JP2004246243A - プリント配線板の露光用固定具 - Google Patents

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Takayoshi Kumagai
熊谷孝善
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

【課題】本発明により、ギャップ露光におけるフォトツーリングを、汎用に使用される安価なフィルムタイプのフォトマスクを面精度良く固定する事により、これらの使用を可能にしたものである。
【解決手段】ギャップ露光におけるフォトツーリングの固定について真空吸着に伴う脱気用穴2、吸着用溝3、吸着用穴4を施したマスク固定治具1に、貫通した穴7及び溝8を施したフォトツーリングに使用されるガラス6を支持体とし、これらを介してフィルムタイプのフォトマスク9を固定する事を特徴とするプリント配線板の露光用固定具であり、好ましくはガラスの所定の位置に貫通した穴及び溝加工を施し、これらを介してフィルムタイプのフォトマスクを真空吸着する構造を有することを特徴とするプリント配線板の露光用固定具。
【選択図】 図2

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリント配線板の導体パターン作成におけるギャップ露光方式に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
ギャップ露光において、フォトツーリングと基板との隙間(ギャップ)が重要であり導体パターン形成性及び品質に寄与し、これらを満足するためにギャップ露光に使用されるフォトツーリングはガラスが主体である。ガラスタイプのフォトマスクは汎用に使用されるフィルムタイプのフォトマスクと比較して高価且つ製作に時間を要する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はギャップ露光におけるフォトツーリングの使用範囲を拡大するために、汎用に使用される安価なフィルムタイプのフォトマスクを面精度良く固定する事により、これらの使用を可能にすることを目的とするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明はギャップ露光に要求されるフォトツーリングと基板との隙間(ギャップ)を、従来のフィルムタイプのフォトマスクの様な柔らかい材質のものについて、面精度良く固定する事が困難であるという問題点を、フォトツーリングに使用されるガラスを加工し、これらを介して真空吸着することにより前途の課題を解決するものである。
【0005】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の詳細について説明する。予め、所定の位置に貫通した穴加工等を施したフォトツーリングに使用されるガラス6を、露光機専用のマスク固定治具に取り付ける。
【0006】
前記のフォトツーリングに使用されるガラス6の上に四隅を合わせてフィルムタイプのフォトマスク9を取り付けて真空吸着を実施する。
【0007】
更にローラー等により余分な空気を脱気して真空吸着の程度を−0.9kPaまで真空吸着する。
【0008】
【実施例】
〈実施例1〉は本発明において、フォトツーリングに使用されるガラスの所定の位置に貫通した穴7のみ加工を施したものでフィルムタイプのフォトマスクを固定した。
〈実施例2〉は本発明において、フォトツーリングに使用されるガラスの所定の位置に貫通した穴7及び、これらを繋ぐように深さ0.5mmの溝加工8を施したものでフィルムタイプのフォトマスクを固定した。
〈比較例1〉は従来法において、ガラスタイプのフォトマスクを専用治具に固定した。
【0009】
結果は表1に示すように面精度良く且つ吸着レベルも従来レベルである。
【0010】
【表1】
Figure 2004246243
【0011】
【発明の効果】
本発明方法のように、ギャップ露光におけるフォトツーリングの固定方法としてフォトツーリングに使用されるガラスを支持体とし更にこれらの所定の位置に貫通した穴及び、前途に示す穴を繋ぐように深さ0.3〜0.5mmの溝加工を施したものを介することでフィルムタイプのフォトマスクも使用可能となりフォトツーリングの低コスト化が図れた。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来方式におけるガラスタイプのフォトマスクの固定状態断面模式図。
【図2】本発明方式におけるフィルムタイプのフォトマスクについて、貫通した穴及び溝を施したフォトツーリングに使用されるガラスを介した際の固定状態断面模式図。
【図3】本発明の工程における貫通した穴及び溝を施したフォトツーリングに使用されるガラスの平面模式図
【符号の説明】
1 マスク固定治具
2 脱気用穴
3 吸着用溝
4 吸着用穴
5 ガラスタイプのフォトマスク
6 フォトツーリングに使用されるガラス
7 貫通した穴
8 溝
9 フィルムタイプのフォトマスク

Claims (4)

  1. 導電はくの表面に予めフォトレジストをコートし任意の導体パターン形状をギャップ方式において露光する際に使用するフォトマスクの固定具であって、吸着を目的とした貫通した穴を施したフォトツーリングで使用されるガラスを支持体としフィルムタイプのフォトマスクを吸着固定する構造を有することを特徴としたプリント配線板の露光用固定具。
  2. フォトツーリングで使用されるガラスの所定の位置に貫通した穴及び溝加工を施し、これらを介してフィルムタイプのフォトマスクを真空吸着する構造を有することを特徴とする特許請求項1項記載のプリント配線板の露光用固定具。
  3. フォトツーリングで使用されるガラスの所定の位置に施す吸着用穴の構造として、幅1.5〜2.5mm、深さ0.3〜0.5mmの溝をガラス周辺部に環状に配置し、直径φ1.5〜2.5mm、ピッチ15〜50mmの貫通した穴を前途の溝中央に配置する構造を有する事を特徴とする特許請求項1または2項記載のプリント配線板の露光用固定具。
  4. 請求項1〜3の固定具にフィルムタイプのフォトマスクを使用して、ギャップ露光をすることを特徴とするプリント配線板の露光方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105334706A (zh) * 2015-11-19 2016-02-17 黄石沪士电子有限公司 一种基于样板治具薄膜对曝光治具薄膜的检测方法
CN113473709A (zh) * 2020-03-31 2021-10-01 竞华电子(深圳)有限公司 印制电路板加工方法及印制电路板

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