JP2004260691A - 弾性表面波装置 - Google Patents

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Shinichi Wakana
伸一 若菜
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Fujitsu Media Devices Ltd
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Abstract

【課題】櫛型電極から弾性波が漏れるのを抑制することができる弾性表面波装置を提供すること。
【解決手段】圧電基板10と、圧電基板10上に形成され、櫛歯状の複数の第1電極指11bが第1バスバー11aから延びる第1櫛型電極11と、前記圧電基板上10に形成され、櫛歯状の複数の第2電極指12bが第2バスバー12aから第1電極指11bの間に延びる第2櫛型電極12と、を有し、第1電極指11bと第2電極指12bとで生成される圧電基板10の弾性表面波の進行方向への周期構造を第1バスバー11aに形成したことを特徴とする弾性表面波装置による。
【選択図】 図4

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、圧電基板の圧電効果を利用した弾性表面波装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、携帯電話を始めとするモバイル機器の普及と共に、それらの機器において使用される高周波電子部品の高性能化、低損失化への要請が高まっている。中でも、SAW(Surface Acoustic Wave)フィルタは、雑音を除去してクリアな音声を実現する目的で電話機に必須の部品であり、その性能を向上させるために様々な研究が進められている。
【0003】
そのSAWフィルタは、図1の平面図に示すような構造を有し、圧電基板1の表面に櫛型電極2と反射器3とを有する。櫛型電極2は対向して二つ設けられ、それぞれバスバー2aに複数の電極指2bを形成してなる。
【0004】
二つの櫛型電極2は共振器4を構成し、各櫛型電極2間に信号電圧を印加すると、隣接する電極指2b間の電位差によって圧電基板1の表面に弾性表面波が誘起される。この弾性表面波の主成分はSH(Shear Horizontal)波であり、その進行方向Aは電極指2aの延在方向に垂直な方向となる。
【0005】
弾性表面波は、その進行方向Aの先に設けられている反射器3内に入るが、反射器3には電極指2bの間隔と略同じ間隔で電極指3aが複数形成されているため、それによってブラッグ反射を起こして共振器4内に再び戻る。
【0006】
この際、SH波の速度をVa、隣接する電極指2bの中心間距離をδとすると、信号電圧の周波数がVa/(2δ)に略等しい場合には共振器4内にSH波の定在波が立って櫛型電極2間のインピーダンスが小さくなり、信号電圧の周波数がこれから外れる場合はインピーダンスが大きくなる。
【0007】
これにより、櫛型電極2間を透過する信号電圧の透過率は図2のように振る舞い、Va/(2δ)近辺の周波数のみを透過するバンドパスフィルタが実現される。
【0008】
ところが、実際のSAWフィルタでは、特定の周波数において図2の点線のような信号のロスが発生することがある。この原因を特定すべく、本願発明者は、非特許文献1に開示される技術と、公開されてはいないが特願2002−376742に記載される技術とを開発した。これらの技術は、SAWフィルタ表面の弾性表面波を可視的に観測するものであって、それを用いて問題のSAWフィルタ表面を調べたところ、図3のように弾性表面波がバスバー2a下を伝ってその端部から漏れ出していることが明らかとなった。
【0009】
なお、本発明に関連する従来の技術として、特許文献1には、バスバーから小電極指を突出させることにより、反共振周波数faと共振周波数frとの差ΔfをSAW共振子毎に調節可能とする技術が開示されている。
【0010】
【特許文献1】
特開平11−191720号公報
【非特許文献1】
“SAWフィルタ内の弾性波分布を可視化する技術を開発”、[online]、平成14年11月6日、株式会社富士通研究所、[2003年1月8日検索]、インターネット<URL:http://pr.fujitsu.com/jp/news/2002/11/6−1.html>
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このように弾性表面波が櫛型電極2から漏れ出してしまうと、共振器4内の定在波のエネルギが低下するため、SAWフィルタの出力電圧が低下し、出力信号の品質が劣化してしまう。
【0012】
本発明は係る従来例の問題点に鑑みて創作されたものであり、櫛型電極から弾性表面波が漏れるのを抑制することができる弾性表面波装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の観点によれば、圧電基板と、前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第1電極指が第1バスバーから延びる第1櫛型電極と、前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第2電極指が第2バスバーから前記第1電極指の間に延びる第2櫛型電極と、を有し、前記第1電極指と前記第2電極指とで生成される前記圧電基板の弾性表面波の進行方向への周期構造を前記第1バスバーに形成した弾性表面波装置が提供される。
【0014】
本発明によれば、第1バスバーに周期構造を設けることにより、第1バスバー下において音響インピーダンスを周期的に変化させ、弾性表面波に周期的境界条件を課すようにする。このようにすると、第1バスバー下において弾性表面波の定在波が立つので、第1櫛型電極と第2櫛型電極とで構成される共振器内の弾性表面波が第1バスバーを伝って共振器外に漏れるのを防止でき、共振器内の弾性表面波のエネルギロスを低減することが可能となる。
【0015】
このような第1バスバーの周期構造を形成するには、例えば、周期的に繰り返す凸パターンをその第1バスバー上に設ければよい。
【0016】
このとき、第1バスバーとは別の材料で凸パターンを構成すると、第1バスバー1上においてパターンが周期的に変化するだけでなく、比重や導電性も周期的に変化するようになる。その結果、弾性表面波の境界条件の周期性が一層明確に現れ易くなるので、第1バスバー下に定在波が立ち易くなり、第1バスバーを伝った弾性表面波の漏れを防ぎ易くなる。
【0017】
なお、この場合、凸パターンの間を埋め込む平坦化膜をその凸パターン上と第1バスバー上とに形成してもよい。
【0018】
また、隣り合う凸パターンの間隔を、隣り合う第1電極指と第2電極指との間隔に等しくし、更に、凸パターンと第1電極指とを、上記弾性表面波の進行方向に上記間隔の1/2だけ互いにずらしてもよい。このようにすると、第1、第2電極指下と第1バスバー下におけるそれぞれの定在波も上記間隔の1/2だけ互いにずれ、一方の定在波で腹が形成される断面位置には他方の定在波の節が形成される。その結果、二つの定在波の間でのエネルギの交換が行われ難くなるので、二つの定在波が結合し難くなり、定在波を共振器内に閉じ込め易くすることができる。
【0019】
更に、第1バスバー下と共振器内とにおける弾性表面波の速さの違いにより第1バスバー下に定在波が立ち難い場合は、第1バスバーの周期構造の周期を、第1電極指と前記第2電極指との間隔と異ならせることにより、第1バスバー下に定在波を立たせるのが好ましい。
【0020】
また、本発明の第2の観点によれば、圧電基板と、前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第1電極指が第1バスバーから延びる第1櫛型電極と、前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第2電極指が第2バスバーから前記第1電極指の間に延びる第2櫛型電極と、前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第3電極指が短絡電極から延び、前記第1櫛型電極及び前記第2櫛型電極により生成された弾性表面波を反射する反射器と、を有し、前記短絡電極に、前記弾性表面波の伝搬方向への周期構造を形成した弾性表面波装置が提供される。
【0021】
本発明によれば、反射器の短絡電極にも周期構造を与えるので、弾性表面波の定在波が短絡電極下に形成され、共振器内の弾性表面波がその短絡電極を伝って外に漏れるのを防止できる。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【0023】
(第1実施形態)
図4は、本実施形態に係る弾性表面波装置(SAWフィルタ)の平面図である。
【0024】
この弾性表面波装置においては、LiTaOやLiNbO等の圧電基板10上に例えばアルミニウムよりなる第1バスバー11aが形成され、第1バスバー11aと同じ材料からなる複数の櫛型の第1電極指11bがその第1バスバー11aから圧電基板10上に延びる。第1電極指11bは、弾性表面波の進行方向Aに同じ周期で反復して配列され、第1バスバー11aと共に第1櫛型電極11を構成する。
【0025】
第2櫛型電極12も、第1櫛型電極11と同様に、第2バスバー12aと第2電極指12bとにより構成され、その第2電極指12bは第1電極指11bの間に延びるようにして圧電基板10上に形成される。
【0026】
第1櫛型電極11と第2櫛型電極12は共振器15を構成するが、その共振器15の側方の圧電基板10上には第1反射器13と第2反射器14とが形成される。第1反射器13は、弾性表面波の進行方向Aに同じ周期で反復して配列された第3電極指13bを有し、各電極指13bの基端部がショート電極(短絡電極)13aによって共通に接続される。
【0027】
第2反射器14も第1反射器13と同様の構成となっており、複数の第4電極指14bとそれらを共通に接続する第2ショート電極(短絡電極)14aとにより構成される。
【0028】
本実施形態では、第1、第2反射器13、14は共に電気的にフローティングの状態であるが、本発明はこれに限定されない。例えば、第1、第2櫛型電極11、12と第1、第2反射器13、14との間に形成される容量成分を小さくするために、第1、第2反射器13、14をグランド層(不図示)に電気的に接続してもよい。
【0029】
第1櫛型電極11と第2櫛型電極12との間に信号電圧が印加されると図中の矢印Aの方向に進行する弾性表面波が圧電基板10の表面に誘起されるが、その弾性表面波の主成分はSH波であって、反射器13、14によりブラッグ反射されて共振器15内に戻される。なお、弾性表面波の進行方向Aは、第1、第2電極指11b、12bの反復方向に等しい。
【0030】
このSH波の速さをVa、信号電圧の周波数をf、第1、第2電極指11b、12b間の間隔をDとすると、
f = Va/(2D) …(1)
を略満たす周波数の信号電圧が印加された場合のみ、SH波の定在波が共振器15内に形成されることになる。
【0031】
この場合、例えば第1櫛型電極11に入力された電圧は、この定在波に一度変換された後、圧電基板10の圧電効果によって再び電圧に変換されて第2櫛型電極12から出力される。この入力電圧、定在波、出力電圧への一連の変換は、入力電圧の周波数が(1)式を満たす場合に最も効率よく行われるので、この場合に第1、第2櫛型電極11、12間のインピーダンスZsが最小となる。
【0032】
その結果、図23のように、この弾性表面波装置と並列に負荷素子RLを接続すると、入力電圧vの周波数が(1)式を満たして上記インピーダンスZsが最小となったときに負荷素子RLでの消費電力が最小となって、入力電圧の周波数によって負荷素子RLでの消費電力を変えることができる。例えば、Vaが4000m/secの圧電基板10を使用する場合、周波数が800MHzである信号に対してインピーダンスZsを最小とするには、第1、第2電極指11b、12bの間隔Dを2.5μmとればよい。
【0033】
ところで、図4に示すように、第1バスバー11aには凸パターン11cが形成されており、その凸パターン11cによって、SH波の進行方向Aに沿った周期構造が第1バスバー11aに形成される。第1電極指11bはこの凸パターン11cを延長した構造となっており、凸パターンの11cの周期、即ち隣り合う凸パターン11c同士の間隔は、隣合う電極指11b、12bの間隔Dに等しい。
【0034】
そして、これと同様の周期構造が、凸パターン12cによって第2バスバー12aにも形成される。
【0035】
なお、図4のI−I線、II−II線に沿う断面図は、図5のようになる。
【0036】
上記のような周期構造が各バスバー11a、12aに設けられると、各バスバー11a、12a下において音響インピーダンスが周期的に変化してSH波に周期的境界条件が課せられるので、各バスバー11a、12a下においてSH波が互いに干渉し合って定在波が形成され、SH波がバスバー11a、12aを伝って共振器15の外にSH波が漏れ出し難くなる。
【0037】
その結果、共振器15内の定在波のエネルギにロスが発生し難くなり、入力電圧値と略同じレベルの出力電圧値を得ることが可能となるので、携帯電話等の電子機器で使用される信号の品質を向上させることができるようになる。
【0038】
しかも、本実施形態では、バスバー11a、12aの上に凸パターン11c、12cを設けることにより、バスバー11a、12aの厚さ方向の構造を周期的に変化させているので、厚さ方向に一様なバスバーに平面的な小電極指を形成する特許文献1と比較して、明確な周期的境界条件をSH波に与えることができ、定在波を共振器15内に確実に閉じ込めることが可能となる。
【0039】
次に、本実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について説明する。
【0040】
図5〜図9は、本実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について説明するための断面図であって、図4のI−I線とII−II線に沿う断面を併記してある。
【0041】
最初に、図6に示すように、LiTaOやLiNbO等の圧電基板10の全面に第1金属膜16としてアルミニウム膜をスパッタ法や真空蒸着法により厚さ0.5μmに形成する。なお、アルミニウム膜に代えて、金膜を第1金属膜16として形成してもよいが、金はアルミニウムと比重が異なるので、上記したアルミニウム膜の厚さと異なるように金膜の厚さを設定するのが好ましい。
【0042】
続いて、図7に示すように、フォトリソグラフィ法により第1金属膜16をパターニングし、パターニングにより残った第1金属膜16を第3、第4電極指13b、14b、及び第1、第2バスバー11a、12aとする。なお、断面には現れていないが、ショート電極13a、14aも第3、第4電極指13b、14bと同時に形成される。
【0043】
次に、図8に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
【0044】
まず、全面にフォトレジストを塗布し、それを露光、現像してレジストパターン17とする。そのレジストパターン17は、第1、第2電極指11b、12b形状の第1窓17aを有すると共に、凸パターン11c、12c形状の第2窓17bを第1、第2バスバー11a、12a上に有する。次いで、スパッタ法や真空蒸着法によりアルミニウム膜を厚さ0.2μm程度に全面に形成し、それを第2金属膜18とする。なお、第2金属膜18としては、アルミニウム膜に代えて金膜を形成してもよいが、金はアルミニウムと比重が異なるので、上記したアルミニウム膜の厚さと異なるように金膜の厚さを設定するのが好ましい。
【0045】
その後に、図9に示すように、レジストパターン17を除去することによりレジストパターン17上の第2金属膜18をリフトオフし、それにより残った第2金属膜18を第1電極指11b、第2金属指12b、及び凸パターン11c、12cとする。
【0046】
以上により、本実施形態に係る弾性表面波装置が完成する。
【0047】
(第2実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態に係る弾性表面波装置について説明する。
【0048】
本実施形態に係る弾性表面波装置は、平面的には第1実施形態と同様なので、その平面図は第1実施形態の図4で代用することにし、その断面図のみを図10に示す。図10は、図4のI−I線、及びII−II線に沿う断面図である。
【0049】
本実施形態が第1実施形態と異なる点は、第1実施形態では第1バスバー11aと同じ材料で凸パターン11cを構成したのに対し、本実施形態では、それらを異種の材料で構成した点である。具体的には、第1バスバー11aをアルミニウムで構成し、凸パターン11cを金で構成する。これと同様に、アルミニウムよりなる第2バスバー12a上の凸パターン12cも金で構成する。
【0050】
なお、この弾性表面波装置は、最終的には封止樹脂によって保護される構造となるが、その樹脂による封止が完全でない場合や、第1、第2櫛型電極11、12を水で洗浄する場合等を考慮して、凸パターン11cは腐食し難い材料で構成するのが好ましい。そのような材料としては、金の他に、チタン、鉄、及び銅等がある。
【0051】
このように、第1バスバー11aとは別の材料で凸パターン11cを構成すると、第1バスバー11a上においてパターンが周期的に変化するだけでなく、比重や導電性も周期的に変化するようになる。そのため、第1バスバー11aにおいて、SH波の境界条件の周期性が第1実施形態よりもより一層明確に現れるので、第1バスバー11a下において定在波が立ち易くなる。これにより、共振器15の外へのSH波の漏れをより一層低減でき、共振15内のSH波のエネルギロスが更に抑えられる。
【0052】
(第3実施形態)
次に、本発明の第3の実施の形態に係る弾性表面波装置ついて説明する。
【0053】
図11は、本実施形態に係る弾性表面波装置の平面図であり、図12は、図11のI−I線に沿う断面図とII−II線に沿う断面図である。
【0054】
本実施形態は、図11に示すように、第2実施形態の第1バスバー11a上に第1平坦化膜20としてアルミニウム膜を形成し、凸パターン11cの間をこの平坦化膜20で埋め込む。同様に、第2バスバー12aについても、その上に第2平坦化膜21を形成し、それにより凸パターン12cの間を埋め込む。
【0055】
このようにすると、図12のII−II線断面図に示すように、共にアルミニウムよりなる第1バスバー11aと第1平坦化膜20との間に、アルミニウムとは異種の材料の金からなる凸パターン11cが埋め込まれた構造が得られる。
【0056】
第1平坦化膜20の上面は略平坦なので、表面パターンの周期性に起因する周期構造は第1バスバー11aに形成されないが、アルミニウム内において異種の材料が周期的に繰り返す構造が第1バスバー11aに形成されるので、比重や導電性が変化する周期構造が第1バスバー11aに形成される。
【0057】
その結果、第1実施形態と同様に、第1バスバー11aにおいてSH波に周期的境界条件が課せられるので、第1バスバー11a下にSH波の定在波を形成することができ、SH波が共振器15から漏れるのを防ぐことができる。
【0058】
次に、本実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について説明する。
【0059】
図13〜図15は、本実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について説明するための断面図であって、図11のI−I線断面図とII−II線断面図とを併記してある。
【0060】
最初に、第1実施形態の製造方法に従って図9の構造を得るのであるが、その前の図8の工程において金膜を第2金属膜18として形成することにより、第1、第2電極指11b、12b、凸パターン12c、11cを金で構成し、それらをアルミニウムからなる第1、第2バスバー11a、12aとは異種の材料で構成するようにする。
【0061】
次に、図13に示すように、フォトレジストを全面に形成した後それを露光、現像することにより、第1、第2バスバー11a、12aの上にバスバー形状の窓22aを有するレジストパターン22を形成する。
【0062】
続いて、図14に示すように、レジストパターン22の上面上に第3金属膜23としてアルミニウム膜をスパッタ法や真空蒸着法により形成し、その第3金属膜23によって窓22a内を完全に埋め込む。
【0063】
次いで、金属膜23の表面をCMP法(化学機械研磨法)により研磨することにより、レジストパターン22の上面上に形成された余分な第3金属膜23を除去して、図15に示すように、窓22a内に残った第3金属膜23を第1平坦化膜20とする。なお、この平坦化膜20の厚さは、凸パターン11c上で約0.3μmとなる。
【0064】
その後に、レジストパターン22を除去することで、本実施形態に係る弾性表面波装置が完成する。
【0065】
(第4実施形態)
次に、本発明の第4の実施の形態に係る弾性表面波装置について説明する。
【0066】
図16は、本実施形態に係る弾性表面波装置の平面図である。図16において、第1〜第3実施形態で既に説明した部材にはこれらの実施形態と同様の符号を付し、以下ではその説明を省略する。
【0067】
図16に示すように、本実施形態では、凸パターン11cと第1電極指11bとを、間隔Dの1/2だけ弾性表面波の進行方向Aに互いにずらす。同様に、凸パターン12cも、第2電極指12bから間隔Dの1/2だけ弾性表面波の進行方向Aにずらす。これ以外の構成は第1実施形態と同様である。
【0068】
このようにすると、圧電基板10表面に生成されるSH波は、図17の断面のような定在波を形成する。図17は、図16のI−I線に沿う定在波の断面と、II−II線に沿う定在波の断面とを模式的に表した図である。
【0069】
図17に示すように、凸パターン11cの周期と、第1、第2バスバー11a、12aの間隔とは共にDであるから、I−I線断面及びII−II線断面のいずれにおいても定在波の波長λは2Dとなる。
【0070】
ところが、凸パターン11cが第1電極指11bからD/2だけ弾性表面波の進行方向Aにシフトされたので、I−I線断面とII−II線断面のそれぞれの定在波もそれぞれD/2だけ互いにずれ、一方の定在波で腹が形成される断面位置には他方の定在波の節が形成される。
【0071】
これら二つの定在波は、それぞれの腹同士(又は節同士)が同じ断面位置にある場合にエネルギの交換を互いに行い易くなり、本実施形態のように節と腹とが同じ断面位置にある場合にエネルギの交換をし難くなる。そのため、I−I線断面の定在波、即ち共振器15内の定在波がII−II線断面の定在波、即ち第1バスバー11a下の定在波と結合し難くなるので、上述の各実施形態と比較して共振器15内の定在波を共振器15内に閉じ込めやすくなり、弾性表面波のエネルギロスをより一層低減することが可能となる。
【0072】
なお、このような周期構造のシフトは、第1実施形態だけでなく、第2、第3実施形態に対しても適用し得る。
【0073】
(第5実施形態)
図18は、本実施形態に係る弾性表面波装置の平面図である。図18において、第1〜第4実施形態で既に説明した部材にはこれらの実施形態と同様の符号を付し、以下ではその説明を省略する。
【0074】
第1実施形態で説明したように、第1、第2電極指11b、12b下には、信号電圧の周波数fが(1)式、すなわちf = Va/(2D)を満たす場合に定在波が形成される。
【0075】
(1)式において、VaはSH波の速さであるが、その値はSH波が満たすべき境界条件によって異なった値となる。今の場合、ベタ状の金属パターンが存在しない第1、第2電極指11b、12b下の速さVa(1)は、ベタ状の金属パターンである第1、第2バスバー11a、12a下における速さVa(2)よりも速くなる。このように二つの部分で弾性表面波の速さが異なると、或る周波数fの信号電圧によって第1、第2電極指11b、12b下に定在波が形成されても、第1、第2バスバー11a、12a下ではその周波数fが(1)式を満足せず定在波が形成されない。
【0076】
しかしながら、これでは第1、第2電極指11b、12b下に形成された定在波が第1、第2バスバー11a、12a下を通って共振器15の外にとめどなく漏れ出し、共振器15のエネルギロスが大きくなる恐れがある。
【0077】
そこで、本実施形態では、図18に示すように、凸パターン11cの周期D2と、第1、第2電極指11b、12bの間隔D1とを互いに異なる値にすることで、第1、第2電極指11b、12b下においても、第1バスバー11a下においても(1)式を満足させ、二つの部分に定在波が形成されるようにする。
【0078】
より具体的には、上記二つの部分での周波数fが等しいことから、(1)式より、Va(1)/(2D1) = Va(2)/(2D2)となり、これよりD2 = (Va(2)/Va(1))D1を得るが、Va(2)<Va(1)であったから、D2<D1となる。D1、D2をこのように設計することにより、上記二つの部分に共に定在波を形成することができ、共振器15内の定在波が外部に漏れるのが極力防がれて、共振器15内のエネルギロスを最小限に留めることが可能となる。
【0079】
(第6実施形態)
次に、本発明の第6の実施の形態に係る弾性表面波装置について説明する。
【0080】
図19は、本実施形態に係る弾性表面波装置の平面図であり、図20は、図19のI−I線断面図とII−II線断面図である。
【0081】
本願発明者の観測によると、SH波は、第1、第2バスバー11a、12a下を伝って漏れるだけでなく、各共振器13、14のショート電極13a、14a下を伝っても外部に漏れることが明らかとなった。
【0082】
そこで、本実施形態では、このショート電極下の漏れ成分を低減するために、図19に示すように各反射器13、14のショート電極13a、13bにもそれぞれ凸パターン13c、14cを形成して各ショート電極13a、14aに周期構造を形成する。
【0083】
このようにすると、各ショート電極13a、14aにおいてSH波に周期的境界条件が課せられるので、これらの部分においてSH波の定在波が生成され、SH波が外部に漏れ出すのを防止でき、共振器15内のエネルギロスを低減することができる。
【0084】
この弾性表面波装置の断面図は図20のようになるが、この断面構造を得るには第1実施形態に倣って次のようにする。
【0085】
まず、第1実施形態に従って図6の第1金属膜16を形成した後、それをフォトリソグラフィ法によりパターニングすることにより、図21に示すような第1、第2ショート電極13a、14a、及び第1、第2バスバー11a、12aを圧電基板10上に形成する。
【0086】
次に、図22に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
【0087】
最初に、全面にフォトレジストを塗布し、それを露光、現像してレジストパターン24を形成する。そのレジストパターン24において、I−I線に沿う部分には、第1〜第4電極指11b〜14b形状の第1窓24aが形成される。また、II−II線に沿う部分のレジストパターン24には、
凸パターン13c形状の第2窓24bと、凸パターン14c形状の第3窓24cと、凸パターン11c形状の第4窓24dとが形成される。
【0088】
続いて、レジストパターン24の上面上と第1〜第4窓24a〜24d内に第4金属膜25としてアルミニウム膜を形成し、第1〜第4窓24a〜24d内を完全に埋め込む。
【0089】
その後に、フォトレジスト24を除去することによりフォトレジスト24上の第4金属膜25をリフトオフし、第4金属膜25を第1〜第4窓24a〜24d内にのみ残す。残された第4金属膜25は、図20に示した第1〜第4電極指11b〜14b、及び凸パターン11c〜14cとして使用され、それにより本実施形態に係る弾性表面波装置が完成する。
以下に、本発明の特徴を付記する。
【0090】
(付記1) 圧電基板と、
前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第1電極指が第1バスバーから延びる第1櫛型電極と、
前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第2電極指が第2バスバーから前記第1電極指の間に延びる第2櫛型電極と、
を有し、
前記第1電極指と前記第2電極指とで生成される前記圧電基板の弾性表面波の進行方向への周期構造を前記第1バスバーに形成したことを特徴とする弾性表面波装置。
【0091】
(付記2) 前記周期構造は、周期的に繰り返す凸パターンを前記第1バスバーの上面上に形成してなることを特徴とする付記1に記載の弾性表面波装置。
【0092】
(付記3) 前記凸パターンの材料は、前記第1バスバーの材料と異なることを特徴とする付記2に記載の弾性表面波装置。
【0093】
(付記4) 前記凸パターンの材料は、金、チタン、鉄、及び銅のいずれかであり、前記第1バスバーの材料はアルミニウムであることを特徴とする付記3に記載の弾性表面波装置。
【0094】
(付記5) 前記凸パターンの間を埋め込む平坦化膜が該凸パターン上と前記第1バスバー上とに形成されたことを特徴とする付記3又は付記4に記載の弾性表面波装置。
【0095】
(付記6) 前記平坦化膜はアルミニウム膜であることを特徴とする付記5に記載の弾性表面波装置。
【0096】
(付記7) 隣り合う前記凸パターンの間隔は、隣り合う前記第1電極指と第2電極指との間隔に等しく、
前記凸パターンと前記第1電極指とは、前記弾性表面波の進行方向に前記間隔の1/2だけ互いにずれたことを特徴とする付記2乃至付記6のいずれかに記載の弾性表面波装置。
【0097】
(付記8) 前記第1バスバーの前記周期構造の周期は、前記第1電極指と前記第2電極指との間隔と異なることを特徴とする付記1乃至付記6のいずれかに記載の弾性表面波装置。
【0098】
(付記9) 前記第1バスバーの前記周期構造の前記周期は、前記第1電極指と前記第2電極指との前記間隔よりも小さいことを特徴とする付記8に記載の弾性表面波装置。
【0099】
(付記10) 前記第1バスバー下での前記弾性表面波の速さをVa(2)、前記第1電極指及び前記第2電極指下での前記弾性表面波の速さをVa(1)、前記第1電極指と前記第2電極指との間隔をD1とするとき、前記第1バスバーの前記周期構造の周期D2は(Va(2)/Va(1))D1に等しいことを特徴とする付記9に記載の弾性表面波装置。
【0100】
(付記11) 前記周期構造を前記第2バスバーにも形成したことを特徴とする付記1乃至付記12のいずれかに記載の弾性表面波装置。
【0101】
(付記12) 前記弾性表面波の伝搬方向は、前記第1電極指及び前記第2電極指の反復方向であることを特徴とする付記1乃至付記11のいずれかに記載の弾性表面波装置。
【0102】
(付記13) 圧電基板と、
前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第1電極指が第1バスバーから延びる第1櫛型電極と、
前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第2電極指が第2バスバーから前記第1電極指の間に延びる第2櫛型電極と、
前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第3電極指が短絡電極から延び、前記第1櫛型電極及び前記第2櫛型電極により生成された弾性表面波を反射する反射器と、
を有し、
前記短絡電極に、前記弾性表面波の伝搬方向への周期構造を形成したことを特徴とする弾性表面波装置。
【0103】
(付記14) 前記周期構造は、周期的に繰り返す凸パターンを前記短絡電極の上面上に形成してなることを特徴とする付記13に記載の弾性表面波装置。
【0104】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、第1バスバーに周期構造を与えることにより第1バスバー下に弾性表面波の定在波を立たせるので、共振器内の弾性表面波が第1バスバーを伝って外に漏れるのを防ぐことができ、共振器内のエネルギロスを最小限にすることができる。
【0105】
また、第1バスバーとは異なる材料の凸パターンを第1バスバー上に形成することで、第1バスバー下に定在波をより一層立たせやすくすることができ、共振器のエネルギロスを更に低減し易くなる。
【0106】
更に、隣り合う凸パターンの間隔を、隣り合う第1電極指と第2電極指との間隔に等しくし、更に、凸パターンと第1電極指とを、弾性表面波の進行方向に上記間隔の1/2だけ互いにずらすので、第1バスバー下と共振器内のそれぞれの定在波が結合し難くなり、定在波の漏れが一層抑制される。
【0107】
そして、第1バスバーの周期構造の周期を、第1電極指と前記第2電極指との間隔と異ならせるので、第1バスバー下と共振器下とにおける弾性表面波の速さの違いによって第1バスバー下に定在波が立ち難くなるのを防ぐことができる。
【0108】
しかも、反射器の短絡電極にも上記のような周期構造を設けるので、弾性表面波が短絡電極を伝って共振基外に漏れてしまうのを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、従来例に係るSAWフィルタの平面図である。
【図2】図2は、従来例に係るSAWフィルタの透過曲線である。
【図3】図3は、従来例に係るSAWフィルタに見られる弾性表面波の漏れを示す平面図である。
【図4】図4は、本発明の第1実施形態に係る弾性表面波装置の平面図である。
【図5】図5は、本発明の第1実施形態に係る弾性表面波装置の断面図である。
【図6】図6は、本発明の第1実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について示す断面図(その1)である。
【図7】図7は、本発明の第1実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について示す断面図(その2)である。
【図8】図8は、本発明の第1実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について示す断面図(その3)である。
【図9】図9は、本発明の第1実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について示す断面図(その4)である。
【図10】図10は、本発明の第2実施形態に係る弾性表面波装置の断面図である。
【図11】図11は、本発明の第3実施形態に係る弾性表面波装置の平面図である。
【図12】図12は、本発明の第3実施形態に係る弾性表面波装置の断面図である。
【図13】図13は、本発明の第3実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について示す断面図(その1)である。
【図14】図14は、本発明の第3実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について示す断面図(その2)である。
【図15】図15は、本発明の第3実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について示す断面図(その3)である。
【図16】図16は、本発明の第4実施形態に係る弾性表面波装置の平面図である。
【図17】図17は、本発明の第4実施形態に係る弾性表面波装置で生成される弾性表面波の断面図である。
【図18】図18は、本発明の第5実施形態に係る弾性表面波装置の平面図である。
【図19】図19は、本発明の第6実施形態に係る弾性表面波装置の平面図である。
【図20】図20は、本発明の第6実施形態に係る弾性表面波装置の断面図である。
【図21】図21は、本発明の第6実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について示す断面図(その1)である。
【図22】図22は、本発明の第6実施形態に係る弾性表面波装置の製造方法について示す断面図(その2)である。
【図23】図23は、本発明の各実施形態に係る弾性表面波装置を用いた回路構成の一例を示す図である。
【符号の説明】
1、10…圧電基板、2…櫛型電極、2a…バスバー、2b、3a…電極指、3…反射器、4、15…共振器、11…第1櫛型電極、11a…第1バスバー、11b…第1電極指、11c…凸パターン、12…第2電極指、12a…第2バスバー、12b…第2電極指、12c…凸パターン、13…第1反射器、13a…第1ショート電極、13b…第3電極指、14…第2反射器、14a…第2ショート電極、14b…第4電極指、16…第1金属膜、17…レジストパターン、17a…第1窓、17b…第2電極指、20…第1平坦化膜、21…第2平坦化膜、22…レジストパターン、22a…窓、23…第3金属膜、24…レジストパターン、24a…第1窓、24b…第2窓、24c…第3窓、24d…第4窓。

Claims (5)

  1. 圧電基板と、
    前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第1電極指が第1バスバーから延びる第1櫛型電極と、
    前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第2電極指が第2バスバーから前記第1電極指の間に延びる第2櫛型電極と、
    を有し、
    前記第1電極指と前記第2電極指とで生成される前記圧電基板の弾性表面波の進行方向への周期構造を前記第1バスバーに形成したことを特徴とする弾性表面波装置。
  2. 前記周期構造は、周期的に繰り返す凸パターンを前記第1バスバーの上面上に形成してなることを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波装置。
  3. 前記凸パターンの材料は、前記第1バスバーの材料と異なることを特徴とする請求項2に記載の弾性表面波装置。
  4. 前記凸パターンの間を埋め込む平坦化膜が該凸パターン上と前記第1バスバー上とに形成されたことを特徴とする請求項3に記載の弾性表面波装置。
  5. 圧電基板と、
    前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第1電極指が第1バスバーから延びる第1櫛型電極と、
    前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第2電極指が第2バスバーから前記第1電極指の間に延びる第2櫛型電極と、
    前記圧電基板上に形成され、櫛歯状の複数の第3電極指が短絡電極から延び、前記第1櫛型電極及び前記第2櫛型電極により生成された弾性表面波を反射する反射器と、
    を有し、
    前記短絡電極に、前記弾性表面波の伝搬方向への周期構造を形成したことを特徴とする弾性表面波装置。
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