JP2004234003A - バイナリ光学表示素子のためのマルチビット記憶素子 - Google Patents

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Abstract

【課題】 DMDを採用するプロジェクタで、短い区間で、各DMDをリフレッシュし続けることなく高階調を実現すること。
【解決手段】 本発明の1つの実施形態の光学表示素子は、バイナリ光学表示素子によって表示される複数ビットの色強度値を表示期間中記憶するための、バイナリ光学表示素子およびマルチビット記憶素子を備える。各ビットは、マルチビット記憶素子からバイナリ光学表示素子に、表示期間中1回または複数回ロードされ、色強度値を得る。
【選択図】図4

Description

プロジェクタは、一般に、光源、光学系、電子回路部、およびディスプレイを統合した、コンピュータまたはビデオデバイスからの画像を前面投影または後面投影するためのデバイスである。
通常のプロジェクタは、光を空間的に変調するための空間光変調器(SLM)を備えているので、画像は、スクリーンに投影されて見ることができる。光はSLMに送られ、SLMは所望の画素がスクリーンに投影されるように光を処理する。SLMは、実際に反射性であってよい。
光はSLMから反射され、SLMは、スクリーンに投影される画像に従って光を変化させる。このタイプのSLMの最も代表的な例としては、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)が挙げられ、これは、一種のマイクロ電気機械(MEM)デバイスである。DMDを用いるプロジェクタは、明るい画像を投影する。なぜなら、光が反射性のSLMを通過する必要がないからである。
一般に、プロジェクタは、リフレッシュレートに基づいてまたは1/リフレッシュレートの表示期間毎に、新しいデータで画素をリフレッシュする。一方DMDはバイナリ光学表示素子であり、つまり光を反射するかまたは光を反射しないかのいずれかである。従ってDMDは、1ビットよりも大きな色の深みを有する画素を受け入れない。色の深みが1ビットより大きい強度値を有する画素をDMDが投影するために、表示期間は通常、多数の区間に分割される。ここで各区間は、通常、表示期間/(2色深度を表すビット数−1)以下である。各区間では、DMDには、画素の強度値のビットのうちの1つがロードされるので、DMDは、このビットに従って、光を反射したり、反射させなかったりする。各ビットは、画素の強度値の他のビットに対する重要度に基づいて、複数回DMDにロードされる。
従って、プロジェクタは通常、全表示期間のDMDの全区間のそれぞれをリフレッシュする。これらの区間のそれぞれは通常、1/[リフレッシュレート×(2色深度を表すビット数−1)]よりも大きくならないように指定される。8ビットの色の深みおよび60ヘルツ(Hz)のリフレッシュレートを有するプロジェクタにとって、このことは、プロジェクタが、約65マイクロ秒(μs)より短い区間で、各DMDをリフレッシュすることを意味する。しかし、このようにプロジェクタ内のDMDをすべて制御することは困難であり得る。解像度が大きく、リフレッシュレートが高いプロジェクタでは特に困難である。
本発明の1つの実施形態の光学表示素子は、バイナリ光学表示素子によって表示される複数ビットの色強度値を表示期間中記憶するための、バイナリ光学表示素子およびマルチビット記憶素子を備える。各ビットは、マルチビット記憶素子からバイナリ光学表示素子に、表示期間中1回または複数回ロードされ、色強度値を得る。
本明細書で参照する図面は、明細書の一部を構成する。図面に示される特徴は、特に記載がなく、また、矛盾するような暗示がない限り、本発明のほんのいくつかの実施形態を例示しており、本発明のすべての実施形態を例示するものではない。
本発明の例示的な実施形態の以下の詳細な説明において、その一部を構成する添付の図面を参照し、本発明が実施され得る特定の例示的な実施形態を例示によって示す。これらの実施形態は、当業者が本発明を実施することができるように十分に詳細に記載されている。他の実施形態を用いてもよく、論理的、機械的およびその他の変更は、本発明の趣旨または範囲から逸脱せずになされ得る。従って、以下の詳細な説明は、限定を意味するものではなく、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲によってのみ限定される。
[概略]
図1Aおよび図1Bは、異なるアプローチ100および150を示す。これらのアプローチはそれぞれ、画素の色強度値のビットを表示期間102の間バイナリ光学表示素子にロードすることにより、画素を表示するためのものであり、本発明の実施形態にしたがっている。表示期間102は、好ましくは1/リフレッシュレートとして定義される。ここでリフレッシュレートは、バイナリ光学表示素子を含む投影システムがバイナリ光学表示素子をリフレッシュするリフレッシュレートである。表示期間102は、さらに多数の区間に分割される。ここで各区間は、好ましくは、表示期間/(2色深度を表すビット数−1)以下である。色深度を表すビット数は、画素が有し得る異なる階調の数を特定し、その色強度値は、ゼロから2色深度を表すビット数−1の範囲であることができる。
光学表示素子はバイナリであるので、任意の時点に1ビットを光学表示素子にロードすることができる。従って、階調を有する画素の描写を行う場合、画素の色強度値の各ビットは、画素の色強度値の他のビットに対するそのビットの重要度に基づいて、1回または複数回バイナリ光学表示素子にロードされる。画素の色強度値のビットが特定され、最上位ビットから最下位へとi=n−1,i=n−2,i=n−3,...,i=0として順序付けられる1つの実施形態では、各ビットは、表示期間102中、バイナリ光学表示素子に2回ロードされる。特に、1つの実施形態では、各ビットは、表示期間102の2区間において、バイナリ光学表示素子にロードされる。
バイナリ光学表示素子を用いて階調を得るためのこのようなアプローチを、バイナリ重み付けパルス幅変調と呼ぶ。図1Aは、ビット0から7を有する例としての8ビット画素についての、このような変調の標準的なバイナリ重み付けビット表示分配アプローチ100を具体的に示している。アプローチ100は、ビット0から7がバイナリ光学表示素子にロードされる順序を示している。ロードは、表示期間102中に、重み付けられて行われる。すなわち、表示期間102中において、与えられるビットに対するラインが長くなるほど、ビットはより多くの回数、バイナリ光学表示素子にロードされる。表示期間102中、ビット0から7は、バイナリ光学表示素子にそれぞれ、2、2、2、2、2、2、2、および2回ロードされる。
具体的には図1Aにおいて、表示期間102により、255の区間をそれぞれ、16の連続したこのような区間を含む15のサブ期間と、15の連続したこのような区間を含む1つのサブ期間とに分割することができる。15の連続した区間を有するサブ期間であるサブ期間104では、ビット0は、合計1回、1番目の区間にロードされ、ビット1は、合計2回、2番目および3番目の区間にロードされ、ビット2は、合計4回、4番目から7番目の区間にロードされ、ビット3は、合計8回、8番目から15番目の区間にロードされる。サブ期間106では、ビット4は、16の連続した区間にロードされる。2つのサブ期間108では、ビット5は、32の連続した区間にロードされるのに対して、4つのサブ期間110では、ビット6は、64の連続した区間にロードされる。最後に、8番目のサブ期間112では、ビット7は、128の連続した区間にロードされる。
比較として、図1Bは、例えば、同様にビット0から7を有する8ビット画素についての、バイナリ重み付けパルス幅変調のビット分割バイナリ重み付けビット表示分配アプローチ150を具体的に示している。表示期間102に255区間ある場合、さらに上位のビット4から7のそれぞれは、16の連続した区間をそれぞれ含む様々なサブ期間において、図1Bに示される順序で、バイナリ光学表示素子にロードされる。ビット4は、このような1つのサブ期間152Eにロードされ、ビット5は、2つの連続していないこのようなサブ期間152Aおよび152Lにロードされ、ビット6は、4つの連続していないこのようなサブ期間152C、152G、152J、および152Nにロードされ、ビット7は、8つの連続していないこのようなサブ期間152B、152D、152F、152H、152I、152K、152M,および152Oにロードされる。下位のビット0から3のそれぞれは、15の連続した区間のサブ期間154においてバイナリ光学表示素子にロードされ、その際、ビット0は1回ロードされ、ビット1は2回ロードされ、ビット2は4回ロードされ、ビット3は8回ロードされる。
図1Bのアプローチ150は、バイナリ重み付けパルス幅変調についてのビット分割アプローチである。なぜなら、画素の色強度値のビットのそれぞれは必ずしも、連続した区間で、表示期間102内にビットがバイナリ光学表示デバイスにロードされる区間の総数について、ロードされるわけではないからである。このように、図1Bのアプローチ150は、図1Aのアプローチ100とは異なる。図1Aのアプローチでは対照的に、連続した区間で、表示期間102内に各ビットがバイナリ光学表示デバイスにロードされる区間の総数についてロードされるからである。ビット分割アプローチ150は、連続した表示期間にわたって異なる画素間で切り替えられるときに、バイナリ光学表示デバイスによって表示される可視アーチファクトを、低減するために用いられ得る。
8ビットの色の深みについて記載したが、バイナリ光学表示素子を用いる投影システムは、各表示期間の255区間のそれぞれに対して、ビットを各バイナリ光学表示素子にロードしなければならない。60ヘルツのリフレッシュレートを得るということは、1×10/(60×255)≒65μs毎に、投影システムがビットを各バイナリ光学表示素子にロードすることを意味する。85ヘルツのリフレッシュレートを得るために、投影システムは、1×10/(85×255)≒46μs毎に、ビットを各バイナリ光学表示素子にロードする。このことは負担になり得る。SVGA(800×600)、XGA(1024×768)、および480,000から750,000以上の画素を有するより高い解像度に対して、ならびに、各画素が1つより多くの対応するバイナリ光学表示素子を有する場合に、特に負担である。
[マルチビット記憶素子を有する光学表示素子]
図2は、本発明の実施形態による光学表示素子200を示す。光学表示素子200では、投影システムは、すべての表示期間の区間毎に、ビットをバイナリ光学表示素子202にロードする必要がない。光学表示素子200は、バイナリ光学表示素子202およびマルチビット記憶素子204を有する。光学表示素子200は、集積回路(IC)であってもよいし、または他のタイプの電子および/または電気機械デバイスであってもよい。
バイナリ光学表示素子202は、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)、または他のタイプのバイナリ光学表示素子などのマイクロ電気機械(MEM)デバイスであり得る。バイナリ光学表示素子202は、オン/オフできる点でバイナリである。すなわち、バイナリ光学表示素子202は、光を反射または伝達することができるか、または反射も伝達もすることができない。バイナリ光学表示素子202それ自体は本来、長さが1ビットの色強度値を有する画素を表示することができない。素子202は、色強度値の各ビットを表示期間を分割する区間の少なくとも1つについて表示することによって、長さが1ビットより大きい色強度値を有する画素を表示するが、上記のように、画素の色強度値の他のビットに対するビットの重要度に基づいている。
マルチビット記憶素子204は、バイナリ光学表示素子202によって表示される画素の色強度値のビットの数に対応する、複数のビット記憶セル206A,206B,...,206Mを有する。色強度値は、Nビットを有し、この値を有する画素は、Nビットの色の深みを有し、異なる階調に対応する2の異なる色強度値の任意の1つを有することができる。ゼロの色強度値は、最小の階調に対応するのに対して、2N−1の色強度値は、最大の階調に対応する。記憶セル206A,206B,...,206Mは、総称して、セル206と呼ぶ。セル206Aは、画素の色強度値の最下位ビット0に対応し、セル206Bは、この値の最下位から2番目のビット1に対応し、セル206Mは、画素の色強度値の最上位ビットN−1に対応する。
マルチビット記憶素子204は、バイナリ光学表示素子202に接続される。その結果ビット記憶セル206によって記憶されたビットのいずれか1つは、ライン208によって示されているように、バイナリ光学表示素子202にロードすることができる。従って、光学表示素子200が一部を構成する投影システムは、すべての表示期間の各区間中に、ビットをバイナリ光学表示素子202にロードする必要はない。一方で投影システムは、画素の色強度値のすべてのNビットを、マルチビット記憶素子204のビット記憶セル206に、所定の表示期間中にロードする。次に、これらのビットの適当な1つが、マルチビット記憶素子から、表示期間の各区間中に、バイナリ光学表示素子202にロードされる。
この結果、1/{リフレッシュレート×(2N−1)}秒の区間毎に、1ビットの画像データで、バイナリ光学表示素子202をリフレッシュする必要はなく、投影システムは、リフレッシュレート分の1秒の表示期間毎に、Nビットの画像データで、マルチビット記憶素子204をリフレッシュするだけでよい。これにより、投影システムのローディング負担は2倍低減され、従って投影システムがバイナリ光学表示素子202をリフレッシュしなければならない負担が軽減される。すなわち投影システムは、Nビットの画像データのそれぞれを、所定の表示期間中に1回だけマルチビット記憶素子204にロードするのであって、Nビットの画像データを、合計2−1回、バイナリ光学表示素子にロードするのではない。このように、投影システムは、より高いリフレッシュレートおよび/またはより高い表示解像度を得ることができる。
図3は、本発明の実施形態による、マルチビット記憶素子204をさらに詳細に示す。ビット記憶セル206は、ライン302A,302B,...302Mで示されているように、円形に相互接続されている。すなわち、第1のビット記憶セル206Aは、ライン302Aなどによって示されているように、そのビットを出力して第2のビット記憶セル206Bにロードすることができる。最後のビット記憶セル206Mは、ライン302Mで示されているように、そのビットを出力して第1のビット記憶セル206Aにロードすることができる。最後のビット記憶セル206Mはまた、ライン208によって示されているように、そのビットを出力してバイナリ光学表示素子にロードすることができる。さらに、第1のビット記憶セル206Aは、ライン304で示されているように、画素の色強度値の新たなビットをロードすることができる。
ビット記憶セル206は、本発明の1つの実施形態では、画像データの画素の色強度値のビットで以下のようにロードすることができる。色強度値の第1の最上位ビットは、データライン304にアサートされ、ビット記憶セル206Aにロードされる。色強度値の第2の次に上位のビットは、データライン304にアサートされ、ビット記憶セル206Aにロードされ、ビット記憶セル206Aにすでに記憶されている第1のビットは、ライン302Aに出力され、ビット記憶セル206Bにロードされる。
このプロセスは、色強度値の残りのNビットのそれぞれに対して繰り返される。毎回、最後のビット記憶セル206M以外のビット記憶セル206のそれぞれに記憶されているビットは、出力され、次の連続するビット記憶セル206にロードされる。それにより、ビット記憶セル206Aに記憶されているビットは、ビット記憶セル206Bに移動される(以下同様)。新たなビットは、データライン304にアサートされ、ビット記憶セル206Aにロードされる。このプロセスをN回繰り返した後、ビット記憶セル206A,206B,...,206Mは、画素の色強度値のビット0,1,...,N−1を記憶する。
ビット記憶セル206に記憶されているNビットは、表示期間の各区間中に必要に応じて、ビット記憶セル206間で回転される。その結果、適切なビットは、ビット記憶セル206Mによって記憶され、ライン208に出力され、バイナリ光学表示素子202にロードされる。例えば、ビット記憶セル206Bに記憶されるビットが表示期間の所定の区間中にバイナリ光学表示素子202にロードされる場合、ビット記憶セル206に記憶されているビットは、N−2回、回転され、ビット記憶セル206Mは、最終的には、ビット記憶セル206Bに最初に記憶されたビットを記憶する。各回転において、ビット記憶セル206M以外のビット記憶セル206のそれぞれによって記憶されているビットは、次の連続するビット記憶セル206に移動される。ビット記憶セル206Mに記憶されているビットは、第1のビット記憶セル206Aに移動され、ビットは回転において失われない。
図4は、本発明の他の実施形態によるマルチビット記憶素子204をさらに詳細に示す。マルチビット記憶素子204は、選択ライン406Aおよび406Bをアサートすることによってそれぞれ選択される入力ライン404Aおよび404Bを有する制御セル402を有する。入力ライン404Aおよび404Bは、ライン302Mおよびデータライン304にそれぞれ接続される一方で、選択ライン406Aおよび406Bは、回転ライン412およびロードライン410にそれぞれ接続される。ロードライン410をアサートすることにより、データライン304にアサートされたビットは、ライン408に出力され、ビット記憶セル206Aにロードされる。回転ライン412をアサートすることにより、ビット記憶セル206Mによってライン302Mに出力されるビットは、ライン408に出力され、ビット記憶セル206Aにロードされる。
ビット記憶セル206には、以下のように、画像データの画素の色強度値のビットがロードされる。色強度値の第1の最上位ビットは、データライン304にアサートされ、ロードライン410はアサートされてビットをライン408に出力し、ビット記憶セル206Aにロードする。次に、色強度値の第2の次に上位のビットは、データライン304にアサートされ、ロードライン410はアサートされてビットをビット記憶セル206にロードし、ビット記憶セル206Aに予め記憶されていた第1のビットは、ライン302Aに出力され、ビット記憶セル206Bにロードされる。このプロセスは、色強度値の残りのNビットのそれぞれに対して繰り返され、上記のように、ビット記憶セル206A,206B,...,206Mは、最終的には、画素の色強度値のビットのビット0,1,...,N−1を記憶する。このように、色強度値のビットは、ビット記憶セル206に連続してロードされる。
ビット記憶セル206に記憶されているNビットは、表示期間の各区間中に必要に応じて、ビット記憶セル206間で回転され、適切なビットは、ビット記憶セル206の中でバイナリ光学表示素子202に最も近接したビット記憶セル206Mに記憶される。このように、ビットの1つは、ライン208に適切かつ選択的に出力され、バイナリ光学表示素子202に適切かつ選択的にロードされる。このプロセスは、以下のように起こる。各回転に対して、回転ライン412はアサートされる。これにより、ライン302Mに出力されるビット記憶セル206Mに記憶されているビットは、ライン408に出力され、ビット記憶セル206Aにロードされる。ビット記憶セル206Aによって予め記憶されているビットは、同時に、ライン302Aに出力され、ビット記憶セル206Bにロードされる。ビット記憶セル206に記憶されているビットのうちのどのビットが、バイナリ光学表示素子202にロードされることが所望されるかに従って、回転ライン412は、ゼロからN回アサートされる。
図5は、本発明のさらに他の実施形態によるマルチビット記憶素子204をさらに詳細に示す。マルチビット記憶素子204は、ビット記憶セル206Mの出力を制御セル402の入力ライン404Aに接続するライン302Mに接続された入力ライン504を有するミラー記憶セル502を有する。また、2つのクロック信号506Aおよび506Bが存在し、これらを総称してクロック信号506と呼ぶ。クロック信号506は、ダブらないため、クロック信号506の一方は、他方のクロック信号506がローのときハイになり、他方のクロック信号506がハイのときローになる。クロック信号506は、ミラー記憶セル502だけでなく、ビット記憶セル206のそれぞれに接続され、ビット記憶セル206およびミラー記憶セル502を同期させる。ミラー記憶セル502は、ビット記憶セル206が、新しい強度値のビットをロードされているとき、またはビット記憶セル206に記憶されているビットが回転され、ビット記憶セル206内の最終出力先に到達していないとき、可視アーチファクトがバイナリ光学表示素子202によって表示されないようにする。ミラー記憶セル502は、最後のビット記憶セル206Mによって記憶されている同じビットを記憶する。
1つの実施形態におけるクロック信号506は、それぞれが、所定のクロック期間の異なる半期間においてハイになるようにタイミングをとられる。クロック期間は、表示期間の区間に対応していてもしていなくてもよい。例えば、クロック信号506Aは、各クロック期間の前半においてハイになり、クロック信号506Bは、各クロック期間の後半においてハイになってもよい。ロードライン410は、このようなN区間に対してアサートされ、画素の色強度値のNビットをビット記憶セル206にロードし、データライン304は、各クロック期間中、Nビットの1つでアサートされる。回転ライン412は、クロック期間の数に対してアサートされる。このクロック期間は、光学表示素子202にロードされることが所望されるビットが最後のビット記憶セル206Mからどのくらい離れているかに対応している。
1つの実施形態では、ビット記憶セル206によってライン302に出力されるビットは、クロック信号506Aの立下りエッジにおいて有効になる。そしてクロック信号506Bの立上りエッジによって、第1のビット記憶セル206Aを除くビット記憶セル206のそれぞれは、ビット記憶セル206の前に隣接していたセルに記憶されていたビットをロードする。例えば、ビット記憶セル206Bは、クロック信号506Bの立上りエッジにおいて、ビット記憶セル206Aに記憶されているビットをロードする。ビット記憶セル206Aは、ライン408に出力されているビットをロードする。このビットは、回転ライン412がアサートされている場合には、ビット記憶セル206Mによってライン302Mに出力されるビットであり、ロードライン410がアサートされている場合には、データライン304にアサートされているビットである。ミラー記憶セル502は、クロック信号506Aの立上りエッジにおいて、入力ライン504に入力されるビットをロードし、クロック信号506Bの立上りエッジにおいて、ビットをライン208に出力して、バイナリ光学表示素子202にロードする。
図6は、ビット記憶セル206のそれぞれを実施することが可能な、本発明の実施形態によるビット記憶セル600を示す。ビット記憶セル600は、nチャネル金属酸化物半導体(NMOS)論理を用いて実施される。入力602は、ビット記憶セル600に対して入力され、出力604は、ビット記憶セル600に対して出力される。6つのNMOSトランジスタ608、610、611、614、616、および618がある。NMOSトランジスタ608および611は、電源606からグランド612までエンドツーエンドで接続されている。同様に、NMOSトランジスタ614および618は、電源606からグランド612までエンドツーエンドで接続されている。クロック信号506Aは、トランジスタ608および610を制御するのに対して、入力602は、トランジスタ611を制御する。クロック信号506Bは、トランジスタ614および616を制御するのに対して、トランジスタ610の出力619は、トランジスタ618を制御する。ダイナミックNMOS実施態様以外に、他の実施態様を本発明の他の実施形態において用いてもよいことに留意されたい。
クロック信号506Aおよび506Bは、好ましくは、同時にローになったりまたはハイになったりしない。クロック信号506Aがハイであり、クロック信号506Bがローのとき、トランジスタ608および610はオンになる。入力602がハイになると、トランジスタ611もオンになり、トランジスタ610への入力617はローにプルダウンされる。トランジスタ610がオンになると、その出力619もまたローにプルダウンされる。あるいは、入力602がローの場合、トランジスタ611はオフになり、トランジスタ608は、トランジスタ610への入力617をハイにプルアップすることができる。トランジスタ610がオンになると、その出力619もまたハイにプルアップされる。クロック信号506Bがハイになり、クロック信号506Aがローになると、トランジスタ614および616はオンになる。トランジスタ610の出力619がハイになると、トランジスタ618もオンになり、トランジスタ616への入力621はローにプルダウンされる。トランジスタ616がオンになると、その出力604もまたローにプルダウンされる。あるいは、トランジスタ610の出力619がローになると、トランジスタ618はオフになり、トランジスタ614はトランジスタ616への入力621をハイにプルアップする。トランジスタ616がオンになると、その出力604もまたハイにプルアップされる。このように、クロック信号506Aがハイになる場合、入力602は、ビット記憶セル600にロードされる。クロック信号506Bがハイになると、出力604は、ビット記憶セル600に記憶されているビットを出力する。
図7は、本発明の実施形態による、マルチビット記憶素子204を用いるための方法700を示す。まず、バイナリ光学表示素子202によって表示される画素の色強度値のNビットは、マルチビット記憶素子204のビット記憶セル206に連続してロードされる(702)。これは、データライン304において各ビットをアサートし、ロードライン410をアサートして、ビットを第1のビット記憶セル206Aにロードすることによって行われ得る。この場合、ビット記憶セル206M以外のビット記憶セル206の他のセルにすでに記憶されているビットは、ビット記憶セル206の次のビットにシフトされる。
次に、表示期間の区間毎に706および708を実施する。ビット記憶セル206に記憶されているビットは回転され、選択されたビットは最後のビット記憶セル206Mに記憶され(706)る。次に、ビットは、バイナリ光学表示素子202にロードされる(708)。回転は、ビット記憶セル206内のビットの各所望の回転に対して回転ライン412をアサートすることによって行うことができる。選択されたビットは、図1Aのアプローチ100、図1Bのビット分割アプローチ150等の、バイナリ重み付けパルス幅変調アプローチに従って表示されるビットである。実施された回転数は、選択されたビットがビット記憶セル206の現在のビット記憶セルから最後のビット記憶セル206Mまで移動するために必要な回転の数である。
[色光学表示素子および表示デバイス]
記載した光学表示素子200は、所定の時間に、入射する光を、光の色を変更せずに変調できるという点で単色性である。すなわち、光学表示素子200は、入射する光の色をそれ自体で変更することができない。図8Aおよび図8Bは、異なる色を表示することができる色光学表示素子800を示す。しかし、これらは、本発明の異なる実施形態に従うものである。図8Aにおける色光学表示素子800は、光学表示素子200の一例を用いているのに対して、図8Bにおける色光学表示素子800は、用いられる所定の色空間の色成分の数に等しい光学表示素子200の多数の例を用いている。
図8Aにおいて、光学表示素子200は、上記のように、バイナリ光学表示素子202およびマルチビット記憶素子204を備える。様々な色の光802は、光学表示素子200に入射する。様々な色は、用いられる所定の色空間の色成分に対応する。例えば、データの各画素が、赤色、緑色および青色(RGB)空間の赤色、緑色および青色成分に対応する色成分である赤、緑および青に分割できる場合、光802は、所定期間にわたって、赤色光802R、緑色光802G、および青色光802Bに分割され得る。この分割は、カラーホイールまたは他のアプローチを用いることにより行われる。例えば、白色光成分などの他の光成分もまた、光802に含まれ得る。
赤色光802Rが光学表示素子200に入射すると、表示される画素の赤色成分に対する強度値のビットは、マルチビット記憶素子204にロードされる。次に、ビットは、上記のように、バイナリ光学表示素子202にロードされる。この結果、変調赤色光802R’は、画素が表示されるスポット804に入射する。同様に、緑色光802Gが光学表示素子200に入射すると、画素の緑色成分に対する強度値のビットは、上記のように、マルチビット記憶素子204にロードされ、バイナリ光学表示素子202にロードされる。これにより、変調緑色光802G’は、スポット804に入射する。青色光802Bが光学表示素子200に入射すると、画素の青色成分に対する強度値のビットは、マルチビット記憶素子204にロードされ、上記のように、バイナリ光学表示素子202にロードされ、その結果、変調青色光802B’はスポット804に入射する。人間の目には、正味の効果としては、スポット804に画素が表示される。
図8Bにおいて、色光学表示素子800は、用いられる所定の色空間の色成分のそれぞれに対して光学表示素子200を有する。例えば、RGB色空間に対して、赤色の光学表示素子200R、緑色の光学表示素子200G、および青色の光学表示素子200Bがある。素子200R、200G、および200Bは、それぞれ、バイナリ光学表示素子202R、202Gおよび202B、ならびにマルチビット記憶素子204R、204Gおよび204Bを有する。赤色光802Rは、光学表示素子200Rに入射し、緑色光802Gは、光学表示素子200Gに入射し、青色光802Bは、光学表示素子200Bに入射する。
表示される画素の赤色成分に対する強度値のビットは、マルチビット記憶素子204Rにロードされる。同様に、画素の緑色成分に対する強度値のビットは、マルチビット記憶素子204Gにロードされ、青色成分に対する強度値のビットは、マルチビット記憶素子204Bにロードされる。次に、これらのビットは、バイナリ光学表示素子202およびマルチビット記憶素子204に関連して記載したように、バイナリ光学表示素子202R、202G、および202Bにそれぞれロードされる。この結果、変調赤色光802R’、変調緑色光802G’、および変調青色光802B’は、画素が表示されるスポット804に入射し、スポット804上で画素を効果的に表示する。
図9は、本発明の実施形態による、表示デバイス900の簡単な例を示す。表示デバイス900は、光802が入射する複数の色光学表示素子800A,800B,...,800Lを備え、それぞれ、図8Aまたは図8Bの色光学表示素子800の例である。表示デバイス900はまた、画像データ906を画像源から受け取るコントローラ904を有する。表示デバイス900は、変調光802が表示されるスクリーン部分902A,902B,...,902Nを有するスクリーン902を備えるか、またはスクリーン902は、表示デバイス900の外部に設けられ得る。すなわち、表示デバイス900は、前面投影または後面投影システムである。当業者には言うまでもなく、表示デバイス900はまた、図9に示されるもの以外の構成要素を含んでいてもよい。
光802は、図8Aおよび図8Bを参照しながら記載したように、色光学表示素子800A,800B,...,800Lに入射する。例えば、異なる色の光は、同時に、素子800A,800B,...,800Lのそれぞれの異なる部分に入射し得るか、または異なる時間に、同じ色の光は素子800A,800B,...,800Lに入射し得る。素子800A,800B,...,800Lの数値は、好ましくは、SVGA(800×600)解像度、XGA(1024×768)解像度、または他の解像度などの表示デバイス900の所望の解像度に対応する。光学表示素子800A,800B,...,800Lによって変調される光802は、スクリーン902に向けられる。具体的には、光学表示素子800A,800B,...,800Lは、変調光802を出力し、対応するスクリーン部分902A,902B,...,902Lに表示する。
コントローラ904は、ハードウェア、ソフトウェア、またはハードウェアとソフトウェアとの組み合わせであり得る。コントローラ904は、ビデオコンポーネント、コンピュータ等の画像源から画像データ906を受け取る。コントローラ904は、表示デバイス900の解像度へのデータ906のスケーリング、表示デバイス900の色空間へのデータ906の変換等の、画像データ906の必要な処理を行う。コントローラ904はまた、上記のように、これらの画素の色成分の色強度値のビットなどの、画像データ906の画素の色強度値のビットを、色光学表示素子800A,800B,...,800Lに適切にロードする。すなわち、コントローラは、各表示期間に対して1回だけ、素子800A,800B,...,800Lにビットをロードする。
画像データ906の画素は、コントローラ904によってスケーリングおよび/または色空間変換され、表示デバイス900の解像度に対応し、よって色光学表示素子800A,800B,...,800Lに対応する。このように、各光学表示素子800A,800B,...,800Lは、画像データ906の画素の異なる1つを表示する機能を有する。各素子800A,800B,...,800Lは、一例として光学表示素子200で実施することができる。この場合の光学表示素子200は、画素のすべての色成分を順番に表示するか、または表示デバイス900が単色性である画素の色成分のみを表示する。あるいは、多数の光学表示素子200で実施することができる。この場合の光学表示素子200は、各素子800A,800B,...,800Lは、画素の色成分をすべて同時に表示する。
図10は、本発明の実施形態による、表示デバイス900を少なくとも部分的に構築するための方法1000を示す。当業者には言うまでもなく、方法100は、図10に示される以外のステップおよび/または作用を含み得る。まず、表示デバイス900の解像度に対応する複数の光学表示素子800A,800B,...,800lが提供される(1002)。これには、バイナリ光学表示素子202の例と等しいかまたはそれ以上の素子を提供すること(1004)、およびバイナリ光学表示素子202の例と等しい数のマルチビット記憶素子204の例を提供すること(1006)が挙げられる。マルチビット記憶素子204の例の提供には、ビット記憶セル206、コントロールセル402、および/またはミラー記憶セル502の対応する例を提供することが挙げられ得る。コントローラ904もまた提供される(1008)。
表示デバイス900が単色性である場合、光学表示素子800A,800B,...,800Lのそれぞれに対して、バイナリ光学表示素子202、およびマルチビット記憶素子204で実施することができる。表示デバイス900がカラーである場合、図8Aの実施形態の色光学表示素子800に対応する光学表示素子800A,800B,...,800Lのそれぞれに対して、バイナリ光学表示素子202、およびマルチビット記憶素子204で実施することができる。あるいは、表示デバイス900がカラーである場合、図8Bの実施形態の色光学表示素子800に対応する、表示デバイス900の色空間のすべての色成分に対する、光学表示素子800A,800B,...,800Lのそれぞれにおいて、バイナリ光学表示素子202、およびマルチビット記憶素子204で実施することができる。
[最後に]
本明細書では、具体的な実施形態について例示および記載したが、当業者には言うまでもなく、同じ目的を達成することが意図された構成を、示される具体的な実施形態の代わりに用いてもよい。この応用は、本発明の適応または変形を網羅するものとする。従って、本発明は、明らかに、その特許請求の範囲およびその等価物によってのみ限定されるものであることが意図される。
本発明の実施形態を実施することができる、画素の色強度値のビットを表示期間内にバイナリ光学表示素子にロードして画素を表示するためのアプローチを示す図。 本発明の実施形態を実施することができる、画素の色強度値のビットを表示期間内にバイナリ光学表示素子にロードして画素を表示するためのアプローチを示す図。 本発明の実施形態による光学表示素子の図。 本発明の実施形態による、図2の光学表示素子のマルチビット記憶素子の図。 本発明の他の実施形態による、図3のマルチビット記憶素子の図。 本発明のさらに他の実施形態による、図3のマルチビット記憶素子の図。 本発明の実施形態による、ビット記憶セルの回路図。 本発明の実施形態による、マルチビット記憶素子を有する光学表示素子を用いるための方法のフローチャート。 本発明の実施形態による色光学表示素子の図。 本発明の実施形態による色光学表示素子の図。 本発明の実施形態による表示デバイスの図。 本発明の実施形態による図9の表示デバイスを少なくとも部分的に製造するための方法のフローチャート。

Claims (10)

  1. バイナリ光学表示素子と、
    前記バイナリ光学表示素子によって表示される複数ビットの色強度値を、表示期間中記憶するためのマルチビット記憶素子とを備え、
    各ビットは、前記色強度値を得るため前記マルチビット記憶素子から前記バイナリ光学表示素子に、前記表示期間中に1回または複数回ロードされる光学表示素子。
  2. 前記マルチビット記憶素子は、前記色強度値のビット数に等しい複数のビット記憶セルを備える請求項1に記載の光学表示素子。
  3. 前記マルチビット記憶素子は、前記バイナリ光学表示素子に接続されたミラー記憶セルをさらに備える請求項2に記載の光学表示素子。
  4. 前記複数のビット記憶セルは円形に相互接続されている請求項2に記載の光学表示素子。
  5. 前記マルチビット記憶素子は、アサートされて前記色強度値のビットのビットのうち次のビットを前記マルチビット記憶素子にロードするロードラインと、アサートされて前記複数のビット記憶セルの中の複数ビットを回転させる回転ラインとを有する制御セルをさらに備える請求項4に記載の光学表示素子。
  6. 前記複数のビット記憶セルのうちの前記バイナリ光学表示素子に最も近接したビット記憶セルは、前記バイナリ光学表示素子に次にロードされる前記色強度値のビット数のうち1ビットを記憶し、前記複数のビット記憶セルの中の複数ビットは、前記バイナリ光学表示素子に次にロードされるビットを選択するため回転される請求項4に記載の光学表示素子。
  7. 前記色強度値のビット数のうちの1つは、前記表示期間の区間毎に、前記マルチビット記憶素子から前記バイナリ光学表示素子にロードされる請求項1に記載の光学表示素子。
  8. 表示デバイスであって、
    複数のバイナリ光学表示素子と、
    複数のビットをマルチビット記憶素子に、前記バイナリ光学表示素子によって表示される画素の複数ビットの色強度値を、複数回ロードせずに表示期間中記憶するための、各バイナリ光学表示素子に対するマルチビット記憶素子とを備える表示デバイス。
  9. 前記複数のバイナリ光学表示成分は、該バイナリ光学表示成分によって表示される複数の画素に対応し、各マルチビット記憶素子は、前記複数の画素の1つの複数ビットの色強度値を記憶する請求項8に記載の表示デバイス。
  10. 前記複数のバイナリ光学表示成分によって表示される複数の色画素は、それぞれ、該色画素の複数の色成分のそれぞれを表示するためのバイナリ光学表示素子を含む前記複数のバイナリ光学表示成分のいくつかに対応し、それにより各マルチビット記憶素子は、前記複数の色画素のうちの1つの1色成分の複数ビットの色強度値を記憶する請求項8に記載の表示デバイス。

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