JP2004132435A5 - 軸受装置、テーブル装置、露光装置並びに半導体製造方法 - Google Patents

軸受装置、テーブル装置、露光装置並びに半導体製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2004132435A5
JP2004132435A5 JP2002296302A JP2002296302A JP2004132435A5 JP 2004132435 A5 JP2004132435 A5 JP 2004132435A5 JP 2002296302 A JP2002296302 A JP 2002296302A JP 2002296302 A JP2002296302 A JP 2002296302A JP 2004132435 A5 JP2004132435 A5 JP 2004132435A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
guide surface
guide
permanent magnet
moving
movable body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002296302A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004132435A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2002296302A priority Critical patent/JP2004132435A/ja
Priority claimed from JP2002296302A external-priority patent/JP2004132435A/ja
Priority to US10/676,091 priority patent/US7084538B2/en
Priority to KR1020030069841A priority patent/KR100562127B1/ko
Publication of JP2004132435A publication Critical patent/JP2004132435A/ja
Priority to US11/214,752 priority patent/US7262524B2/en
Publication of JP2004132435A5 publication Critical patent/JP2004132435A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Description

【特許請求の範囲】
【請求項1】 磁性体からなるガイド面を有するガイドと、
前記ガイド面に沿って移動する移動体の前記ガイド面との対向部に設けられた流体軸受と、
前記ガイド面と前記移動体との間に磁気吸引力を付与するべく該移動体に設けられた永久磁石とを備え、
前記永久磁石の少なくとも一部が前記ガイド面を逸脱したときに発生する該ガイド面に平行な方向の磁気吸引力を用いて、前記ガイド面における前記移動体の移動方向に直交する方向への該移動体の変位が規制されるように前記ガイド面の大きさ及び前記永久磁石の配置位置が規定されていることを特徴とする軸受装置。
【請求項2】 前記ガイド面の前記直交する方向の幅が、前記ガイド上に前記移動方向と平行に設けられた溝によって規定されることを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
【請求項3】 前記ガイド面の前記直交方向の幅が、前記ガイド上に前記移動方向と平行に設けられた溝と、該ガイドの該移動方向に沿った終端部とで規定されることを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
【請求項4】 前記ガイド面の前記直交方向の幅が、前記永久磁石の幅と同一もしくは、それよりも小さいことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の軸受装置。
【請求項5】 前記永久磁石を、前記移動体の前記移動方向に沿って離間した複数箇所に設けたことを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
【請求項6】 前記ガイドに前記永久磁石と対向する凸部を設け、該凸部の該永久磁石と対向する面を前記ガイド面とすることを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
【請求項7】 前記ガイド面は、前記ガイドの両側部に、前記移動方向に沿って延びる方向に形成され、前記移動体は前記両側部の前記ガイド面にまたがって設けられ、前記ガイド面に対向する位置の各々に永久磁石が設けられており、
前記永久磁石の各々の外側の端部と前記ガイド面の外側の端部とが一致するように設けられ、前記移動体が前記移動方向と直交する方向に変位した場合に、少なくとも一つの永久磁石の少なくとも一部が前記ガイド面から逸脱することを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
【請求項8】 前記ガイド面は、前記ガイドの両側部に、前記移動方向に沿って延びる方向に形成され、前記移動体は前記両側部の前記ガイド面にまたがって設けられ、前記ガイド面に対向する位置の各々に永久磁石が設けられており、
前記永久磁石の各々の外側の端部は、前記ガイド面の外側の端部より突出して設けられ、前記移動体が前記移動方向と直交する方向に変位した場合に、前記永久磁石と前記ガイド面との間の水平方向の吸引力の均衡が崩れることを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
【請求項9】 前記ガイド面の前記移動方向に直交する方向の幅が前記永久磁石の対向面よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
【請求項10】 さらに、前記移動方向に対する前記移動体の変位を規制するべく前記ガイド面の大きさ及び前記永久磁石の配置位置が規定されることを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
【請求項11】 前記ガイド面は、前記ガイドの両側部に、前記移動方向に沿って延びる方向に形成され、前記移動体は前記が両側部のガイド面に跨って設けられ、前記ガイド面に対向する位置の各々に永久磁石が設けられており、
前記移動体の一方の側には、前記移動体の回転方向の変位を規制するための流体パッドが設けられていることを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
【請求項12】 磁性体からなるガイド面を有するガイドと、
前記ガイド面に沿って移動可能な移動体と、
前記移動体の前記ガイド面との対向部に設けられた流体軸受と、
前記ガイド面と前記移動体との間に磁気吸引力を付与するべく該移動体に設けられた永久磁石とを備え、
前記永久磁石の少なくとも一部が前記ガイド面を逸脱したときに発生する該ガイド面に平行な方向の磁気吸引力を用いて、前記移動体の移動方向に直交する向への該移動体の変位が規制されるように前記ガイド面の大きさ及び前記永久磁石の配置位置が規定されていることを特徴とするテーブル装置。
【請求項13】 原版のパターンの一部を投影光学系を介して基板上に投影し、前記原版のパターンの一部の露光領域を前記基板上に露光する露光手段と、
前記露光のための前記原版及び/または基板を移動させるための、請求項12に記載のテーブル装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項14】 請求項13に記載の露光装置を用いたことを特徴とする半導体製造方法。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するための本発明による軸受装置は以下の構成を備える。すなわち、
磁性体からなるガイド面を有するガイドと、
前記ガイド面に沿って移動する移動体の前記ガイド面との対向部に設けられた流体軸受と、
前記ガイド面と前記移動体との間に磁気吸引力を付与するべく該移動体に設けられた永久磁石とを備え、
前記永久磁石の少なくとも一部が前記ガイド面を逸脱したときに発生する該ガイド面に平行な方向の磁気吸引力を用いて、前記ガイド面における前記移動体の移動方向に直交する方向への該移動体の変位が規制されるように前記ガイド面の大きさ及び前記永久磁石の配置位置が規定されている。
また、前記ガイド面は、前記ガイドの両側部に、前記移動方向に沿って延びる方向に形成され、前記移動体は前記両側部の前記ガイド面にまたがって設けられ、前記ガイド面に対向する位置の各々に永久磁石が設けられており、
前記永久磁石の各々の外側の端部は、前記ガイド面の外側の端部より突出して設けられ、前記移動体が前記移動方向と直交する方向に変位した場合に、前記永久磁石と前記ガイド面との間の水平方向の吸引力の均衡が崩れることを特徴とする構成としてもい。
更に、本発明によれば、原版のパターンの一部を投影光学系を介して基板上に投影し、前記原版のパターンの一部の露光領域を前記基板上に露光する露光手段と、
前記露光のための前記原版及び/または基板を移動させるための、上記いずれかのテーブル装置を備えた露光装置が提供される。

Claims (14)

  1. 磁性体からなるガイド面を有するガイドと、
    前記ガイド面に沿って移動する移動体の前記ガイド面との対向部に設けられた流体軸受と、
    前記ガイド面と前記移動体との間に磁気吸引力を付与するべく該移動体に設けられた永久磁石とを備え、
    前記永久磁石の少なくとも一部が前記ガイド面を逸脱したときに発生する該ガイド面に平行な方向の磁気吸引力を用いて、前記移動体の移動方向に直交する方向への該移動体の変位が規制されるように前記ガイド面の大きさ及び前記永久磁石の配置位置が規定されていることを特徴とする軸受装置。
  2. 前記ガイド面の前記直交する方向の幅が、前記ガイド上に前記移動方向と平行に設けられた溝によって規定されることを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
  3. 前記ガイド面の前記直交方向の幅が、前記ガイド上に前記移動方向と平行に設けられた溝と、該ガイドの該移動方向に沿った終端部とで規定されることを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
  4. 前記ガイド面の前記直交方向の幅が、前記永久磁石の幅と同一もしくは、それよりも小さいことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の軸受装置。
  5. 前記永久磁石を、前記移動体の前記移動方向に沿って離間した複数箇所に設けたことを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
  6. 前記ガイドに前記永久磁石と対向する凸部を設け、該凸部の該永久磁石と対向する面を前記ガイド面とすることを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
  7. 前記ガイド面は、前記ガイドの両側部に、前記移動方向に沿って延びる方向に形成され、前記移動体は前記両側部の前記ガイド面にまたがって設けられ、前記ガイド面に対向する位置の各々に永久磁石が設けられており、
    前記永久磁石の各々の外側の端部と前記ガイド面の外側の端部とが一致するように設けられ、前記移動体が前記移動方向と直交する方向に変位した場合に、少なくとも一つの永久磁石の少なくとも一部が前記ガイド面から逸脱することを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
  8. 前記ガイド面は、前記ガイドの両側部に、前記移動方向に沿って延びる方向に形成され、前記移動体は前記両側部の前記ガイド面にまたがって設けられ、前記ガイド面に対向する位置の各々に永久磁石が設けられており、
    前記永久磁石の各々の外側の端部は、前記ガイド面の外側の端部より所定量だけ突出して設けられ、前記移動体が前記移動方向と直交する方向に変位した場合に、前記永久磁石と前記ガイド面との間の水平方向の吸引力の均衡が崩れることを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
  9. 前記ガイド面の前記移動方向に直交する方向の幅が前記永久磁石の対向面よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
  10. さらに、前記移動方向に対する前記移動体の変位を規制するべく前記ガイド面の大きさ及び前記永久磁石の配置位置が規定されることを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
  11. 前記ガイド面は、前記ガイドの両側部に、前記移動方向に沿って延びる方向に形成され、前記移動体は前記が両側部のガイド面に跨って設けられ、前記ガイド面に対向する位置の各々に永久磁石が設けられており、
    前記移動体の一方の側には、前記移動体の回転方向の変位を規制するための流体パッドが設けられていることを特徴とする請求項1に記載の軸受装置。
  12. 磁性体からなるガイド面を有するガイドと、
    前記ガイド面に沿って移動可能な移動体と、
    前記移動体の前記ガイド面との対向部に設けられた流体軸受と、
    前記ガイド面と前記移動体との間に磁気吸引力を付与するべく該移動体に設けられた永久磁石とを備え、
    前記永久磁石の少なくとも一部が前記ガイド面を逸脱したときに発生する該ガイド面に平行な方向の磁気吸引力を用いて、前記移動体の移動方向に直交する向への該移動体の変位が規制されるように前記ガイド面の大きさ及び前記永久磁石の配置位置が規定されていることを特徴とするテーブル装置。
  13. 原版のパターンの一部を投影光学系を介して基板上に投影し、前記原版のパターンの所定の露光領域を前記基板上に露光する露光手段と、
    前記露光のための前記原版及び/または基板を移動させるための、請求項13に記載のテーブル装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
  14. 請求項13に記載の露光装置を用いた半導体製造方法。
JP2002296302A 2002-10-09 2002-10-09 軸受装置 Pending JP2004132435A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002296302A JP2004132435A (ja) 2002-10-09 2002-10-09 軸受装置
US10/676,091 US7084538B2 (en) 2002-10-09 2003-10-02 Bearing assembly, stage device using same, and exposure apparatus using same
KR1020030069841A KR100562127B1 (ko) 2002-10-09 2003-10-08 베어링 어셈블리, 이를 이용한 스테이지 장치 및 이를이용한 노광장치
US11/214,752 US7262524B2 (en) 2002-10-09 2005-08-31 Bearing assembly, stage device using same, and exposure apparatus using same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002296302A JP2004132435A (ja) 2002-10-09 2002-10-09 軸受装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004132435A JP2004132435A (ja) 2004-04-30
JP2004132435A5 true JP2004132435A5 (ja) 2007-01-11

Family

ID=32104959

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002296302A Pending JP2004132435A (ja) 2002-10-09 2002-10-09 軸受装置

Country Status (3)

Country Link
US (2) US7084538B2 (ja)
JP (1) JP2004132435A (ja)
KR (1) KR100562127B1 (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004132435A (ja) * 2002-10-09 2004-04-30 Canon Inc 軸受装置
JP3950861B2 (ja) * 2004-02-25 2007-08-01 キヤノン株式会社 位置決め装置及び露光装置
US7978307B2 (en) * 2006-05-04 2011-07-12 Asml Netherlands B.V. Gas bearing, and lithographic apparatus provided with such a bearing
US7692768B2 (en) * 2006-06-29 2010-04-06 Nikon Corporation Iron core motor driven automatic reticle blind
US7830046B2 (en) * 2007-03-16 2010-11-09 Nikon Corporation Damper for a stage assembly
EP2008763B1 (de) * 2007-06-30 2010-04-14 Trumpf Werkzeugmaschinen GmbH + Co. KG Werkzeugmaschine mit einer Funktionseinheit mit Linearantrieb
KR100851058B1 (ko) * 2007-09-03 2008-08-12 한국기계연구원 기계장치의 평면 스테이지 이동장치
US8084896B2 (en) * 2008-12-31 2011-12-27 Electro Scientific Industries, Inc. Monolithic stage positioning system and method
KR20130016198A (ko) * 2010-03-04 2013-02-14 가부시키가이샤 야스카와덴키 스테이지 장치
EP2667751A4 (en) * 2011-01-26 2017-03-01 Rainis, Dov A support apparatus and method for a sliding frame
CN103790963B (zh) * 2012-11-02 2017-02-08 上海微电子装备有限公司 一种分体式气足及平面导向装置
JP5783643B2 (ja) * 2013-06-12 2015-09-24 株式会社ソディック 放電加工装置
JP5532175B1 (ja) * 2013-07-02 2014-06-25 日本精工株式会社 テーブル装置、及び搬送装置
CN110524500B (zh) * 2019-09-27 2023-02-03 复旦大学 磁浮导轨运动平台
CN113944691B (zh) * 2021-09-22 2022-04-29 哈尔滨工业大学 移动式气浮导向机构

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3125964A (en) * 1964-03-24 silverman
DE2220735A1 (de) * 1972-01-20 1973-11-08 Krauss Maffei Ag Anordnung zum beruehrungsfreien magnetischen tragen eines schwebefahrzeugs im bereich einer fahrbahnverzweigung
JPS61290231A (ja) 1985-06-19 1986-12-20 Nippon Seiko Kk 静圧案内軸受
JPS6320014A (ja) 1986-07-15 1988-01-27 Mitsubishi Electric Corp 液体循環濾過装置
JP2573502B2 (ja) 1987-09-22 1997-01-22 日本電信電話株式会社 二軸移動装置
US5140208A (en) * 1991-04-25 1992-08-18 Maglev Technology, Inc. Self-adjusting magnetic guidance system for levitated vehicle guideway
US5319275A (en) * 1990-09-17 1994-06-07 Maglev Technology, Inc. Magnetic levitation self-regulating systems having enhanced stabilization forces
US5196745A (en) * 1991-08-16 1993-03-23 Massachusetts Institute Of Technology Magnetic positioning device
DE4206731C1 (ja) 1992-03-04 1993-07-22 Blaupunkt-Werke Gmbh, 3200 Hildesheim, De
US5541460A (en) * 1994-02-25 1996-07-30 Seagate Technology, Inc. Passive magnetic bearings for a spindle motor
US5925956A (en) * 1995-06-30 1999-07-20 Nikon Corporation Stage construction incorporating magnetically levitated movable stage
US5780943A (en) * 1996-04-04 1998-07-14 Nikon Corporation Exposure apparatus and method
JPH10521A (ja) * 1996-06-07 1998-01-06 Nikon Corp 支持装置
US6151100A (en) 1996-12-12 2000-11-21 Canon Kabushiki Kaisha Positioning system
US5825105A (en) * 1997-04-07 1998-10-20 Modern Transport Systems, Corp. Magnetic levitation and systems for the support and conveyance of useful payloads
US6101952A (en) * 1997-12-24 2000-08-15 Magnemotion, Inc. Vehicle guidance and switching via magnetic forces
JP3810039B2 (ja) 1998-05-06 2006-08-16 キヤノン株式会社 ステージ装置
KR20010112467A (ko) * 1999-04-27 2001-12-20 시마무라 테루오 스테이지 장치 및 노광장치
US6309115B1 (en) * 1999-11-30 2001-10-30 Eastman Kodak Company Method and apparatus for photofinishing a photosensitive media and/or ordering of image products
US6271606B1 (en) * 1999-12-23 2001-08-07 Nikon Corporation Driving motors attached to a stage that are magnetically coupled through a chamber
US6307619B1 (en) * 2000-03-23 2001-10-23 Silicon Valley Group, Inc. Scanning framing blade apparatus
JP2002170765A (ja) * 2000-12-04 2002-06-14 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
KR100443474B1 (ko) * 2001-12-10 2004-08-09 한영수 인쇄회로기판의 검사장치
JP2004132435A (ja) * 2002-10-09 2004-04-30 Canon Inc 軸受装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004132435A5 (ja) 軸受装置、テーブル装置、露光装置並びに半導体製造方法
JP4562336B2 (ja) 変位装置
EP3254149B1 (en) Optical device for enhancing resolution of an image
US5782512A (en) Magnetic field latch assembly
US20020117109A1 (en) Multiple stage, stage assembly having independent reaction force transfer
JP2001351856A5 (ja)
EP2802937A2 (en) Electromagnetic actuators for digital cameras
KR101497216B1 (ko) 리니어 모터
MX2015003165A (es) Mecanismo de contacto.
JP2003244927A5 (ja)
US20070278865A1 (en) Electric Machine
JP2005093654A5 (ja)
BR0211748A (pt) Método e aparelho para a montagem de molde de lente de contato
JP2003227986A5 (ja)
KR20190073334A (ko) 마스크 흡착 장치
JPH03178747A (ja) 2次元モータ式ステージ装置
JP2005166996A5 (ja)
JP3729430B2 (ja) 静圧ステージ及び走査型露光装置
JP4581641B2 (ja) 平面ステージ
JP2002333018A (ja) 流体軸受装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法
JP2004152902A5 (ja)
JP3797670B2 (ja) 静圧ステージ及び走査型露光装置
JPH03221336A (ja) 可動ステージ装置
CN216526653U (zh) 光学防抖马达、摄像模组和移动终端
JPH0545107Y2 (ja)