JP2004131465A - ドネペジルの製造方法 - Google Patents
ドネペジルの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004131465A JP2004131465A JP2003154618A JP2003154618A JP2004131465A JP 2004131465 A JP2004131465 A JP 2004131465A JP 2003154618 A JP2003154618 A JP 2003154618A JP 2003154618 A JP2003154618 A JP 2003154618A JP 2004131465 A JP2004131465 A JP 2004131465A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- formula
- solvent
- reaction
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 0 COc1c(*)cc(CC(*)(CC2CCNCC2)C2=O)c2c1 Chemical compound COc1c(*)cc(CC(*)(CC2CCNCC2)C2=O)c2c1 0.000 description 2
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/08—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/18—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D211/34—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms with hydrocarbon radicals, substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P25/00—Drugs for disorders of the nervous system
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P25/00—Drugs for disorders of the nervous system
- A61P25/28—Drugs for disorders of the nervous system for treating neurodegenerative disorders of the central nervous system, e.g. nootropic agents, cognition enhancers, drugs for treating Alzheimer's disease or other forms of dementia
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/08—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/18—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D211/30—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms with hydrocarbon radicals, substituted by doubly bound oxygen or sulfur atoms or by two oxygen or sulfur atoms singly bound to the same carbon atom
- C07D211/32—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms with hydrocarbon radicals, substituted by doubly bound oxygen or sulfur atoms or by two oxygen or sulfur atoms singly bound to the same carbon atom by oxygen atoms
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Neurology (AREA)
- Neurosurgery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Hospice & Palliative Care (AREA)
- Psychiatry (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
Abstract
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、1−ベンジル−4−[(5,6−ジメトキシインダン−1−オン−2−イル)メチル]ピペリジン(ドネペジル)及びその新規な中間体の新規な製造方法に関する。ドネペジルはアルツハイマー病の治療に用いられる。
【0002】
【従来の技術】
ドネペジルは日本の製薬会社であるエイザイにより導入された有用な記憶促進剤である。その製造方法は欧州特許第296560号(特許文献1)に記載されている。この特許では、ドネペジルは5,6−ジメトキシ−1−インダノンと1−ベンジル−4−ホルミルピペリジンとを強塩基、例えば、リチウムジイソプロピルアミドの存在下に反応させて、その後の二重結合の還元により製造された。この方法により、ドネペジルは得られた(スキーム1)。
【0003】
【化5】
【0004】
特許出願WO99/36405号(特許文献2)はドネペジルの合成について他の方法を記載する。この特許によると、2−アルコキシカルボニル−1−インダノンと(4−ピリジニル)メチルハライド部分とを反応させ、次いで、加水分解及び脱カルボキシル化して、2−(4−ピリジニル)メチル−1−インダノン誘導体を得る。その後、ベンジルハライドと反応させて、対応する第四級アンモニウム塩を得、続いて、ピリジン環の水素添加によりドネペジルを得る(スキーム2)。
【0005】
【化6】
【0006】
特許出願WO97/22584号(特許文献3)は、ピリジン−カルボキシアルデヒドとマロン酸との反応により、3−(ピリジン−4−イル)−2−プロペノン酸を得、次いで、二重結合を水素添加して、3−(ピペリジン−4−イル)−2−プロピオン酸を得ることによるドネペジルの製造方法を記載する。この中間体とクロル蟻酸メチルとの反応により、3−[N−(メチルオキシカルボニル)ピペリジン−4−イル]プロピオン酸が得られる。続いて、塩化オキサリルとの反応により4−(2−クロロカルボニルエチル)ピペリジン−1−カルボン酸メチルが得られる。塩化アルミニウムの存在下で、1,2−ジメトキシベンゼンとの反応により、4−[3−(3,4−ジメトキシフェニル)−3−オキソプロピル]ピペリジン−1−カルボン酸メチルが得られる。テトラメチルジアミノメタンとの反応により、4−[2−(3,4−ジメトキシベンゾイル)アリル]ピペリジン−1−カルボキシレートが得られる。硫酸との反応により、4−(5,6−ジメトキシ−1−オキソインダン−2−イル)メチルピペリジン−1−カルボン酸メチルが得られる。次いで、塩基による処理により、5,6−ジメトキシ−2−(ピペリジン−4−イルメチル)インダン−1−オンが得られ、次いで、臭化ベンジルとの反応によりドネペジルが得られる(スキーム3)。
【0007】
【化7】
【0008】
欧州特許出願第711756号(特許文献4)は、5,6−ジメトキシ−1−インダノンとピリジン−4−アルデヒドとの反応により、5,6−ジメトキシ−2−(ピリジン−4−イル)メチレンインダン−1−オンを得るドネペジルの製造方法を記載する。臭化ベンジルとの反応により、臭化1−ベンジル−4−(5,6−ジメトキシインダン−1−オン−2−イリデン)メチルピリジウムが得られる。酸化プラチナの存在下でドネペジルが得られる(スキーム4)。
【0009】
【化8】
【0010】
【特許文献1】
欧州特許第296560号
【特許文献2】
WO99/36405号
【特許文献3】
WO97/22584号
【特許文献4】
欧州特許出願第711756号
【0011】
【発明が解決しようとする課題及び課題を解決するための手段】
本発明は、1−ベンジル−4−[(5,6−ジメトキシインダン−1−オン−2−イル)メチル]ピペリジン(ドネペジル)の新規な合成方法に関する。合成経路において新規な中間体が得られて、そして記載されている。スキーム5は新規な製造方法の概略を示す。
【0012】
【化9】
【0013】
N−保護活性化−4−メチルピペリジン(1)(式中、Xは残基を表し、R1はN−保護基を表す)が、2−アルコキシカルボニル−5,6−ジメトキシインダン−1−オン(2)(式中、RはC1−C4のアルキル基またはアルアルキル基を表す)と反応して、4−[(2−アルコキシカルボニル−5,6−ジメトキシインダン−1−オン−2−イル)メチル]−N−保護ピペリジン(3)となる。化合物3を脱保護して、化学式4(Rは上記のとおり)の4−[(2−アルコキシカルボニル−5,6−ジメトキシインダン−1−オン−2−イル)メチル]ピペリジン)が得られる。この化合物が式R2Y(式中、R2はC1−C4のアルキル基またはアルアルキル基で、Yは残基である)の化合物が反応して型5の化合物(R2及びYは上記のとおり)を与える。化合物5を加水分解し、次いで脱カルボキシル化して、型6の化合物(R2は上記のとおり)を得る。R2がベンジル基である場合、化合物6はアルツハイマー病の治療に有用な薬品であるドネペジルである。
【0014】
一般式3、4及び5で表される新規な化合物を単離し、前記方法における中間体として同定し、これらの化合物は本発明の一部をなしている。
【0015】
【発明の実施の形態】
本発明をここにより詳細に記載する。
工程1:カップリング反応
式1の化合物を式2の化合物(式中、RはC1−C4のアルキル基、例えば、メチル、エチル、t−Buまたはアルアルキル基、例えば、(所望により置換された)ベンジル基)と反応させる。R1は任意の適当なN−保護基、例えば、t−ブトキシカルボニル(t−BOC)、ベンジルオキシカルボニル(CBZ)及びトリフェニルメチルである。Xは、残基、例えば、ハライド、メシレートまたはトシレート、好ましくはヨウ化物である。
【0016】
【化10】
【0017】
反応は、0〜120℃の温度範囲、好ましくは30〜70℃で、適切な塩基、例えば、水素化アルカリ金属、アルカリ金属アルコキシド、炭酸アルカリ金属、水酸化アルカリ金属、の存在下に行うことができる。炭酸カリウムが塩基として好ましい。種々の溶媒、例えば、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、エタノール及びメタノールを用い得る。DMFは好ましい溶媒である。
【0018】
式3で記載される中間体は、本発明において開示される新規化合物であり、かつ請求される。
【0019】
工程2:保護基の除去
【化11】
【0020】
保護基R1を除去するための正確な方法はその性質に依存する。例えば、t−ブトキシカルボニル(t−BOC)保護基の除去は、塩化メチレン、トルエン、クロロホルムまたはTHF、好ましくは塩化メチレンのような有機溶媒中で、トリフルオロ酢酸により行われるが、カルボベンゾキシカルボニル(CBZ)保護基の除去は、酸、好ましくは30%のHBrの酢酸溶液を用いて、高められた温度で、塩化メチレン、トルエン、クロロホルムまたはTHFのような溶媒、好ましくはトルエンの存在下に行なうか、または、溶媒としてC1−C4のアルコール、好ましくはエタノールの存在下の、パラジウムまたはプラチナのような貴金属触媒、好ましくはチャコールに担持されたパラジウム、を用いる触媒水素添加により行なうことができる。
【0021】
式4で表される中間体{4−[(5,6−ジメトキシ−2−アルコキシカルボニルインダン−1−オン−2−イル)メチル]ピペリジン}は本発明で開示される新規な化合物である。
【0022】
工程3:窒素原子の置換
型5の化合物(式中、RはC1−C4のアルキル基で、R2はC1−C4のアルキル基またはアルアルキル基である)は、一般式4の化合物と式R2Y(R2は上記のとおりであり、Yは残基、例えば、ハライド(塩化物、臭化物、ヨウ化物)、メシレートまたはトシレートである)の化合物を反応させることにより得られる。反応は0〜100℃の温度範囲、好ましくは20〜40℃で、THF、塩化メチレン、クロロホルム、トルエンまたはそれらの混合物のような種々の溶媒中で行うことができ、塩化メチレンが好ましい溶媒である。反応は水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属もしくは有機アミン、好ましくはトリエチルアミンのような有機または無機塩基の存在下に行なわれる。
【0023】
【化12】
【0024】
型5の化合物は本発明で開示される新規な化合物であり、請求される。
【0025】
工程4:加水分解及び脱カルボキシル化
【化13】
【0026】
R基の除去及び脱カルボキシル化の方法はRの性質に依存する。反応、例えば、酸性または塩基性加水分解を用い得るが、塩基性加水分解が好ましい。アルカリ金属水酸化物または炭酸化物のような塩基を用い得るが、炭酸カリウムが好ましい。Rがベンジル基なら、触媒水素添加分解も用い得る。脱カルボキシル化はエタノール、メタノール、THF、DMF、DMSOまたは混合溶媒のような任意の適当な溶媒を用いて加熱により達成することができる。エタノールが好ましい溶媒である。
【0027】
ここに記載される、本発明を用いるドネペジルの製造は4つの容易な化学工程からなる。極端な条件を用いる必要はないし、出発物質は容易に入手できる。収量はかなり良く、本発明は技術的及び安全面での問題も無く、容易に規模を拡大できる。
【0028】
したがって、本発明により、次の反応:
【化14】
(式中、R及びR2は独立してC1−C4のアルキル基またはアルアルキル基である)により、式5の化合物の加水分解後の脱カルボキシル化を含む、式6の化合物の製造方法を提供する。
【0029】
本発明の好ましい態様では、さらに、化合物5の製造が次の反応:
【化15】
(式中、R及びR2は上記のとおりであり、Yは残基である)により、化合物4のアルキル化またはアルアルキル化により達成されることを特徴とする、上記化合物6の製造方法が提供される。
【0030】
本発明の特に好ましい態様では、化合物4の製造が次の反応:
【化16】
(式中、Rは上記のとおりであり、R1はN−保護基である)により、化合物3のN−保護基の除去により達成されることを特徴とする、化合物6の製造方法が提供される。
【0031】
本発明のさらに特に好ましい態様では、さらに、化合物3の製造が次の反応:
【化17】
(RおよびR1は上記のとおりであり、Xは残基である)により、化合物1及び2のカップリングにより達成されることを特徴とする、上記化合物6の製造方法が提供される。
【0032】
さて、本発明を特定の好ましい態様に関連して、下記の例において、それらの面をより十分に理解し、認識できるように記載するが、これは本発明をこれらの特定の態様に限定するつもりではない。反対に、添付の請求の範囲により定義される本発明の範囲に包含される全ての代替物、変更物及び均等物を含むことを意図するものである。従って、好ましい態様を包含する、下記の例は、本発明の実施に役に立つであろう。この事項は例示により、本発明の好ましい態様を説明の検討の目的のためだけに示され、最も有用で、容易に理解できる明確な記載の手順並びに本発明の趣旨及び概念的な面であると考えられるものを提供するために提供されるものと理解すべきである。
【0033】
【実施例】
参考例1:2−エトキシカルボニル−5,6−ジメトキシインダン−1−オンこの化合物は欧州特許第534859号に開示された手順に従って、製造する。240mlのTHF中の水素化ナトリウム(50%の油中の懸濁液、20g)の懸濁液に、炭酸ジエチルを加え、その混合物を90分間攪拌し、還流した。5,6−ジメトキシインダン−1−オン(40g)のTHF(440ml)溶液を加え、その混合物を還流下、3時間加熱し、次いで冷却し、濃縮した。酢酸エチル(200ml)を加え、有機層を水で洗浄した。有機層をMgSO4上で乾燥させ、ろ過し、酢酸エチルを減圧下で除去した。表題の化合物が98%の収率で得られた。
【0034】
参考例2:N−CBZ−4−ヨードメチルピペリジン
この化合物は米国特許第5538984号明細書に開示された手順に従って製造される。
【0035】
トルエン(1L)中のヨウ素(29.4g)の混合物にトリフェニルホスフィン(31.2g)を加えた。5分後、ピリジン(18ml)を加え、その後、CBZ−ピペリジンメタノール(34.6g)を加えた。得られた混合物を、還流下で、1.5時間加熱し、攪拌した。反応混合物を室温まで冷却させ、ろ過した。ろ液を飽和ピロ亜硫酸ナトリウム及び塩水で洗浄した。有機層をMgSO4上で乾燥させ、蒸発させた。粗生成物を1:5の酢酸エチル/ヘキサンに溶解し、シリカゲルでろ過した。ろ液を減圧下で蒸発させ、粗生成物を酢酸エチル/ヘキサンから結晶化させた。
【0036】
例1
1−t−BOC−[4−((2−エトキシカルボニル−5,6−ジメトキシインダン−1−オン)−2−イル)メチル]ピペリジン:
5,6−ジメトキシ−2−エトキシカルボニルインダン−1−オン(7.68g)をDMF(340ml)に溶解した。ヨウ素化1−t−BOC−ピペリジル−4−メチル(12.3g)と炭酸カリウム(8.0g)をそれに加え、混合物を室温で一晩攪拌した。酢酸エチル(200ml)を反応混合物に加え、その後水(200ml)を加え、層を分離した。有機層を水(3×50ml)で洗浄し、次いで飽和塩化ナトリウム溶液(200ml)で洗浄した。有機層をMgSO4上で乾燥させ、次いで溶媒を減圧下で除去した。表題の化合物を白〜黄色がかった固体として単離し、酢酸エチル:ヘキサンで再結晶した。7.89g(59%の収率)の表題生成物が得られ、HPLCにより純粋であることが分かった。
【0037】
質量スペクトル m/e:462[M+H+]
元素分析(C25H35NO7について計算)
計算値:C65.06%、H7.64%、N3.03%
実測値:C64.92%、H7.32%、N3.31%
【0038】
1H−NMR(CDCl3,δ(ppm)):7.16(s,1H),6.90(s,1H),4.21(q,2H),3.98(s,3H),3.91(s,3H),3.67(2H),2.63(m,2H),2.21(m,2H),1.74(m,2H),1.59(m,3H),1.43(s,9H),1.26(t,3H)
【0039】
13C−NMR(CDCl3,δ(ppm)):200.6,171.1,156.0,149.7,148.4,127.4,107.1,104.9,79.3,61.7,60.8,56.2,44.0,41.0,36.7,33.5,28.4,22.8,14.0
【0040】
例2
1−t−BOC−[4−((5,6−ジメトキシ−2−メトキシカルボニルインダン−1−オン)−2−イル)メチル]ピペリジン:
5,6−ジメトキシ−2−メトキシカルボニルインダン−1−オン(1.41g)をDMF(30ml)に溶解した。炭酸カリウム(1.56g)をそれに加え、その混合物を室温で30分攪拌した。ヨウ素化1−t−BOC−ピペリジル−4−メチル(2.2g)を10mlのDMFに溶解した溶液を30分以内で滴加した。混合物を徐々に(45〜50℃)まで加熱し、反応混合物を50℃で5時間攪拌した。酢酸エチル(30ml)を反応混合物に加え、その溶液を水(3×30ml)で洗浄した。有機層を分離し、MgSO4上で乾燥させ、蒸発させて、黄色がかった固体を得た。得られた油を酢酸エチル/n−ヘキサンから結晶化させた。1.26gの表題の生成物(収率49.9%)を黄色の結晶として得た。
【0041】
質量スペクトル m/e:448[M+H+]
1H−NMR(CDCl3,δ(ppm)):7.16(s,1H),6.89(s,1H),3.99(s,3H),3.90(s,3H),3.69(s,3H)
【0042】
例3
1−CBZ−[4−(5,6−ジメトキシ−2−エトキシカルボニル−1−インダノン−2−イル)メチル]ピペリジン:
5,6−ジメトキシ−2−エトキシカルボニルインダン−1−オン(4.74g)をDMF(150ml)に溶解した。炭酸カリウム(4.94g)を加えた。ヨウ素化1−CBZ−ピペリジル−4−メチル(9.09g)をDMF(50ml)に溶解した溶液を滴加し、その混合物を室温で一晩攪拌した。酢酸エチル(100ml)を加え、その混合物を水(100ml)で洗浄し、次いで、塩水(50ml)で洗浄した。有機層をMgSO4上で乾燥させ、ろ過し、減圧下で蒸発させた。粗生成物をエタノールから結晶化させて、4.94gの表題の生成物(収率59.1%)を得た。
【0043】
質量スペクトル m/e:496[M+H+]
元素分析(C28H33NO7について計算)
計算値:C67.86%、H6.71%、N2.83%
実測値:C67.64%、H6.68%、N3.07%
1H−NMR(CDCl3,δ(ppm)):7.34(br s,5H),7.23(s,1H),6.89(s,1H),5.15(s,2H),4.21(q,2H),4.02(s,3H),3.94(s,3H),3.66(d,1H),3.03(d,1H),2.72(br t,2H),2.20(m,2H),1.57−1.73(m,7H),1.26(t,3H).
【0044】
例4
1−CBZ−[4−(5,6−ジメトキシ−2−エトキシカルボニルインダン−1−オン−2−イル)メチル]ピペリジン:
5,6−ジメトキシ−2−エトキシカルボニルインダン−1−オン(2.28g)をDMF(80ml)に溶解し、炭酸カリウム(2.4g)を加えた。次いで、N−CBZ−ピペリジル−4−メチルトシレート(5.0g)をDMF(25ml)に溶解した溶液を3時間以内で滴加した。混合物を周囲温度で48時間攪拌し、そこに酢酸エチル(100ml)を加え、その混合物を水(100ml)で洗浄し、次いで、塩水で洗浄した。有機層をMgSO4上で乾燥させ、ろ過し、減圧下で蒸発させた。HPLC−MS分析で確認して、収率23%で表題の生成物を得た。
【0045】
例5
1−CBZ−[4−(5,6−ジメトキシ−2−エトキシカルボニル−1−インダノン−2−イル)メチル]ピペリジン:
5,6−ジメトキシ−2−エトキシカルボニルインダン−1−オン(2.6g)をDMF(50ml)に溶解し、炭酸カリウム(2.7g)を加えた。N−CBZ−ピペリジル−4−メチルメシレート(4.6g)をDMF(30ml)に溶解した溶液を3時間以内で滴加し、その混合物を周囲温度で48時間攪拌した。酢酸エチル(100ml)を加え、その混合物を水(100ml)で洗浄し、次いで、塩水(50ml)で洗浄した。有機層をMgSO4上で乾燥させ、ろ過し、減圧下で蒸発させた。粗生成物のHPLCは,カップリング生成物が5.%の収率で得られたことを示し、その同一性はHPLC−MS分析で確認された。
【0046】
例6
4−[(5,6−ジメトキシ−2−エトキシカルボニルインダン−1−オン−2−イル)メチル]ピペリジン:
例1の生成物(5.3g)を塩化メチレン(50ml)に溶解し、該溶液を0℃まで冷却し、三弗化酢酸(65.5g)を加え、該溶液を0〜5℃で30分間攪拌した。塩化メチレンとTFAを減圧下で除去し、トルエン(15ml)を加え、次いで減圧下で除去した。褐色がかった油状の生成物が得られた。この生成物をトルエンと水の混合物(100ml、1:1)に溶解し、混合物を攪拌し、層分離させ、有機層を除去した。水性層のpHを1N−NaOHでpH8.0〜8.5にした。この溶液を酢酸エチル(3×50ml)で抽出し、有機層をいっしょにして、塩水(20ml)で洗浄し、乾燥し(MgSO4)、ろ過した。酢酸エチルを減圧下で除去した。粗生成物を酢酸エチル/ヘキサンから結晶化させ、2.4gの表題の生成物(収率58%)を得た。生成物はHPLCにより純粋であった。
【0047】
質量スペクトル m/e:362[M+H+]
1H−NMR(CDCl3,δ(ppm)):7.17(s,1H),7.08(s,1H),4.06(q,2H),3.89(s,3H),3.80(s,3H),3.21(m,2H),2.50(s,2H),2.01(m,2H),1.73(m,3H),1.30(m,2H),1.09(t,3H)
【0048】
例7
[4−(5,6−ジメトキシ−2−エトキシカルボニルインダン−1−オン−2−イル)メチル]ピペリジン:
例2の生成物(9.69g)をクロロホルム(100ml)に溶解し、Hbrの30%酢酸溶液(23ml)を30分以内で滴加した。混合物を静かに40℃まで、完全な変換が起こるまで(HPLCで試験した)加熱した。反応混合物に水(200ml)を加え、その混合物を15分間攪拌した。水溶液を分離し、クロロホルム(100ml)で洗浄した。pH10.0に達するまで水酸化ナトリウム溶液(20%)を加えた。生成物を酢酸エチル(50ml×4)で抽出し、有機層をいっしょにして、MgSO4上で乾燥し、蒸発させて、4.9gの表題の生成物(収率68.6%)を得た。生成物はHPLCにより純粋であることが分かった。
【0049】
例8
1−ベンジル−4−[((5,6−ジメトキシ−2−メトキシカルボニルインダン−1−オン)−2−イル)メチル]ピペリジン:
例8からの生成物(8.23g)をトルエン(100ml)に溶解し、トリエチルアミン(15ml)及び塩化ベンジル(2.9ml)をそれに加え、その反応混合物を35℃まで加熱し、一晩攪拌した。有機層を水と塩水で洗浄し、次いで、MgSO4上で乾燥させ、蒸発させた。粗生成物を酢酸エチル−ヘキサンから結晶化させ、9.83gの白色固体を得た(収率89%)。
【0050】
質量スペクトル m/e:452[M+H+]
1H−NMR(CDCl3,δ(ppm)):7.29(m,5H),7.22(s,1H),6.88(s,1H),4.14(q,2H),3.97(s,3H),3.89(s,3H),3.70(m,2H),3.44(s,2H),3.01(d,2H),2.97(m,2H),2.0(m,2H),1.37(m,2H),1.23(m,3H),1.20(t,3H)
【0051】
13C−NMR(CDCl3,δ(ppm)):200,171,149,148,138,129−126,107,105,63,61.3,58,56,53,41,36,33,18,14
【0052】
IR(NaCl,Nujol)ν(cm−1):2923,2853,1701(C=O),1591,1499,1459,1376
UV(MeOH)λmax(nm):207,232,272,318
【0053】
例9
1−メチル−4−((5,6−ジメトキシ−2−エトキシカルボニル−1−インダノン)−2−イル)メチルピペリジン:
例8に記載された手順に従って、例2で得られた生成物(1.7g),トリエチルアミン(4ml)、CH2Cl2(10ml)及びCH2Cl2(10ml)中のヨウ化メチル(0.67g)を反応させた。結晶化後、1.41gの表題の化合物を白色結晶として、収率80%で得た。
質量スペクトル m/e:376[M+H+]
【0054】
例10
1−ベンジル−[4−((5,6−ジメトキシインダン−1−オン)−2−イル)メチル]ピペリジン(ドネペジル):
例8からの生成物(3.55g)をエタノール−水混合物(5:1)に溶解させた。水酸化カリウム(2.05g)を加え、溶液を60分間還流させた。水(50ml)を加えた。そして、黄色がかった沈殿が生成した。酢酸エチルを加え、その溶媒を減圧下で除去した。ドネペジル遊離塩基が白色固体として得られた。その生成物をエタノールから結晶化し、2.3gの生成物(収率80%)を得た。
【0055】
質量スペクトル m/e:380[M+H+]
1H−NMR(CDCl3,δ(ppm)):7.63(brs,2H),7.44(brs,3H),7.11(s,1H),6.85(s,1H),4.16(s,2H),3.95(s,3H),3.89(s,3H),3.40(m,2H),3.25(m,1H),2.66(m,4H),2.06−1.96(m,6H),1.51(m,1H)
【0056】
当業者には、本発明が前述の説明的な例の詳細によっては限定されないこと及び本発明はその本質的特性から逸脱することなく他の特定の形態として具体化することができることは明らかであり、したがって、この実施の態様と例とはあらゆる観点で説明のためのものであって、制約するためのものではないと考えられ、前述の記載を参照するものではなく、添付の請求の範囲を参考にするものであることを望み、したがって、請求の範囲に均等な意味と範囲内に入るあらゆる変更は本発明に包含されることを意図する。
Claims (45)
- 加水分解及び脱カルボキシル化が、溶液中で、高められた温度で、かつ塩基の存在下で行われる、請求項1に記載の方法。
- 温度が60〜100℃の範囲である請求項5に記載の方法。
- 塩基がアルカリ金属の水酸化物または炭酸塩である、請求項5に記載の方法。
- 塩基が水酸化カリウムである、請求項7に記載の方法。
- 反応がC1〜C6のアルコールと水の混合物中で行われる、請求項5に記載の方法。
- 反応がエタノールと水の存在下に行われる、請求項9に記載の方法。
- 反応が溶液中で、有機または無機塩基の存在下に行われる、請求項2に記載の方法。
- 溶媒が、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン(THF)である、請求項11に記載の方法。
- 前記溶媒が、塩化メチレンである、請求項11に記載の方法。
- 塩基がアルカリ金属の水酸化物またはアルカリ金属の炭酸塩またはアミンである、請求項11に記載の方法。
- 前記塩基がトリエチルアミンである、請求項11に記載の方法。
- R1がベンジルオキシカルボニル(CBZ)である、請求項3に記載の方法。
- 脱保護反応が溶媒の存在下に、高められた温度で、触媒として酸を用いて行われる、請求項16に記載の方法。
- 溶媒が、塩化メチレン、トルエン、クロロホルムまたはテトラヒドロフランである、請求項16に記載の方法。
- 溶媒が、トルエンである、請求項18に記載の方法。
- 酸が、HBrの30%酢酸溶液である、請求項16に記載の方法。
- 脱保護反応が貴金属触媒の存在下の水素添加分解により溶媒中で行われる、請求項16に記載の方法。
- 溶媒がC1〜C6のアルコールである、請求項21に記載の方法。
- 溶媒がエタノールである、請求項22に記載の方法。
- 触媒が担持されたパラジウムまたはプラチナ触媒である、請求項21に記載の方法。
- 触媒がチャコールAに担持されたパラジウムである、請求項24に記載の方法。
- R1がt−ブトキシカルボニル(t−BOC)である、請求項3に記載の方法。
- 脱保護が溶液中で、酸の存在下に行われる、請求項26に記載の方法。
- 溶媒が、塩化メチレン、トルエン、クロロホルム及びテトラヒドロフランからなる群から選択される、請求項27に記載の方法。
- 溶媒が、塩化メチレンである、請求項28に記載の方法。
- 酸が、トリフルオロ酢酸である、請求項28に記載の方法。
- カップリング反応が溶液中で、高められた温度で、塩基の存在下に行われる、請求項4に記載の方法。
- 溶媒が、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、エタノール及びメタノールからなる群から選択される、請求項31に記載の方法。
- 溶媒がジメチルホルムアミドである、請求項32に記載の方法。
- 塩基が、炭酸アルカリ金属、水酸化アルカリ金属、水素化アルカリ金属またはアルカリ金属アルコキシドである、請求項31に記載の方法。
- 塩基が炭酸カリウムである、請求項34に記載の方法。
- 反応が30〜70℃の温度範囲内で行われる、請求項31に記載の方法。
- ドネペジルの製造方法であって、
i.一般式1の化合物と一般式2の化合物(式中、R、R1及びXは請求項4に定義されたとおりである)のカップリング、
ii.一般式3の化合物(式中、R及びR1は請求項3に定義されたとおりである)の脱保護、
iii.一般式4の化合物の一般式PhCH2Yの化合物(式中、Yは請求項2に定義されたとおりである)を用いるベンジル化、及び
iv.一般式5の化合物(式中、Rは請求項1に定義されたとおりであり、R2はベンジルである)の加水分解及び脱カルボキシル化
を含む、前記方法。 - 工程cがベンジルハライドを用いて行われる、請求項37に記載の方法。
- 請求項37により製造されたドネペジルまたはその塩。
- R及びR1が請求項4に定義されたとおりである、一般式3の化合物。
- Rがメチル基またはエチル基で、R1がCBZまたはt−BOC基である、請求項40に記載の化合物。
- Rが請求項3に定義されたとおりである、一般式4の化合物またはその塩。
- Rがメチル基またはエチル基である、請求項34に記載の化合物。
- R及びR2が請求項2に定義されたとおりである、一般式5の化合物またはその塩。
- R2がベンジル基であり、Rがエチル基またはメチル基である、請求項44に記載の化合物。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IL150982A IL150982A (en) | 2002-07-30 | 2002-07-30 | Process for making Donafzil |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004131465A true JP2004131465A (ja) | 2004-04-30 |
JP2004131465A5 JP2004131465A5 (ja) | 2010-06-03 |
JP4662695B2 JP4662695B2 (ja) | 2011-03-30 |
Family
ID=29596379
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003154618A Expired - Fee Related JP4662695B2 (ja) | 2002-07-30 | 2003-05-30 | ドネペジルの製造方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6844440B2 (ja) |
EP (1) | EP1386607B1 (ja) |
JP (1) | JP4662695B2 (ja) |
AT (1) | ATE343385T1 (ja) |
AU (1) | AU2003204939B2 (ja) |
CA (1) | CA2429563C (ja) |
DE (1) | DE60309251T2 (ja) |
ES (1) | ES2275066T3 (ja) |
HR (1) | HRP20030435B1 (ja) |
IL (1) | IL150982A (ja) |
PL (1) | PL360499A1 (ja) |
SI (1) | SI1386607T1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014196557A1 (ja) * | 2013-06-04 | 2014-12-11 | 国立大学法人名古屋工業大学 | 光学活性2-[(1,2,3,6-テトラヒドロピリジン-4-イル)メチル]-2-フルオロ-2,3-ジヒドロインデン-1-オンの製造方法 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE60034577T2 (de) * | 1999-09-01 | 2007-12-27 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | In 4-stellung substituierte piperidinderivate |
EP1300395B1 (en) * | 2000-06-21 | 2009-09-02 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | 4-substituted piperidine compound |
WO2006035433A2 (en) | 2004-09-29 | 2006-04-06 | Chemagis Ltd. | Use of purified donepezil maleate for preparing pharmaceutically pure amorphous donepezil hydrochloride |
US20060122226A1 (en) * | 2004-12-08 | 2006-06-08 | Itai Adin | Crystalline forms of Donepezil base |
WO2006097341A1 (en) * | 2005-03-17 | 2006-09-21 | Synthon B.V. | Process for making crystalline donepezil hydrochloride monohydrate |
GB0515803D0 (en) | 2005-07-30 | 2005-09-07 | Pliva Hrvatska D O O | Intermediate compounds |
HU227474B1 (en) * | 2005-12-20 | 2011-07-28 | Richter Gedeon Nyrt | Process for industrial scale production of high purity donepezil hydrochloride polymorph i. |
US20100113793A1 (en) * | 2006-03-20 | 2010-05-06 | Ind-Swift Laboratories Limited | Process for the Preparation of Highly Pure Donepezil |
KR100914691B1 (ko) | 2007-08-10 | 2009-08-28 | 주식회사유한양행 | 도네페질 또는 그의 제조용 중간체의 제조방법 |
KR100953038B1 (ko) * | 2007-12-12 | 2010-04-14 | 일동제약주식회사 | 염산 도네페질의 개량된 제조방법 |
WO2011151359A1 (en) | 2010-06-02 | 2011-12-08 | Noscira, S.A. | Combined treatment with a cholinesterase inhibitor and a thiadiazolidinedione derivative |
US8822516B2 (en) | 2010-06-10 | 2014-09-02 | Technion Research & Development Foundation Limited | Process for the preparation of iodides |
FR3006686A1 (fr) | 2013-06-05 | 2014-12-12 | Univ Caen | Composes inhibiteurs de l'acetylcholinesterase et agonistes des recepteurs serotoninergiques 5ht4, a effet promnesiant, leurs procedes de preparation et compositions pharmaceutiques les contenant |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6479151A (en) * | 1987-06-22 | 1989-03-24 | Eisai Co Ltd | Cyclic amine derivative |
JPH11263774A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-09-28 | Eisai Co Ltd | ドネペジル誘導体の製造法およびその中間体 |
WO2000009483A2 (en) * | 1998-08-17 | 2000-02-24 | Finetech Ltd. | Process and intermediates for production of donepezil and related compounds |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4439822A1 (de) * | 1994-11-08 | 1996-08-29 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Benzyl-piperidylmethyl-indanonen |
IL136421A0 (en) | 1995-12-15 | 2001-06-14 | Pfizer | Intermediates for preparing 1-benzyl -4-((5,6- dimethoxy -1-indanon)-2-yl) methylpiperidine |
WO1999036405A1 (en) * | 1998-01-16 | 1999-07-22 | Eisai Co., Ltd. | Process for production of donepezil derivative |
-
2002
- 2002-07-30 IL IL150982A patent/IL150982A/en not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-05-23 CA CA2429563A patent/CA2429563C/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-05-28 AT AT03253336T patent/ATE343385T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-05-28 DE DE60309251T patent/DE60309251T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-28 HR HR20030435A patent/HRP20030435B1/xx not_active IP Right Cessation
- 2003-05-28 ES ES03253336T patent/ES2275066T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-28 SI SI200330606T patent/SI1386607T1/sl unknown
- 2003-05-28 EP EP03253336A patent/EP1386607B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-30 JP JP2003154618A patent/JP4662695B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-06-04 PL PL03360499A patent/PL360499A1/xx unknown
- 2003-06-11 US US10/459,662 patent/US6844440B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-06-25 AU AU2003204939A patent/AU2003204939B2/en not_active Ceased
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6479151A (en) * | 1987-06-22 | 1989-03-24 | Eisai Co Ltd | Cyclic amine derivative |
JPH11263774A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-09-28 | Eisai Co Ltd | ドネペジル誘導体の製造法およびその中間体 |
WO2000009483A2 (en) * | 1998-08-17 | 2000-02-24 | Finetech Ltd. | Process and intermediates for production of donepezil and related compounds |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014196557A1 (ja) * | 2013-06-04 | 2014-12-11 | 国立大学法人名古屋工業大学 | 光学活性2-[(1,2,3,6-テトラヒドロピリジン-4-イル)メチル]-2-フルオロ-2,3-ジヒドロインデン-1-オンの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE60309251T2 (de) | 2007-05-31 |
IL150982A (en) | 2007-02-11 |
HRP20030435B1 (en) | 2011-10-31 |
EP1386607A1 (en) | 2004-02-04 |
HRP20030435A2 (en) | 2004-06-30 |
US20040048893A1 (en) | 2004-03-11 |
AU2003204939A1 (en) | 2004-02-19 |
DE60309251D1 (de) | 2006-12-07 |
SI1386607T1 (sl) | 2007-04-30 |
ATE343385T1 (de) | 2006-11-15 |
PL360499A1 (en) | 2004-02-09 |
EP1386607B1 (en) | 2006-10-25 |
JP4662695B2 (ja) | 2011-03-30 |
AU2003204939B2 (en) | 2009-12-17 |
US6844440B2 (en) | 2005-01-18 |
CA2429563A1 (en) | 2004-01-30 |
CA2429563C (en) | 2012-02-07 |
ES2275066T3 (es) | 2007-06-01 |
IL150982A0 (en) | 2003-02-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA2316360C (en) | Process for production of donepezil derivative | |
JP4662695B2 (ja) | ドネペジルの製造方法 | |
TWI438188B (zh) | 用於合成醫藥品之中間化合物的製造方法 | |
JP2004131465A5 (ja) | ||
EP0986389B1 (en) | Novel process | |
US6953856B2 (en) | Process for the preparation of 1-benzyl-4-(5,6-dimethoxy-1-indanon)-2-yl) methyl piperidine hydrochloride (Donepezil HCI) | |
JP2006001931A (ja) | ケト化合物の調製方法 | |
WO2005003092A1 (en) | Preparation of intermediates for acetyl cholinesterase inhibitors | |
JP7252978B2 (ja) | 2-(1-(tert-ブトキシカルボニル)ピペリジン-4-イル)安息香酸を調製するためのプロセス | |
JP4031366B2 (ja) | アムロジピンの製造方法 | |
JP4022332B2 (ja) | ドネペジル誘導体の製造法およびその中間体 | |
JP2001081089A (ja) | 3−置換−4−フェニル−ピペリジン誘導体の製造方法 | |
KR100879120B1 (ko) | 도네페질 및 그 중간체의 제조방법 | |
JPH0559045A (ja) | ピリジルオキシ誘導体の製造方法 | |
KR101709535B1 (ko) | 도네페질의 신규 제조 방법 | |
JPH10231288A (ja) | 2−クロロ−4−アミノメチルピリジンの製造方法 | |
WO2009104557A1 (ja) | N-(3-ピロリジニル)グリシン誘導体の製造法 | |
WO2005066124A1 (ja) | ピロリジン誘導体の製造法 | |
JP2005194192A (ja) | (4−オキソピペリジン−1−イル)安息香酸誘導体およびこれを用いたインテグリンαvβ3阻害剤の製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060510 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091020 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100120 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100125 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20100420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100615 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100830 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101130 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110104 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140114 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |