JP2004202575A - チップスケールマーカ及びマーキング位置補正方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 チップスケールマーカは、レーザーシステム130からのレーザービーム経路上に着脱自在に配置されてビームのパワー密度を減少させる手段と、ウェーハホルダの中央ホール上に配置されてシステム130からのレーザービームを受けてそのビームが照射された位置を表示するスクリーンとを具備する。これにより、ウェーハマーキング前にウェーハチップにマーキングされる位置を測定してシステム130からのビームの方向を補正でき、マーキング作業中にもレーザービームをウェーハホルダの端部に形成された半透光性膜に照射し、照射されたビームポイントの測定によりレーザービームの簡易調整も可能である。また、紙スクリーンを黒くしてマーキング位置を確認するために、可視光線だけでなく紫外線及び赤外線波長を使用するチップスケールマーカにも適用可能である。
【選択図】 図7
Description
131 レーザー発振器
132 ビームエキスパンダ
133 ガルバノスキャナ
133a xミラー
133b yミラー
134 f−(レンズ
200 ピンホール装置
210a ピンホール
Claims (22)
- レーザーシステムと、加工対象ウェーハを支持するウェーハホルダと、前記ウェーハホルダの上方でX−Yステージに連結されて動きつつ前記ウェーハホルダの中央ホールに支持されるウェーハを監視するカメラとを具備するチップスケールマーカにおいて、
前記レーザーシステムからのレーザービーム経路上に着脱自在に配置されて前記レーザービームのパワー密度を減少させる手段と、
前記ウェーハホルダの前記中央ホール上に配置されて前記レーザーシステムからのレーザービームを受けてそのレーザービームが照射された位置を表示するスクリーンとを具備することを特徴とするチップスケールマーカ。 - 前記レーザービームパワー密度減少手段は、
所定口径のピンホールが中央に形成されたピンホール装置であることを特徴とする請求項1に記載のチップスケールマーカ。 - 前記レーザービームの光量を所定割合で減少させるNDフィルタをさらに具備することを特徴とする請求項2に記載のチップスケールマーカ。
- 前記レーザービームパワー密度減少手段は、
前記レーザービームの光量を所定割合で減少させるNDフィルタであることを特徴とする請求項1に記載のチップスケールマーカ。 - 前記ピンホール装置は、
アンバまたはダイヤモンドで製造されることを特徴とする請求項2または3に記載のチップスケールマーカ。 - 前記ピンホール装置は、
前記レーザービームが入射される方向に突設されたことを特徴とする請求項2または3に記載のチップスケールマーカ。 - 前記ピンホール装置は、
前記ピンホールの直径が前記レーザービームの経路に沿って大きくなることを特徴とする請求項6に記載のチップスケールマーカ。 - 前記スクリーンは、
照射されたレーザービームを吸収する下部層と、
前記下部層からの光を上方の垂直方向に透過させる上部層とを具備することを特徴とする請求項1に記載のチップスケールマーカ。 - 前記スクリーンは、
レーザービームが照射されたポイントで光が散乱されるように表面が粗く加工されたガラスまたはアクリルの下部層と、
前記下部層の上部に配置されて前記散乱された光をフィルタリングして上方に一つのポイントを提供する光減衰器とを具備することを特徴とする請求項1に記載のチップスケールマーカ。 - 前記スクリーンは、
半透光性ガラスであることを特徴とする請求項1に記載のチップスケールマーカ。 - 前記スクリーンは、
紙であることを特徴とする請求項1に記載のチップスケールマーカ。 - 前記ウェーハホルダには、その中央にウェーハを載置させるように形成された中央ホールの外郭で、前記中央ホールの中心軸から所定距離はなれた同心円上に配置された多数のホールがさらに形成され、
前記多数のホール上には半透光性防止膜がさらに設けられたことを特徴とする請求項1に記載のチップスケールマーカ。 - レーザーシステムと、加工対象ウェーハを支持するウェーハホルダと、前記ウェーハホルダの上方でX−Yステージに連結されて動きつつ前記ウェーハホルダに支持されるウェーハを監視するカメラとを具備するチップスケールマーカにおいて、
前記レーザーシステムからのレーザービーム経路上に着脱自在に配置されて前記レーザービームのパワー密度を減少させる手段と、
前記カメラの前端に配置されるカメラスクリーンと、
前記カメラスクリーンを前記カメラの前端に着脱する手段とを具備することを特徴とするチップスケールマーカ。 - 前記カメラスクリーンを垂直移動する手段と、
前記ウェーハホルダを垂直移動する手段とをさらに具備することを特徴とする請求項13に記載のチップスケールマーカ。 - 前記カメラスクリーンの着脱手段は、
前記カメラスクリーンを回転させる手段であることを特徴とする請求項13に記載のチップスケールマーカ。 - 前記カメラスクリーンは、
紙であることを特徴とする請求項13に記載のチップスケールマーカ。 - 前記カメラスクリーンは、
二つの支持軸により支持されて第1支持軸を回転することによって第2支持軸に巻かれた紙が回転して前記第1支持軸に巻かれる紙ローラであることを特徴とする請求項16に記載のチップスケールマーカ。 - 前記カメラスクリーンの着脱手段は、
前記支持軸方向に前記カメラスクリーンを往復動させることを特徴とする請求項17に記載のチップスケールマーカ。 - レーザーシステムと、加工対象ウェーハを支持するウェーハホルダと、前記ウェーハホルダの上方でX−Yステージに連結されて動きつつ前記ウェーハホルダに支持されることを監視するカメラと、前記レーザーシステムからのレーザービーム経路上に着脱自在に配置されて前記レーザービームのパワー密度を減少させる手段と、前記ウェーハホルダの中央ホール上に配置されて前記レーザーシステムからのレーザービームを受けてそのレーザービームが照射された位置を表示するように形成されたスクリーンとを具備するチップスケールマーカのマーキング位置補正方法において、
(a)前記レーザーシステムで前記スクリーンの目標位置にレーザービームを照射する段階と、
(b)前記スクリーンに照射されたレーザービームの位置を測定する段階と、
(c)前記測定されたレーザービームの位置と目標位置とを比較して前記レーザーシステムを補正する段階とを有し、
前記スクリーンは紙材質であり、前記レーザービームの位置は前記レーザーシステムからの、前記レーザービームパワー密度減少手段によりパワー密度が減少したレーザービームによって前記スクリーンがすすけた位置であることを特徴とするチップスケールマーカのマーキング位置補正方法。 - 前記レーザービームパワー密度減少手段は、
所定口径のピンホールが形成されたピンホール装置であることを特徴とする請求項19に記載のチップスケールマーカのマーキング位置補正方法。 - 前記レーザービームパワー密度減少手段は、
前記レーザービームの光量を所定割合で減少させるNDフィルタをさらに具備することを特徴とする請求項20に記載のチップスケールマーカのマーキング位置補正方法。 - 前記レーザービームパワー密度減少手段は、
前記レーザービームの光量を所定割合で減少させるNDフィルタであることを特徴とする請求項19に記載のチップスケールマーカのマーキング位置補正方法。
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