JP2004189841A5 - - Google Patents

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  1. 下記一般式（１）に示される構成単位を有することを特徴とするポリ酢酸ビニル鹸化物系感光性樹脂。
    Figure 2004189841
  2. 請求項１の感光性樹脂を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
  3. 請求項２において、さらに光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
  4. 請求項２または３において、溶媒として水を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
  5. 請求項２〜４の何れかの感光性樹脂組成物を用い、光重合反応することにより含水ゲルを得ることを特徴とする含水ゲルの形成方法。
  6. 下記一般式（２）に示されることを特徴とする化合物。
    Figure 2004189841
  7. 下記一般式（３）に示されることを特徴とする化合物。
    Figure 2004189841
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US10/538,690 US7348128B2 (en) 2002-12-10 2003-11-13 Photosensitive resin based on saponified polyvinyl acetate photosensitive resin composition, method of forming aqueous gel from the same, and compound
DE60327555T DE60327555D1 (de) 2002-12-10 2003-11-13 Neues auf verseiftem polyvinylacetat basierendes lichtempfindliches harz, lichtempfindliche harzzusammensetzung, verfahren zur bildung von wässrigem gel daraus und verbindung
CNB2003801056911A CN100338102C (zh) 2002-12-10 2003-11-13 新型皂化聚(乙酸乙烯酯)基光敏树脂、光敏树脂组合物,通过使用该组合物生产水凝胶的方法,和化合物
PCT/JP2003/014467 WO2004052947A1 (ja) 2002-12-10 2003-11-13 新規なポリ酢酸ビニル鹸化物系感光性樹脂、感光性樹脂組成物及びそれを用いた含水ゲルの形成方法並びに化合物
KR1020057010423A KR100721711B1 (ko) 2002-12-10 2003-11-13 신규한 폴리아세트산비닐 비누화물계 감광성 수지, 감광성수지 조성물 및 그것을 사용한 함수 겔의 형성 방법 및화합물
EP03772745A EP1574528B1 (en) 2002-12-10 2003-11-13 Novel photosensitive resin based on saponified polyvinyl acetate, photosensitive resin composition, method of forming aqueous gel from the same, and compound

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Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4706426B2 (ja) * 2004-10-13 2011-06-22 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録方法およびインク組成物セット
EP1702961B1 (en) * 2005-03-14 2008-11-05 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink, ink-jet ink set, and ink-jet recording method
JP4967378B2 (ja) 2005-03-29 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 インク組成物
US20070032571A1 (en) * 2005-08-08 2007-02-08 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink, ink-jet ink set, and ink-jet recording method
JP2007106110A (ja) * 2005-09-13 2007-04-26 Konica Minolta Holdings Inc 画像形成方法
JP2007076149A (ja) * 2005-09-14 2007-03-29 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット記録方法及びインクセット
US20070064050A1 (en) * 2005-09-21 2007-03-22 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink, ink-jet ink set and ink-jet recording method
US20070109375A1 (en) * 2005-11-16 2007-05-17 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink, ink-jet ink set and ink-jet recording method
US20070115325A1 (en) * 2005-11-21 2007-05-24 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink and ink-jet recording method
JP4525574B2 (ja) * 2005-11-28 2010-08-18 コニカミノルタホールディングス株式会社 インクジェット記録方法、及びインクジェット用インクセット
JP2007160728A (ja) * 2005-12-14 2007-06-28 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット記録方法
EP2014763B1 (en) 2006-04-28 2015-11-18 Kuraray Co., Ltd. Method of producing a cell culture chamber
US20090186201A1 (en) 2006-07-14 2009-07-23 Konica Minolta Holdings, Inc. Plate making method and planographic printing plate
US20080132599A1 (en) 2006-11-30 2008-06-05 Seiko Epson Corporation. Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
JP5472670B2 (ja) 2007-01-29 2014-04-16 セイコーエプソン株式会社 インクセット、インクジェット記録方法及び記録物
JP2008208298A (ja) 2007-02-28 2008-09-11 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット用インク及びインクジェット記録方法
US8894197B2 (en) 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
JP2008221468A (ja) 2007-03-08 2008-09-25 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット記録方法
JP5098397B2 (ja) 2007-03-29 2012-12-12 コニカミノルタホールディングス株式会社 インクジェットインク、及びインクジェット記録方法
WO2008127966A1 (en) * 2007-04-11 2008-10-23 Boston Scientific Scimed, Inc. Photoresist coating to apply a coating to select areas of a medical device
JP4766281B2 (ja) 2007-09-18 2011-09-07 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物
EP2075293B1 (en) 2007-12-28 2014-03-12 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink and ink-jet recording method
JP2009269397A (ja) 2008-02-29 2009-11-19 Seiko Epson Corp 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置
US8439480B2 (en) 2008-03-05 2013-05-14 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink jet recording apparatus, and ink jet recording method
JP5692490B2 (ja) 2010-01-28 2015-04-01 セイコーエプソン株式会社 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP2011152747A (ja) 2010-01-28 2011-08-11 Seiko Epson Corp 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60222442A (ja) * 1984-04-18 1985-11-07 Mitsui Petrochem Ind Ltd ３−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシベンズアルデヒド
JPH0823545B2 (ja) 1986-09-18 1996-03-06 株式会社エー・アンド・デイ 簡易酵素電極
JP2748516B2 (ja) 1989-03-14 1998-05-06 エヌオーケー株式会社 グルコースセンサ
JP3794029B2 (ja) * 1994-09-30 2006-07-05 三菱化学株式会社 エポキシ基を有する（メタ）アクリレートの製造方法
WO1996018133A1 (en) * 1994-12-06 1996-06-13 Napp Systems, Inc. High-resolution letterpress printing plates and water-soluble photopolymerizable compositions comprising a polyvinylalcohol derivative useful therefor
EP0726486B1 (en) * 1995-02-08 2005-04-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical compensatory sheet
GB9604578D0 (en) 1996-03-04 1996-05-01 Sericol Ltd Photocurable compositions
JP3620155B2 (ja) * 1996-06-14 2005-02-16 上野化学工業株式会社 水溶性感光性組成物
JPH11327139A (ja) 1998-05-18 1999-11-26 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物及びその硬化物
TWI224715B (en) * 1998-08-05 2004-12-01 Toyo Gosei Kogyo Kk Photosensitive resin derived from saponified poly(vinyl acetate)
JP4066110B2 (ja) 1998-12-21 2008-03-26 東洋合成工業株式会社 感光性樹脂及び感光性樹脂組成物
JP4572431B2 (ja) 1999-08-19 2010-11-04 日本化成株式会社 （メタ）アクリレート誘導体およびその製造方法
JP4248137B2 (ja) 2000-11-22 2009-04-02 富士フイルム株式会社 ネガ型感光性平版印刷版
JP4093557B2 (ja) * 2002-11-14 2008-06-04 東洋合成工業株式会社 感光性樹脂組成物および含水ゲルの形成方法並びに含水ゲル
GB0318115D0 (en) * 2003-08-01 2003-09-03 Sericol Ltd A printing ink
EP1702961B1 (en) * 2005-03-14 2008-11-05 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink, ink-jet ink set, and ink-jet recording method
US20070109375A1 (en) * 2005-11-16 2007-05-17 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink-jet ink, ink-jet ink set and ink-jet recording method

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