JP2002333018A - 流体軸受装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 - Google Patents
流体軸受装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法Info
- Publication number
- JP2002333018A JP2002333018A JP2001138248A JP2001138248A JP2002333018A JP 2002333018 A JP2002333018 A JP 2002333018A JP 2001138248 A JP2001138248 A JP 2001138248A JP 2001138248 A JP2001138248 A JP 2001138248A JP 2002333018 A JP2002333018 A JP 2002333018A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bearing
- magnetic
- guide
- adjusting
- hydrostatic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70816—Bearings
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 静圧発生部と予圧発生部を同一位置にするこ
とで軸受性能を向上させる。 【解決手段】 磁性体からなるガイド１の案内面１ａに
対向する静圧軸受パッド３の軸受面を、一対の永久磁石
３１、３２によって構成し、破線で示す方向に磁束を有
する磁気回路の磁気吸引力によって軸受間隙の加圧流体
に予圧を付与する。各永久磁石３１、３２の背面側に介
在させたヨーク３３、３４の間の空隙ｓの寸法を、くさ
び部材３５を出入することで調整し、予圧分布を調節し
て姿勢調整を行なうことができる。
とで軸受性能を向上させる。 【解決手段】 磁性体からなるガイド１の案内面１ａに
対向する静圧軸受パッド３の軸受面を、一対の永久磁石
３１、３２によって構成し、破線で示す方向に磁束を有
する磁気回路の磁気吸引力によって軸受間隙の加圧流体
に予圧を付与する。各永久磁石３１、３２の背面側に介
在させたヨーク３３、３４の間の空隙ｓの寸法を、くさ
び部材３５を出入することで調整し、予圧分布を調節し
て姿勢調整を行なうことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造用の露
光装置等に搭載されるＸＹステージや、工作機械、測定
器等の案内装置等に用いられる流体軸受装置、およびこ
れを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法に関する
ものである。
光装置等に搭載されるＸＹステージや、工作機械、測定
器等の案内装置等に用いられる流体軸受装置、およびこ
れを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイス等を製造するための露光
装置や、工作機械、あるいは測定器等においては、ウエ
ハ等基板や被加工物、被測定物等を位置決めあるいは案
内するためのステージに高精度な流体軸受装置が用いら
れる。流体軸受装置は、軸受面に加圧流体を供給しその
静圧力により軸受部材同志を非接触で支持するもので、
例えば、移動体の軸受面とこれを支持する案内面とを相
互に吸引させる磁気手段により予圧を付与し、軸受の高
剛性化、高精度化を図る静圧軸受が知られている（特開
昭６１−２９０２３１号公報参照）。
装置や、工作機械、あるいは測定器等においては、ウエ
ハ等基板や被加工物、被測定物等を位置決めあるいは案
内するためのステージに高精度な流体軸受装置が用いら
れる。流体軸受装置は、軸受面に加圧流体を供給しその
静圧力により軸受部材同志を非接触で支持するもので、
例えば、移動体の軸受面とこれを支持する案内面とを相
互に吸引させる磁気手段により予圧を付与し、軸受の高
剛性化、高精度化を図る静圧軸受が知られている（特開
昭６１−２９０２３１号公報参照）。
【０００３】従来の静圧案内軸受は、移動体とガイドの
それぞれに、永久磁石と磁性体または電磁石と磁性体を
対向させて固定した構造であった。
それぞれに、永久磁石と磁性体または電磁石と磁性体を
対向させて固定した構造であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、一般的に、磁石や磁性体が移動体およ
びガイドのそれぞれに対して固定された構造であるた
め、磁力の調整ができず、軸受交換時または部品交換時
等に適正な予圧に調整することが困難であり、さらに、
磁石の特性のバラつきによって移動体が受ける力が変化
し姿勢変動が生ずる場合があった。特に、電磁石を用い
た場合には熱が発生してガイド等が変形し精度が低下す
るおそれもあった。また、軸受面に予圧を付与するため
の磁気手段の磁力を調整可能としたものも開発されてい
るが、従来の軸受装置はいずれも、静圧発生部と、磁力
による予圧発生部が位置的にずれているために、軸受が
取り付けられている移動体やガイドが変形し、流体軸受
の負荷容量の減少や剛性の低下が避けられないという未
解決の課題があった。
の技術によれば、一般的に、磁石や磁性体が移動体およ
びガイドのそれぞれに対して固定された構造であるた
め、磁力の調整ができず、軸受交換時または部品交換時
等に適正な予圧に調整することが困難であり、さらに、
磁石の特性のバラつきによって移動体が受ける力が変化
し姿勢変動が生ずる場合があった。特に、電磁石を用い
た場合には熱が発生してガイド等が変形し精度が低下す
るおそれもあった。また、軸受面に予圧を付与するため
の磁気手段の磁力を調整可能としたものも開発されてい
るが、従来の軸受装置はいずれも、静圧発生部と、磁力
による予圧発生部が位置的にずれているために、軸受が
取り付けられている移動体やガイドが変形し、流体軸受
の負荷容量の減少や剛性の低下が避けられないという未
解決の課題があった。
【０００５】本発明は上記従来の技術の有する未解決の
課題に鑑みてなされたものであり、磁石の特性にバラつ
き等があっても常に適正な予圧を付与して安定した姿勢
を保ち、しかも高剛性、高精度であり、かつ薄型であっ
て軸受性能の安定性にもすぐれている流体軸受装置、お
よびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法を
提供することを目的とするものである。
課題に鑑みてなされたものであり、磁石の特性にバラつ
き等があっても常に適正な予圧を付与して安定した姿勢
を保ち、しかも高剛性、高精度であり、かつ薄型であっ
て軸受性能の安定性にもすぐれている流体軸受装置、お
よびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法を
提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の流体軸受装置は、案内面を有するガイド
と、前記案内面に対向する軸受面を有する静圧軸受パッ
ドと、該静圧軸受パッドの前記軸受面に開口する開口手
段を通って前記案内面と前記軸受面の間の軸受間隙に動
作流体を供給する流体供給手段を有し、前記案内面と前
記軸受面がそれぞれ磁気手段であって、前記軸受間隙を
通る磁束による磁気吸引力を発生させる磁気回路を構成
することを特徴とする。
め、本発明の流体軸受装置は、案内面を有するガイド
と、前記案内面に対向する軸受面を有する静圧軸受パッ
ドと、該静圧軸受パッドの前記軸受面に開口する開口手
段を通って前記案内面と前記軸受面の間の軸受間隙に動
作流体を供給する流体供給手段を有し、前記案内面と前
記軸受面がそれぞれ磁気手段であって、前記軸受間隙を
通る磁束による磁気吸引力を発生させる磁気回路を構成
することを特徴とする。
【０００７】ガイドの案内面が磁性体であるとよい。
【０００８】静圧軸受パッドの軸受面が永久磁石によっ
て構成されているとよい。
て構成されているとよい。
【０００９】軸受間隙の磁束分布を調整する調整手段が
設けられているとよい。
設けられているとよい。
【００１０】静圧軸受パッドの軸受面が少なくとも一対
の互いに逆向きの極性を有する永久磁石によって構成さ
れているとよい。
の互いに逆向きの極性を有する永久磁石によって構成さ
れているとよい。
【００１１】調整手段が、永久磁石の背面側に設けられ
たヨークと、その空隙を調整する調整部材を備えている
とよい。
たヨークと、その空隙を調整する調整部材を備えている
とよい。
【００１２】調整手段が、永久磁石の背面側に設けられ
たヨークと、その位置を調整するスペーサを備えていて
もよい。
たヨークと、その位置を調整するスペーサを備えていて
もよい。
【００１３】静圧軸受パッドの軸受面が複数の多極配置
の永久磁石によって構成されており、該複数の永久磁石
を選択的に外部磁場により減磁することで軸受間隙の磁
束分布が調整自在であってもよい。
の永久磁石によって構成されており、該複数の永久磁石
を選択的に外部磁場により減磁することで軸受間隙の磁
束分布が調整自在であってもよい。
【００１４】静圧軸受パッドが、多孔質材で作られてい
てもよい。
てもよい。
【００１５】
【作用】互いに対向するガイドの案内面と静圧軸受パッ
ドの軸受面が、軸受間隙に磁束を発生させる磁性体と永
久磁石等の磁気手段であり、ガイドに静圧軸受パッドを
吸引する磁気吸引力によって軸受剛性を得る構成である
ため、動作流体による静圧発生部と磁気吸引力による予
圧発生部が同一位置にある。従って、軸受面の変形等に
よるトラブルが発生することなく、安定した軸受剛性と
高い軸受性能を実現できる。
ドの軸受面が、軸受間隙に磁束を発生させる磁性体と永
久磁石等の磁気手段であり、ガイドに静圧軸受パッドを
吸引する磁気吸引力によって軸受剛性を得る構成である
ため、動作流体による静圧発生部と磁気吸引力による予
圧発生部が同一位置にある。従って、軸受面の変形等に
よるトラブルが発生することなく、安定した軸受剛性と
高い軸受性能を実現できる。
【００１６】また、永久磁石の背面側や側面に、空隙や
位置を調整自在であるヨーク等を設けて、軸受間隙の磁
束分布を調整することによって、磁気手段の磁性のバラ
つきを防ぎ、予圧を安定させるとともに、移動体の姿勢
調整等も簡単に行なうことができる。
位置を調整自在であるヨーク等を設けて、軸受間隙の磁
束分布を調整することによって、磁気手段の磁性のバラ
つきを防ぎ、予圧を安定させるとともに、移動体の姿勢
調整等も簡単に行なうことができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００１８】図１は第１の実施の形態による流体軸受装
置を示す。これは、半導体デバイス等を製造するための
露光装置に搭載されるＸＹステージに用いるものであ
り、固定された台盤等を構成する磁気手段である磁性体
のガイド１と、ガイド１の案内面１ａ上に２次元的に移
動自在に支持されるウエハステージ等の移動体２を有
し、移動体２の下面には、移動体２の内部配管２ａを通
って供給される加圧流体を、ガイド１の案内面１ａに向
かって噴出する静圧軸受パッド３が固着されている。
置を示す。これは、半導体デバイス等を製造するための
露光装置に搭載されるＸＹステージに用いるものであ
り、固定された台盤等を構成する磁気手段である磁性体
のガイド１と、ガイド１の案内面１ａ上に２次元的に移
動自在に支持されるウエハステージ等の移動体２を有
し、移動体２の下面には、移動体２の内部配管２ａを通
って供給される加圧流体を、ガイド１の案内面１ａに向
かって噴出する静圧軸受パッド３が固着されている。
【００１９】静圧軸受パッド３は、磁気手段である一対
の永久磁石３１、３２を有し、永久磁石３１、３２の下
面によって構成される軸受面は、それぞれ、ガイド１の
案内面１ａに向かって開口する開口手段である開口部３
１ａ、３２ａを備えており、図示しない流体供給手段か
ら移動体２の内部配管２ａを通って供給される動作流体
である加圧流体は、各永久磁石３１、３２の開口部３１
ａ、３２ａからガイド１の案内面１ａとの間の軸受間隙
に噴出され、その静圧によって移動体２がガイド１の案
内面１ａ上に浮上し、非接触で支持される。
の永久磁石３１、３２を有し、永久磁石３１、３２の下
面によって構成される軸受面は、それぞれ、ガイド１の
案内面１ａに向かって開口する開口手段である開口部３
１ａ、３２ａを備えており、図示しない流体供給手段か
ら移動体２の内部配管２ａを通って供給される動作流体
である加圧流体は、各永久磁石３１、３２の開口部３１
ａ、３２ａからガイド１の案内面１ａとの間の軸受間隙
に噴出され、その静圧によって移動体２がガイド１の案
内面１ａ上に浮上し、非接触で支持される。
【００２０】両永久磁石３１、３２と移動体２の間には
調整手段であるヨーク３３、３４および調整部材である
くさび部材３５がそれぞれ配設されており、両永久磁石
３１、３２、両ヨーク３３、３４および磁性体であるガ
イド１との間に破線で示す方向に磁束を有する磁気回路
が形成される。くさび部材３５は、両ヨーク３３、３４
の間に出入りすることで、両者の間の空隙ｓの寸法を増
減し、後述するように前記磁気回路の磁気吸引力による
予圧分布を調整する。
調整手段であるヨーク３３、３４および調整部材である
くさび部材３５がそれぞれ配設されており、両永久磁石
３１、３２、両ヨーク３３、３４および磁性体であるガ
イド１との間に破線で示す方向に磁束を有する磁気回路
が形成される。くさび部材３５は、両ヨーク３３、３４
の間に出入りすることで、両者の間の空隙ｓの寸法を増
減し、後述するように前記磁気回路の磁気吸引力による
予圧分布を調整する。
【００２１】永久磁石３１、静圧軸受パッド３とガイド
１の案内面１ａの間の軸受間隙すなわちエアーギャッ
プ、ガイド１、永久磁石３２、ヨーク３４、くさび部材
３５、くさび部材３５とヨーク３３の間の空隙ｓ、ヨー
ク３３の磁気抵抗をそれぞれＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８とし、また永久磁石３１、３２
の全長をＤ、磁気回路の磁界をＨ、磁束密度をＢとする
と、以下の式で表わされる関係が成立する。
１の案内面１ａの間の軸受間隙すなわちエアーギャッ
プ、ガイド１、永久磁石３２、ヨーク３４、くさび部材
３５、くさび部材３５とヨーク３３の間の空隙ｓ、ヨー
ク３３の磁気抵抗をそれぞれＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８とし、また永久磁石３１、３２
の全長をＤ、磁気回路の磁界をＨ、磁束密度をＢとする
と、以下の式で表わされる関係が成立する。
【００２２】 ＨＤ＝ＢＡ（Ｒ１＋Ｒ２＋Ｒ３＋Ｒ４＋Ｒ５＋Ｒ６＋Ｒ７＋Ｒ８）・・（１） この式からＢ、Ｈを求めて、空気の透磁率をμｏ、磁石
面積をＳとすると、磁気吸引力ｆは以下の式によって算
出される。 ｆ＝Ｂ2 ・（Ｓ／２）・μｏ ・・・・・・（２）
面積をＳとすると、磁気吸引力ｆは以下の式によって算
出される。 ｆ＝Ｂ2 ・（Ｓ／２）・μｏ ・・・・・・（２）
【００２３】また、予圧力Ｆは移動体２の自重をＷとす
ると、以下のように表わされる。 Ｆ＝ｆ＋Ｗ ・・・・・・・（３）
ると、以下のように表わされる。 Ｆ＝ｆ＋Ｗ ・・・・・・・（３）
【００２４】この値は、くさび部材３５を出し入れする
ことで空隙ｓの寸法を変えることにより調整自在であ
る。すなわち、ガイド１の案内面１ａ上の移動体２の浮
上量はくさび部材３５とヨーク３３との間の空隙ｓを調
整することにより可変であり、くさび部材３５の移動に
より移動体２の姿勢を保つために最適な予圧力を付与す
ることができる。
ことで空隙ｓの寸法を変えることにより調整自在であ
る。すなわち、ガイド１の案内面１ａ上の移動体２の浮
上量はくさび部材３５とヨーク３３との間の空隙ｓを調
整することにより可変であり、くさび部材３５の移動に
より移動体２の姿勢を保つために最適な予圧力を付与す
ることができる。
【００２５】本実施の形態によれば、位置制御すべき移
動体を流体の静圧により浮上させてガイド上に支持する
流体軸受装置において、永久磁石を用いた予圧機構によ
り移動体とガイドの間に磁気吸引力による予圧を付与
し、必要な軸受剛性を得るとともに、磁力による予圧力
を発生する永久磁石の表面を、静圧力を発生する軸受面
とすることで、軸受面や移動体に変形が生じるのを回避
することができる。
動体を流体の静圧により浮上させてガイド上に支持する
流体軸受装置において、永久磁石を用いた予圧機構によ
り移動体とガイドの間に磁気吸引力による予圧を付与
し、必要な軸受剛性を得るとともに、磁力による予圧力
を発生する永久磁石の表面を、静圧力を発生する軸受面
とすることで、軸受面や移動体に変形が生じるのを回避
することができる。
【００２６】また、くさび部材によってヨーク間の間隔
を変化させて移動体の姿勢を調整できる。すなわち、永
久磁石の磁力のバラつき等にかかわらず常に一定の姿勢
を保つことができ、高精度、高剛性の軸受機能をより一
層高め、かつ装置の薄型、軽量化を促進できる。
を変化させて移動体の姿勢を調整できる。すなわち、永
久磁石の磁力のバラつき等にかかわらず常に一定の姿勢
を保つことができ、高精度、高剛性の軸受機能をより一
層高め、かつ装置の薄型、軽量化を促進できる。
【００２７】このように予圧調整が可能なため、軸受の
汎用性が増し、軸受交換時等に軸受の選択、調整作業等
が不要になるとともに、軸受特性が変化しても前述のキ
ャップ調整により一定の姿勢を保つことができる。
汎用性が増し、軸受交換時等に軸受の選択、調整作業等
が不要になるとともに、軸受特性が変化しても前述のキ
ャップ調整により一定の姿勢を保つことができる。
【００２８】なお、ガイド側に永久磁石を設け、移動体
側に磁性体を装着してもよい。
側に磁性体を装着してもよい。
【００２９】図２は第２の実施の形態を示す。これは、
一体型の永久磁石４１と移動体２の間にヨーク４３を介
在させるとともに、第１の実施の形態の空隙調整用のく
さび部材３５に代えて、永久磁石４１の側面にヨーク４
５、４６とその位置を調整するためのスペーサ４７、４
８を設けた静圧軸受パッド４を用いる。永久磁石４１と
ヨーク４３が非分割一体構成であるため、軸受面の平面
度を向上させることができるという利点がある。その他
の点は第１の実施の形態と同様である。
一体型の永久磁石４１と移動体２の間にヨーク４３を介
在させるとともに、第１の実施の形態の空隙調整用のく
さび部材３５に代えて、永久磁石４１の側面にヨーク４
５、４６とその位置を調整するためのスペーサ４７、４
８を設けた静圧軸受パッド４を用いる。永久磁石４１と
ヨーク４３が非分割一体構成であるため、軸受面の平面
度を向上させることができるという利点がある。その他
の点は第１の実施の形態と同様である。
【００３０】図３は第３の実施の形態を示す。これは、
複数の永久磁石５１〜５５が多極配置になるように構成
した静圧軸受パッド５を用いる。永久磁石５１〜５５と
移動体２の間にヨーク５６を取り付けて、磁力の調整
は、図示しない外部磁場による減磁手段によって減磁さ
せることで行なう。この構成では、くさび部材やスペー
サ等の調整部品が不要となり、構造が簡単になる。
複数の永久磁石５１〜５５が多極配置になるように構成
した静圧軸受パッド５を用いる。永久磁石５１〜５５と
移動体２の間にヨーク５６を取り付けて、磁力の調整
は、図示しない外部磁場による減磁手段によって減磁さ
せることで行なう。この構成では、くさび部材やスペー
サ等の調整部品が不要となり、構造が簡単になる。
【００３１】図４は第４の実施の形態を示す。これは、
永久磁石６１を多孔質材で形成しヨーク６３を組み合わ
せた静圧軸受パッド６を用いるもので、例えば、永久磁
石６１全体が、焼結金属やフェライトなどの磁性材料を
多孔質に焼成した材料で、軸受面全体が絞りを構成す
る。
永久磁石６１を多孔質材で形成しヨーク６３を組み合わ
せた静圧軸受パッド６を用いるもので、例えば、永久磁
石６１全体が、焼結金属やフェライトなどの磁性材料を
多孔質に焼成した材料で、軸受面全体が絞りを構成す
る。
【００３２】減衰性に優れるという利点を有し、また、
永久磁石６１は、多極着磁されており、この磁力調整に
ついても、外部磁場による減磁をさせることで可能とな
っている。
永久磁石６１は、多極着磁されており、この磁力調整に
ついても、外部磁場による減磁をさせることで可能とな
っている。
【００３３】図５は半導体デバイスの全体的な製造プロ
セスのフローを示す。ステップ１（回路設計）では半導
体デバイスの回路設計を行なう。ステップ２（マスク製
作）では設計した回路パターンを形成したマスクを製作
する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等
の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハ
プロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウ
エハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実
際の回路を形成する。ステップ５（組立）は後工程と呼
ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半
導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイ
シング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ
封入）等の組立工程を含む。ステップ６（検査）ではス
テップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テス
ト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経
て半導体デバイスが完成し、これを出荷（ステップ７）
する。
セスのフローを示す。ステップ１（回路設計）では半導
体デバイスの回路設計を行なう。ステップ２（マスク製
作）では設計した回路パターンを形成したマスクを製作
する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等
の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハ
プロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウ
エハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実
際の回路を形成する。ステップ５（組立）は後工程と呼
ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半
導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイ
シング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ
封入）等の組立工程を含む。ステップ６（検査）ではス
テップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テス
ト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経
て半導体デバイスが完成し、これを出荷（ステップ７）
する。
【００３４】図６は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光装置の投影光学
系等の露光手段によってマスクの回路パターンを基板で
あるウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では
露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチン
グ）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ス
テップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不
要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰
り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パタ
ーンを形成する。
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光装置の投影光学
系等の露光手段によってマスクの回路パターンを基板で
あるウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では
露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチン
グ）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ス
テップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不
要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰
り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パタ
ーンを形成する。
【００３５】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
で、以下に記載するような効果を奏する。
【００３６】軸受剛性を強化するための予圧が軸受面全
体に付与されるように構成することで、軸受性能の向上
と安定化に大きく貢献できる。
体に付与されるように構成することで、軸受性能の向上
と安定化に大きく貢献できる。
【００３７】軸受面を構成する永久磁石に、空隙や位置
を調整自在なヨークを組み合わせて、移動体の姿勢調整
や、流体軸受装置の初期組立時の軸受特性の調整等のた
めの予圧の調整を自在に行なうことができる。
を調整自在なヨークを組み合わせて、移動体の姿勢調整
や、流体軸受装置の初期組立時の軸受特性の調整等のた
めの予圧の調整を自在に行なうことができる。
【００３８】このような流体軸受装置を露光装置のウエ
ハ等基板を位置決めするＸＹステージ等に用いること
で、露光装置の転写性能を大幅に向上させ、半導体デバ
イス等の高精細化と生産性の向上に貢献できる。
ハ等基板を位置決めするＸＹステージ等に用いること
で、露光装置の転写性能を大幅に向上させ、半導体デバ
イス等の高精細化と生産性の向上に貢献できる。
【図１】第１の実施の形態による流体軸受装置を示すも
ので、（ａ）はその模式断面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−
Ａ線からみた断面図である。
ので、（ａ）はその模式断面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−
Ａ線からみた断面図である。
【図２】第２の実施の形態を示す模式断面図である。
【図３】第３の実施の形態を示す模式断面図である。
【図４】第４の実施の形態を示す模式断面図である。
【図５】半導体製造工程を有するフローチャートであ
る。
る。
【図６】ウエハプロセスを示すフローチャートである。
１ ガイド １ａ 案内面 ２ 移動体 ２ａ 内部配管 ３、４、５、６ 静圧軸受パッド ３１、３２、４１、５１、５２、５３、５４、５５、６
１ 永久磁石 ３３、３４、４３、４５、４６、５６、６３ ヨーク ３５ くさび部材
１ 永久磁石 ３３、３４、４３、４５、４６、５６、６３ ヨーク ３５ くさび部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０３Ａ
Claims (11)
- 【請求項１】 案内面を有するガイドと、前記案内面に
対向する軸受面を有する静圧軸受パッドと、該静圧軸受
パッドの前記軸受面に開口する開口手段を通って前記案
内面と前記軸受面の間の軸受間隙に動作流体を供給する
流体供給手段を有し、前記案内面と前記軸受面がそれぞ
れ磁気手段であって、前記軸受間隙を通る磁束による磁
気吸引力を発生させる磁気回路を構成することを特徴と
する流体軸受装置。 - 【請求項２】 ガイドの案内面が磁性体であることを特
徴とする請求項１記載の流体軸受装置。 - 【請求項３】 静圧軸受パッドの軸受面が永久磁石によ
って構成されていることを特徴とする請求項１または２
記載の流体軸受装置。 - 【請求項４】 軸受間隙の磁束分布を調整する調整手段
が設けられていることを特徴とする請求項１ないし３い
ずれか１項記載の流体軸受装置。 - 【請求項５】 静圧軸受パッドの軸受面が少なくとも一
対の互いに逆向きの極性を有する永久磁石によって構成
されていることを特徴とする請求項１ないし４いずれか
１項記載の流体軸受装置。 - 【請求項６】 調整手段が、永久磁石の背面側に設けら
れたヨークと、その空隙を調整する調整部材を備えてい
ることを特徴とする請求項４または５記載の流体軸受装
置。 - 【請求項７】 調整手段が、永久磁石の背面側に設けら
れたヨークと、その位置を調整するスペーサを備えてい
ることを特徴とする請求項４または５記載の流体軸受装
置。 - 【請求項８】 静圧軸受パッドの軸受面が複数の多極配
置の永久磁石によって構成されており、該複数の永久磁
石を選択的に外部磁場により減磁することで軸受間隙の
磁束分布が調整自在であることを特徴とする請求項１な
いし３いずれか１項記載の流体軸受装置。 - 【請求項９】 静圧軸受パッドが、多孔質材で作られて
いることを特徴とする請求項１ないし８いずれか１項記
載の流体軸受装置。 - 【請求項１０】 請求項１ないし９いずれか１項記載の
流体軸受装置を搭載するＸＹステージと、これによって
支持された基板を露光する露光手段を有する露光装置。 - 【請求項１１】 請求項１０記載の露光装置によってウ
エハを露光する工程を有するデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001138248A JP2002333018A (ja) | 2001-05-09 | 2001-05-09 | 流体軸受装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001138248A JP2002333018A (ja) | 2001-05-09 | 2001-05-09 | 流体軸受装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002333018A true JP2002333018A (ja) | 2002-11-22 |
Family
ID=18985218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001138248A Pending JP2002333018A (ja) | 2001-05-09 | 2001-05-09 | 流体軸受装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002333018A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006322531A (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Oiles Ind Co Ltd | 静圧気体軸受を有したエアスライド装置 |
| US7265817B2 (en) | 2003-08-27 | 2007-09-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and slide assembly |
| JP2008010831A (ja) * | 2006-05-04 | 2008-01-17 | Asml Netherlands Bv | ガスベアリング、およびそのようなベアリングを備えたリソグラフィ装置 |
| CN104678715A (zh) * | 2003-02-26 | 2015-06-03 | 株式会社尼康 | 曝光方法以及器件制造方法 |
| CN105339689A (zh) * | 2012-12-21 | 2016-02-17 | 诺沃皮尼奥内股份有限公司 | 磁性轴承和包括此种轴承的旋转机械 |
| US10030701B2 (en) | 2013-05-27 | 2018-07-24 | Giamag Technologies As | Magnetic bearing having permanent magnet assemblies with repulsive bearing surfaces |
| US10328436B2 (en) | 2014-11-27 | 2019-06-25 | Giamag Technologies As | Magnet apparatus for generating high gradient magnetic field |
-
2001
- 2001-05-09 JP JP2001138248A patent/JP2002333018A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104678715A (zh) * | 2003-02-26 | 2015-06-03 | 株式会社尼康 | 曝光方法以及器件制造方法 |
| US7265817B2 (en) | 2003-08-27 | 2007-09-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and slide assembly |
| JP2006322531A (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Oiles Ind Co Ltd | 静圧気体軸受を有したエアスライド装置 |
| JP2008010831A (ja) * | 2006-05-04 | 2008-01-17 | Asml Netherlands Bv | ガスベアリング、およびそのようなベアリングを備えたリソグラフィ装置 |
| US7978307B2 (en) | 2006-05-04 | 2011-07-12 | Asml Netherlands B.V. | Gas bearing, and lithographic apparatus provided with such a bearing |
| CN105339689A (zh) * | 2012-12-21 | 2016-02-17 | 诺沃皮尼奥内股份有限公司 | 磁性轴承和包括此种轴承的旋转机械 |
| US10378582B2 (en) | 2012-12-21 | 2019-08-13 | Nuovo Pignone Srl | Magnetic bearing and rotary machine comprising such a bearing |
| US10030701B2 (en) | 2013-05-27 | 2018-07-24 | Giamag Technologies As | Magnetic bearing having permanent magnet assemblies with repulsive bearing surfaces |
| US10328436B2 (en) | 2014-11-27 | 2019-06-25 | Giamag Technologies As | Magnet apparatus for generating high gradient magnetic field |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6952254B2 (en) | Supporting system in exposure apparatus | |
| US6320649B1 (en) | Stage system for exposure apparatus | |
| JP6429017B2 (ja) | 搬入方法、搬送システム及び露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
| US7880864B2 (en) | Stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| US6724466B2 (en) | Stage assembly including a damping assembly | |
| JP3155936B2 (ja) | リニアモータとステージ装置及びこれを用いた走査型露光装置やデバイス製造方法 | |
| JP2011501396A (ja) | 三次元動作移動体とその制御方法 | |
| US6603531B1 (en) | Stage assembly including a reaction assembly that is connected by actuators | |
| JPH09219353A (ja) | ステージ装置、及びこれを用いた露光装置やデバイス生産方法 | |
| US7817251B2 (en) | Supporting apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JP3869938B2 (ja) | ステージ装置、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
| US6794660B2 (en) | Long stroke mover for a stage assembly | |
| JP2002333018A (ja) | 流体軸受装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 | |
| JP5020597B2 (ja) | 位置決め装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
| JP2008182210A (ja) | ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JP2007258356A (ja) | ステージ装置 | |
| US7253576B2 (en) | E/I core actuator commutation formula and control method | |
| US6593997B1 (en) | Stage assembly including a reaction assembly | |
| US6757053B1 (en) | Stage assembly including a reaction mass assembly | |
| EP2051141B1 (en) | Driving apparatus, exposure apparatus, and device fabrication method | |
| KR20080067288A (ko) | 스테이지 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조방법 | |
| US20130135603A1 (en) | C-core actuator for moving a stage | |
| JP2005243810A (ja) | 位置決め装置及び露光装置 | |
| JP5058546B2 (ja) | 力発生装置およびこれを用いたステージ装置ならびに露光装置 | |
| JP2001148336A (ja) | テーブル駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法 |