JP2004123922A - 光伝送路形成用材料、光伝送路および光伝送路の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】光伝送路の製造においては、製造工程が少なく、より簡単な方法で製造することが求められている。また、光伝送路の光伝送損失を低減することも求められている。
【解決手段】光伝送路が、主として下記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマー
【化１４】
（但し、ｍは１以上の整数を示し、Ｒ１およびＲ２は水素原子、１価の炭化水素基、または、炭素原子もしくは水素原子の一部が酸素、窒素および硫黄の中から選択された原子で置換された１価の置換炭化水素基を示す）
からなるもの。
【選択図】 なし
【解決手段】光伝送路が、主として下記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマー
【化１４】
（但し、ｍは１以上の整数を示し、Ｒ１およびＲ２は水素原子、１価の炭化水素基、または、炭素原子もしくは水素原子の一部が酸素、窒素および硫黄の中から選択された原子で置換された１価の置換炭化水素基を示す）
からなるもの。
【選択図】 なし
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光伝送路形成用材料、光伝送路および光伝送路の製造方法に係り、特にフォトクロミック材料を用いた、容易に光伝送路を形成することのできる光伝送路形成用材料、それを用いて作製される光伝送路およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、光硬化性樹脂溶液を利用して光ファイバ先端に光伝送路を形成する技術が注目されている。このようなものとしては、例えば次のようなものが挙げられる。
【０００３】
まず、光ファイバの端を例えばフッ素系モノマーからなる光硬化性樹脂溶液に漬ける。そして、その溶液を硬化させる波長の光をその光ファイバ先端から出射させる。例えば、紫外線領域に近い波長あるいは短波長レーザ光を照射させ、その先端部分にある光硬化性樹脂溶液を光重合反応によって硬化させる。そして、出射端にはそのパワ分布に従って所謂コア部が形成される。コア部が形成されると、上記光はさらに先方に伝搬され、次々とコア部を形成し、結果として光伝送路が形成される。
【０００４】
そして、上記光硬化性樹脂溶液から取り出し、洗浄等により残存した光硬化性樹脂溶液を取り除く。次に、再び透光性樹脂をコーティングする。これは、コア面を被覆し、塵や傷から保護する目的である。そして最終の第５工程として、形成されたコア部の先端面を研磨することにより光伝送路の出射面を形成する（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
また、光伝送路の他の形成方法としては、例えば光硬化性樹脂溶液に所定波長の光を導入し光軸方向に硬化させることによって入射口から連続した光伝送路を作製するにあたり、光硬化性樹脂溶液を第１の光硬化性樹脂溶液とその第１の光硬化性樹脂溶液より硬化開始波長が短い第２の光硬化性樹脂溶液との混合溶液とし、まず第１の光硬化性樹脂溶液のみを硬化させる波長帯の光ビームを入射させて軸状のコア部を作製し、次いで混合溶液の周囲より第１および第２の両光硬化性樹脂溶液を硬化させる波長帯の光を照射させ、コア部周囲にクラッド部を作製し、コア部の屈折率がクラッド部の屈折率より大である光伝送路を形成する方法が挙げられる（例えば、特許文献２参照。）。
【０００６】
【特許文献１】
特開平４−１６５３１１号公報
【特許文献２】
特開２０００−３４７０４３公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記したような光伝送路の形成方法においては工程数が多く、また複雑であるためより簡単に光伝送路を形成する方法が求められている。また、光伝送路の光伝送損失を低減することも求められている。
【０００８】
本発明はこのような事情を鑑みてなされたものであって、容易に光伝送路を形成でき、かつ光伝送路の光伝送損失の低減が可能な光伝送路形成用材料、それを用いて作製される光伝送路、およびその製造方法を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の光伝送路形成用材料は、主として下記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマー
【化５】
（但し、ｍは１以上の整数を示し、Ｒ１およびＲ２は水素原子、１価の炭化水素基、または、炭素原子もしくは水素原子の一部が酸素、窒素および硫黄の中から選択された原子で置換された１価の置換炭化水素基を示す）
からなることを特徴とする。
【００１０】
本発明の光伝送路は、主として下記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマー
【化６】
（但し、ｍは１以上の整数を示し、Ｒ１およびＲ２は水素原子、１価の炭化水素基、または、炭素原子もしくは水素原子の一部が酸素、窒素および硫黄の中から選択された原子で置換された１価の置換炭化水素基を示す）
からなることを特徴とする。
【００１１】
前記光伝送路は、例えば少なくとも１組の対向して配置された光ファイバ間、光導波路間または光ファイバと光導波路間に配置されて用いられるものである。
【００１２】
本発明の光伝送路の製造方法は、基板上に主として下記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーからなる溶液を塗布する工程と、
【化７】
（但し、ｍは１以上の整数を示し、Ｒ１およびＲ２は水素原子、１価の炭化水素基、または、炭素原子もしくは水素原子の一部が酸素、窒素および硫黄の中から選択された原子で置換された１価の置換炭化水素基を示す）
前記基板を熱処理し、前記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーを下記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマーとする工程と
【化８】
（但し、ｍは１以上の整数を示し、Ｒ１およびＲ２は水素原子、１価の炭化水素基、または、炭素原子もしくは水素原子の一部が酸素、窒素および硫黄の中から選択された原子で置換された１価の置換炭化水素基を示す）
を具備することを特徴とする。
【００１３】
前記塗布工程において、前記主として化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーからなる溶液は、例えば少なくとも１組の対向して配置された光ファイバ間、光導波路間または光ファイバと光導波路間に塗布されて用いられる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について説明する。
【００１５】
本発明の光伝送路は主として下記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマーからなるものである。
【化９】
（但し、ｍは１以上の整数を示し、Ｒ１およびＲ２は水素原子、１価の炭化水素基、または、炭素原子もしくは水素原子の一部が酸素、窒素および硫黄の中から選択された原子で置換された１価の置換炭化水素基を示す）
【００１６】
上記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマーは、光が照射されていない状態ではトランス体となっており、光が照射されると下記化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーとなる。
【００１７】
【化１０】
（但し、ｍは１以上の整数を示し、Ｒ１およびＲ２は水素原子、１価の炭化水素基、または、炭素原子もしくは水素原子の一部が酸素、窒素および硫黄の中から選択された原子で置換された１価の置換炭化水素基を示す）
【００１８】
すなわち、上記化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーと化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーとの関係を示すと、以下のようになる。
【化１１】
【００１９】
式中、左側に示された化合物は化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーであり、右側に示された化合物は化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーである。
【００２０】
光が照射されていない場合には左側の化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーの状態となっており、これに光が照射されると右側の化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーへと変化する。また、光の照射を止めると、右側の化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーから再び左側の化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーへと戻る。
【００２１】
本発明の光伝送路では、主として上記化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーを用いることにより、容易に光伝送路を形成することができるとともに、光伝送損失も低減させることができる。本発明の光伝送路においては、例えば照射させる光の波長を７５０〜９００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００２２】
上記したようなフォトクロミックポリマーを利用した本発明の光伝送路は例えば光ファイバ間、光導波路間または光ファイバと光導波路間の接続部材として用いることができる。本発明の光伝送路を光ファイバ間の接続部材として用いた一例を図１〜図３に示す。図１は接続構造の外観を示したものである。図２および図３は接続構造の断面を示したものであり、図２は光ファイバに光を入射させていないときの状態を示したものであり、図３は光ファイバに光を入射させたときの状態を示したものである。
【００２３】
図１に示されるように、本発明の光伝送路１は、例えば対向する光ファイバ２、３間に配置して用いられるものである。このようなものにおいて、図２に示されるように、光ファイバ２に光を入射させていないときには、光伝送路１は全体が化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーの状態となっている。
【００２４】
そして、図３に示されるように光ファイバ２に光を入射させたときには、光ファイバ２に入射された光が光伝送路１に到達し、光伝送路１の光が入射した部分が化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーの状態から化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーの状態へと変化する。
【００２５】
光伝送路１のうち光が入射した部分、すなわち化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーの屈折率は、光が入射していない部分である化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーの屈折率よりも高いため、化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーの部分がいわゆるコア部となり、光が照射されていない部分はいわゆるクラッド部となる。このため、一方の光ファイバ２に入射された光は、光伝送路１のコア部を通過し、他方の光ファイバ３へと伝送されることとなる。
【００２６】
また、光ファイバ２への光の入射を止めると、光伝送路１のうちコア部となっている化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーは、再び化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーへと戻り、光伝送路１は全体が化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーからなるものとなる。
【００２７】
上記したように、本発明の光伝送路においては、光を照射するだけで容易に光を伝送することができる。また、光を照射したときにだけいわゆるコア部が形成されるため、さまざまな接続構造に応用することができる。次に、本発明の光伝送路の他の実施形態について説明する。
【００２８】
図４は、本発明の光伝送路１に２組の対向する光ファイバを光軸が交差するようにして接続したものである。すなわち、本発明の光伝送路１を正方形の平板状とした場合、周囲の４辺に、光ファイバ２と光ファイバ３、光ファイバ４と光ファイバ５とが対向するように配置し、かつそれぞれの光軸が交差するようにして配置した接続構造としたものである。
【００２９】
このような接続構造において、図５に示されるように、光ファイバ２、３、４、５のいずれにも光を入射させないときには、光伝送路１にいわゆるコア部が形成されることはなく、光伝送路１は全てが上記化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーの状態となっている。
【００３０】
そして、図６に示されるように、２組の光ファイバのうち、一方の組、例えば光ファイバ２に光を入射させると、伝送路１中の光ファイバ２の光軸に沿った部分が化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーとなり、この部分がいわゆるコア部となる。このため、一方の光ファイバ２に入射された光は、光伝送路１のコア部を通過し、他方の光ファイバ３へと伝送されることとなる。
【００３１】
また、図７に示されるように、この光ファイバ２に光を入射させるのを止め、他方の組である光ファイバ４に光を入射させると、今度は光伝送路１において光ファイバ４の光軸に沿っていわゆるコア部が形成される。このため、一方の光ファイバ４に入射された光は、光伝送路１のコア部を通過し、他方の光ファイバ５へと伝送されることとなる。
【００３２】
このように本発明の光伝送路は、光が入射した部分に、光が入射したときにだけコア部が形成されるものである。このため、例えば上記したように複数の組の光ファイバが接続されていて、これらに同時に光を入射させたときにはそれらの光軸が交差するような場合であっても、一時期に１組の光ファイバ対にだけ光を入射させるようにすることで、１つの伝送路を複数の組の光ファイバで共有することができ、複数の組の光ファイバの接続を１つの伝送路で行うこともできる。
【００３３】
また、複数の組の光ファイバを接続する場合であっても、それらの光軸が交差しない場合には、それぞれの組の光ファイバに自由に光を入射させて使用することができるのはいうまでもない。
【００３４】
次に、本発明の光伝送路形成用材料について説明する。
【００３５】
本発明の光伝送路形成用材料は主として以下の化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーからなるものである。
【化１２】
（但し、ｍは１以上の整数を示し、Ｒ１およびＲ２は水素原子、１価の炭化水素基、または、炭素原子もしくは水素原子の一部が酸素、窒素および硫黄の中から選択された原子で置換された１価の置換炭化水素基を示す）
【００３６】
上記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーにおいては、ｍは１以上の整数であれば特に制限されるものではないが、好ましくは１〜６、更に好ましくは１、２である。
【００３７】
また、Ｒ１およびＲ２は水素原子、１価の炭化水素基、または、炭素原子もしくは水素原子の一部が酸素、窒素および硫黄の中から選択された原子で置換された１価の置換炭化水素基であればよいが、水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基であればより好ましく、水素原子またはメチル基であればなお好ましい。なお、化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーから製造される化学式（２）や化学式（３）で示されるフォトクロミックポリマーについても同様である。
【００３８】
上記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーの合成方法について、Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２とした場合の合成方法を例に挙げて説明する。
【００３９】
【化１３】
【００４０】
まず、上記化学式（４）で示される化合物を用意する。この化合物自体は公知の製造法にて製造することができる。例えば、ｃｈｅｍｉｓｔ．ａｎｄ Ｉｎｄｕｓｔｏｒｙ，１９７８．ＮＯ３．１９３頁、ＢＥＩＬＳＴＥＩＮ ２４， ４１７頁等を参照して製造することができる。
【００４１】
この化学式（４）で示される化合物を含むジクロロメタン溶液に炭酸カリウムを懸濁させ、次いでヨウ化メチルを滴下し、３時間還流後、反応溶液をセライト濾過後、濾液を減圧下留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（５）で示される化合物を得る。
【００４２】
この化学式（５）で示される化合物のジクロロメタン溶液に炭酸カリウムを懸濁させ、次いでブロモ酢酸エチルを滴下し、還流後、反応溶液をセライト濾過後、濾液を減圧下留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（６）で示される化合物を得る。
【００４３】
この化学式（６）で示される化合物のテトラヒドロフラン溶液に、０℃下、水素化リチウムアルミニウムを加え、室温で３時間攪拌後、水を加えた後、酢酸エチルで抽出する。抽出物を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥する。酢酸エチルを減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（７）で示される化合物を得る。
【００４４】
この化学式（７）で示される化合物、メタクリル酸および４−ジメチルアミノピリジンのジクロロメタン溶液に、０℃下、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミドのジクロロメタン溶液を滴下し、室温で３時間攪拌後、反応溶液をセライト濾過後、濾液を減圧下留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、上記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーを得ることができる。
【００４５】
本発明の光伝送路形成用材料では、上記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーに加えて、例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリル等の重合開始剤や、粘度を調整するためのアセトン等の溶媒を必要に応じて添加することができる。重合開始剤はフォトクロミックモノマーに対して０．００５〜０．２当量とすることが好ましい。また、本発明の目的に反しない範囲において、粘度調整剤等を添加しても構わない。
【００４６】
次に、本発明の光伝送路の製造方法について、図８〜１１を参照して説明する。
【００４７】
まず、図８に示すように、光伝送路を形成するための基板６を用意し、この基板６上に所定の間隔を設けて光ファイバ２、３を対向配置する。光ファイバ２、３は、光軸が合うように配置する。この際、対向配置させるものの組合せは特に限定されるものではなく、例えば光導波路どうし、あるいは光ファイバと光導波路とを対向配置させてもよい。
【００４８】
基板としては、例えばＳｉ基板、金属基板、ガラス基板、セラミックス基板、プラスチック基板等を用いることができる。基板には光ファイバや光導波路を配置し位置あわせをするための溝が形成されていれば好ましく、光ファイバや光導波路はこの溝にはめ込まれるようにして配置されることが好ましい。基板に設けられる溝の断面形状はＶ字状、Ｕ字状等の断面形状が挙げられるが、光ファイバまたは光導波路を確実に位置決めできるものであれば溝の形状は特に制限されるものではない。
【００４９】
光ファイバは、例えば石英を主材料とする石英系光ファイバ、多成分系ガラスファイバ、プラスチック光ファイバ等からなるものである。多成分系ガラスファイバとしては、例えば酸化物ガラスからなる酸化物多成分ガラスファイバ、フッ化ガラスからなるフッ化物（多成分）ガラスファイバを用いることができる。また、光ファイバは、単一モード光ファイバおよび多モード光ファイバのいずれを用いてもよい。
【００５０】
光ファイバは、例えば直径が１２５μｍ〜１０００μｍのものを使用することができる。また、光導波路を用いる場合には、例えばライン幅５μｍ〜１０００μｍ、厚み５μｍ〜１０００μｍのものを用いることができる。
【００５１】
次に、図９に示すように、主として上記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーからなる光伝送路形成用材料７を光ファイバ２、３間に塗布する。光伝送路形成用材料は、接続しようとする光ファイバの断面が全て覆われるように塗布することが好ましい。また、光ファイバの側面が覆われるように塗布してもよい。
【００５２】
その後、この基板を熱処理する。図１０に示すように、この熱処理により光ファイバ２、３間に光伝送路１が形成され、光ファイバ２と光ファイバ３とが接続される。また、この熱処理により、化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーは重合し、上記化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーとなる。この熱処理は、例えば７０℃〜９０℃、５〜２０分程度とすることが好ましい。
【００５３】
このようにして得られた光伝送路１は、例えば図１１に示されるように、光ファイバ２より光を入射させることにより、光ファイバ２の光軸の延長線上の部分が上記化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックモノマーから、上記化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックモノマーへと変化する。このため、光ファイバ２に入射させた光は光伝送路１を通過し光ファイバ３へ伝送されることとなる。
【００５４】
上述したように、本発明の光伝送路においては、いわゆるコア部、クラッド部を別々の材料で形成する必要がないため、光伝送路の形成が容易になる。また、光伝送路の形成に際し特別なパターンニング等を行う必要がなく、光伝送路形成用材料を塗布あるいは充填し、これを熱処理するといった工程で済むため、例えば光ファイバ間の接続が容易になる。
【００５５】
【実施例】
（実施例１）
本発明の光伝送路形成材料に用いられる化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）の合成を行った。以下に、具体的な合成方法について説明する。なお、以下の説明における化学式の番号は、上述したフォトクロミックモノマーの合成方法で用いた化学式の番号と同様のものとする。
【００５６】
まず、化学式（４）で示される化合物（０．３ｇ、０．５９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（０．１８ｇ、１．３ｍｍｏｌ）を懸濁させ、次いでヨウ化メチル（０．０３７ｍｌ、０．５９ｍｍｏｌ）を滴下し、３時間還流後、反応溶液をセライト濾過後、濾液を減圧下留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（５）で示される化合物（０．２７ｇ、８８％）を得た。
【００５７】
この化学式（５）で示される化合物（０．２５ｇ、０．４８ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２ （５ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（０．０７９ｇ、０．５７ｍｍｏｌ）を懸濁させ次いでブロモ酢酸エチル（０．０９６ｇ、０．５７ｍｍｏｌ）を滴下し、３時間還流後、反応溶液をセライト濾過後、濾液を減圧下留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（６）で示される化合物（０．２９ｇ、９８％）を得た。
【００５８】
化学式（６）で示される化合物（０．２７ｇ、０．４４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液に、０℃下、水素化リチウムアルミニウム０．０１７ｇ（０．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌後、水（５ｍｌ）を加えた後、酢酸エチルで抽出（５ｍｌ×３）した。抽出物を飽和食塩水（１０ｍｌ）で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（７）で示される化合物（０．２２ｇ、８６％）を得た。
【００５９】
化学式（７）で示される化合物（０．２１ｇ、０．３７ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（０．０３５ｇ、０．４１ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．０４１ｇ、０．３４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３ｍｌ）溶液に、０℃下１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（０．０９２ｇ、０．４５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（０．５ｍｌ）溶液を滴下し、室温で３時間攪拌後、反応溶液をセライト濾過後、濾液を減圧下留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）（０．２４ｇ、１００％）を得ることができた。
【００６０】
（実施例２）
次に、実施例１で作製したフォトクロミックモノマーを用いて光伝送路を形成し、評価を行った。
【００６１】
まず、φ１２５μｍ（コア径φ５０μｍ）の多モード光ファイバと５０μｍ□光導波路の結合において、Ｓｉウエハーを異方性エッチングによりＶ溝加工を施したＳｉ−Ｖ溝基板を用意し、光ファイバと光導波路の光軸が合うようにそれぞれを設置した。光ファイバと光導波路の間隔は０．５ｍｍとした。
【００６２】
一方、実施例１で作製した化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）を２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（フォトクロミックモノマーに対して０．０１当量）と共にアセトン溶媒に溶解し、光伝送路形成用材料を作製した。
【００６３】
この光伝送路形成用材料を上記基板の光ファイバと光導波路との間に塗布し、その後９０℃で１０分間熱処理を行い、アセトン溶媒を留去するとともに、上記フォトクロミックモノマーを重合させてフォトクロミックポリマー（上記化学式（２）、Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）からなる光伝送路を形成し、光ファイバーと光導波路との接続を行った。
【００６４】
上記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）からなる光伝送路に光を入射をさせない状態での構造はトランス体であり、波長７８０ｎｍの光（露光量１００００ｍＪ／ｃｍ２）を入射させると上記化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）に異性化し、光導波路から光ファイバーへ光が伝送され、光導波路と光ファイバーとが接続されることが確認された。また、光の入射を止めると再びトランス体へと戻り、光導波路と光ファイバーとの接続が遮断されることが確認された。
【００６５】
また、光を入射させていないときの状態である上記化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）の屈折率は１．５５であり、光を入射させたときの状態である上記化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）の屈折率は１．５７であった。さらに、波長８５０ｎｍの光を用いて接続部を含めた光伝送損失を測定したところ、０．１８ｄＢ／ｃｍと良好な結果が得られることが認められた。
【発明の効果】
本発明の光伝送路においては、主として上記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマーからなるものとすることで、容易に光伝送路の形成ができるとともに、光伝送損失も低減させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光伝送路の一例を示した外観図。
【図２】本発明の光伝送路の一例を示した断面図。
【図３】本発明の光伝送路の一例を示した断面図。
【図４】本発明の光伝送路の他の例を示した外観図。
【図５】本発明の光伝送路の他の例を示した断面図。
【図６】本発明の光伝送路の他の例を示した断面図。
【図７】本発明の光伝送路の他の例を示した断面図。
【図８】光伝送路の作製工程の一例を示した断面図
【図９】光伝送路の作製工程の一例を示した断面図
【図１０】光伝送路の作製工程の一例を示した断面図
【図１１】光伝送路の作製工程の一例を示した断面図
【符号の説明】
１…光伝送路、２〜５…光ファイバ、６…基板、７…光伝送路形成材料
【発明の属する技術分野】
本発明は光伝送路形成用材料、光伝送路および光伝送路の製造方法に係り、特にフォトクロミック材料を用いた、容易に光伝送路を形成することのできる光伝送路形成用材料、それを用いて作製される光伝送路およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、光硬化性樹脂溶液を利用して光ファイバ先端に光伝送路を形成する技術が注目されている。このようなものとしては、例えば次のようなものが挙げられる。
【０００３】
まず、光ファイバの端を例えばフッ素系モノマーからなる光硬化性樹脂溶液に漬ける。そして、その溶液を硬化させる波長の光をその光ファイバ先端から出射させる。例えば、紫外線領域に近い波長あるいは短波長レーザ光を照射させ、その先端部分にある光硬化性樹脂溶液を光重合反応によって硬化させる。そして、出射端にはそのパワ分布に従って所謂コア部が形成される。コア部が形成されると、上記光はさらに先方に伝搬され、次々とコア部を形成し、結果として光伝送路が形成される。
【０００４】
そして、上記光硬化性樹脂溶液から取り出し、洗浄等により残存した光硬化性樹脂溶液を取り除く。次に、再び透光性樹脂をコーティングする。これは、コア面を被覆し、塵や傷から保護する目的である。そして最終の第５工程として、形成されたコア部の先端面を研磨することにより光伝送路の出射面を形成する（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
また、光伝送路の他の形成方法としては、例えば光硬化性樹脂溶液に所定波長の光を導入し光軸方向に硬化させることによって入射口から連続した光伝送路を作製するにあたり、光硬化性樹脂溶液を第１の光硬化性樹脂溶液とその第１の光硬化性樹脂溶液より硬化開始波長が短い第２の光硬化性樹脂溶液との混合溶液とし、まず第１の光硬化性樹脂溶液のみを硬化させる波長帯の光ビームを入射させて軸状のコア部を作製し、次いで混合溶液の周囲より第１および第２の両光硬化性樹脂溶液を硬化させる波長帯の光を照射させ、コア部周囲にクラッド部を作製し、コア部の屈折率がクラッド部の屈折率より大である光伝送路を形成する方法が挙げられる（例えば、特許文献２参照。）。
【０００６】
【特許文献１】
特開平４−１６５３１１号公報
【特許文献２】
特開２０００−３４７０４３公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記したような光伝送路の形成方法においては工程数が多く、また複雑であるためより簡単に光伝送路を形成する方法が求められている。また、光伝送路の光伝送損失を低減することも求められている。
【０００８】
本発明はこのような事情を鑑みてなされたものであって、容易に光伝送路を形成でき、かつ光伝送路の光伝送損失の低減が可能な光伝送路形成用材料、それを用いて作製される光伝送路、およびその製造方法を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の光伝送路形成用材料は、主として下記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマー
【化５】
からなることを特徴とする。
【００１０】
本発明の光伝送路は、主として下記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマー
【化６】
からなることを特徴とする。
【００１１】
前記光伝送路は、例えば少なくとも１組の対向して配置された光ファイバ間、光導波路間または光ファイバと光導波路間に配置されて用いられるものである。
【００１２】
本発明の光伝送路の製造方法は、基板上に主として下記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーからなる溶液を塗布する工程と、
【化７】
前記基板を熱処理し、前記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーを下記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマーとする工程と
【化８】
を具備することを特徴とする。
【００１３】
前記塗布工程において、前記主として化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーからなる溶液は、例えば少なくとも１組の対向して配置された光ファイバ間、光導波路間または光ファイバと光導波路間に塗布されて用いられる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について説明する。
【００１５】
本発明の光伝送路は主として下記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマーからなるものである。
【化９】
【００１６】
上記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマーは、光が照射されていない状態ではトランス体となっており、光が照射されると下記化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーとなる。
【００１７】
【化１０】
【００１８】
すなわち、上記化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーと化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーとの関係を示すと、以下のようになる。
【化１１】
式中、左側に示された化合物は化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーであり、右側に示された化合物は化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーである。
【００２０】
光が照射されていない場合には左側の化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーの状態となっており、これに光が照射されると右側の化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーへと変化する。また、光の照射を止めると、右側の化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーから再び左側の化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーへと戻る。
【００２１】
本発明の光伝送路では、主として上記化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーを用いることにより、容易に光伝送路を形成することができるとともに、光伝送損失も低減させることができる。本発明の光伝送路においては、例えば照射させる光の波長を７５０〜９００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００２２】
上記したようなフォトクロミックポリマーを利用した本発明の光伝送路は例えば光ファイバ間、光導波路間または光ファイバと光導波路間の接続部材として用いることができる。本発明の光伝送路を光ファイバ間の接続部材として用いた一例を図１〜図３に示す。図１は接続構造の外観を示したものである。図２および図３は接続構造の断面を示したものであり、図２は光ファイバに光を入射させていないときの状態を示したものであり、図３は光ファイバに光を入射させたときの状態を示したものである。
【００２３】
図１に示されるように、本発明の光伝送路１は、例えば対向する光ファイバ２、３間に配置して用いられるものである。このようなものにおいて、図２に示されるように、光ファイバ２に光を入射させていないときには、光伝送路１は全体が化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーの状態となっている。
【００２４】
そして、図３に示されるように光ファイバ２に光を入射させたときには、光ファイバ２に入射された光が光伝送路１に到達し、光伝送路１の光が入射した部分が化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーの状態から化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーの状態へと変化する。
【００２５】
光伝送路１のうち光が入射した部分、すなわち化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーの屈折率は、光が入射していない部分である化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーの屈折率よりも高いため、化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーの部分がいわゆるコア部となり、光が照射されていない部分はいわゆるクラッド部となる。このため、一方の光ファイバ２に入射された光は、光伝送路１のコア部を通過し、他方の光ファイバ３へと伝送されることとなる。
【００２６】
また、光ファイバ２への光の入射を止めると、光伝送路１のうちコア部となっている化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーは、再び化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーへと戻り、光伝送路１は全体が化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーからなるものとなる。
【００２７】
上記したように、本発明の光伝送路においては、光を照射するだけで容易に光を伝送することができる。また、光を照射したときにだけいわゆるコア部が形成されるため、さまざまな接続構造に応用することができる。次に、本発明の光伝送路の他の実施形態について説明する。
【００２８】
図４は、本発明の光伝送路１に２組の対向する光ファイバを光軸が交差するようにして接続したものである。すなわち、本発明の光伝送路１を正方形の平板状とした場合、周囲の４辺に、光ファイバ２と光ファイバ３、光ファイバ４と光ファイバ５とが対向するように配置し、かつそれぞれの光軸が交差するようにして配置した接続構造としたものである。
【００２９】
このような接続構造において、図５に示されるように、光ファイバ２、３、４、５のいずれにも光を入射させないときには、光伝送路１にいわゆるコア部が形成されることはなく、光伝送路１は全てが上記化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーの状態となっている。
【００３０】
そして、図６に示されるように、２組の光ファイバのうち、一方の組、例えば光ファイバ２に光を入射させると、伝送路１中の光ファイバ２の光軸に沿った部分が化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマーとなり、この部分がいわゆるコア部となる。このため、一方の光ファイバ２に入射された光は、光伝送路１のコア部を通過し、他方の光ファイバ３へと伝送されることとなる。
【００３１】
また、図７に示されるように、この光ファイバ２に光を入射させるのを止め、他方の組である光ファイバ４に光を入射させると、今度は光伝送路１において光ファイバ４の光軸に沿っていわゆるコア部が形成される。このため、一方の光ファイバ４に入射された光は、光伝送路１のコア部を通過し、他方の光ファイバ５へと伝送されることとなる。
【００３２】
このように本発明の光伝送路は、光が入射した部分に、光が入射したときにだけコア部が形成されるものである。このため、例えば上記したように複数の組の光ファイバが接続されていて、これらに同時に光を入射させたときにはそれらの光軸が交差するような場合であっても、一時期に１組の光ファイバ対にだけ光を入射させるようにすることで、１つの伝送路を複数の組の光ファイバで共有することができ、複数の組の光ファイバの接続を１つの伝送路で行うこともできる。
【００３３】
また、複数の組の光ファイバを接続する場合であっても、それらの光軸が交差しない場合には、それぞれの組の光ファイバに自由に光を入射させて使用することができるのはいうまでもない。
【００３４】
次に、本発明の光伝送路形成用材料について説明する。
【００３５】
本発明の光伝送路形成用材料は主として以下の化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーからなるものである。
【化１２】
【００３６】
上記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーにおいては、ｍは１以上の整数であれば特に制限されるものではないが、好ましくは１〜６、更に好ましくは１、２である。
【００３７】
また、Ｒ１およびＲ２は水素原子、１価の炭化水素基、または、炭素原子もしくは水素原子の一部が酸素、窒素および硫黄の中から選択された原子で置換された１価の置換炭化水素基であればよいが、水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基であればより好ましく、水素原子またはメチル基であればなお好ましい。なお、化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーから製造される化学式（２）や化学式（３）で示されるフォトクロミックポリマーについても同様である。
【００３８】
上記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーの合成方法について、Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２とした場合の合成方法を例に挙げて説明する。
【００３９】
【化１３】
まず、上記化学式（４）で示される化合物を用意する。この化合物自体は公知の製造法にて製造することができる。例えば、ｃｈｅｍｉｓｔ．ａｎｄ Ｉｎｄｕｓｔｏｒｙ，１９７８．ＮＯ３．１９３頁、ＢＥＩＬＳＴＥＩＮ ２４， ４１７頁等を参照して製造することができる。
【００４１】
この化学式（４）で示される化合物を含むジクロロメタン溶液に炭酸カリウムを懸濁させ、次いでヨウ化メチルを滴下し、３時間還流後、反応溶液をセライト濾過後、濾液を減圧下留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（５）で示される化合物を得る。
【００４２】
この化学式（５）で示される化合物のジクロロメタン溶液に炭酸カリウムを懸濁させ、次いでブロモ酢酸エチルを滴下し、還流後、反応溶液をセライト濾過後、濾液を減圧下留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（６）で示される化合物を得る。
【００４３】
この化学式（６）で示される化合物のテトラヒドロフラン溶液に、０℃下、水素化リチウムアルミニウムを加え、室温で３時間攪拌後、水を加えた後、酢酸エチルで抽出する。抽出物を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥する。酢酸エチルを減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（７）で示される化合物を得る。
【００４４】
この化学式（７）で示される化合物、メタクリル酸および４−ジメチルアミノピリジンのジクロロメタン溶液に、０℃下、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミドのジクロロメタン溶液を滴下し、室温で３時間攪拌後、反応溶液をセライト濾過後、濾液を減圧下留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、上記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーを得ることができる。
【００４５】
本発明の光伝送路形成用材料では、上記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーに加えて、例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリル等の重合開始剤や、粘度を調整するためのアセトン等の溶媒を必要に応じて添加することができる。重合開始剤はフォトクロミックモノマーに対して０．００５〜０．２当量とすることが好ましい。また、本発明の目的に反しない範囲において、粘度調整剤等を添加しても構わない。
【００４６】
次に、本発明の光伝送路の製造方法について、図８〜１１を参照して説明する。
【００４７】
まず、図８に示すように、光伝送路を形成するための基板６を用意し、この基板６上に所定の間隔を設けて光ファイバ２、３を対向配置する。光ファイバ２、３は、光軸が合うように配置する。この際、対向配置させるものの組合せは特に限定されるものではなく、例えば光導波路どうし、あるいは光ファイバと光導波路とを対向配置させてもよい。
【００４８】
基板としては、例えばＳｉ基板、金属基板、ガラス基板、セラミックス基板、プラスチック基板等を用いることができる。基板には光ファイバや光導波路を配置し位置あわせをするための溝が形成されていれば好ましく、光ファイバや光導波路はこの溝にはめ込まれるようにして配置されることが好ましい。基板に設けられる溝の断面形状はＶ字状、Ｕ字状等の断面形状が挙げられるが、光ファイバまたは光導波路を確実に位置決めできるものであれば溝の形状は特に制限されるものではない。
【００４９】
光ファイバは、例えば石英を主材料とする石英系光ファイバ、多成分系ガラスファイバ、プラスチック光ファイバ等からなるものである。多成分系ガラスファイバとしては、例えば酸化物ガラスからなる酸化物多成分ガラスファイバ、フッ化ガラスからなるフッ化物（多成分）ガラスファイバを用いることができる。また、光ファイバは、単一モード光ファイバおよび多モード光ファイバのいずれを用いてもよい。
【００５０】
光ファイバは、例えば直径が１２５μｍ〜１０００μｍのものを使用することができる。また、光導波路を用いる場合には、例えばライン幅５μｍ〜１０００μｍ、厚み５μｍ〜１０００μｍのものを用いることができる。
【００５１】
次に、図９に示すように、主として上記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーからなる光伝送路形成用材料７を光ファイバ２、３間に塗布する。光伝送路形成用材料は、接続しようとする光ファイバの断面が全て覆われるように塗布することが好ましい。また、光ファイバの側面が覆われるように塗布してもよい。
【００５２】
その後、この基板を熱処理する。図１０に示すように、この熱処理により光ファイバ２、３間に光伝送路１が形成され、光ファイバ２と光ファイバ３とが接続される。また、この熱処理により、化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーは重合し、上記化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマーとなる。この熱処理は、例えば７０℃〜９０℃、５〜２０分程度とすることが好ましい。
【００５３】
このようにして得られた光伝送路１は、例えば図１１に示されるように、光ファイバ２より光を入射させることにより、光ファイバ２の光軸の延長線上の部分が上記化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックモノマーから、上記化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックモノマーへと変化する。このため、光ファイバ２に入射させた光は光伝送路１を通過し光ファイバ３へ伝送されることとなる。
【００５４】
上述したように、本発明の光伝送路においては、いわゆるコア部、クラッド部を別々の材料で形成する必要がないため、光伝送路の形成が容易になる。また、光伝送路の形成に際し特別なパターンニング等を行う必要がなく、光伝送路形成用材料を塗布あるいは充填し、これを熱処理するといった工程で済むため、例えば光ファイバ間の接続が容易になる。
【００５５】
【実施例】
（実施例１）
本発明の光伝送路形成材料に用いられる化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）の合成を行った。以下に、具体的な合成方法について説明する。なお、以下の説明における化学式の番号は、上述したフォトクロミックモノマーの合成方法で用いた化学式の番号と同様のものとする。
【００５６】
まず、化学式（４）で示される化合物（０．３ｇ、０．５９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（０．１８ｇ、１．３ｍｍｏｌ）を懸濁させ、次いでヨウ化メチル（０．０３７ｍｌ、０．５９ｍｍｏｌ）を滴下し、３時間還流後、反応溶液をセライト濾過後、濾液を減圧下留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（５）で示される化合物（０．２７ｇ、８８％）を得た。
【００５７】
この化学式（５）で示される化合物（０．２５ｇ、０．４８ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２ （５ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（０．０７９ｇ、０．５７ｍｍｏｌ）を懸濁させ次いでブロモ酢酸エチル（０．０９６ｇ、０．５７ｍｍｏｌ）を滴下し、３時間還流後、反応溶液をセライト濾過後、濾液を減圧下留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（６）で示される化合物（０．２９ｇ、９８％）を得た。
【００５８】
化学式（６）で示される化合物（０．２７ｇ、０．４４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液に、０℃下、水素化リチウムアルミニウム０．０１７ｇ（０．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌後、水（５ｍｌ）を加えた後、酢酸エチルで抽出（５ｍｌ×３）した。抽出物を飽和食塩水（１０ｍｌ）で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（７）で示される化合物（０．２２ｇ、８６％）を得た。
【００５９】
化学式（７）で示される化合物（０．２１ｇ、０．３７ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（０．０３５ｇ、０．４１ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．０４１ｇ、０．３４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３ｍｌ）溶液に、０℃下１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（０．０９２ｇ、０．４５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（０．５ｍｌ）溶液を滴下し、室温で３時間攪拌後、反応溶液をセライト濾過後、濾液を減圧下留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）（０．２４ｇ、１００％）を得ることができた。
【００６０】
（実施例２）
次に、実施例１で作製したフォトクロミックモノマーを用いて光伝送路を形成し、評価を行った。
【００６１】
まず、φ１２５μｍ（コア径φ５０μｍ）の多モード光ファイバと５０μｍ□光導波路の結合において、Ｓｉウエハーを異方性エッチングによりＶ溝加工を施したＳｉ−Ｖ溝基板を用意し、光ファイバと光導波路の光軸が合うようにそれぞれを設置した。光ファイバと光導波路の間隔は０．５ｍｍとした。
【００６２】
一方、実施例１で作製した化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）を２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（フォトクロミックモノマーに対して０．０１当量）と共にアセトン溶媒に溶解し、光伝送路形成用材料を作製した。
【００６３】
この光伝送路形成用材料を上記基板の光ファイバと光導波路との間に塗布し、その後９０℃で１０分間熱処理を行い、アセトン溶媒を留去するとともに、上記フォトクロミックモノマーを重合させてフォトクロミックポリマー（上記化学式（２）、Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）からなる光伝送路を形成し、光ファイバーと光導波路との接続を行った。
【００６４】
上記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）からなる光伝送路に光を入射をさせない状態での構造はトランス体であり、波長７８０ｎｍの光（露光量１００００ｍＪ／ｃｍ２）を入射させると上記化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）に異性化し、光導波路から光ファイバーへ光が伝送され、光導波路と光ファイバーとが接続されることが確認された。また、光の入射を止めると再びトランス体へと戻り、光導波路と光ファイバーとの接続が遮断されることが確認された。
【００６５】
また、光を入射させていないときの状態である上記化学式（２）で示されるトランス体のフォトクロミックポリマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）の屈折率は１．５５であり、光を入射させたときの状態である上記化学式（３）で示されるシス体のフォトクロミックポリマー（Ｒ１：ＣＨ３、Ｒ２：ＣＨ３、ｍ＝２）の屈折率は１．５７であった。さらに、波長８５０ｎｍの光を用いて接続部を含めた光伝送損失を測定したところ、０．１８ｄＢ／ｃｍと良好な結果が得られることが認められた。
【発明の効果】
本発明の光伝送路においては、主として上記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマーからなるものとすることで、容易に光伝送路の形成ができるとともに、光伝送損失も低減させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光伝送路の一例を示した外観図。
【図２】本発明の光伝送路の一例を示した断面図。
【図３】本発明の光伝送路の一例を示した断面図。
【図４】本発明の光伝送路の他の例を示した外観図。
【図５】本発明の光伝送路の他の例を示した断面図。
【図６】本発明の光伝送路の他の例を示した断面図。
【図７】本発明の光伝送路の他の例を示した断面図。
【図８】光伝送路の作製工程の一例を示した断面図
【図９】光伝送路の作製工程の一例を示した断面図
【図１０】光伝送路の作製工程の一例を示した断面図
【図１１】光伝送路の作製工程の一例を示した断面図
【符号の説明】
１…光伝送路、２〜５…光ファイバ、６…基板、７…光伝送路形成材料
Claims (5)
- 主として下記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマー
からなることを特徴とする光伝送路形成用材料。 - 主として下記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマー
からなることを特徴とする光伝送路。 - 前記光伝送路は、少なくとも１組の対向して配置された光ファイバ間、光導波路間または光ファイバと光導波路間に配置されていることを特徴とする請求項２記載の光伝送路。
- 基板上に主として下記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーからなる溶液を塗布する工程と、
前記基板を熱処理し、前記化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーを下記化学式（２）で示されるフォトクロミックポリマーとする工程と
を具備することを特徴とする光伝送路の製造方法。 - 前記塗布工程において、前記主として化学式（１）で示されるフォトクロミックモノマーからなる溶液は、少なくとも１組の対向して配置された光ファイバ間、光導波路間または光ファイバと光導波路間に塗布されることを特徴とする請求項４記載の光伝送路の製造方法。
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