JP2004289117A - リトグラフ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】投影放射線ビームを供給するための放射線機構;前記投影ビームを希望のパターンに従いパターン化する働きをするパターン化部材を支持するための支持構造体;基体を支持するための基体テーブル;及び基体の目標部分にパターン化されたビームを投影するための投影機構;を具えたリトグラフ投影装置。
【選択図】図1
Description
- 放射線の投影ビームを供給するための放射線機構(radiation system);
- 前記投影ビームを希望のパターンに従いパターン化する働きをするパターン化手段を支持するための支持構造体;
- 基体を支持するための基体テーブル;及び
- 前記基体の目標部分にパターン化されたビームを投影するための投影機構;
を具えたリトグラフ投影装置に関する。
- 一種類以上の過ハロゲン化C1〜C6アルカン;及び
- 本質的に一つ以上の窒素原子、及び水素、酸素、及びハロゲンから選択された一つ以上の原子からなる一種類以上の化合物;
の少なくとも一方を前記装置中の空間に供給するための供給手段を特徴とする装置である本発明の一つの態様に従い、対処される。
- 放射線感応性材料の層により少なくとも部分的に覆われた基体を与え;
- 放射線機構を用いて投影放射線ビームを与え;
- パターン化手段を用いて投影ビームの断面にパターンを与え;
- 放射線感応性材料の層の目標部分に、パターン化された放射線ビームを投影する;
ことを行うデバイス製造方法において、
- 次のもの:
- 一種類以上の過ハロゲン化C1〜C6アルカン;及び
- 本質的に一つ以上の窒素原子、及び水素、酸素、及びハロゲンから選択された一つ以上の原子からなる一種類以上の化合物;
の少なくとも一方を、前記投影ビームが通過する空間へ供給し、そして
- 一種類以上のアルカン及び/又は一種類以上の化合物からなる複数のものを励起及び/又は解離させる;
ことを特徴とするデバイス製造方法が与えられる。
図1は、本発明の特別な態様によるリトグラフ投影装置を概略的に描いた図である。この装置は:
・ 放射線(例えば、UV/DUV/EUV放射線)の投影ビームPBを供給するための放射線機構Ex、ILで、この特定の場合、放射線源LAも含んでいる放射線機構;
・ マスクMA(例えば、レティクル)を保持するためのマスクホールダーが配備され、部材PLに対してマスクを正確に配置するための第一配置手段に接続された第一目的物テーブル(マスクテーブル);
・ 基体W(例えば、レジスト被覆珪素ウエーハ)を保持するための基体ホールダーが配備され、部材PLに対して基体を正確に配置するための第二配置手段に接続された第二目的物テーブル(基体テーブル);
・ 基体Wの目標部分C(例えば、一つ以上のダイからなる)上にマスクMAの照射部分を影像するための投影機構(レンズ)PL(例えば、屈折/屈折反射レンズ系/ミラー群);
を有する。
1. ステップ方式では、マスクテーブルMTを本質的に静止状態に保ち、全マスク像を一度に(即ち、1回の「フラッシュ」で)目標部分C上に投影する。基体テーブルWTを、次にx及び/又はy方向に移動させ、異なった目標部分CがビームPBで照射できるようにする。
2. 走査方式では、本質的に同じ手順が適用されるが、但し与えられた目標部分Cが1回の「フラッシュ」で露出されるのではない。その代わり、マスクテーブルMTを与えられた方向(所謂「走査方向」、例えばy方向)に速度νで移動することができ、投影ビームPBをマスク像にわたって走査するようにする。同時に基体テーブルWTを同じか又は反対の方向に速度V=Mνで移動させる。式中、MはレンズPLの倍率である(典型的には、M=1/4又は1/5)。このようにして、比較的大きな目標部分Cを、解像力を低下することなく露出することができる。
NO2+h→NO+O
NO2+h→NO+O
O+O2→O3(オゾン)
又は
VOCs+NOx+h→O3+他の汚染物
式中、VOCsは揮発性有機化合物を表す。
Claims (14)
- - 投影放射線ビームを供給するための放射線機構;
- 前記投影ビームを希望のパターンに従いパターン化する働きをするパターン化手段を支持するための支持構造体;
- 基体を保持するための基体テーブル;
- 基体の目標部分にパターン化されたビームを投影するための投影機構;
を具えたリトグラフ投影装置であって、
- 次のもの:
- 一種類以上の過ハロゲン化C1〜C6アルカン;及び
- 本質的に一つ以上の窒素原子、及び水素、酸素、及びハロゲンから選択された一つ以上の原子からなる一種類以上の化合物;
の少なくとも一方を前記装置中の空間に供給するための供給手段を特徴とするリトグラフ投影装置。 - - 一種類以上の過ハロゲン化C1〜C6アルカン;及び
- 本質的に一つ以上の窒素原子、及び水素、酸素、及びハロゲンから選択された一つ以上の原子からなる一種類以上の化合物;
の少なくとも一方から本質的になり、場合によりN2及び/又はH2及び/又は一種類以上の不活性ガスと一緒にしたものからなる組成物を装置中の空間へ供給するための供給手段を特徴とする、請求項1に記載の装置。 - 一種類以上のアルカン及び/又は一種類以上の化合物が入っている、請求項1又は2に記載の装置。
- 一種類以上のアルカンがテトラフルオロメタンを含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。
- 一種類以上の化合物が、一種類以上の窒素水素化物を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
- 一種類以上の化合物が、アンモニア、ジアゼン、ヒドラジン、及びそれらの塩を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。
- 一種類以上の化合物が、硝酸を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置。
- 供給手段が、N2及びH2の少なくとも一方を更に供給する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。
- 一種類以上の化合物が、二酸化窒素を含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の装置。
- 供給手段が、酸素、水素、及び水の一種類以上を更に供給する、請求項9に記載の装置。
- 投影ビームが空間を通過する、請求項1〜10のいずれか1項に記載の装置。
- 空間が、放射線機構の少なくとも一部分及び/又は投影機構の少なくとも一部分を含む、請求項1〜11のいずれか1項に記載の装置。
- 一種類以上のアルカン及び/又は一種類以上の化合物の複数の分子を励起及び/又は解離するための手段を更に有する、請求項1〜12のいずれか1項に記載の装置。
- - 放射線感応性材料の層により少なくとも部分的に覆われた基体を与え;
- 放射線機構を用いて投影放射線ビームを与え;
- パターン化手段を用いて投影ビームにその断面にパターンを与え;
- 放射線感応性材料の層の目標部分に、パターン化された放射線ビームを投影することを行うデバイスの製造方法において、
- 次のもの:
- 一種類以上の過ハロゲン化C1〜C6アルカン;及び
- 本質的に一つ以上の窒素原子、及び水素、酸素、及びハロゲンから選択された一つ以上の原子からなる一種類以上の化合物;
の少なくとも一方を、前記投影ビームが通過する空間へ供給し、そして
- 前記一種類以上のアルカン及び/又は一種類以上の化合物の複数のものを励起及び/又は解離させる;
ことを特徴とするデバイス製造方法。
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