JP2004157312A

JP2004157312A - 分割波長板フィルターの製造方法

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Publication number: JP2004157312A
Application number: JP2002322642A
Authority: JP
Inventors: Akishi Sato; 晶司佐藤; Hidehiko Sekizawa; 英彦關澤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2002-11-06
Filing date: 2002-11-06
Publication date: 2004-06-03
Anticipated expiration: 2022-11-06
Also published as: US7777154B2; US20050284845A1; JP4363029B2; US8262829B2; US20050046941A1

Abstract

【課題】立体画像表示装置の画素部に対して正確に対応するように、パターン精度や均一厚み、面内均一性に優れ、かつ再現性及び量産性の高い分割波長板フィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】印刷法により、基板２０９上に接着剤又は粘着剤の層２を所定パターンに形成した後に、この上に位相差特性のあるフィルムを貼り付けて分割波長板材料層３を形成し、この分割波長板材料層３を多列配置したカッター５により、一括して所定パターンに分割すると共に、除去部４に存在する上記材料層３を除去し、基板２０９上に所定パターンに配置された分割波長板２０８を形成する。これにより、均一厚み、面内均一性及び再現性のある分割波長板２０８を精度良く、量産性のある方法で製造できる。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば立体画像表示装置の分割波長板フィルターの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、３次元に画像を表現する技術については種々の試みがなされており、写真、映画、テレビジョン等多くの分野で３次元画像に関する表示方法が研究され、実用化されてきている。３次元画像の表示方式としてはめがね式とめがね無し式とに大別されるが、いずれの方式も両眼視差のある画像を観察者の左右の眼に入力し、立体映像として見ることができる。
【０００３】
めがね式の代表的なものとしては、いわゆる赤、青めがねを着用するアナグリフ方式や偏光めがね方式がある。アナグリフなどの色分離方式は色表現の困難及び視野の劣化が生じるなど品質的に不利な点が多く、また偏光めがね方式では、一般的には２台の投影装置を用いる必要がある等の問題があったが、近年直視型の１つの表示装置にて立体表示を可能とする方法が提唱されている。
【０００４】
その偏光めがね方式を用いる立体画像表示装置の概要を図１９に示す。
【０００５】
立体画像表示装置２００は、液晶パネル部２０１と、この液晶パネル部２０１に取り付けられた分割波長板フィルター部２０２とからなる構造を有している。液晶パネル部２０１は、一対の偏光板２０３、２０７の間に一対の透明支持基体２０４、２０６が形成され、その間にＲＧＢの画素が形成された画素液晶部２０５が設けられている。この液晶パネル部２０１の表面には、分割波長板フィルター部２０２が設けられており、例えば１ライン置きに分割波長板２０８を透明支持基体２０９の片面に配設した構造を有している。分割波長板フィルター部２０２はマイクロポール（μ−Ｐｏｌ）やマイクロポーラライザー（ｍｉｃｒｏｐｏｌａｒｉｚｅｒ）とも称される。
【０００６】
このような構造の立体画像表示装置２００は、液晶パネル部２０１から出た直線偏光の方向を回転させることにより、表示画面の偶数ラインと奇数ラインからの直線偏光を互いに直交するものに変換している。即ち偶数ラインからは液晶パネルからの直線偏光がそのまま出射され、奇数ラインでは分割波長板２０８の作用によりこれと直交する直線偏光とされる。
【０００７】
この表示装置の光を互いに直交する偏光方向のめがね２１０にて観測することにより、右眼には右眼用画像の光が入射し、左眼には左眼用画像の光が入射するため、このめがね２１０で見ることにより、フルカラーでちらつきのない立体画像を見ることが可能となる。
【０００８】
即ち、立体画像表示装置２００は、液晶パネル部２０１の構成と、分割波長板フィルター部２０２の構成が合わされて、立体表示が可能であり、これを偏光めがね２１０により立体画像として見ることが可能である。液晶パネル側において、画素液晶部２０５は一対の透明支持基体２０４、２０６の間に配置され、赤色画素部（Ｒ）、緑色画素部（Ｇ）、青色画素部（Ｂ）の組み合わせからなり、これら３色からなる画素部分がマトリクス状に配列されている。
【０００９】
そして、透明支持基体２０６の観賞者側に配設された偏光板２０７を通過した光は直線偏光となり、その直線偏光の光が分割波長板フィルター部２０２に到達する。分割波長板フィルター部２０２には枠体として機能するガラス等からなる透明支持基体２０９が設けられ、この透明支持基体２０９の液晶パネル部２０１側に各帯状の分割波長板２０８が形成されている。分割波長板２０８はそれぞれ長手方向を水平方向とするように延在されており、その帯状の幅は画素液晶部２０５の画素ピッチと同程度である。分割波長板２０８の数は、画素部２０５の垂直方向の画素数の半分である。
【００１０】
各帯状の分割波長板２０８は、画素液晶部２０５の画素ピッチで１ライン置きに形成されているため、右眼用の立体画像若しくは左眼用の立体画像のどちらか一方が分割波長板２０８を通過することにより、その偏光方向が９０度回転することになり、分割波長板２０８を通過しない側の立体画像は、その偏光方向が回転せずにそのまま射出する。
【００１１】
このように、ライン毎で異なる偏光方向に制御され、分割波長板２０８を通過した時点では、直交する２種類の直線偏光が混在するものとなる。従って、鑑賞者は偏光めがね２１０をかけ、右眼用の立体画像及び左眼用の立体画像を選択的に両眼で受け取り、立体画像を見ることができる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
このように構成されている立体画像表示装置２００は、その立体画像をクロストーク等がなく、良好に観賞することができるためには、帯状の分割波長板２０８が画素ピッチに正確に対応できるように形成され、画素液晶部２０５のストライプラインに対し、正確に配置されていることが重要である。
【００１３】
従って、微細な幅（１００〜２００μｍ）に形成される分割波長板２０８が、高精度に作製されると共に、画素液晶部２０５のラインに対し、１ライン置きに正確なライン形状で均一厚みに配され、面内均一性も保持した分割波長板２０８を再現性良く製造することが要求されている。
【００１４】
図２０に、分割波長板２０８の従来の製造方法の一例を概略斜視図で示す。即ち、従来の分割波長板２０８の作製にはグラインダー２０が用いられ、上記の如き透明支持基体（以下、ガラス基板と称する。）２０９上に設けた位相差材料層（例えば位相差フィルム）３をストライプ形状に形成する際は、微細な幅の砥石を有するグラインダー２０を用いて位相差材料層３を１ライン毎に削り取り、微細な幅の除去部４と分割波長板２０８が形成されていた。
【００１５】
しかしながら、樹脂からなる位相差材料層３であるため、グラインダー２０の砥石の目詰まりにより、精度が得難いことがあると共に、摩擦熱により樹脂が軟化するため、グラインダー２０の高速回転がし難く、グラインダー２０を多列配置することができないため、量産性に欠けるという問題があり、これらの問題の早急な解決が要求されている。
【００１６】
そこで本発明の目的は、画素部に正確に対応するように、パターン精度や均一厚み、面内均一性に優れ、かつ再現性及び量産性の高い分割波長板フィルターの製造方法を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、画素表示部において視差に対応して分割された各画像領域からそれぞれ得られた光の偏光方向を制御する分割波長板フィルターを製造する方法であって、
分割波長板となる材料層を形成する工程と、
この材料層を所定の分割パターンに形成する過程で印刷法を適用する工程ととを有する、分割波長板フィルターの製造方法（以下、第１の製造方法と称する。）に係るものである。
【００１８】
本発明の第１の製造方法によれば、分割波長板となる材料層を所定の分割パターンに形成する過程で印刷法を適用するので、分割波長板となる材料層、及びこの分割波長板の形成過程で必要な下地層の如き材料も印刷によって均一パターン、均一厚みに形成できるため、上記した目的を常に実現できるように分割波長板を所定のパターンに精度良く形成でき、量産性の高い分割波長板フィルターの製造方法を実現できる。
【００１９】
また、本発明は、画像表示部にて視差に対応して分割された各画像領域から夫々得られた光の偏光方向を制御する分割波長板フィルターの製造方法であって、
付着性の高い高付着層を第１の基体上に所定パターンに形成する工程と、
第２の基体上に分割波長板となる材料層を形成する工程と、
前記高付着層と前記材料層とを接触させた状態で前記第１の基体と前記第２の基体とを互いに圧接する工程と、
これらの基体を分離することにより、前記第１の基体の前記高付着層上にこれと同一パターンに前記材料層を転写する工程と
を有する、分割波長板フィルターの製造方法（以下、本発明の第２の製造方法と称する。）に係るものである。
【００２０】
本発明の第２の製造方法によれば、第１の基体上に形成した付着性の高い高付着層と、第２の基体上に形成した分割波長板となる材料層とを、接触させた状態で圧接した後に、これらの分離により、第１の基体の高付着層上にこれと同一パターンに第２の基体上の材料層を転写するので、第１の基体上に高付着層を設計どおりの所定パターンに形成しただけで、第１の基体の高付着層上に第２の基体上から分割波長板となる材料層を所定パターンに転写でき、従って第１の基体上に分割波長板を所定パターンに精度良く、簡単な工程で形成できると共に、量産性の高い分割波長板フィルターの製造方法を実現できる。
【００２１】
また、本発明は、画像表示部において視差に対応して分割された各画像領域からそれぞれ得られた光の偏光方向を制御する分割波長板フィルターを製造する方法であって、
分割波長板となる材料層を形成し、この材料層を所定パターンにレーザ照射する、
分割波長板フィルターの製造方法（以下、本発明の第３の製造方法と称する。）に係るものである。
【００２２】
本発明の第３の製造方法によれば、分割波長板となる材料層を形成し、これを所定パターンにレーザ照射により形成するので、残すべき分割波長板領域をレーザ照射パターンに対応させることにより、常に所定パターンに精度良く形成できると共に、量産性の高い分割波長板フィルターの製造方法を実現できる。
【００２３】
また、本発明は、画像表示部において視差に対応して分割された各画像領域からそれぞれ得られた光の偏光方向を制御する分割波長板フィルターを製造する方法であって、
基体上に粘着剤層又は接着剤層を形成し、この上に前記分割波長板となる材料層を形成する工程と、
この材料層を選択的に切断除去して前記分割パターンに残す工程と
を有する、分割波長板フィルターの製造方法（以下、本発明の第４の製造方法と称する。）に係るものである。
【００２４】
本発明の第４の製造方法によれば、基体上に形成した粘着剤又は接着剤層上に分割波長板となる材料層を形成し、この材料層を選択的に切断除去して分割パターンに残すので、この材料層を切断するだけで前記分割パターンに残す領域と除去する領域とに区分し、後者の領域を除去することにより、前者の領域を前記粘着剤又は接着剤層上に所定パターンに精度良く残すことができると共に、量産性の高い分割波長板フィルターの製造方法を実現できる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
【００２６】
上記した本発明の第１の製造方法においては、接着剤又は粘着剤層を基体上に前記分割パターンに印刷した後に、前記材料層を基体上に形成し、更に接着剤又は粘着剤層が存在しない領域の材料層を選択的に除去することが望ましい。
【００２７】
そして、前記材料層として位相差特性のある材料層を用いることが望ましい。
【００２８】
また、前記材料層を複屈折液晶ポリマー層で形成し、この複屈折液晶ポリマー層を前記分割パターンに配向処理してもよい。
【００２９】
この場合、基体上に配向膜を全面又は所定パターンに形成し、この配向膜上に前記複屈折液晶ポリマー層を形成し、この複屈折液晶ポリマー層を前記分割パターンに配向処理することが望ましく、この場合配向膜材料層を形成した後にラビング処理して前記配向膜を形成することにより、配向膜の配向方向に沿ってポリマー層に位相差特性を形成し易い点で望ましい。
【００３０】
更に、前記配向膜材料層を印刷により形成し、この上に前記複屈折液晶ポリマー層を全面又は所定パターンに印刷することが、配向膜やポリマー層を一定の膜厚に形成できる点で望ましい。
【００３１】
この場合、前記複屈折液晶ポリマー層を前記分割パターンに印刷し、配向処理した後に、更に複屈折液晶ポリマー層を熱処理することにより、配向を強化固定できる点で望ましい。
【００３２】
また、前記材料層を光重合性モノマー層で形成してもよい。
【００３３】
この場合、基体上に配向膜を全面又は所定パターンに形成し、この配向膜上に前記光重合性モノマー層を全面又は前記分割パターンに形成した後、この光重合性モノマー層を露光処理してポリマー化すると共に配向処理することが望ましく、この場合、配向膜材料層を形成した後にラビング処理して前記配向膜を形成することにより、配向膜の配光方向に沿ってポリマー層に位相差特性を形成し易い点で望ましい。
【００３４】
更に、前記配向膜材料層を印刷により形成し、この上に前記光重合性モノマー層を全面又は所定パターンに印刷することが、配向膜やモノマー層を一定の膜厚に形成できる点で望ましい。
【００３５】
また、前記光重合性モノマー層を前記分割パターンに偏光露光してもよい。
【００３６】
この場合、前記光重合性モノマーを全面又は前記分割パターンに印刷し、この光重合性モノマー層を露光処理してポリマー化した後に、このポリマー層をラビングして配向処理することが望ましい。
【００３７】
また、前記材料層を全面又は前記分割パターンに形成し、この上に熱吸収性インクを前記分割パターンに印刷した後に、全面露光してもよい。
【００３８】
また、第２の製造方法においては、前記第１の基体上に前記高付着層を印刷により形成しておくことが望ましい。
【００３９】
そして転写後の前記第２の基体上に高付着層とは逆パターンに残された材料層も分割波長板として用いることが望ましい。
【００４０】
また、第３の製造方法においては、前記レーザ照射により分割波長板となる前記材料層を選択的にアブレーションして、前記分割パターンに材料層を残すことが望ましい。
【００４１】
この場合、前記材料層として位相差特性のある材料層を用い、材料層上にレーザ吸収性材料層を形成しておき、前記レーザ照射により材料層の位相差特性を選択的に消失させて、前記分割パターンに位相差特性のある材料層を残すようにしてもよい。
【００４２】
前記第４の製造方法においては、前記切断除去を、少なくとも多列配置の切断刃によって行なうことが量産性を高められる点で望ましい。
【００４３】
この場合、前記粘着剤層又は接着剤層を基体の全面又は前記分割パターンに形成しておき、この上に前記材料層を形成することが望ましい。
【００４４】
また、前記材料層の切断除去を液体の高圧噴射によって行ってもよく、この場合、液体として水又は温水を使用するのが望ましい。
【００４５】
そして、いずれの製造方法の場合も、得られた分割波長板上を保護膜で被覆するのが望ましい。
【００４６】
次に、本発明の実施の形態を図面参照下で具体的に説明する。
【００４７】
本発明の実施の形態は、分割波長板となる材料層としての分割波長板材料層、配向膜材料層及び接着剤層等は、それぞれその形成の過程において主として印刷（貼り付けることもある）によって形成するものであり、基板上に所定の分割パターンに配した接着剤層又は粘着剤層上に位相差特性のあるフィルムを貼り付け、これを所定の分割パターンに切断除去する場合と、基板上の全面又は所定パターンに配向膜材料層を形成後に、この配向膜材料層に配向処理を施し、この上に分割波長板材料を全面又は所定パターンに配し、これに露光等の処理を行って分割波長板を形成するか、又は基板上に配した分割波長板材料層に直接配向処理して分割波長板を形成する場合とに大別される。
【００４８】
実施の形態１
図１は、本実施の形態による分割波長板の形成過程において、分割波長板材料層を所定の分割パターンに分割するために、接着剤等を基板上に印刷した後に、分割波長板材料層を配し、これを分割パターンに切断するまでの過程を示す概略斜視図であり、（ａ）は基板上に接着剤又は粘着剤を配した状態、（ｂ）はこの上に分割波長板材料層を貼り付けた状態、（ｃ）はこれの切断状態を示す。なお、図１９に示した従来例と共通の部位には共通の符号を用いる（他の実施の形態も同様）。
【００４９】
図１（ａ）に示すように、まず、ガラス基板（以下、単に基板と称する。）２０９上に接着剤（又は粘着剤：以下、接着剤で代表する。）２を印刷により所定の分割パターンに設ける。これにより、接着剤を一定厚みに形成できる。次は図１（ｂ）に示すように、この上に分割波長板材料層３を全面に設ける。図１においてはこの分割波長板材料層３として位相差特性のあるフィルムを貼り付けるが、後述する材料を全面に配した後に、これを所定パターンに配向処理してもよい。
【００５０】
次は図１（ｃ）に示すように、予め基板２０９上に配した接着剤２のパターンに沿って、切断刃（例えばナイフ）５により一括切断する。この切断刃５は一括切断が可能になるように多列配置されているが、図１（ｃ）では簡略図示した。この切断により、接着剤２が存在する領域と接着剤２が存在しない領域とが分割され、接着剤２が存在しない領域の分割波長板材料層３は不図示の巻き取り装置に巻き取る。これにより、図１９に示した画素液晶部２０５の画素ピッチラインに対応するように、１ライン置きに配置する分割波長板２０８を精度良く形成できる。
【００５１】
図１（ａ）〜（ｃ）各図の断面（即ち、ａ’−ａ’の断面、ｂ’−ｂ’の断面、ｃ’−ｃ’の断面）を各図の下に示す。これにより、（ｂ）におけるｂ’−ｂ’の断面（ｂ）’に示すように、基板２０９上に形成される分割波長板材料層３の厚みｔは５〜３０μｍ、又、（ｃ）におけるｃ’−ｃ’断面（ｃ）’に示すように、分割波長板となる領域の幅Ｗは１００〜２００μｍに形成する。なお、図１（ｃ）に示すように、切断後は保護膜（仮想線で示す）６で被覆する。
【００５２】
印刷は、例えば図２に示した装置を用いて行う。図２はこの装置の概略図を示す。即ち、台２１の上方に印刷ロール２３とこれに接触して回転するアニックスロール２２が位置固定して配され、これらのロールはそれぞれ矢印方向に駆動し回転する。アニックスロール２２の斜め上部位置には、ドクターブレード２４がアニックスロール２２のロール面２２ａとの間に一定の間隙Ｄを形成して配され、図示の如く、ドクターブレード２４の上流側において、アニックスロール２２とドクターブレード２４との間に印刷材料１として分割波長板となる材料が供給される。従って、上記した間隙Ｄにより印刷材料１が一定の膜厚で塗布される。
【００５３】
印刷ロール２３のロール面２３ａには、分割波長板を形成するための所定パターンが設計どおりに凸状の原版として形成されており、一方アニックスロール２２のロール面２２ａに供給される印刷材料１は、ドクターブレード２４によって一定の厚さに制御されてアニックスロール面２２ａに付着し、回転方向の下流側へ運ばれる。
【００５４】
従って、アニックスロールのロール面２２ａに付着した印刷材料１は、印刷ロール２３のロール面に形成された原版の凸部に付着し、印刷ロール２３と台２１との間を矢印方向に搬送される基板２０９の表面に所定パターンにて転写される。転写する印刷材料１は上記した接着剤２又は後述する配向膜材料や分割波長板材料である。
【００５５】
図２において、基板２０９の進行方向に対して、印刷ロール２３の上流側に実線で示したラビングロール２６及び下流側に仮想線で示したラビングロール２６は、基板２０９上に設ける配向膜又は分割波長板材料に配向処理するために配置されるものである。
【００５６】
本実施の形態によれば、印刷ロール２３のロール面２３ａに所定パターンの凸状の原版を設定どおりに形成し、印刷材料１としての接着剤２（又は後述する配向膜材料や分割波長板材料）を基板２０９に印刷により所定パターンを形成するので、パターンの形状及び印刷の厚さを一定に形成でき、この上に貼り付けた分割波長板材料層３を所定パターンに多列配置したカッター５で一括切断するため、精度良く形成できると共に量産性があり、立体画像表示装置の分割波長板フィルターに対する要求（即ち、画素ピッチラインに対応して１ライン置きに正確に配置が可能な精度と量産性等）を満たすことのできる、分割波長板フィルターの製造方法を提供できる。
【００５７】
実施の形態２
図３は、分割波長板材料層３を第２の基体としての基板１１上に印刷により形成し、第１の基体としての基板２０９上に所定パターンに接着剤層２ａを形成し、この接着剤層２ａを介して分割波長板材料層３を基板２０９に転写し、分割波長板を転写によって形成するプロセスを示す概略断面図を示す。
【００５８】
まず、図３（ａ）に示すように、基板１１上の全面に分割波長板材料層３を、例えば図２に示した印刷方法により一定の厚さに形成する。
【００５９】
次いで図３（ｂ）に示すように、例えば図２に示した印刷法により、基板２０９上に、高付着層として接着力の大きい接着剤層２ａを設計どおりの所定パターンに配し、これを基板１１の上方に位置させ、図３（ｃ）に示すように、双方の基板１１、２０９を当接させ、圧接する。
【００６０】
次いで図３（ｄ）に示すように、これらの基板１１、２０９を引離して分離する。この際、基板１１を下方移動させてもよく、反対に基板２０９を上方移動させてもよい。この分離により、基板２０９の接着剤２ａに対応する位置の分割波長板材料層３が、基板１１から基板２０９側へ転写され、所定パターンに配置できる。これにより、図１９に示した画素液晶部２０５の画素ピッチラインに対応するように、１ライン置きに配置する分割波長板２０８を精度良く形成できる。
【００６１】
次いで図３（ｅ）に示すように、基板２０９を反転させてひっくり返し、この分割波長板材料層３の表面を、例えば図２に示したように、ラビングロール２６を用いて配向処理することにより、分割波長板２０８を形成後に、全面を保護膜６で被覆する。
【００６２】
なお、図３においては図示省略したが、転写されない分割波長板材料層３’が残存している基板１１側にも、分割波長板材料層３’が所定パターンに形成されるので、例えば基板１１両端の不要部分を切断除去すれば、基板２０９側と同様なパターンの分割波長板材料層３’を有する基板１１となるため、これを基板２０９と同様に配向処理することにより、同様に分割波長板フィルターとして用いることもできる。
【００６３】
本実施の形態によれば、基板２０９上に一定の厚さで所定パターンに配した接着力の大きい接着剤２ａを介して、基板１１上の全面に一定の厚さに配した分割波長板材料層３を基板２０９側に転写するので、基板２０９上に分割波長板材料層３を精度良く形成できると共に、量産性があることにより、立体画像表示装置の分割波長板フィルターに対する要求（即ち、画素ピッチラインに対応して１ライン置きに正確に配置可能な精度と量産性等）を満たすことのできる、分割波長板フィルターの製造方法を提供できる。
【００６４】
また、反対側の基板１１にも分割波長板材料層３’が精度良く、所定パターンに配置された状態で残るため、この転写プロセスによって、同時に分割波長板２０８を２枚の基板に設計どおりのパターンに形成することができ、簡単な工程で精度の良い分割波長板フィルターを製造できるため、更に量産性の高い製造方法を提供できる。
【００６５】
上記した各実施の形態における分割波長板材料層、配向膜材料層及びこれらの配向処理の具体例を図４〜図１３に示す。
【００６６】
まず図４は、上記した分割波長板材料層３及び後述する配向膜材料層等を、例えば、図２に示した印刷法を用いた印刷により基板２０９上に形成した後に、これを例えば図２に示したようにして配向処理する概念を示す図である。分割波長板材料層としては、サーモトロピック（Ｔｈｅｒｍｏｔｏｒｏｐｉｃ）相又はリオトロピック（Ｌｙｏｔｒｏｐｉｃ）相の複屈折液晶ポリマーをインク化したもの、又は光重合性モノマーを用いる。
【００６７】
＜具体例１＞
図５は、サーモトロピック相の複屈折液晶ポリマー又はリオトロピック相の複屈折液晶ポリマーをインク層９として使用する場合の一例であり、このインク層９を用いて分割波長板を形成するプロセスの概略断面図を示す。
【００６８】
まず、前処理として図５（ａ）に示すように、基板２０９上の全面に例えばポリイミドを材料として配向膜８を形成した後に、図５（ｂ）に示すように、所定パターンにラビングにより配向処理部８ａを形成する。
【００６９】
次いで図５（ｃ）に示すように、この上にインク層９を全面に印刷によって形成する。このサーモトロピック相からなるインク相９は加熱によって溶融し、この温度で相変化する複屈折液晶ポリマーであるため、加熱溶融して配向膜８上に印刷することにより、配向膜８の配向処理部８ａ上の領域のインク層９が、配向処理部８ａの配向方向に沿って相変化する。
【００７０】
また、リオトロピック相からなるインク層９の場合は、このポリマーは溶媒で溶かすことにより相変化する複屈折液晶ポリマーであるため、溶媒で溶かした溶液を印刷することにより、配向処理部８ａ上の領域のインク層９が、溶媒の蒸発に伴って配向処理部８ａの配向方向に沿って相変化する。
【００７１】
次いで図５（ｄ）に示すように、これの後処理としてインク層９の全面を加熱処理することにより、相変化した部分のインク層９ａが配向強化され、またリオトロピック相からなるインク層９の場合は、溶媒が蒸発してしまうことにより、配向方向が固定化した分割波長板２０８を形成することができる。
【００７２】
＜具体例２＞
図６は、サーモトロピック相の複屈折液晶ポリマー又はリオトロピック相の複屈折液晶ポリマーをインク層９として使用する場合（但し、サーモトロピック相で説明する）の他の一例であり、このインク９を用いて分割波長板を形成するプロセスの概略断面図を示す。
【００７３】
まず、前処理として図６（ａ）に示すように、基板２０９の全面に例えばポリイミドを材料として配向膜８を形成した後に、図６（ｂ）に示すように、例えば配向幕８の上面全体をラビング処理して配向処理部８ａを形成する。
【００７４】
次いで図６（ｃ）に示すように、この配向処理部８ａ上にインク層９を所定パターンに印刷によって形成する。従って上記例と同様に、インク層９が温度で相変化する複屈折液晶ポリマーであるため、加熱溶融して配向膜８上に印刷することにより、全面が配向処理された配向膜８上に形成したインク層９が、配向処理部８ａの配向方向に沿って相変化したインク層９に変化する。
【００７５】
次いで図６（ｄ）に示すように、この後処理としては上記例と同様に、インク層９を加熱処理することにより、インク層９の配向が強化され、配向方向が固定化した分割波長板２０８を形成できる。
【００７６】
サーモトロピック相複屈折液晶ポリマー又はリオトロピック相液晶ポリマーをインク層９として使用する方法は、上記各例に限らず、変形して実施することが可能である。図７、図８に代表的な変形例を示す。
【００７７】
この変形例は、まず図７（ａ）に示すように、基板２０９上に例えばポリイミドを材料とする配向膜８を所定パターンに印刷により形成した後に、図７（ｂ）に示すように、この配向膜８の上面をラビング処理して配向処理部８ａを形成する。
【００７８】
次いで、図７（ｃ）に示すように、この上の全面にインク層９を印刷により形成する。従って、上記例と同様に、配向処理された配向膜８ａ上に存在する部分のインク層９が、配向膜８ａの配向方向に沿って相変化して分割波長板２０８を形成することができる。
【００７９】
次の変形例は、まず図８（ａ）、図８（ｂ）を図７と同様に形成し、配向膜８ａを形成する。
【００８０】
次いで図８（ｃ）に示すように、配向膜８上のみに所定パターンにインク層９を印刷により形成することにより、上記例と同様に、配向処理された配向膜８ａの配向方向に沿ってインク層９が相変化して分割波長板２０８を形成することができる。
【００８１】
なお、上記したサーモトロピック相複屈折液晶ポリマー又はリオトロピック相複屈折液晶ポリマーを用いる場合の配向処理は、印刷と同時に配向処理（図示省略）するようにしてもよい。
【００８２】
＜具体例３＞
図９及び図１０は光重合性モノマーをインク層１２として使用する場合の各例であり、このインク層１２を用いて分割波長板を形成するプロセスの概略断面図である。そして、最終的にはモノマーをポリマー化するが、基本的なプロセスとして、（１）下地に配向膜を用いる、（２）配向膜なしでモノマーを偏光露光する、（３）ポリマー化後に配向処理する、の形態を採る。
【００８３】
図９は、上記した（１）の下地に配向膜を用いる例であり、その概略プロセスの断面図を示す。即ち、図９（ａ）に示すように、基板２０９上の全面に例えばポリイミドからなる配向膜８を形成した後に、図９（ｂ）に示すように、この配向膜８を所定パターンにラビング処理して配向処理部８ａを形成する。
【００８４】
次いで図９（ｃ）に示すように、この上の全面に光重合性モノマーからなるインク層１２を印刷により形成した後に、全面露光する。この露光によりインク層１２がポリマー化すると共に、配向膜８の配向処理部８ａ上部に存在するインク層１２が、配向処理部８ａの配向方向に沿って相変化し、分割波長板２０８を形成することができる。
【００８５】
図１０は、上記した（２）配向膜なしでモノマーを偏光露光する例であり、その概略プロセスの断面図を示す。即ち、図１０（ａ）に示すように、基板２０９上にインク層１２を所定パターンに印刷により形成する。
【００８６】
次いで図１０（ｂ）に示すように、基板２０９上の全面を偏光露光する。この偏光露光処理により、基板２０９上に所定パターンに配したインク層１２が相変化し、分割波長板２０８を形成することができる。また、図示省略するが、基板２０９上の全面にインク層１２を形成してポリマー化後に、ラビング処理を所定パターンに行って分割波長板２０８を形成することもできる。
【００８７】
図１１は、上記した（３）ポリマー化後に配向処理する例であり、その概略プロセスの断面図を示す。即ち、例えば図１１（ａ）に示すように、基板２０９上の全面に配向膜なしでインク層１２を印刷により形成し、これを全面露光してポリマー化後に、所定パターンにラビング処理して分割波長板２０８を形成することもできる。
【００８８】
光重合性モノマーをインク層１２として使用する方法は、上記各例に限らず、変形して実施することが可能である。図１２にその一例を示す。
【００８９】
この変形例は、まず図１１（ａ）に示すように、基板２０９上の全面にインク層１２を形成し、このインク層１２の上方に露光マスク１５を所定パターンに配した後に、全面を偏光露光する。これにより非マスク部のインク層１２が配向処理されると共にポリマー化する。
【００９０】
次に図１１（ｂ）に示すように、露光マスク１５を除去して、更に全面を露光する。これにより露光マスク１５により偏光露光されていない領域のインク層１２もポリマー化されると共に、偏光露光された領域に分割波長板２０８を形成することができる。
【００９１】
実施の形態３
図１３は、上記した配向処理を伴わない例の概略図を示す。
【００９２】
即ち、図１３（ａ）に示すように、基板２０９上の全面に分割波長板材料層３を形成し、この上に熱吸収インク層１４を例えば図２に示した印刷法により、所定パターンに印刷する。この分割波長板材料層３としては、例えば位相差特性のあるフィルムを基板２０９上に貼り付ける。
【００９３】
次いで図１３（ｂ）に示すように、一括全面露光することにより、熱吸収インク層１４下の分割波長板材料層３が、熱吸収したインクの熱によって位相差特性を消失する。従って、熱吸収インク層１４が存在しない領域に、分割波長板２０８が所定パターンに形成される。
【００９４】
本実施の形態によれば、分割波長板材料層３上に熱吸収インク層１４を所定パターンに形成し、これを露光処理することにより、選択的に熱吸収インク層１４下の材料層３の位相差特性を消失させ、上記熱吸収インク層１４が存在しない領域を分割波長板２０８として形成するものであるが、これにより、画素ピッチラインに対応して１ライン置きに正確に配置可能な分割波長板フィルターを精度良く形成でき、量産性があり、立体画像装置の分割波長板フィルターに対する要求を満たすことのできる、分割波長板フィルターの製造方法を提供できる。
【００９５】
実施の形態４
図１４は、分割波長板材料層３を所定パターンのレーザ照射により、この所定パターンに相当する分割パターンに形成することを示し、（ａ）は概略斜視図、（ｂ）はレーザ照射後の要部の拡大断面図、（ｃ）はレーザ熱により位相差特性が消失した状態の要部の拡大断面図である。
【００９６】
即ち、図１４（ａ）に示すように、基板２０９上の全面に分割波長板材料３を形成後に、不図示のレーザ発振器を所定パターンにプログラム処理しておくことにより、レーザ発振器が分割波長板を形成するライン方向Ｌにスキャンし、このレーザ照射３０によりアブレーションして、選択的に分割波長板材料層３を除去し、設計どおりに所定パターンの分割波長板を高精度に形成することができ、これにより、図１９に示した画表液晶部２０５の画素ピッチラインに対応するように１ライン置きに配することが可能となると共に、量産性を更に高めることができる。
【００９７】
この分割波長材料層３としては、例えば位相差特性のあるフィルムで特にレーザ吸収性のある材料を用いる。又は、例えばレーザ吸収性のある酸化チタン１８等を分割波長板材料層３上の全面に設けておいてもよい（図１４（ｃ）参照）。但し、酸化チタン１８を設ける場合は、酸化チタン１８を透過し易い波長のレーザで照射するのが好ましい。
【００９８】
このレーザ照射３０により、図１４（ｂ）に示すように、レーザスキャンした領域の分割波長板材料層３がアブレーションして除去部４が形成され、除去されずに残った領域の分割波長板材料層を分割波長板２０８として、所定パターンに高能率下で形成することができる。そして最後に、除去部４上も平坦になるように保護膜６で全体を被覆する。
【００９９】
また、レーザ発振器において電圧を調整することにより、図１４（ｂ）に示すように、低い熱のレーザ照射３０により、照射領域の分割波長板材料層３の位相差特性を消失させ、除去しないで特性消失部３ｂのまま残し、分割波長板２０８の間に特性消失部３ｂを残存させた状態で、最後に保護膜６で全体を被覆することもできる。
【０１００】
本実施の形態によれば、基板２０９上の全面に形成したレーザ吸収性の良い分割波長板材料層３に対し、選択的にレーザ照射３０を行い、所定パターンに分割波長板材料層３を除去して分割波長板２０８を形成するので、分割波長板２０８を精度良く形成できると共に、量産性があり、立体画表示装置の分割波長板フィルターに対する要求（即ち、画素ピッチラインに対応して１ライン置きに正確に配置可能な精度と量産性等）を満たすことのできる、分割波長板フィルターの製造方法を提供できる。
【０１０１】
実施の形態５
本実施の形態は、基板２０９上に形成した分割波長板材料層３を所定の分割パターンに切断により分割する方法であり、図１５〜図１７に具体例を示す。
【０１０２】
まず、図１５は、例えば既述した実施の形態１における分割の具体例を示す。図１５に示すように、基板２０９上には、例えば粘着剤（又は接着剤）９を設計どおりの所定の分割パターンに形成後に、この上に分割波長板材料層３を全面に形成する。そしてこの分割波長板材料層３上に、カッター５を粘着剤２の両側ラインに沿うように多列に固定配置し、基板２０９を矢印Ｆの方向に搬送することにより、一括して分割波長板材料層３を切断すると共に、除去すべき剥離部３ａを剥離しながら、不図示の巻き取り装置に巻き取る。
【０１０３】
この切断と剥離部３ａの除去により、剥離部３ａを剥離した跡には除去部４が形成され、除去されない領域に分割波長板２０８が形成され、図１９に示した画素液晶部２０５の画素ピッチラインに対応するように、１ライン置きに配置する分割波長板２０８を形成できる。これにより、分割波長板２０８を基板２０９上に所定パターンに精度良く形成することができると共に、量産性を有して製造することができる。
【０１０４】
図１６は、基板２０９を矢印Ｆ方向に搬送する方法を示す。例えば図１６に示すように、搬送ローラー１７を用いてもよく、又は、図示しない搬送方法により、例えば平面或いはほぼ平面の支持台上を矢印Ｆ方向に搬送するようにしてもよい。また、基板は固定してカッター５を矢印Ｆとは反対方向に移動させるようにしてもよい。
【０１０５】
また、図１７は他の切断方法の１例を示す。この場合は、回転式のカッター１６を図１５のカッターと同様に多列配置し、その軸１６ａを位置固定する。この場合も図１５に示したのと同様に、切断後に剥離する剥離部３ａは巻き取り装置に巻き取る。また、搬送方法は上記例と同様に行ってよく、また、回転式カッター１６を移動し、基板２０９は固定してよい。
【０１０６】
また、図１８は上記した切断除去の変形例の概略斜視図を示す。即ち、図１８に示すように、液体（例えば水）２９を高圧で噴射させるノズル２８を所定パターンに多列配置し、この噴射圧力で基板２０９上の分割波長板材料層３を選択的に除去してもよい。
【０１０７】
この場合、分割波長板材料層３は、基板２０９上に所定パターンに配した粘着剤（又は接着剤）２上に設けたものでもよく、また、例えば既述した複屈折液晶ポリマー又は光重合性モノマーをポリマー化して形成したものであってもよい。
【０１０８】
更に、高圧噴射させる液体２９として、例えば温水を使用することにより、分割波長板材料層３の選択的な除去能力を高めることができ、分割波長板材料層３が厚く（例えば３０μｍ、図１参照）形成されている場合に、除去幅を広く（例えば１００μｍ）に形成する場合の如く、広帯域を除去する必要がある場合に好適に使用することができる。
【０１０９】
本実施の形態によれば、基板２０９上に所定の分割パターンに形成した粘着剤２の両側ラインに沿って、多列配置のカッター５（又は６）により、分割波長板材料層を一括して切断するので、設計どおりに所定パターンの分割波長板２０８を精度良く形成できると共に、量産性を有していることにより、立体画像表示装置の分割波長板フィルターに対する要求（即ち、画素ピッチライン１に対応して１ライン置きに正確に配置可能な精度と量産性等）を満たすことのできる、分割波長板フィルターの製造方法を提供できる。
【０１１０】
上記した各実施の形態は、本発明の技術的思想に基づいて変形することができる。
【０１１１】
例えば、各実施の形態における分割波長板２０８の形成プロセスは実施の形態に示した以外の適宜であってもよく、使用する材料及び配向処理の方法も同等の機能を発揮できれば適宜に行ってよい。
【０１１２】
また、転写により分割波長板２０８を形成する場合も、実施の形態以外の方法で行ってもよく、切断除去の方法も実施の形態以外の適宜の方法を採用してもよい。
【０１１３】
更に、本発明は、上述した偏光めがね方式による立体像観察に限らず、偏光等による視差等を用いる公知の立体像観察一般にも適用できる。
【０１１４】
【発明の作用効果】
上述した如く、本発明の分割波長板の製造方法によれば、次の（１）〜（４）に示すような顕著な作用効果を奏し、精度が良く、量産性のある製造方法を提供できる。
（１）、第１の製造方法は、分割波長板となる材料層、及びこの分割波長板の形成過程で必要な下地層の如き材料も印刷によって均一パターン、均一厚みに形成できるため、上記した目的を常に実現できるように、分割波長板を所定のパターンに精度良く形成できる。
（２）、第２の製造方法は、第１の基体上に高付着層を設計どおりの所定パターンに形成しただけで、第１の基体の高付着層上に第２の基体上から分割波長板となる材料層を所定パターンに転写でき、従って第１の基体上に分割波長板を所定パターンに精度良く、簡単な工程で形成できる。
（３）、第３の製造方法は、残すべき分割波長板領域をレーザ照射パターンに対応させることにより、常に所定パターンに精度良く形成できる。
（４）、第４の製造方法は、この材料層を切断するだけで前記分割パターンに残す領域と除去する領域とに区分し、後者の領域を除去することにより、前者の領域を前記粘着剤又は接着剤層上に分割波長板として、所定パターンに精度良く残すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１による分割波長板フィルターの形成過程を示す概略斜視図である。
【図２】同、実施の形態１に用いる印刷装置を示す概略図である。
【図３】同、実施の形態２による分割波長板フィルター製造プロセスを示す概略断面図である。
【図４】同、各実施の形態において材料層を印刷後に配向処理する概念を示す図である。
【図５】同、各実施の形態における材料層の形成、配向処理の具体例を示す概略断面図である。
【図６】同、各実施の形態における材料層の形成、配向処理の具体例を示す概略断面図である。
【図７】同、配向処理の変形例を示す概略断面図である。
【図８】同、配向処理の変形例を示す概略断面図である。
【図９】同、各実施の形態における材料層の形成、配向処理の具体例を示す概略断面図である。
【図１０】同、各実施の形態における材料層の形成、配向処理の具体例を示す概略断面図である。
【図１１】同、各実施の形態における材料層の形成、配向処理の具体例を示す概略断面図である。
【図１２】同、配向処理の変形例を示す概略断面図である。
【図１３】同、実施の形態３による配向処理例を示す概略斜視図である。
【図１４】同、実施の形態４により、レーザ照射で分割波長板フィルターを形成する概略斜視図である。
【図１５】同、実施の形態５における分割波長板材料層の切断状態の一例を示す概略斜視図である。
【図１６】同、切断状態の一例を示す概略図である。
【図１７】同、切断状態の一例を示す概略図である。
【図１８】同、切断の変形例を示す概略斜視図である。
【図１９】立体画像表示装置の画素部と分割波長板フィルター部の構成を示す分解模式図である。
【図２０】従来例による分割波長板フィルターの製造方法の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１…印刷材料、２…接着剤（又は粘着材）、３…分割波長板材料層、
４…除去部、３ａ…剥離部、３ｂ…特性消失部、５、１６…カッター、
６…保護膜、８…配向膜（ポリイミド）、８ａ…ラビング処理部、
９…複屈折液晶ポリマー（インク）、９ａ…相変化した部分、
１２…光重合性モノマー（インク）、１４…熱吸収インク、１５…マスク、
１６ａ…軸、１７…搬送ローラー、１８…酸化チタン、２０…グラインダー、
２１…台、２２…アニックスロール、２３…印刷ロール、
２４…ドクターブレード、２６…ラビングロール、２８…ノズル、２９…液体、３０…レーザ照射、２０８…分割波長板、２０９…ガラス基板、Ｆ…矢印、
Ｄ…間隙、Ｌ…ライン方向

Claims

画素表示部において視差に対応して分割された各画像領域からそれぞれ得られた光の偏光方向を制御する分割波長板フィルターを製造する方法であって、
分割波長板となる材料層を形成する工程と、
この材料層を所定の分割パターンに形成する過程で印刷法を適用する工程とを有する、分割波長板フィルターの製造方法。
接着剤又は粘着剤を基体上に前記分割パターンに印刷した後に、前記材料層を前記基体上に形成し、更に前記接着剤又は粘着剤が存在しない領域の前記材料層を選択的に除去する、請求項１に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記材料層として位相差特性のある材料層を用いる、請求項２に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記材料層を複屈折液晶ポリマー層で形成し、この複屈折液晶ポリマー層を前記分割パターンに配向処理する、請求項１に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
基体上に配向膜を全面又は所定パターンに形成し、この配向膜上に前記複屈折液晶ポリマー層を形成し、この複屈折液晶ポリマー層を前記分割パターンに配向処理する、請求項４に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
配向膜材料層を形成した後にラビングして前記配向膜を形成する、請求項５に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記配向膜材料層を印刷により形成し、この上に前記複屈折液晶ポリマー層を全面又は所定パターンに印刷する、請求項６に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記複屈折液晶ポリマー層を形成した後に熱処理する、請求項７に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記複屈折液晶ポリマー層を前記分割パターンに印刷し、配向処理する、請求項４に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記材料層を光重合性モノマー層で形成する、請求項１に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
基体上に配向膜を全面又は所定パターンに形成し、この配向膜上に前記光重合性モノマー層を全面又は前記分割パターンに形成した後、前記光重合性モノマー層を露光処理してポリマー化すると共に配向処理する、請求項１０に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
配向膜材料層を形成した後にラビング処理して前記配向膜を形成する、請求項１１に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記配向膜材料層を印刷により形成し、この上に前記光重合性モノマー層を全面又は所定パターンに印刷する、請求項１２に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記光重合性モノマー層を前記分割パターンに偏光露光する、請求項１０に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記光重合性モノマーを全面又は前記分割パターンに印刷し、この光重合性モノマー層を露光処理してポリマー化した後に、このポリマー層をラビングして配向処理する、請求項１０に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記材料層を全面又は前記分割パターンに形成し、この上に熱吸収性インクを前記分割パターンに印刷した後に、全面露光する、請求項３に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記材料層として位相差特性のある材料層を用いる、請求項１６に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記分割パターンに形成された分割波長板上を保護膜によって被覆する、請求項１に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
画像表示部において視差に対応して分割された各画像領域からそれぞれ得られた光の偏光方向を制御する分割波長板フィルターを製造する方法であって、
付着性の高い高付着層を第１の基体上に所定パターンに形成する工程と、
第２の基体上に分割波長板となる材料層を形成する工程と、
前記高付着層と前記材料層とを接触させた状態で前記第１の基体と前記第２の基体とを互いに圧接する工程と、
これらの基体を分離することにより、前記第１の基体の前記高付着層上にこれと同一パターンに前記材料層を転写する工程と
を有する、分割波長板フィルターの製造方法。
前記高付着層を印刷により形成する、請求項１９に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記第２の基体上に前記高付着層とは逆パターンに残された前記材料層も前記分割波長板として用いる、請求項１９に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
画像表示部において視差に対応して分割された各画像領域からそれぞれ得られた光の偏光方向を制御する分割波長板フィルターを製造する方法であって、
分割波長板となる材料層を形成し、この材料層を所定パターンにレーザ照射する、
分割波長板フィルターの製造方法。
前記レーザ照射により前記材料層を選択的にアブレーションして、前記分割パターンに前記材料層を残す、請求項２２に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記材料層として位相差特性のある材料層を用いる、請求項２３に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記材料層として位相差特性のある材料層を用い、前記レーザ照射により前記材料層の前記位相差特性を選択的に消失させて、前記分割パターンに前記位相差特性のある材料層を残す、請求項２４に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記材料層上にレーザ吸収性材料層を形成する、請求項２２に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記レーザ照射によって得られた分割波長板上を保護膜によって被覆する、請求項２２に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
画像表示部において視差に対応して分割された各画像領域からそれぞれ得られた光の偏光方向を制御する分割波長板フィルターを製造する方法であって、
基体上に粘着剤層又は接着剤層を形成し、この上に前記分割波長板となる材
料層を形成する工程と、
この材料層を選択的に切断除去して前記分割パターンに残す工程と
を有する、分割波長板フィルターの製造方法。
前記材料層として位相差特性のある材料層を用いる、請求項２８に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記切断除去を、少なくとも多列配置の切断刃によって行なう、請求項２８に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記切断除去を液体の高圧噴射によって行う、請求項２８に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記液体として水又は温水を使用する、請求項３１に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記粘着剤層又は接着剤層を全面又は前記分割パターンに形成する、請求項２８に記載した分割波長板フィルターの製造方法。
前記切断除去により得られた分割波長板上を保護膜で被覆する、請求項２８に記載した分割波長板フィルターの製造方法。