JP2004279970A - 光偏向素子及びそれを用いた光デバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】NbがドープされたSTOからなる半導電性の基板8の下に、全面にわたってCr層21が形成されている。基板8上には、エピタキシャル成長により、PLZT膜22、PZT膜23及びPLZT膜9が順次成膜されている。そして、PLZT膜上に、平面形状が三角形の複数個のCr電極10が形成されている。Cr層21の側面には、取出部24が設けられている。そして、電極10と取出部24との間に電源Vから電圧が印加される。このような光偏向素子7での偏向に際しては、下部電極として機能する部分が基板8だけでなく、Cr層21も下部電極として機能する。このため、各電極10と取出部24との間に印加する電圧を低減することができる。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ光源等の外部から入力された光を電気光学効果によって偏向させる光偏向素子及びそれを用いた光デバイスに関する。
【0002】
【従来の技術】
電気光学効果を用いた光変更素子では、光導波路を伝播する光に対し、電圧印加によって光導波路の屈折率を変化させて光の偏向が制御される。
【0003】
図11は、従来の光偏向素子の構造を示す図であって、(a)は上面図、(b)は(a)中のIII−III線に沿った断面図である。従来の光偏向素子においては、Nbが1質量%だけドープされたSrTiO3(以下、Nb−STOともいう。)基板108上に、エピタキシャル成長により、PLZT((Pb,La)(Zr,Ti)O3)膜122、PZT(Pb(Zr,Ti)O3)膜123及びPLZT膜109が順次成膜されている。PLZT膜122、PZT膜123及びPLZT膜109の総膜厚は、9μm程度である。そして、PLZT膜109上に、平面形状が三角形のPt電極110が光偏向素子毎に形成されている。また、基板108の側面には、取出部124が設けられている。
【0004】
このように構成された光偏向素子では、PZT膜123をコア層とし、PLZT膜122をアンダークラッド層とし、PLZT膜109をオーバークラッド層とする光導波路が構成されている。また、基板108は、半導電性を示す。このため、電極110と取出部124との間に電圧が印加されると、基板108及び電極110が夫々下部電極、上部電極として機能し、コア層であるPZT膜123の屈折率が変化する。この結果、外部から入射された光は屈折率の変化によって電極110の形状に応じて偏向する。
【0005】
なお、下部電極として機能するNb−STO基板108の体積抵抗率はドープ量が少ないほど高く、Nbが1質量%程度ドープされた場合には、体積抵抗率は半導体と同程度の約1×10−3Ω・cm〜約2×10−3Ω・cmとなる。
【0006】
【特許文献1】
特開2000−47271号公報
【特許文献2】
特開2000−305117号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、電気伝導度は体積抵抗率の逆数であるため、Nbのドープ量が少ないほど電気伝導度は低くなる。また、各電極110と取出部124との間の抵抗は、これらの間の距離に比例して大きくなる。このため、取出部124から最も離れた位置に設けられた電極110の直下で、十分な偏向を行うためには、比較的高い電圧を印加する必要がある。一方、基板108へのNbのドープ量を高くすれば、電気伝導度が上昇するが、この場合には、Nbのドープ量の上昇に伴って、光導波路から基板108への光の染み出しが増加してしまう。この結果、光の伝播損失が増加してしまう。光の染み出しを抑制するには、アンダークラッド層を厚くすることが考えられるが、PZT膜、PLZT膜はゾルゲル法等による薄膜(エピタキシャル成長)により作製しており、エピタキシャル成長によるアンダークラッド層の厚膜化は難しい。
【0008】
また、従来の構造で1質量%程度のNbがドープされた基板108では、取出部124と電極110との間の距離に応じて、これらの間の抵抗125が大きく異なる。このため、光導波路に印加される電圧が、電極110の位置に応じて異なり、偏向の程度に差が生じる。
【0009】
更に、PZT膜123並びにPLZT膜109及び122は、ゾルゲル法及び/又はスパッタ法によって0.2μm程度の原料膜を成膜した後に焼結によって原料膜を結晶化させることを繰り返して成膜している。しかし、原料膜の結晶化温度が高温のため、1辺の長さが15mm程度の正方形状の基板108上に総膜厚が約9μmの光導波路を形成した場合には、基板108が4μm程度も反ってしまう。反り量が大きくなると、例えば、光偏向素子を他の結像系と組み合わせる際に、アライメントが極めて困難になることがある。
【0010】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであって、光の伝播の損失を抑制しながら、印加電圧を低減することができ、好ましくは印加電圧のばらつき及び反りも低減することができる光偏向素子及びそれを用いた光デバイスを提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本願発明者は、上記課題を解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、以下に示す発明の諸態様に想到した。
【0012】
本発明に係る第1の光偏向素子は、導電性の基板と、前記基板の第1の主面上に形成され、電気光学効果を備えた光導波路と、前記光導波路上に形成された第1の電極と、を有している。更に、前記基板の第2の主面上には体積抵抗率が前記基板のそれよりも低い第2の電極が形成されている。そして、電源から前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧が印加される。
【0013】
また、本発明に係る第2の光偏向素子は、導電性の基板と、前記基板の第1の主面上に形成され、光の吸収係数が前記基板のそれよりも低い光吸収抑制膜と、前記光吸収抑制膜上に形成され、電気光学効果を備えた光導波路と、前記光導波路上に形成された第1の電極と、を有している。そして、電源から前記基板と前記第1の電極との間に電圧が印加される。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に係る光偏向素子及び光デバイスついて添付の図面を参照して具体的に説明する。
【0015】
(第1の実施形態)
先ず、本発明の第1の実施形態について説明する。図1は、本発明の第1の実施形態に係る光デバイス(光スイッチ)の構造を示すレイアウト図である。また、図2は、図1中のIII−III線に沿った断面図である。
【0016】
この光デバイスには、図1及び図2に示すように、その両端に断面形状が「V」の字型の溝が形成された2個のV溝付基板1が設けられ、その一方の端部では、各溝に光ファイバ2が取り付けられ、他方の端部では、各溝に光ファイバ20が取り付けられている。2個のV溝付基板1は、光ファイバ2及び20が互いに離間する方向に延びるようにして配置されている。V溝付基板1は、例えばシリコン又は石英製である。
【0017】
一方のV溝付基板1の隣には、各光ファイバ2と対向するように形成されたチャネル導波路4を備えた導波部3が配置されている。図3は、図1中のII−II線に沿った断面図である。チャネル導波路4は、図3に示すように、例えば共通基板6上に、石英からなるアンダークラッド層26、不純物ドープにより屈折率が高めの石英からなるコア層27及びアンダークラッド層26と同じ材料からなるオーバークラッド層28が順次成膜されて構成されている。共通基板6上には、各チャネル導波路4の端面と対向するようにして、例えば石英製の二次元レンズ5が配置されている。
【0018】
共通基板6上には、更に、各二次元レンズ5と対向するように光導波路の位置が設定された光偏向素子7が配置されている。図4は、本発明の第1の実施形態に係る光デバイスに用いられている光偏向素子の構造を示す図であって、(a)は上面図、(b)は(a)中のI−I線に沿った断面図である。但し、図4(b)の上下は、便宜上、図2とは反対になっている。
【0019】
この光偏向素子7では、図4に示すように、例えばNbが1質量%ドープされたNb−STOからなる半導電性の基板8の下(第2の主面上)に、全面にわたってCr層21が形成されている。また、基板8上(第1の主面上)には、エピタキシャル成長により、PLZT膜22、PZT膜23及びPLZT膜9が順次成膜されている。PLZT膜22、PZT膜23及びPLZT膜9の膜厚は、例えば、夫々2μm程度、5μm程度、2μm程度である。そして、PLZT膜9上に、平面形状が三角形の複数個のCr電極10が各二次元レンズ5に対応するようにして形成されている。また、Cr層21の側面には、取出部24が設けられている。そして、電極10と取出部24との間に電源Vから電圧が印加される。
【0020】
他方のV溝付基板1の隣には、図1及び図2に示すように、導波部16及び光偏向素子12が、夫々導波部3、光偏向素子7と点対称の関係で、共通基板6上に配置されている。導波部16には、チャネル導波路17及び二次元レンズ18等が設けられており、導波部16は、導波部3と同様の構造を備えている。また、光偏向素子12は、図2に示すように、光偏向素子7と同様の構造を備えている。
【0021】
なお、光偏向素子7及び12は、本実施形態では、図2に示すように、基板8を上側、上部電極10を下側にして実装されている。
【0022】
そして、図1及び図2に示すように、光偏向素子7と光偏向素子12との間にスラブ導波路11が配置されている。
【0023】
次に、上述のように構成された光デバイス(光スイッチ)の動作について説明する。
【0024】
例えば、光ファイバ2に光が入射されると、この光はチャネル導波路4を介して二次元レンズ5に伝播される。そして、二次元レンズ5によってコリメート光に変換され、光偏向素子7に伝播される。
【0025】
光偏向素子7では、コア層としてのPZT膜23、アンダークラッド層としてのPLZT膜22、及びオーバークラッド層としてのPLZT膜9から光導波路が構成されている。そして、電極10と取出部24との間に電圧が印加されると、基板8及びCr層21が下部電極として機能すると共に、電極10が上部電極として機能し、コア層であるPZT膜23の屈折率が変化する。この結果、二次元レンズ5から伝播されてきた光は屈折率の変化によって電極10の形状に応じて偏向する。
【0026】
その後、偏向した光は、スラブ導波路11を介して、光偏向素子12に伝播され、電極(上部電極)10と取出部(図示せず)との間に印加された電圧に応じて偏向する。偏向した光(コリメート光)は二次元レンズ18によって集光された後、チャネル導波路17を介して、光ファイバ20から出射される。
【0027】
逆に、光ファイバ20から光が入射されたときは、上記とは逆の経路を経て、光ファイバ2から光が出射される。
【0028】
本実施形態においては、例えば、光偏向素子7での偏向に際し、下部電極として機能する部分が基板8だけでなく、Cr層21も下部電極として機能する。Cr層21の体積抵抗率は1.32×10−5Ω・cm程度であり、基板8のそれの1/100程度である。このため、Cr層21の体積抵抗率はほぼ無視することができ、図4(b)に示すように、各電極10と取出部24との間の抵抗25はほぼ一定となる。従って、従来のものと比較すると、各電極10と取出部24との間の抵抗25が下がるため、これらの間に印加する電圧を低減することができる。このとき、Nbのドープ量を増加させる必要はないため、光の伝播損失が増加することもない。
【0029】
また、各電極10の下に位置する光導波路に印加される電圧もほぼ一定となり、偏向のばらつきが抑制される。
【0030】
更に、前述のように、従来の光偏向素子では、反り量が大きい。例えば、本実施形態に対して、Cr層21が設けられていない場合には、図5(a)に示すような反りが生じる。これに対し、本実施形態においては、Cr層21の弾性係数が基板8の弾性係数よりも高いため、図5(b)に示すように、反りを抑制することができる。例えば、従来のもので4μm程度の反りが発生する場合、それにCr層21が設けられると、反りの量は2μm以下となる。このため、光偏向素子7を他の結像系(例えばV溝付基板1、導波部3及びスラブ導波路11)と組み合わせる際に、他の結像系とのアライメントが容易になる。
【0031】
これらの効果は、光偏向素子12でも同様に得られる。
【0032】
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。第2の実施形態では、光偏向素子の構造が第1の実施形態と異なっている。図6は、本発明の第2の実施形態に係る光デバイスに用いられている光偏向素子の構造を示す断面図である。図6は、第1の実施形態を示す図4(b)に相当する。
【0033】
本実施形態では、図6に示すように、第1の実施形態における基板8の代わりに、複数個の凹部29aが形成された基板8aが光偏向素子7に設けられている。そして、凹部29aが形成された側の面(第2の主面)の上に、Cr層21が全面にわたって形成され、反対側の面(第1の主面)の上に、PLZT膜22、PZT膜23、PLZT膜9及び複数個の電極10が形成されている。各凹部29aは、例えば各電極10と整合する位置に形成されている。
【0034】
基板8aは、例えばNbが0.5質量%ドープされたNb−STOからなり、その体積抵抗率は、0.005Ω・cmである。また、基板8aの厚さは最も厚い部分で0.5mmであり、凹部29aの深さは0.3mmである。
【0035】
このように構成された本実施形態においては、電極10とCr層21との距離が第1の実施形態のそれよりも小さくなる。このため、基板8aへのNbのドープ量が第1の実施形態よりも少なくても、上部電極と下部電極との間の抵抗は、第1の実施形態のものと同程度に低い値となる。従って、第1の実施形態と同様に、従来のものと比較すると、電極10と取出部24との間の抵抗が下がるため、これらの間に印加する電圧を低減することができる。また、抵抗のばらつきが抑制され、偏向のばらつきが抑制される。
【0036】
更に、本実施形態では、第1の実施形態よりも低いNbのドープ量で抵抗が低くなるため、Nbのドープ量の低減により、光の伝播の損失が抑制されるという効果も得られる。
【0037】
なお、凹部29aを形成する方法は特に限定されず、例えば、サンドブラストにより基板8aの材料を加工することにより形成することができる。
【0038】
(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態について説明する。第3の実施形態では、光偏向素子の構造が第1の実施形態等と異なっている。図7は、本発明の第3の実施形態に係る光デバイスに用いられている光偏向素子の構造を示す断面図である。図7は、第1の実施形態を示す図4(b)に相当する。
【0039】
本実施形態では、図7に示すように、第1の実施形態における基板8の代わりに、凹部29bが形成された基板8bが光偏向素子7に設けられている。そして、凹部29bが形成された側の面の上に、Cr層21が全面にわたって形成され、反対側の面の上に、PLZT膜22、PZT膜23、PLZT膜9及び複数個の電極10が形成されている。凹部29bは、例えば全ての電極10を取り囲む領域と整合するようにして形成されている。
【0040】
また、第2の実施形態と同様に、基板8bは、例えばNbが0.5質量%ドープされたNb−STOからなり、その体積抵抗率は、0.005Ω・cmである。また、基板8bの厚さは最も厚い部分で0.5mmであり、凹部29bの深さは0.3mmである。
【0041】
このように構成された本実施形態においても、第2の実施形態と同様の効果が得られる。
【0042】
第2の実施形態では、各電極10と整合するようにして複数個の凹部29aが基板8aに形成され、第3の実施形態では、全ての電極10を取り囲む領域と整合するようにして形成されている。但し、基板に形成される凹部の大きさ及び形状はこれらに限定されず、例えば、複数個の電極を取り囲む領域と整合するようにして複数個の凹部が形成されていてもよい。
【0043】
(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態について説明する。第4の実施形態では、光偏向素子の構造が第1の実施形態等と異なっている。図8は、本発明の第4の実施形態に係る光デバイスに用いられている光偏向素子の構造を示す断面図である。図8は、第1の実施形態を示す図4(b)に相当する。
【0044】
本実施形態では、図8に示すように、基板8とPLZT膜22との間に、低濃度ドープ膜(光吸収抑制膜)30が、例えばエピタキシャル成長により形成されている。低濃度ドープ膜30は、例えばNbが0.1質量%ドープされたNb−STOからなる。
【0045】
また、基板8、低濃度ドープ膜30、PLZT膜22、PZT膜23及びPLZT膜9の厚さは、例えば、夫々0.5mm程度、1μm程度、3.5μm程度、3μm程度、3.5μm程度である。
【0046】
なお、Cr層21は設けられておらず、取出部24は、基板8の側面に設けられている。
【0047】
このように構成された本実施形態においては、光導波路を構成するPLZT膜22、PZT膜23及びPLZT膜9と基板8との間に、Nbのドープ量が基板8のそれよりも低い低濃度ドープ膜30が存在しているため、光導波路から基板8への光が染み出しても、低濃度ドープ膜30での吸収が小さいため、染み出しによる損失は少なくて済む。図9は、波長が1550nmの光に対するNb−STO基板のNb濃度と吸収係数との関係を示すグラフである。
【0048】
逆に、光の染み出しが従来のものと同程度で許容される場合には、基板8へのNbのドープ量をより高いものとすることができる。従って、光の伝播損失を上昇させることなく、印加電圧を下げることが可能となる。図10は、Nb−STO基板のNb濃度と体積抵抗率との関係を示すグラフである。
【0049】
なお、低濃度ドープ膜30中のNb濃度は、基板8のそれよりも低ければ特に限定されないが、0.5質量%以下であることが好ましい。これは、Nb濃度が0.5質量%を超えると、図9に示すように、吸収係数が低下するという効果を得にくくなるためである。
【0050】
また、低濃度ドープ膜30の厚さは特に限定されないが、1μm以下であることが好ましい。これは、低濃度ドープ膜30の厚さが1μmを超えると、上部電極と下部電極との間の抵抗が高くなりすぎて、印加電圧を低くしにくくなるためである。
【0051】
(第5の実施形態)
次に、本発明の第5の実施形態について説明する。第5の実施形態は、第1の実施形態と第4の実施形態とを掛け合わせて構成されている。図11は、本発明の第5の実施形態に係る光デバイスに用いられている光偏向素子の構造を示す断面図である。図11は、第1の実施形態を示す図4(b)に相当する。
【0052】
本実施形態においては、第1の実施形態と同様に、Cr層21が設けられると共に、第4の実施形態と同様に、低濃度ドープ膜30が設けられている。
【0053】
このような第5の実施形態によれば、より一層、印加電圧を低下させることができると共に、光の伝播損失を低減することができる。
【0054】
なお、第4の実施形態及び第5の実施形態において、基板8の代わりに基板8a、8bのような凹部が形成された基板を用いてもよい。
【0055】
また、Cr層21は、基板の電極10とは反対側の面に全面にわたって形成されている必要はない。例えば、平面視において、各電極10と重なり合うように、電極10と同数のCr層21が散在していてもよい。この場合、各Cr層は、それと重なる電極10と完全に重なり合うか、又はそれよりも大きいことが好ましい。また、各Cr層は取出部24に接続される等して同一の電位に設定可能になっている必要がある。
【0056】
更に、電極10の材料はPtに限定されるものではなく、例えばCr電極等であってもよい。同様に、基板の電極10とは反対側の面に形成される第2の電極の材料はCr電極に限定されるものではなく、例えばW電極等であってもよい。
【0057】
また、基板は、電流が流れるものであれば、半導電性である必要はなく、導電性であってもよいが、その上に光導波路及び低濃度ドープ膜(光吸収抑制膜)をエピタキシャル成長させる場合には、Nbが導入されたSTOからなる半導電性基板を用いることが好ましい。
【0058】
以下、本発明の諸態様を付記としてまとめて記載する。
【0059】
(付記1) 導電性の基板と、
前記基板の第1の主面上に形成され、電気光学効果を備えた光導波路と、
前記光導波路上に形成された第1の電極と、
前記基板の第2の主面上に形成され、体積抵抗率が前記基板のそれよりも低い第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する電源と、
を有することを特徴とする光偏向素子。
【0060】
(付記2) 前記第2の電極の弾性係数は、前記基板のそれよりも高いことを特徴とする付記1に記載の光偏向素子。
【0061】
(付記3) 平面視で、前記第2の電極の外縁内に、前記第1の電極が含まれていることを特徴とする付記1又は2に記載の光偏向素子。
【0062】
(付記4) 前記第1の電極は、前記光導波路上に複数個形成されており、
平面視で、前記第2の電極の外縁内に、前記第1の電極の全てが含まれていることを特徴とする付記1又は2に記載の光偏向素子。
【0063】
(付記5) 前記第2の電極は、前記基板の第2の主面上に複数個形成されており、
平面視で、複数個の前記第1の電極は、夫々複数個の前記第2の電極のいずれかの外縁内に含まれていることを特徴とする付記4に記載の光偏向素子。
【0064】
(付記6) 前記基板と前記光導波路との間に形成され、光の吸収係数が前記基板のそれよりも低い光吸収抑制膜を有することを特徴とする付記1乃至5のいずれか1項に記載の光偏向素子。
【0065】
(付記7) 導電性の基板と、
前記基板の第1の主面上に形成され、光の吸収係数が前記基板のそれよりも低い光吸収抑制膜と、
前記光吸収抑制膜上に形成され、電気光学効果を備えた光導波路と、
前記光導波路上に形成された第1の電極と、
前記基板と前記第1の電極との間に電圧を印加する電源と、
を有することを特徴とする光偏向素子。
【0066】
(付記8) 前記基板は、絶縁体に不純物が導入されて構成されており、
前記光吸収抑制膜は、前記絶縁体に前記不純物が前記基板よりも低濃度で導入されて構成されていることを特徴とする付記6又は7に記載の光偏向素子。
【0067】
(付記9) 前記光吸収抑制膜は、SrTiO3にNbが導入されて構成されていることを特徴とする付記6乃至8のいずれか1項に記載の光偏向素子。
【0068】
(付記10) 前記光吸収抑制膜は、前記基板上にエピタキシャル成長により形成されていることを特徴とする付記6乃至9のいずれか1項に記載の光偏向素子。
【0069】
(付記11) 前記基板の第2の主面には、少なくとも1個の凹部が形成されていることを特徴とする付記1乃至10のいずれか1項に記載の光偏向素子。
【0070】
(付記12) 前記第1の電極は、前記光導波路上に複数個形成されており、平面視で、1個の前記凹部の外縁内に、前記第1の電極の全てが含まれていることを特徴とする付記11に記載の光偏向素子。
【0071】
(付記13) 前記第1の電極は、前記光導波路上に複数個形成されており、
前記凹部は、前記基板の第2の主面に複数個形成されており、
平面視で、複数個の前記第1の電極は、夫々複数個の前記凹部のいずれかの外縁内に含まれていることを特徴とする付記11に記載の光偏向素子。
【0072】
(付記14) 前記第1の電極の平面形状は、三角形であることを特徴とする付記1乃至13に記載の光偏向素子。
【0073】
(付記15) 前記基板は、半絶縁性基板であることを特徴とする付記1乃至14のいずれか1項に記載の光偏向素子。
【0074】
(付記16) 前記基板は、SrTiO3にNbが導入されて構成されていることを特徴とする付記15に記載の光偏向素子。
【0075】
(付記17) コリメート光の伝播方向を切り替える第1の光偏向素子と、
前記第1の光偏向素子から出力されたコリメート光の伝播方向を切り替える第2の光偏向素子と、
を有する光デバイスであって、
前記第1の光偏向素子は、
導電性の第1の基板と、
前記第1の基板の第1の主面上に形成され、電気光学効果を備えた第1の光導波路と、
前記第1の光導波路上に形成された複数個の第1の電極と、
前記第1の基板の第2の主面上に形成され、体積抵抗率が前記基板のそれよりも低い第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する第1の電源と、
を有し、
前記第2の光偏向素子は、
導電性の第2の基板と、
前記第2の基板の第1の主面上に形成され、電気光学効果を備えた第2の光導波路と、
前記第2の光導波路上に形成された複数個の第3の電極と、
前記第2の基板の第2の主面上に形成され、体積抵抗率が前記基板のそれよりも低い第4の電極と、
前記第3の電極と前記第4の電極との間に電圧を印加する第2の電源と、
を有することを特徴とする光デバイス。
【0076】
(付記18) 前記第1の光偏向素子は、
前記第1の基板と前記第1の光導波路との間に形成され、光の吸収係数が前記第1の基板のそれよりも低い第1の光吸収抑制膜を有し、
前記第2の光偏向素子は、
前記第2の基板と前記第2の光導波路との間に形成され、光の吸収係数が前記第2の基板のそれよりも低い第2の光吸収抑制膜を有することを特徴とする付記17に記載の光デバイス。
【0077】
(付記19) コリメート光の伝播方向を切り替える第1の光偏向素子と、
前記第1の光偏向素子から出力されたコリメート光の伝播方向を切り替える第2の光偏向素子と、
を有する光デバイスであって、
前記第1の光偏向素子は、
導電性の第1の基板と、
前記第1の基板の第1の主面上に形成され、光の吸収係数が前記第1の基板のそれよりも低い第1の光吸収抑制膜と、
前記第1の光吸収抑制膜上に形成され、電気光学効果を備えた第1の光導波路と、
前記第1の光導波路上に形成された複数個の第1の電極と、
前記第1の基板と前記第1の電極との間に電圧を印加する第1の電源と、
を有し、
前記第2の光偏向素子は、
導電性の第2の基板と、
前記第2の基板の第1の主面上に形成され、光の吸収係数が前記第2の基板のそれよりも低い第2の光吸収抑制膜と、
前記第2の光吸収抑制膜上に形成され、電気光学効果を備えた第2の光導波路と、
前記第2の光導波路上に形成された複数個の第3の電極と、
前記第1の基板と前記第3の電極との間に電圧を印加する第2の電源と、
を有することを特徴とする光デバイス。
【0078】
(付記20) 前記第1及び第2の基板の第2の主面には、少なくとも1個の凹部が形成されていることを特徴とする付記17乃至19のいずれか1項に記載の光デバイス。
【0079】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、第2の電極や光吸収抑制膜の存在により、光の伝播損失を上昇させることなく、印加電圧を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る光デバイス(光スイッチ)の構造を示すレイアウト図である。
【図2】図1中のIII−III線に沿った断面図である。
【図3】図1中のII−II線に沿った断面図である。
【図4】本発明の第1の実施形態に係る光デバイスに用いられている光偏向素子の構造を示す図であって、(a)は上面図、(b)は(a)中のI−I線に沿った断面図である。
【図5】光偏向素子の反りを示す断面図である。
【図6】本発明の第2の実施形態に係る光デバイスに用いられている光偏向素子の構造を示す断面図である。
【図7】本発明の第3の実施形態に係る光デバイスに用いられている光偏向素子の構造を示す断面図である。
【図8】本発明の第4の実施形態に係る光デバイスに用いられている光偏向素子の構造を示す断面図である。
【図9】波長が1550nmの光に対するNb−STO基板のNb濃度と吸収係数との関係を示すグラフである。
【図10】Nb−STO基板のNb濃度と体積抵抗率との関係を示すグラフである。
【図11】本発明の第5の実施形態に係る光デバイスに用いられている光偏向素子の構造を示す断面図である。
【図12】従来の光偏向素子の構造を示す図であって、(a)は上面図、(b)は(a)中のIII−III線に沿った断面図である。
【符号の説明】
1;V溝付基板
2、20;光ファイバ
3、16;導波部
4、17;チャネル導波路
5、18;二次元レンズ
6;共通基板
7、12;光偏向素子
8、8a、8b、13;基板
9;PLZT膜
10;電極
11;スラブ導波路
21;Cr層
22;PLZT膜
23;PZT膜
24;取出部
25;抵抗
26;アンダークラッド層
27;コア層
28;オーバークラッド層
29a、29b;凹部
30;低濃度ドープ膜
Claims (10)
- 導電性の基板と、
前記基板の第1の主面上に形成され、電気光学効果を備えた光導波路と、
前記光導波路上に形成された第1の電極と、
前記基板の第2の主面上に形成され、体積抵抗率が前記基板のそれよりも低い第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する電源と、
を有することを特徴とする光偏向素子。 - 前記基板と前記光導波路との間に形成され、光の吸収係数が前記基板のそれよりも低い光吸収抑制膜を有することを特徴とする請求項1に記載の光偏向素子。
- 導電性の基板と、
前記基板の第1の主面上に形成され、光の吸収係数が前記基板のそれよりも低い光吸収抑制膜と、
前記光吸収抑制膜上に形成され、電気光学効果を備えた光導波路と、
前記光導波路上に形成された第1の電極と、
前記基板と前記第1の電極との間に電圧を印加する電源と、
を有することを特徴とする光偏向素子。 - 前記基板は、絶縁体に不純物が導入されて構成されており、
前記光吸収抑制膜は、前記絶縁体に前記不純物が前記基板よりも低濃度で導入されて構成されていることを特徴とする請求項2又は3に記載の光偏向素子。 - 前記基板の第2の主面には、少なくとも1個の凹部が形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光偏向素子。
- 前記基板は、半絶縁性基板であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光偏向素子。
- コリメート光の伝播方向を切り替える第1の光偏向素子と、前記第1の光偏向素子から出力されたコリメート光の伝播方向を切り替える第2の光偏向素子と、
を有する光デバイスであって、
前記第1の光偏向素子は、
導電性の第1の基板と、
前記第1の基板の第1の主面上に形成され、電気光学効果を備えた第1の光導波路と、
前記第1の光導波路上に形成された複数個の第1の電極と、
前記第1の基板の第2の主面上に形成され、体積抵抗率が前記基板のそれよりも低い第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する第1の電源と、
を有し、
前記第2の光偏向素子は、
導電性の第2の基板と、
前記第2の基板の第1の主面上に形成され、電気光学効果を備えた第2の光導波路と、
前記第2の光導波路上に形成された複数個の第3の電極と、
前記第2の基板の第2の主面上に形成され、体積抵抗率が前記基板のそれよりも低い第4の電極と、
前記第3の電極と前記第4の電極との間に電圧を印加する第2の電源と、
を有することを特徴とする光デバイス。 - 前記第1の光偏向素子は、
前記第1の基板と前記第1の光導波路との間に形成され、光の吸収係数が前記第1の基板のそれよりも低い第1の光吸収抑制膜を有し、
前記第2の光偏向素子は、
前記第2の基板と前記第2の光導波路との間に形成され、光の吸収係数が前記第2の基板のそれよりも低い第2の光吸収抑制膜を有することを特徴とする請求項7に記載の光デバイス。 - コリメート光の伝播方向を切り替える第1の光偏向素子と、前記第1の光偏向素子から出力されたコリメート光の伝播方向を切り替える第2の光偏向素子と、
を有する光デバイスであって、
前記第1の光偏向素子は、
導電性の第1の基板と、
前記第1の基板の第1の主面上に形成され、光の吸収係数が前記第1の基板のそれよりも低い第1の光吸収抑制膜と、
前記第1の光吸収抑制膜上に形成され、電気光学効果を備えた第1の光導波路と、
前記第1の光導波路上に形成された複数個の第1の電極と、
前記第1の基板と前記第1の電極との間に電圧を印加する第1の電源と、
を有し、
前記第2の光偏向素子は、
導電性の第2の基板と、
前記第2の基板の第1の主面上に形成され、光の吸収係数が前記第2の基板のそれよりも低い第2の光吸収抑制膜と、
前記第2の光吸収抑制膜上に形成され、電気光学効果を備えた第2の光導波路と、
前記第2の光導波路上に形成された複数個の第3の電極と、
前記第1の基板と前記第3の電極との間に電圧を印加する第2の電源と、
を有することを特徴とする光デバイス。 - 前記第1及び第2の基板の第2の主面には、少なくとも1個の凹部が形成されていることを特徴とする請求項7乃至9のいずれか1項に記載の光デバイス。
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