほぼ平坦な反射面を有し、基板４側から入射する光を反射する反射板５４を備えた反射領域と、基板２側から入射する光を基板４側に透過させる透過領域とを備えた画素領域とを有するように構成する。
【選択図】 図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報機器等の表示部に用いられる液晶表示装置及びその製造方法に関し、特に携帯型情報端末等の低消費電力機器に用いられる半透過型の液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、画素毎に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置は、あらゆる用途の表示装置として広く使われるに至っている。このような状況にあって、モバイル型端末用あるいはノート型ＰＣ用の表示装置として、反射及び透過の両モードでの表示が可能な半透過型（反射透過型）の液晶表示装置が使用されるようになってきている。
【０００３】
ここで、従来の液晶表示装置について説明する。図３１は、非特許文献１に記載された反射型液晶表示装置の断面構成を示している。図３１に示すように、対向配置された一対の基板１０２、１０４間には、液晶１０６が封止されている。液晶１０６の配向状態は、ＲＯＣＢと呼ばれるベンド配向である。一方の基板１０２の液晶１０６側表面には、鏡面状で平坦な反射面を有する反射電極１１６が形成されている。他方の基板１０４の液晶１０６側表面には、透明導電膜からなる共通電極１４２が形成されている。他方の基板１０４のパネル外側（観察者側）には、位相差フィルム（１／４波長板）１２０、偏光板１２２及び光路制御フィルム１２４がこの順に配置されている。
【０００４】
入射した外光は、光路制御フィルム１２４で光路を曲げられて反射電極１１６に到達して反射し、観察者側に射出する。光を拡散して透過させる光路制御フィルム１２４が設けられているため、光路制御フィルム１２４表面で反射する光の光路と、光路制御フィルム１２４を透過して反射電極１１６表面で反射する光の光路とが異なる。このため、観察者が表示画面を見る際に表示と外光とが重なってしまうことがなく、鮮明な表示画像を観察することができる。
【０００５】
図３２は、非特許文献２に記載された半透過型液晶表示装置の構成を示している。図３２（ａ）は半透過型液晶表示装置のほぼ１画素分の構成を示し、図３２（ｂ）は図３２（ａ）のＸ−Ｘ線で切断した半透過型液晶表示装置の断面構成を示している。図３２（ａ）、（ｂ）に示すように、画素領域は、透過領域Ｔと反射領域Ｒとに分割されている。ＴＦＴ基板１０２の反射領域Ｒには、反射領域Ｒのセル厚が透過領域Ｔの半分になるように、絶縁体（樹脂層）１３０が形成されている。絶縁体１３０上には、表面が凹凸の反射電極１１６が形成されている。対向基板１０４の透過領域Ｔの中心部には、垂直配向型の液晶１０６を配向規制するための突起１３２が形成されている。ＴＦＴ基板１０２及び対向基板１０４のパネル外側には、一対の１／４波長板１２０がそれぞれ配置されている。各１／４波長板１２０のさらに外側には、一対の偏光板１２２がそれぞれ配置されている。
【０００６】
この液晶表示装置は、反射電極１１６が基板１０２の液晶１０６側表面に形成されている点では図３１に示す液晶表示装置と同様だが、反射電極１１６の反射面は凸凹状になっている。観察者側から入射した外光は反射電極１１６で散乱反射して観察者側に射出する。
【０００７】
図３３（ａ）は液晶１０６に電圧が印加されていない状態を示し、図３３（ｂ）は液晶１０６に所定の電圧が印加された状態を示している。図３３（ａ）に示すように、電圧無印加状態では、液晶分子が基板面に垂直に配向しているため、液晶１０６は光に対して光学的効果を発揮しない。反射表示を行う際、偏光板１２２を透過した光は、１／４波長板１２０を透過して液晶１０６に入射し、反射電極１１６で反射した後に再度１／４波長板１２０を透過する。すなわち、光は１／４波長板１２０を２回通ることによりその偏光状態が９０°回転する。したがって、この光は偏光板１２２で吸収される。このため、反射モードで黒が表示される。
【０００８】
また、透過表示を行う際、バックライトユニット１８８側の偏光板１２２を透過した光は、１／４波長板１２０を透過して液晶１０６に入射し、観察者側の１／４波長板１２０を透過する。すなわち、光は１／４波長板１２０を２回通ることによりその偏光状態が９０°回転する。したがって、この光は観察者側の偏光板１２２で吸収される。このため、透過モードで黒が表示される。
【０００９】
一方、所定の電圧が印加された状態では、液晶分子が基板面に対して傾斜するため、液晶１０６は光に対して所定の光学的効果を発揮する。図３３（ｂ）に示すように、偏光板１２２を透過した光は、液晶１０６によりその偏光状態が変化する。このため、反射及び透過の両モードで白が表示される。
【特許文献１】
特開２０００−５６３２６号公報
【特許文献２】
特開２０００−１７１７８９号公報
【特許文献３】
特開２００２−２０２５１１号公報
【特許文献４】
特開平６−１７５１２６号公報
【特許文献５】
特開平７−３１１３８３号公報
【特許文献６】
特開平１１−２８１９７２号公報
【非特許文献１】
ＳＩＤ９６ Ｄｉｇｅｓｔ，ｐ．６１８−６２１
【非特許文献２】
Ａｓｉａ Ｄｉｓｐｌａｙ／ＩＤＷ’０１，ｐ．１３３（２００１）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
図３１に示すような反射型液晶表示装置の構成では、透過型との併用はこれまで実現されなかった。これは、反射型では光が液晶１０６を２回通過することを前提に、液晶１０６の配向状態がハイブリット配向であったためである。ハイブリッド配向では透過型として使用するにはその複屈折が小さく、十分な白表示をすることができないという問題がある。また、透過型としては視野角特性が低いという問題がある。
【００１１】
一方、図３２及び図３３に示す半透過型液晶表示装置では、反射電極１１６表面を凸凹状に形成することが提案されている。しかしながら、凸凹状の反射電極１１６を有する半透過型液晶表示装置を製造するには、通常の透過型液晶表示装置の製造プロセスに加えて、樹脂層の形成及びパターニングや、反射電極１１６の形成などのプロセスがさらに必要となる。このため、液晶表示装置の製造コストが上昇してしまうという問題が生じる。
【００１２】
本発明の目的は、製造コストを上昇させずに良好な表示特性が得られる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に封止され、電圧無印加時に前記基板に対してほぼ垂直に配向する液晶と、前記一対の基板の外側にそれぞれ配置された一対の１／４波長板と、前記一対の１／４波長板の外側にそれぞれ配置された一対の偏光板と、ほぼ平坦な反射面を有し、前記一対の基板の一方側から入射する光を反射する反射板を備えた反射領域と、前記一対の基板の他方側から入射する光を前記一対の基板の一方側に透過させる透過領域とを備えた画素領域とを有することを特徴とする液晶表示装置によって達成される。
【００１４】
【発明の実施の形態】
〔第１の実施の形態〕
本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置及びその製造方法について図１乃至図１１を用いて説明する。本実施の形態は、従来例として既に説明した２つの液晶表示装置の優れた点を抽出して組み合わせ、さらには通常の透過型液晶表示装置の製造プロセスを変更する必要のないように工夫したものである。
【００１５】
図１は、本実施の形態による液晶表示装置の基本構成を模式的に示す断面図である。図１（ａ）は反射表示の際の光路を示し、図１（ｂ）は透過表示の際の光路を示している。図１（ａ）、（ｂ）に示すように、対向配置されたＴＦＴ基板２及び対向基板４の間には、液晶６が封止されている。液晶６の配向状態は垂直配向である。ＴＦＴ基板２は、ガラス基板１０上に形成され、ほぼ平坦な反射面を有する金属製の反射板５４を有している。反射板５４には、例えば蓄積容量電極等の電極が用いられる。反射板５４上には絶縁膜３０が形成されている。絶縁膜３０上には、ほぼ平坦で透明な画素電極１６が形成されている。対向基板４は、ガラス基板１１上に形成された透明な共通電極４２を有している。
【００１６】
対向基板４のパネル外側（観察者側）には、１／４波長板５１、偏光板８６及び光路制御フィルム（光散乱層）５２がこの順に配置されている。ＴＦＴ基板２のパネル外側には、１／４波長板５０及び偏光板８７がこの順に配置されている。両偏光板８６、８７の偏光軸は互いに直交している。偏光板８７のさらに外側には、バックライトユニット８８が配置されている。
【００１７】
電圧無印加状態では、液晶分子は基板面にほぼ垂直に配向しているため、液晶６は光に対して光学的効果を発揮しない。反射表示を行う際、入射した外光は反射板５４で反射される。ここで、偏光板８６を透過した光は、１／４波長板５１を透過して液晶６に入射し、反射電極１６で反射した後に再度１／４波長板５１を透過する。すなわち、光は１／４波長板５１を２回通ることによりその偏光状態が９０°回転する。したがって、この光は偏光板８６で吸収される。このため、反射モードで黒が表示される。
【００１８】
また、透過表示を行う際、バックライトユニット８８側の偏光板８７を透過した光は、１／４波長板５０を透過して液晶６に入射し、１／４波長板５１を透過する。すなわち、光は１／４波長板５０、５１を２回通ることによりその偏光状態が９０°回転する。したがって、この光は観察者側の偏光板８６で吸収される。このため、透過モードで黒が表示される。
【００１９】
一方、所定の電圧が印加された状態では、液晶分子が基板面に対して傾斜する。このため、液晶６には光学的効果である複屈折が発現し、透過する光の偏光状態が変化する。反射表示を行う際、入射した外光は液晶６を透過してその偏光状態が変化し、偏光板８６を透過する。このため、反射モードで白又はグレーが表示される。透過表示を行う際、バックライトユニット８８から入射した光も液晶６を透過してその偏光状態が変化し、偏光板８６を透過する。このため、透過モードで白又はグレーが表示される。
【００２０】
本実施の形態では、一般的なＴＦＴ基板２上に形成されている蓄積容量電極等の電極を反射板５４として使用したため、製造プロセスの追加は全くなかった。ここで、透過型としてバックライトユニット８８が点灯しているときの反射板５４での外光の反射は、ほとんど気にならない。これは、透過モードで黒が表示されるときと反射モードで黒が表示されるときとはともに電圧無印加状態であり、透過モードで黒を表示しているときには、外光の反射がないためである。
【００２１】
光路制御フィルム５２としては、所定範囲の入射角で入射する光のみを散乱させるフィルムが用いられる。例えば太陽から入射した光は、光路制御フィルム５２で散乱し、反射板５４で反射する。反射した光は、表示に用いられて観察者側に射出する。これにより、例えば太陽のような光源の場合でも、表面反射を避けつつ反射板５４での反射光を用いて表示を行うことができる。なお、反射光が光路制御フィルム５２を再度透過する際には散乱しないことが望ましい。
【００２２】
以下、具体的実施例を用いて説明する。
【００２３】
（実施例１−１）
本実施の形態の実施例１−１による液晶表示装置について図２乃至図５を用いて説明する。図２は、本実施例による液晶表示装置の概略構成を示している。図２に示すように、液晶表示装置は、絶縁膜を介して互いに交差して形成されたゲートバスライン及びドレインバスラインと、画素毎に形成されたＴＦＴ及び画素電極とを備えたＴＦＴ基板２を有している。また、液晶表示装置は、共通電極が形成された対向基板４と、両基板２、４間に封止された液晶（図示せず）とを有している。
【００２４】
ＴＦＴ基板２には、複数のゲートバスラインを駆動するドライバＩＣが実装されたゲートバスライン駆動回路８０と、複数のドレインバスラインを駆動するドライバＩＣが実装されたドレインバスライン駆動回路８２とが設けられている。これらの駆動回路８０、８２は、制御回路８４から出力された所定の信号に基づいて、走査信号やデータ信号を所定のゲートバスラインあるいはドレインバスラインに出力するようになっている。ＴＦＴ基板２の素子形成面と反対側の基板面には偏光板８６が配置され、偏光板８６のＴＦＴ基板２と反対側の面にはバックライトユニット８８が取り付けられている。一方、対向基板４の共通電極形成面と反対側の面には、偏光板８６とクロスニコルに配置された偏光板８７が貼り付けられている。
【００２５】
図３は、本実施例による液晶表示装置のほぼ１画素の構成を示している。図３に示すように、液晶表示装置のＴＦＴ基板２上には、図中左右方向に延びるゲートバスライン１２が、互いにほぼ平行に複数形成されている（図３では２本示している）。不図示の絶縁膜を介してゲートバスライン１２に交差して、図中上下方向に延びるドレインバスライン１４が、互いにほぼ平行に複数形成されている（図３では２本示している）。ゲートバスライン１２及びドレインバスライン１４の各交差位置近傍には、ＴＦＴ２０が形成されている。ゲートバスライン１２とドレインバスライン１４とで囲まれた領域は画素領域になっている。画素領域のほぼ中央を横切って、ゲートバスライン１２にほぼ平行に延びる蓄積容量バスライン１８が形成されている。蓄積容量バスライン１８上には、画素領域毎に蓄積容量電極１９が形成されている。
【００２６】
画素領域には、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電膜からなる画素電極１６が形成されている。画素電極１６は、長方形状の外周を有し、画素領域より小さい複数の電極ユニット６０と、隣接する電極ユニット６０間に形成された電極の抜き部（スリット）６２と、スリット６２で分離された電極ユニット６０を互いに電気的に接続する接続電極６４とを有している。図３に示す構成では、ほぼ正方形状の外周を有する電極ユニット６０が１画素内に１２個形成されている。電極ユニット６０の外周には、各端辺からゲートバスライン１２又はドレインバスラインにほぼ平行に切り込まれた複数のスペース６６が形成されている。一方、対向基板上には、画素領域外の領域を遮光するＢＭ６８が形成されている。
【００２７】
図４は、本実施例と比較するための従来の液晶表示装置の構成を示している。本実施例による液晶表示装置は、図４に示す従来の液晶表示装置と異なり、ＴＦＴ２０のソース／ドレイン電極と同一の形成材料からなる蓄積容量電極１９（又はＴＦＴ２０のゲート電極と同一の形成材料からなる蓄積容量バスライン１８）上のＢＭ６８’が形成されていないことに特徴を有している。従来の構成では、外光が蓄積容量電極１９（又は蓄積容量バスライン１８）で反射するのを防止するためにＢＭ６８’が設けられているが、本実施例では、蓄積容量電極１９（又は蓄積容量バスライン１８）を反射板として用いている。
【００２８】
図５は、本実施例による液晶表示装置の構成の変形例を示している。図５に示すように、本変形例では蓄積容量電極１９（又は蓄積容量バスライン１８）が反射板として用いられていることに加えて、画素領域内に円形状の反射板５４が別途設けられている。反射板５４は、ＴＦＴ２０のゲート電極又はソース／ドレイン電極と同一の形成材料で形成され、基板面に垂直方向に見て電極ユニット６０のほぼ中央に重なるように配置されている。また反射板５４は、電気的にフロート状態になっている。図示していないが、光路制御フィルム５２には住友化学工業製のルミスティー（登録商標）を用いた。
【００２９】
（実施例１−２）
次に、本実施の形態の実施例１−２による液晶表示装置について図６乃至図８を用いて説明する。図６は、本実施例による液晶表示装置のほぼ１画素分の構成を示している。図７は、本実施例と比較するための従来の液晶表示装置の構成を示している。本実施例では、従来の液晶表示装置と異なり、ＴＦＴ２０のソース／ドレイン電極と同一の形成材料からなる蓄積容量電極１９上のＢＭ６８’が形成されていない。また、本実施例では、対向基板側に配向規制用の突起７０が設けられている。突起７０は、電極ユニット６０のほぼ中央に配置されている。また、蓄積容量電極１９上の突起７０は十字状に形成されている。これにより、反射板として用いられる蓄積電極１９上で液晶の配向分割が行われ、視野角特性の優れた反射表示が実現できる。
【００３０】
図８は、本実施例による液晶表示装置の偏光板等の配置を示している。図８に示すように、液晶層６を挟んで、互いにクロスニコルに配置された偏光板（例えばＳＥＧ１４２５、ＡＧ１５０）８６及び偏光板（例えばＳＥＧ１４２５）８７が配置されている。液晶層６と偏光板８６との間には、１／４波長板５１が配置されている。また液晶層６と偏光板８７との間には、１／４波長板５０が配置されている。１／４波長板５０、５１には、例えば面内位相差１４０ｎｍのＡＲＴＯＮフィルムが用いられる。液晶層６と１／４波長板５１との間には、視角特性を向上させるために、負の位相差を有するＴＡＣフィルム７２が配置されている。また、偏光板８７の外側には、ＰＣＦ３５０等の光学フィルム７４が配置されている。なお、図中上方が観察者側になり、図中下方が光源側になっている。
【００３１】
１／４波長板５０の光学軸（遅相軸）９１と、偏光板８７の吸収軸９０とのなす角は、ほぼ４５°である。すなわち、光源から射出された光が偏光板８７と１／４波長板５０とをこの順に透過すると円偏光になる。また、１／４波長板５１の光学軸９４と、偏光板８６の吸収軸９５とのなす角は、ほぼ４５°である。両１／４波長板５０、５１の光学軸９１、９４は互いにほぼ直交している。視野角の対称性を実現し、さらに表示画面に対して上下左右方向での視角特性を最適化するために、偏光板８６、８７、１／４波長板５０、５１は以下のように配置されている。
【００３２】
偏光板８７の吸収軸９０は、表示画面の右方を基準として、反時計回りに１５０°の方向に配置されている。１／４波長板５０の光学軸９１は、表示画面の右方を基準として、反時計回りに１５°の方向に配置されている。１／４波長板５１の光学軸９４は、表示画面の右方を基準として、反時計回りに１０５°の方向に配置されている。偏光板８６の吸収軸９５は、表示画面の右方を基準として、反時計回りに６０°の方向に配置されている。
【００３３】
（実施例１−３）
次に、本実施の形態の実施例１−３による液晶表示装置について図９を用いて説明する。これまでの実施例では、反射型も透過型も同一の電圧を印加するようになっている。しかし、透過領域では光が一回しか通過しないのに対して、反射領域では光は往復で２回通過する。このため、反射領域における光学効果は透過領域の２倍となり、例えば透過領域で白を表示しているときには、反射領域では黄色味を帯びてしまうことになる。透過表示の際には反射領域が蓄積容量電極１９に隠れて見えないため問題にならないが、反射表示の際にはこの黄色味を帯びる現象は問題となる。このため、本実施例では反射表示を行う際には、駆動電圧を下げることとした。
【００３４】
図９は、本実施例による液晶表示装置の駆動方法を示すブロック図である。透過型と反射型との切替えは、使用者が行う場合と、バックライトのＯＮ／ＯＦＦに連動する場合があり、図９では双方を示している。透過型として用いる場合には最大の駆動電圧を通常の駆動電圧と同じ例えば５Ｖとし、反射型として用いる場合には最大の駆動電圧を通常の駆動電圧より低い例えば３Ｖとした。これらの駆動電圧は、同一の階調を表示する際に、反射型でのΔｎが透過型でのΔｎのほぼ半分になるように選択される。また、電圧の調整のみでは階調特性が透過表示と反射表示とで異なってしまう。このため階調と印加電圧との関係を適宜調整し、透過表示と反射表示とでの階調特性が同じになるようにした。
【００３５】
（実施例１−４）
次に、本実施の形態の実施例１−４による液晶表示装置及びその製造方法について図１０及び図１１を用いて説明する。図１０は、本実施例による液晶表示装置の画素の一部の構成を示している。図１０に示すように、アルミニウム（Ａｌ）とチタン（Ｔｉ）とをこの順に成膜した積層膜からなる蓄積容量電極１９上の大部分には、保護膜（図示せず）が開口された開口部（コンタクトホール）７６が形成されている。開口部７６では、蓄積容量電極１９の上層のＴｉ層もエッチング除去されており、下層のＡｌ層表面が反射面として露出している。また、保護膜上に形成された電極ユニット６０（画素電極１６、あるいは図１０中の接続電極６４）は、開口部７６を介して蓄積容量電極１９に電気的に接続されている。
【００３６】
蓄積容量電極１９及び開口部７６は、以下のように形成される。ゲートバスラインや蓄積容量バスライン上の全面に形成された絶縁膜上に、Ａｌ層とＴｉ層とをこの順に成膜して積層膜を形成する。次に、積層膜を所定形状にパターニングし、蓄積容量電極１９を形成する。次に、蓄積容量電極１９上の基板全面に絶縁層である保護膜を形成する。次に、蓄積容量電極１９上の保護膜を除去して開口部７６を形成し、続いて開口部７６を介して露出したＴｉ層をエッチング除去する。これにより、蓄積容量電極１９のＡｌ層が露出する。その後、ＩＴＯを成膜してパターニングし、例えば露出したＡｌ層を覆うように画素電極１６あるいは図１０中での接続電極６４を形成する。
【００３７】
本実施例によれば、反射板として機能する蓄積容量電極１９の大部分でＡｌ層表面が露出している。Ａｌの反射率は、Ｔｉに比べて格段に高い。このため、Ａｌの高い反射率を利用でき、反射表示の際に高い表示特性が得られる。
【００３８】
次に、本実施例による液晶表示装置の構成の変形例について説明する。図１０に示すような構成では、ＩＴＯ層とＡｌ層とが直接接触している。このため、電池効果による腐食が生じるおそれがあるという問題が生じる。図１１は、この問題が生じない本変形例による液晶表示装置の構成を示している。図１１に示すように、本変形例では、基板面に垂直方向に見て、ＩＴＯからなる電極ユニット６０や接続電極６４に重ならないように配置された反射板５４が形成されている。反射板５４は、ＴＦＴ２０のゲート電極と同一の形成材料か、ソース／ドレイン電極と同一の形成材料で形成されている。また反射板５４は、電気的にフロート状態になっている。反射板５４は、例えばＡｌ層とＴｉ層の積層膜がパターニングされた後に、ＴＦＴ２０のソース電極上や蓄積容量電極１９上にコンタクトホールを形成する工程等で上層のＴｉ層が除去されて形成されている。したがって、反射板５４の反射面はＡｌ層で形成されている。本変形例ではＩＴＯ層とＡｌ層とが反応するのを防止できる。反射板５４上の液晶は、電極ユニット６０からの斜め電界により駆動される。
【００３９】
以上説明したように、本実施の形態によれば、透過型液晶表示装置とほぼ同様の製造工程を用いて、透過及び反射の両モードでの表示が可能な半透過型液晶表示装置を作製できる。これにより、製造コストが上昇せず、価格の安い半透過型液晶表示装置を実現できる。
【００４０】
〔第２の実施の形態〕
次に、本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置について図１２乃至図３０を用いて説明する。半透過型（反射透過型）液晶表示装置は、明るい環境下では外光を利用して反射表示を行い、暗い環境下ではバックライトを利用して透過表示を行うものである。反射型液晶表示装置は暗い環境下では表示が見づらく、透過型液晶表示装置は明るい環境下では表示が見づらくなる。半透過型液晶表示装置は、明るさの異なる環境下で見やすい表示を選択できるため、携帯型情報端末等に広く用いられている。
【００４１】
反射型液晶表示装置では、反射膜（反射電極）を平滑な鏡面にすると正反射領域では表示が明るくなり、それ以外の領域では表示が暗くなる。このため、視角依存性が強く、金属光沢のある表示になってしまう。そこで、点状の平面形状を有する凹凸を反射膜の表面に形成することにより反射光を拡散させ、金属光沢のない表示を実現する技術が知られている（例えば、特許文献４参照）。上記の反射型液晶表示装置では、反射面がランダムな方位に向くため、光が全方位から入射する場合には効率良く観察者側に反射することができ、明るい表示が得られる。ところが、屋内環境のように特定の方位から光が入射する場合には光の利用効率が低く、表示が暗くなってしまうという問題が生じる。
【００４２】
透過型液晶表示装置では、透明電極の少なくとも一方に液晶層との接触表面を部分的に隆起又は陥没させることにより配向制御傾斜部を形成し、当該配向制御傾斜部で液晶の配向を制御する技術が知られている（例えば、特許文献５参照）。上記の透過型液晶表示装置では、図１２及び図１３に示すように、配向制御傾斜部７８による液晶分子８の配向方位（矢印Ａで示す）と電界歪みによる液晶分子８の配向方位（矢印Ｂで示す）とが逆になるため液晶６の配向が安定せず、配向不良が発生して透過率が低下してしまうという問題が生じる。
【００４３】
半透過型液晶表示装置では、反射部と透過部とを分割して１画素内に構成し、反射部の電極表面を連続する波状に形成する技術が知られている（例えば、特許文献６参照）。上記の半透過型液晶表示装置では、前述の反射型液晶表示装置に生じる問題点に加え、液晶の配向方位を画素内で分割できないため、特に透過部での視角特性が低下してしまうという問題が生じる。
【００４４】
本実施の形態の目的は、透過及び反射の両モードで良好な表示特性の得られる液晶表示装置を提供することにある。
【００４５】
本実施の形態は、半透過型液晶表示装置において、配向規制用構造物である線状突起（平面形状が直線で構成された突起列）が一方の基板の透明電極上に設けられ、当該線状突起の傾斜面を含む表面上に反射膜が選択的に形成されていることを特徴としている。ここで、配向規制用構造物は、平面形状が直線で構成されていれば、線状突起でなく枠状突起であっても構わない（以下に述べる窪みに関しても同様）。液晶の配向状態として垂直配向を選択することにより、黒表示の際に基板界面にアンカリングした液晶がスイッチングせずに残ってしまうことがなくなる。このため、コントラスト比が高くなり、見やすい表示を実現できる。また、バックライト側の基板の透明電極上に線状突起を設け、当該線状突起表面に反射膜を選択的に形成することにより、線状突起の傾斜面を利用して正面方向及び斜め方向から入射する光を効率良く観察者側に反射できる。さらに、線状突起上を反射領域とすることにより透過率の損失を最小限に抑えられる。また、反射領域と透過領域とで液晶層の厚さが異なるため、反射表示と透過表示の階調特性を合わせ込むことが可能になる。
【００４６】
また本実施の形態は、一方の基板上に直線状に延びる窪みが設けられ、当該窪みの傾斜面を含む表面上に反射膜が選択的に形成されていることを特徴としている。すなわち、線状突起の代わりに窪みにより液晶の配向方位を制御するものであり、断面形状及び反射領域での液晶層の厚さが線状突起とは逆になるが、線状突起と同様の効果が期待できる。
【００４７】
さらに本実施の形態は、一方の基板の透明電極上に線状突起が設けられ、当該線状突起の下層に反射膜が選択的に形成されていることを特徴としている。図１４は、上記の構成を有する液晶表示装置の断面図である。図１４に示すように、反射膜５６は、線状突起７０の下層に形成されている。線状突起７０は誘電体として作用するため、線状突起７０の傾斜面による液晶分子８の配向方位（矢印Ａで示す）と電界歪みによる液晶分子８の配向方位（矢印Ｂで示す）とが一致し、液晶６の配向はより安定する。
【００４８】
またさらに本実施の形態は、線状突起や窪み等の配向規制用構造物が、画素電極端辺に対して略４５°傾いた方向、略平行な方向、又は略直交する方向に延びるように形成されていることを特徴としている。これにより、これらの方位から入射した光を効率的に観察者側に反射させることができる。
【００４９】
また本実施の形態は、反射膜と透明電極とが電気的に分離されていることを特徴としている。例えば反射表示時には反射膜のみに電圧を印加し、透過表示時には透明電極のみに電圧を印加できるようにすれば、透過領域Ｔと反射領域Ｒとの間の境界部で斜め電界を生じさせることができ、液晶の配向方位を当該境界部に直交する方位に揃えることができる。また、イオン化傾向の異なる反射膜と透明電極とを絶縁でき、電蝕による劣化を防ぐこともできる。
【００５０】
図１５及び図１６は、上記の構成を有する液晶表示装置の断面図である。図１５は、画素電極１６に電圧が印加され、線状突起７０上の反射膜５６に電圧が印加されていない状態を示している。図１６は、窪み７１上の反射膜５６に電圧が印加され、画素電極１６に電圧が印加されていない状態を示している。図１５及び図１６に示すように、線状突起７０や窪み７１の傾斜面による液晶分子８の配向方位（矢印Ａで示す）と電界歪みによる液晶分子８の配向方位（矢印Ｂで示す）とが一致し、液晶６の配向はより安定する。
【００５１】
さらに本実施の形態は、配向規制用構造物の傾斜面の基板面に対する平均傾斜角の範囲を概ね０°以上２０°未満にすることを特徴としている。図１７は、正面方向に出射される光と反射膜５６の傾斜面の平均傾斜角θとの関係を示している。反射膜５６の傾斜面により正面方向に反射される光は斜め方向から入射するが、その入射角は傾斜面の傾斜角度に依存する。半透過型液晶表示装置を構成する部材の屈折率は概ね１．５程度であり、スネルの法則から反射膜５６へ入射する光の最大入射角θｃは概ね４０°程度となる。入射光は反射膜５６で鏡面反射するため、０°から４０°の入射角で入射する光を正面方向に反射するには、傾斜面の傾斜角度は０°以上２０°未満である必要がある。ただし、傾斜面の傾斜角度は連続的に変化しているので、傾斜角分布の平均値を示す平均傾斜角がこの範囲にあれば、斜め入射する光を正面方向に効率良く反射させることができる。
【００５２】
またさらに本実施の形態は、一方の基板上に並列して延びる配向規制用構造物の間隙部に、他の配向規制用構造物（第３の配向規制用構造物）が形成されていることを特徴としている。図１８は、上記の構成を有する液晶表示装置の断面図である。図１８に示すように、反射膜５６が画素電極１６に電気的に接続されていると、反射膜５６及び線状突起７０は導電性突起として機能する。この場合、前述のように傾斜面による液晶分子８の配向方位と電界歪みによる液晶分子８の配向方位とが逆になるため液晶６の配向が安定せず、配向不良が発生してしまう。そこで、隣り合う線状突起７０の間隙部に、スリット６２を形成する。これにより、基板平面方向に配向規制力を働かせ、反射膜５６及び線状突起７０上の液晶配向を電界歪みの方向に揃える。反射膜５６が上層に形成されていない配向規制用構造物は、誘電体として作用する。このため、傾斜面による液晶分子８の配向方位と電界歪みによる液晶分子８の配向方位とが一致し、液晶６の配向は安定する。
【００５３】
また本実施の形態は、配向規制用構造物上の反射膜の一部を除去したスリットが形成されていることを特徴としている。図１９は、上記の構成を有する液晶表示装置の断面図である。図１９に示すように、線状突起７０のほぼ平坦な表面上の反射膜５６は除去されており、スリット６２が形成されている。さらに本実施の形態は、液晶を介して配向規制用構造物と対向する領域の他方の基板上に、他の配向規制用構造物（第２の配向規制用構造物）が形成されていることを特徴としている。図２０は、上記の構成を有する液晶表示装置の断面図である。図２０に示すように、窪み７１に対向する領域の対向基板４上には、スリット６２が形成されている。これらのスリット６２により基板垂直方向に配向規制力を働かせ、反射膜５６及び線状突起７０上、あるいは反射膜５６及び窪み７１上の液晶配向を電界歪みの方向に揃える。これにより、液晶６の配向は安定する。
【００５４】
またさらに本実施の形態は、線状突起が凸型の断面形状を有し、液晶より屈性率の大きい透明材料で形成されていることを特徴としている。図２１は、上記の構成を有する液晶表示装置の部分断面図である。図２１に示すように、反射膜５６は線状突起７０の下層に形成されている。線状突起７０は凸型（台形状）の断面形状を有し、液晶６より屈折率の大きい透明樹脂で形成されている。
【００５５】
図２２は、線状突起７０が長方形状の断面形状を有し、液晶６とほぼ同じ屈折率の透明樹脂で形成されている液晶表示装置の断面図である。図２３は、線状突起７０が長方形状の断面形状を有し、液晶６より屈折率の大きい透明樹脂で形成されている液晶表示装置の断面図である。図２２及び図２３に示すように、線状突起７０の断面形状が長方形状の場合には、形成材料の屈折率に関わらず、入射角θ１と出射角θ２とがほぼ等しくなり、鏡面反射になってしまう。一方、図２１に示すように線状突起７０が凸型の断面形状を有し、液晶６より屈折率の大きい透明樹脂で形成されている場合には、反射膜５６に対する出射角θ２が、反射膜５６に対する入射角θ１より小さくなる。したがって、斜め方向から入射した光が正面方向に反射されるようになる。
【００５６】
以下、具体的実施例を用いて説明する。
（実施例２−１）
本実施の形態の実施例２−１による液晶表示装置について図２４乃至図３０を用いて説明する。図２４は、本実施例による液晶表示装置の反射突起物の配置を示している。図２５は、本実施例による液晶表示装置の構成を示す写真である。図２４及び図２５に示すように、ＴＦＴ基板２上には、線状突起７０とその上層の反射膜５６とが反射突起物として形成されている。線状突起７０は、レジスト（シプレーファーイースト製）を用いて画素電極１６上に形成されている。線状突起７０の断面形状は凸型であり、平均傾斜角が８°、ピーク高さが１．５μｍである。線状突起７０は、画素電極１６端辺に対してほぼ平行又は約４５°の角度をなすように形成されている。反射膜５６は、線状突起７０上に選択的に形成されている。反射膜５６は画素毎に電気的に独立して形成され、各画素電極１６に電気的に接続されている。また、隣り合う線状突起７０の間隙部にはスリット６２が形成されている。線状突起７０とスリット６２とは共にＴＦＴ基板２上に形成されている。
【００５７】
ＴＦＴ基板２と対向基板４とを作成した後、両基板２、４に垂直配向膜（ＪＳＲ製）を塗布した。その後、ビーズ径４．５μｍのスペーサ（積水ファインケミカル製）を散布して両基板２、４を貼り合わせ、空パネルを形成した。この空パネルに負の誘電率異方性を有する液晶（メルクジャパン製）を注入し、液晶表示素子を作成した。液晶表示素子の両面に１／４波長板の遅相軸が直交するように右回り円偏光板（偏光板及び１／４波長板）と左回り円偏光板とを貼り合わせ、半透過型液晶表示装置を作製した。反射及び透過の両表示モードで配向観察を行った。図２６は反射モードで白を表示した際の配向写真であり、図２７は透過モードで白を表示した際の配向写真である。各表示モードにおいて配向不良の発生は認められなかった。これは線状突起７０の間隙部にスリット６２を形成したことにより基板平行方向に配向規制力が働き、配向方位が安定化したためである。
【００５８】
図２８及び図２９は、本実施例による液晶表示装置の反射特性を測定した結果を示すグラフである。図２８は、方位角の変化に対する反射率の変化を示している。横軸は方位角を表し、縦軸は反射率を表している。線Ａ１は本実施例による液晶表示装置の反射特性を示し、線Ａ２はＡｌの鏡面状の反射膜を形成した従来の液晶表示装置の反射特性を示している。光は極角３０°方向から入射させ、極角０°方向で受光した。図２９は、入射角（極角）の変化に対する反射率の変化を示している。横軸は入射角及び対応する傾斜面の傾斜角を表し、縦軸は反射率を表している。線Ｂ１は本実施例による液晶表示装置に対して方位角４５°方向から光を入射させたときの反射特性を示し、線Ｂ２は本実施例による液晶表示装置に対して方位角９０°方向から光を入射させたときの反射特性を示している。線Ｂ３はＡｌの鏡面状の反射膜を形成した従来の液晶表示装置の反射特性を示している。
【００５９】
図２８に示すように、４５°方位、９０°方位、１３５°方位から光が入射すると反射率が高くなる方位角依存が生じている。また、図２９に示すように、光の入射角が小さくなるほど反射率が高くなる入射角依存が生じ、またかなり大きい入射角でも１５〜３０％の光が正面方向へ反射することが分かった。本実施例では、反射膜５６及び線状突起７０が、画素電極１６端辺に対してほぼ平行又は約４５°の角度をなすように形成されているが、反射膜５６及び線状突起７０を画素電極１６端辺にほぼ直交するように形成すれば、０°方位と１８０°方位から光を入射しても反射率を高くすることができる。
【００６０】
図３０は、本実施例による液晶表示装置の透過特性を測定した結果を示すグラフである。横軸は電圧を表し、縦軸は透過率を表している。線Ｃ１は本実施例による半透過型液晶表示装置の透過特性を示し、線Ｃ２は反射膜５６が形成されていない従来の透過型液晶表示装置の透過特性を示している。光は極角１８０°から入射し、極角０°で受光した。図３０に示すように、本実施例による液晶表示装置では、線状突起７０上に反射膜５６が形成されているため、従来の透過型液晶表示装置と比較すると線状突起７０を透過する光量分だけ透過率が低下している。しかし、飽和電圧近傍では透過率の低下する割合は僅かであり、透過型液晶表示装置と遜色ない透過特性を有している。したがって、本実施例によれば、透過特性の低下を抑えつつ反射表示も可能な半透過型（微反射型）液晶表示装置を実現できる。
【００６１】
（実施例２−２）
次に、本実施の形態の実施例２−２による液晶表示装置について説明する。本実施例では、突起７０の一部に代えて窪み７１を形成し、反射膜５６と画素電極１６とを電気的に分離した。また、隣り合う突起７０又は窪み７１の間隙部に液晶６を介して対向する領域の対向基板４上にスリット６２を形成した。上記以外は、実施例２−１と同様の液晶表示装置を作製した。窪み７１は、レジストを用いて断面形状が凹型、平均傾斜角が８°、ピーク高低差が１．５μｍになるように形成した。また、突起７０及び窪み７１上には、画素電極１６から電気的に分離されるように反射膜５６を形成した。反射及び透過の両表示モードで配向観察を行った。その結果、突起７０近傍では透過表示において、窪み７１近傍では反射表示において、図２６及び図２７に示す配向写真と同様に配向不良のない配向状態が得られた。突起７０上及び窪み７１上の反射膜５６と画素電極１６とを電気的に分離して別々に駆動させることにより、突起７０及び窪み７１の傾斜面による配向方位と電界歪みによる配向方位とが一致し、液晶６の配向が安定することを確認できた。
【００６２】
（実施例２−３）
次に、本実施の形態の実施例２−３による液晶表示装置について説明する。本実施例では、突起７０上の反射膜５６にスリット６２を形成した。また、隣り合う突起７０の間隙部に液晶６を介して対向する領域の対向基板４上にスリット６２を形成し、突起７０の間隙部のＴＦＴ基板２上にはスリット６２を形成しなかった。上記以外は実施例２−１と同様の液晶表示装置を作製した。反射及び透過の両表示モードで配向観察を行った。その結果、各表示モードにおいて図２６及び図２７に示す配向写真と同様に配向不良のない配向状態が得られた。突起７０上の反射膜５６にスリット５６を形成したため、突起７０の傾斜面による配向方位と電界歪みによる配向方位とが一致し、液晶６の配向が安定することを確認できた。
【００６３】
（実施例２−４）
次に、本実施の形態の実施例２−４による液晶表示装置について説明する。本実施例では、窪み７１上の反射膜５６と画素電極１６とを電気的に接続したこと以外は実施例２−２と同様に液晶表示装置を作製した。反射及び透過の両表示モードで配向観察を行った。その結果、各表示モードにおいて図２６及び図２７に示す配向写真と同様に配向不良のない配向状態が得られた。窪み７１に液晶６を介して対向する領域の対向基板４上にスリット５６を形成したため、窪み７１の傾斜面による配向方位と電界歪みによる配向方位とが一致し、液晶６の配向が安定することを確認できた。
【００６４】
（実施例２−５）
次に、本実施の形態の実施例２−５による液晶表示装置について説明する。本実施例では、液晶の屈折率より大きい屈折率１．７の透明樹脂（ＪＳＲ製）を用いて凸型の断面形状を有する突起７０を形成し、突起７０の下層に反射膜５６を選択的に形成した。また、隣り合う突起７０の間隙部に液晶６を介して対向する領域の対向基板４上にスリット６２を形成し、突起７０の間隙部のＴＦＴ基板２上にはスリット６２を形成しなかった。上記以外は実施例２−１と同様の液晶表示装置を作製した。反射及び透過の両表示モードで配向観察を行った。その結果、各表示モードにおいて図２６及び図２７に示す配向写真と同様に配向不良のない配向状態が得られた。突起７０の下層に反射膜５６を選択的に形成することにより、突起７０及び反射膜５６は絶縁性突起として機能する。このため、突起７０の傾斜面による配向方位と電界歪みによる配向方位とが一致し、液晶６の配向が安定することを確認できた。
【００６５】
以上説明したように、本実施の形態による液晶表示装置では、透過率をほとんど損なうことなく明るい反射表示を実現できるとともに、視角範囲の広い透過表示を実現できる。これによりすべての環境下において表示の見やすい液晶表示装置を実現できる。
【００６６】
以上説明した第１の実施の形態による液晶表示装置及びその製造方法は、以下のようにまとめられる。
（付記１）
対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板間に封止され、電圧無印加時に前記基板に対してほぼ垂直に配向する液晶と、
前記一対の基板の外側にそれぞれ配置された一対の１／４波長板と、
前記一対の１／４波長板の外側にそれぞれ配置された一対の偏光板と、
ほぼ平坦な反射面を有し、前記一対の基板の一方側から入射する光を反射する反射板を備えた反射領域と、前記一対の基板の他方側から入射する光を前記一対の基板の一方側に透過させる透過領域とを備えた画素領域と
を有することを特徴とする液晶表示装置。
【００６７】
（付記２）
付記１記載の液晶表示装置において、
前記一対の基板の一方の外側に配置された光散乱層をさらに有すること
を特徴とする液晶表示装置。
【００６８】
（付記３）
付記２記載の液晶表示装置において、
前記光散乱層は、所定範囲の入射角で入射する光のみを散乱させること
を特徴とする液晶表示装置。
【００６９】
（付記４）
付記１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記反射板は、前記画素領域毎に形成された薄膜トランジスタの電極と同一の形成材料で形成されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【００７０】
（付記５）
付記１乃至４のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記反射板は、前記画素領域毎に形成された蓄積容量の一方の電極であること
を特徴とする液晶表示装置。
【００７１】
（付記６）
付記１乃至５のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記反射板は、基板面に垂直方向に見て、前記画素領域毎に形成された画素電極に重なって配置されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【００７２】
（付記７）
付記６記載の液晶表示装置において、
前記反射板は、前記画素電極に電気的に接続されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【００７３】
（付記８）
付記６記載の液晶表示装置において、
前記反射板は、前記画素電極から電気的に分離されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【００７４】
（付記９）
付記１乃至５のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記反射板は、基板面に垂直方向に見て、前記画素領域毎に形成された画素電極に重ならないように配置されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【００７５】
（付記１０）
付記１乃至９のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記反射面のうち少なくとも一部は、アルミニウムで形成されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【００７６】
（付記１１）
付記１０記載の液晶表示装置において、
前記反射板は、アルミニウム以外からなる導電層と、前記導電層の下層に形成され、前記導電層が除去された領域で表面が露出したアルミニウム層とを有していること
を特徴とする液晶表示装置。
【００７７】
（付記１２）
付記１１記載の液晶表示装置において、
前記アルミニウム層を覆って透明電極が形成されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【００７８】
（付記１３）
付記１１又は１２に記載の液晶表示装置において、
前記導電層は、チタン層であること
を特徴とする液晶表示装置。
【００７９】
（付記１４）
アルミニウム層とアルミニウム以外からなる導電層とをこの順に形成する工程と、
前記導電層及び前記アルミニウム層をパターニングする工程と、
パターニングされた前記導電層上に絶縁層を形成する工程と、
前記導電層上の前記絶縁層を除去して開口部を形成した後に、前記開口部を介して露出した前記導電層を除去して前記アルミニウム層を露出させ、反射板の反射面を形成する工程と
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００８０】
（付記１５）
付記１４記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記アルミニウム層を覆う形で透明電極を形成する工程をさらに有すること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００８１】
以上説明した第２の実施の形態による液晶表示装置は、以下のようにまとめられる。
（付記１６）
対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板間に封止され、負の誘電率異方性を有する液晶と、
前記一対の基板の一方の画素領域毎に形成された画素電極と、
前記一対の基板の少なくとも一方に平面形状が直線で構成された配向規制用構造物と、
前記配向規制用構造物の傾斜面上を含む当該配向規制用構造物上に選択的に形成された反射膜と
を有することを特徴とする液晶表示装置。
【００８２】
（付記１７）
付記１６記載の液晶表示装置において、
前記配向規制用構造物は突起であること
を特徴とする液晶表示装置。
【００８３】
（付記１８）
付記１７記載の液晶表示装置において、
前記配向規制用構造物は窪みであること
を特徴とする液晶表示装置。
【００８４】
（付記１９）
付記１８記載の液晶表示装置において、
前記液晶を介して前記窪みに対向して配置された第２の配向規制用構造物をさらに有すること
を特徴とする液晶表示装置。
【００８５】
（付記２０）
付記１６乃至１９のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記傾斜面の平均傾斜角は、概ね０°以上２０°未満であること
を特徴とする液晶表示装置。
【００８６】
（付記２１）
付記１６乃至２０のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
隣り合う前記配向規制用構造物の間隙部に形成された第３の配向規制用構造物をさらに有すること
を特徴とする液晶表示装置。
【００８７】
（付記２２）
付記１６乃至２１のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記反射膜の一部が除去されたスリットをさらに有すること
を特徴とする液晶表示装置。
【００８８】
（付記２３）
対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板間に封止され、負の誘電率異方性を有する液晶と、
前記一対の基板の一方の画素領域毎に形成された画素電極と、
前記一対の基板の少なくとも一方に平面形状が直線で構成された配向規制用構造物と、
前記配向規制用構造物の下層に選択的に形成された反射膜と
を有することを特徴とする液晶表示装置。
【００８９】
（付記２４）
付記２３記載の液晶表示装置において、
前記配向規制用構造物は突起であること
を特徴とする液晶表示装置。
【００９０】
（付記２５）
付記２４記載の液晶表示装置において、
前記突起は、凸型の断面形状を有し、前記液晶より屈折率の大きい透明材料で形成されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【００９１】
（付記２６）
付記１６乃至２５のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記配向規制用構造物は、前記画素電極端辺に対してほぼ平行又はほぼ直交又は約４５°の角度をなすように延びること
を特徴とする液晶表示装置。
【００９２】
（付記２７）
付記１６乃至２６のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記反射膜は、前記画素電極から電気的に分離されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【００９３】
（付記２８）
付記１６乃至２６のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記反射膜は、前記画素電極に電気的に接続されていること
を特徴とする液晶表示装置。
【００９４】
【発明の効果】
以上の通り、本発明によれば、製造コストを上昇させずに良好な表示特性が得られる液晶表示装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の基本構成を示す図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態の実施例１−１による液晶表示装置の概略構成を示す図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態の実施例１−１による液晶表示装置の構成を示す図である。
【図４】従来の液晶表示装置の構成を示す図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態の実施例１−１による液晶表示装置の構成の変形例を示す図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態の実施例１−２による液晶表示装置の構成を示す図である。
【図７】従来の液晶表示装置の構成を示す図である。
【図８】本発明の第１の実施の形態の実施例１−２による液晶表示装置の偏光板等の配置を示す図である。
【図９】本発明の第１の実施の形態の実施例１−３による液晶表示装置の駆動方法を示すブロック図である。
【図１０】本発明の第１の実施の形態の実施例１−４による液晶表示装置の構成を示す図である。
【図１１】本発明の第１の実施の形態の実施例１−４による液晶表示装置の構成の変形例を示す図である。
【図１２】本発明の第２の実施の形態の前提となる液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図１３】本発明の第２の実施の形態の前提となる液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図１４】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図１５】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図１６】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図１７】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図１８】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図１９】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図２０】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図２１】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図２２】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置について説明するための図である。
【図２３】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置について説明するための図である。
【図２４】本発明の第２の実施の形態の実施例２−１による液晶表示装置の反射突起物の配置を示す図である。
【図２５】本発明の第２の実施の形態の実施例２−１による液晶表示装置の構成を示す写真である。
【図２６】反射モードで白を表示した際の配向写真である。
【図２７】透過モードで白を表示した際の配向写真である。
【図２８】本発明の第２の実施の形態の実施例２−１による液晶表示装置の反射特性を測定した結果を示すグラフである。
【図２９】本発明の第２の実施の形態の実施例２−１による液晶表示装置の反射特性を測定した結果を示すグラフである。
【図３０】本発明の第２の実施の形態の実施例２−１による液晶表示装置の透過特性を測定した結果を示すグラフである。
【図３１】従来の液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図３２】従来の液晶表示装置の構成を示す図である。
【図３３】従来の液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
２ ＴＦＴ基板
４ 対向基板
６ 液晶
１０、１１ ガラス基板
１２ ゲートバスライン
１４ ドレインバスライン
１６ 画素電極
１８ 蓄積容量バスライン
１９ 蓄積容量電極
２０ ＴＦＴ
３０ 絶縁膜
４２ 共通電極
５０、５１ １／４波長板
５２ 光路制御フィルム
５４ 反射板
５６ 反射膜
６０ 電極ユニット
６２ スリット
６４ 接続電極
６６ スペース
６８ ＢＭ
７０ 突起
７１ 窪み
７２ ＴＡＣフィルム
７４ 光学フィルム
７６ 開口部
７８ 配向制御傾斜部
８０ ゲートバスライン駆動回路
８２ ドレインバスライン駆動回路
８４ 制御回路
８６、８７ 偏光板
８８ バックライトユニット
９０、９５ 吸収軸
９１、９４ 光学軸

Claims (10)

1. 対向配置された一対の基板と、
   前記一対の基板間に封止され、電圧無印加時に前記基板に対してほぼ垂直に配向する液晶と、
   前記一対の基板の外側にそれぞれ配置された一対の１／４波長板と、
   前記一対の１／４波長板の外側にそれぞれ配置された一対の偏光板と、
   ほぼ平坦な反射面を有し、前記一対の基板の一方側から入射する光を反射する反射板を備えた反射領域と、前記一対の基板の他方側から入射する光を前記一対の基板の一方側に透過させる透過領域とを備えた画素領域と
   を有することを特徴とする液晶表示装置。
2. 請求項１記載の液晶表示装置において、
   前記一対の基板の一方の外側に配置された光散乱層をさらに有すること
   を特徴とする液晶表示装置。
3. 請求項１又は２に記載の液晶表示装置において、
   前記反射板は、基板面に垂直方向に見て、前記画素領域毎に形成された画素電極に重なって配置されていること
   を特徴とする液晶表示装置。
4. 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
   前記反射板は、基板面に垂直方向に見て、前記画素領域毎に形成された画素電極に重ならないように配置されていること
   を特徴とする液晶表示装置。
5. アルミニウム層とアルミニウム以外からなる導電層とをこの順に形成する工程と、
   前記導電層及び前記アルミニウム層をパターニングする工程と、
   パターニングされた前記導電層上に絶縁層を形成する工程と、
   前記導電層上の前記絶縁層を除去して開口部を形成した後に、前記開口部を介して露出した前記導電層を除去して前記アルミニウム層を露出させ、反射板の反射面を形成する工程と
   を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
6. 対向配置された一対の基板と、
   前記一対の基板間に封止され、負の誘電率異方性を有する液晶と、
   前記一対の基板の一方の画素領域毎に形成された画素電極と、
   前記一対の基板の少なくとも一方に平面形状が直線で構成された配向規制用構造物と、
   前記配向規制用構造物の傾斜面上を含む当該配向規制用構造物上に選択的に形成された反射膜と
   を有することを特徴とする液晶表示装置。
7. 請求項６記載の液晶表示装置において、
   前記配向規制用構造物は突起であること
   を特徴とする液晶表示装置。
8. 請求項６記載の液晶表示装置において、
   前記配向規制用構造物は窪みであること
   を特徴とする液晶表示装置。
9. 請求項６乃至８のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
   前記反射膜の一部が除去されたスリットをさらに有すること
   を特徴とする液晶表示装置。
10. 対向配置された一対の基板と、
    前記一対の基板間に封止され、負の誘電率異方性を有する液晶と、
    前記一対の基板の一方の画素領域毎に形成された画素電極と、
    前記一対の基板の少なくとも一方に平面形状が直線で構成された配向規制用構造物と、
    前記配向規制用構造物の下層に選択的に形成された反射膜と
    を有することを特徴とする液晶表示装置。

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