JP2004139712A5 - - Google Patents

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  1. Bi 0.005〜0.40%(以下、特記しない限り原子%を表す)含有するAg基合金であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag基合金反射膜または半透過反射膜。
  2. 上記Ag基合金は、希土類金属元素の少なくとも1種を含有するものである請求項1に記載の光情報記録媒体用Ag基合金反射膜または半透過反射膜。
  3. 上記希土類金属元素は、Ndおよび/またはYである請求項2に記載の光情報記録媒体用Ag基合金反射膜または半透過反射膜。
  4. 上記希土類金属元素としてNdおよび/またはYを合計で0.1〜2%含有するものである請求項3に記載の光情報記録用Ag基合金反射膜または半透過反射膜。
  5. 上記Ag基合金は、Cu,Au,Rh,Pd,Ptから選ばれる少なくとも1種を合計で0.1〜3%含有するものである請求項1〜4のいずれかに記載の光情報記録媒体用Ag基合金反射膜または半透過反射膜。
  6. Biを0.05〜4.5%含有するAg基合金であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag基合金スパッタリングターゲット。
  7. Sb 0.005 0.40 %含有し、更に希土類金属元素の少なくとも1種を含有する Ag 基合金であることを特徴とする光情報記録媒体用 Ag 基合金反射膜または半透過反射膜。
  8. 上記希土類金属元素は、 Nd および/または Y である請求項7に記載の光情報記録媒体用 Ag 基合金反射膜または半透過反射膜。
  9. 上記希土類金属元素として Nd および/または Y を合計で 0.1 2 %含有するものである請求項8に記載の光情報記録媒体用 Ag 基合金反射膜または半透過反射膜。
  10. 上記 Ag 基合金は、 Cu,Au,Rh,Pd,Pt から選ばれる少なくとも1種を合計で 0.1 3% 含有するものである請求項7〜9のいずれかに記載の光情報記録媒体用 Ag 基合金反射膜または半透過反射膜。
  11. Sbを0.005〜0.40%含有し、更に希土類金属元素の少なくとも1種を含有するAg基合金であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag基合金スパッタリングターゲット。
  12. 請求項1〜5、7〜10のいずれかに記載のAg基合金反射膜を備えることを特徴とする光情報記録媒体。
  13. 請求項1〜5、7〜10のいずれかに記載のAg基合金半透過反射膜を備えることを特徴とする光情報記録媒体。
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DE10336228A DE10336228B4 (de) 2002-08-08 2003-08-07 Dünner Film auf Ag-Legierungsbasis, Verwendung dieses Films und Herstellungsverfahren für diesen Film
KR1020030055105A KR100605840B1 (ko) 2002-08-08 2003-08-08 Ag계 합금 박막, 및 Ag계 합금 박막 형성용 스퍼터링 타겟
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US12/183,700 US7871686B2 (en) 2002-08-08 2008-07-31 Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film
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Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3993530B2 (ja) * 2003-05-16 2007-10-17 株式会社神戸製鋼所 Ag−Bi系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法
JP3907666B2 (ja) 2004-07-15 2007-04-18 株式会社神戸製鋼所 レーザーマーキング用再生専用光情報記録媒体
JP4575211B2 (ja) 2005-03-31 2010-11-04 株式会社東芝 記憶媒体、再生方法及び記録方法
JP2006294195A (ja) 2005-04-14 2006-10-26 Kobe Steel Ltd 光情報記録用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP2007003624A (ja) * 2005-06-21 2007-01-11 Ishifuku Metal Ind Co Ltd 半反射型半透過膜
JP4527624B2 (ja) * 2005-07-22 2010-08-18 株式会社神戸製鋼所 Ag合金反射膜を有する光情報媒体
JP2007035104A (ja) 2005-07-22 2007-02-08 Kobe Steel Ltd 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
US7790064B2 (en) 2005-12-22 2010-09-07 Pioneer Corporation Polycrystalline aluminum thin film and optical recording medium
JP4864586B2 (ja) * 2006-08-01 2012-02-01 新明和工業株式会社 真空成膜装置および真空成膜方法
US8092889B2 (en) 2006-08-28 2012-01-10 Kobe Steel, Ltd. Silver alloy reflective film for optical information storage media, optical information storage medium, and sputtering target for the deposition of silver alloy reflective film for optical information storage media
JP2008066068A (ja) * 2006-09-06 2008-03-21 Ichikoh Ind Ltd 車両用ランプ装置
JP2008066069A (ja) * 2006-09-06 2008-03-21 Ichikoh Ind Ltd 車両用ランプ装置
JP4176136B2 (ja) * 2006-09-21 2008-11-05 株式会社神戸製鋼所 Ag合金薄膜
WO2008035617A1 (fr) * 2006-09-21 2008-03-27 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho FILM MINCE D'ALLIAGE Ag ET CIBLE DE PULVÉRISATION D'ALLIAGE Ag POUR LA FORMATION DU FILM MINCE D'ALLIAGE Ag
JP2008117470A (ja) 2006-11-02 2008-05-22 Sony Corp 光情報記録媒体および光情報記録媒体の製造方法、BCA(BurstCuttingArea)マーキング方法
JP2008156753A (ja) 2006-12-01 2008-07-10 Kobe Steel Ltd 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のスパッタリングターゲット
JP4540687B2 (ja) 2007-04-13 2010-09-08 株式会社ソニー・ディスクアンドデジタルソリューションズ 読み出し専用の光情報記録媒体
CN101809467B (zh) 2007-09-25 2012-12-12 株式会社神户制钢所 反射膜、反射膜层叠体、led、有机el显示器及有机el照明器具
JP5103462B2 (ja) * 2009-11-18 2012-12-19 株式会社神戸製鋼所 Ag合金熱拡散制御膜およびこれを備えた熱アシスト記録用磁気記録媒体
JP2012108440A (ja) * 2010-11-19 2012-06-07 Seiko Epson Corp 干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置
JP5742615B2 (ja) * 2011-09-15 2015-07-01 三菱マテリアル株式会社 導電性膜及びその製造方法並びに導電性膜形成用銀合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
JP5910099B2 (ja) 2012-01-18 2016-04-27 セイコーエプソン株式会社 干渉フィルター、光学モジュールおよび電子機器
WO2014208341A1 (ja) 2013-06-26 2014-12-31 株式会社神戸製鋼所 反射電極用または配線電極用Ag合金膜、反射電極または配線電極、およびAg合金スパッタリングターゲット

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