JP2004115783A - Paste for use in partition, and method for manufacturing plasma display panel - Google Patents

Paste for use in partition, and method for manufacturing plasma display panel Download PDF

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Hiroyuki Yamamoto
山本 宏行
Masamichi Tanida
谷田 正道
Tsuneo Manabe
真鍋 恒夫
Kazuhiko Yamanaka
山中 一彦
Akiko Yoshizawa
吉沢 晶子
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a paste for use in partitions which causes few cracks at the time of drying even if the thickness of a coating film is increased and which can keep good the adhesion between the film dried and a dry film without extending a time required for sandblasting. <P>SOLUTION: The paste for use in the partitions is such that the paste comprises a glass powder, resins and an organic solvent and moreover the above resins comprise polyvinyl butyral and/or a polymethacrylate. Similarly, the paste for use in the partitions is such that the paste comprises a glass powder, a resin, an organic solvent and a surfactant and moreover the above resin comprises an acrylic polymer and preferably, the resin comprises ethyl cellulose in addition. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

 本発明は、プラズマディスプレイパネル(PDP)、蛍光表示管(VFD)等の隔壁形成に用いられるペーストに関する。 The present invention relates to a paste used for forming a partition wall of a plasma display panel (PDP), a fluorescent display tube (VFD) or the like.

 薄型の平板型カラー表示装置であるPDPまたはVFDのパネル構造の特徴のひとつとして、画素を区切るために画面全域に等間隔で形成される隔壁が挙げられる。たとえばPDPでは、前面ガラス基板の表面には通常、透明電極および該透明電極を被覆する誘電体層が形成されており、該誘電体層はMgO膜で被覆され、保護されている。背面ガラス基板の表面には通常、アドレス電極および該アドレス電極を被覆する絶縁被覆層が形成されており、該絶縁被覆層の上には隔壁が形成されている。 One of the features of the PDP or VFD panel structure, which is a thin flat color display device, is a partition wall formed at equal intervals over the entire screen to divide pixels. For example, in a PDP, a transparent electrode and a dielectric layer that covers the transparent electrode are usually formed on the surface of the front glass substrate, and the dielectric layer is covered and protected with an MgO film. Usually, an address electrode and an insulating coating layer that covers the address electrode are formed on the surface of the rear glass substrate, and a partition wall is formed on the insulating coating layer.

 隔壁は画面全域に等間隔で格子状に形成され、その格子間隔は典型的には200〜300μmである。また、隔壁の幅、高さは、典型的にはそれぞれ80μm、150μmである。 The partition walls are formed in a lattice pattern at equal intervals over the entire screen, and the lattice interval is typically 200 to 300 μm. The width and height of the partition walls are typically 80 μm and 150 μm, respectively.

 PDPの隔壁はたとえば次のようにして形成される。
 まず、隔壁形状を保持するためのセラミックスフィラー、固着材であるガラス粉末、色調調整のための耐熱顔料等からなる無機粉末をビヒクルと混合してペーストを作製する。
The partition walls of the PDP are formed as follows, for example.
First, a paste is prepared by mixing an inorganic powder made of a ceramic filler for maintaining a partition shape, glass powder as a fixing material, a heat-resistant pigment for color tone adjustment, and the like with a vehicle.

 通常、ガラス粉末としてはPbO−SiO2−B23系ガラスの粉末が、耐熱顔料としてはチタニア等の白色顔料またはCr−Cu複合酸化物等の黒色顔料が、セラミックフィラーとしてはアルミナ、ジルコン、ジルコニア等の粉末が、それぞれ使用される。また、前記PbO−SiO2−B23系ガラスのモル%表示の代表的な組成は、B23 15%、SiO2 40%、PbO 35%、Al23 5%、TiO2 5%、である。ビヒクルは樹脂と有機溶剤を含み、樹脂にはエチルセルロース等、有機溶剤にはターピネオール等が使用される(たとえば、特許文献1参照。)。 Usually, PbO—SiO 2 —B 2 O 3 glass powder is used as the glass powder, white pigment such as titania or black pigment such as Cr—Cu composite oxide is used as the heat resistant pigment, and alumina or zircon as the ceramic filler. , Powders such as zirconia are used. The typical composition of the PbO—SiO 2 —B 2 O 3 glass in terms of mol% is B 2 O 3 15%, SiO 2 40%, PbO 35%, Al 2 O 3 5%, TiO 2. 5%. The vehicle includes a resin and an organic solvent. Ethyl cellulose or the like is used for the resin, and terpineol or the like is used for the organic solvent (see, for example, Patent Document 1).

 こうして得られた隔壁用ペーストを、表面にアドレス電極および該アドレス電極を被覆する絶縁被覆層が形成されたガラス基板の上の全面に塗布し、乾燥させる。次に、この乾燥された塗布層の上にドライフィルムレジストをラミネートし、所望の隔壁パターンの露光マスクをセットして露光後、炭酸ナトリウム水溶液等を用いて現像し、前記塗布層の上に隔壁パターンを形成する。 The partition wall paste thus obtained is applied to the entire surface of the glass substrate on which the address electrode and the insulating coating layer covering the address electrode are formed, and dried. Next, a dry film resist is laminated on the dried coating layer, an exposure mask having a desired partition pattern is set, and after exposure, developed using an aqueous sodium carbonate solution or the like, the partition is formed on the coating layer. Form a pattern.

 この隔壁パターンが形成された塗布層の不要部をサンドブラストによって切削し、未焼成隔壁を得る。この未焼成隔壁の上に残っているドライフィルムを水酸化ナトリウム水溶液、エタノールアミン等によって除去後、500〜620℃で焼成しガラス基板上に隔壁を形成する。
特開2001−106547号公報(第3頁)
Unnecessary portions of the coating layer on which the partition pattern is formed are cut by sandblasting to obtain an unfired partition. The dry film remaining on the unfired partition walls is removed with an aqueous sodium hydroxide solution, ethanolamine or the like, and then fired at 500 to 620 ° C. to form partition walls on the glass substrate.
JP 2001-106547 A (page 3)

 現在、PDPの高画質化を目指して、さまざまな試みがなされており、そのひとつに高輝度化がある。
 高輝度化を達成するためには、プラズマ放電領域の拡大による紫外線発光量の増加および蛍光体の塗布面積の増加を目的として隔壁の高さを高くすることが有効である。
At present, various attempts have been made to improve the image quality of PDPs, and one of them is to increase the brightness.
In order to achieve high brightness, it is effective to increase the height of the partition wall for the purpose of increasing the amount of ultraviolet light emission by expanding the plasma discharge region and increasing the coating area of the phosphor.

 従来の隔壁用ペーストを用いて先に述べたようにサンドブラスト法で隔壁を形成する場合、隔壁の高さを高くすると塗布膜厚が厚くなるため、乾燥時に亀裂が発生しやすくなる、サンドブラストに要する時間が長くなる等の問題がある。なお、乾燥膜上に亀裂があると、該亀裂は形成された隔壁の欠陥となるおそれがある。 When the partition wall is formed by the sand blasting method using the conventional partition wall paste as described above, the coating film thickness increases when the partition wall height is increased. There are problems such as long time. If there is a crack on the dry film, the crack may be a defect of the formed partition wall.

 また、サンドブラストに要する時間を短くするためにペーストの樹脂量を減らすとサンドブラストに要する時間は短くなるが、乾燥膜とドライフィルムの密着性が弱くなり、サンドブラスト時にドライフィルムが乾燥膜から剥がれやすくなるという問題がある。 Also, if the amount of paste resin is reduced to shorten the time required for sand blasting, the time required for sand blasting will be shortened, but the adhesion between the dry film and the dry film will be weak, and the dry film will easily peel off from the dry film during sand blasting. There is a problem.

 本発明は、塗布膜厚を厚くしても乾燥時に亀裂が発生しにくく、またサンドブラストに要する時間を長くすることなく乾燥膜とドライフィルムとの密着性を良好に保持できる隔壁用ペーストの提供を目的とする。 The present invention provides a partition wall paste that is less likely to crack during drying even when the coating thickness is increased, and that can maintain good adhesion between the dried film and the dried film without increasing the time required for sandblasting. Objective.

 本発明は、ガラス粉末、樹脂および有機溶剤とを含有する隔壁用ペーストであって、樹脂としてポリビニルブチラールおよび/またはポリメタクリレートを含有する隔壁用ペーストを提供する(以下、本発明のペースト1という。)。また、本発明のペースト1において、界面活性剤を含有するものを提供する。
 また、本発明は、ガラス粉末、樹脂、有機溶剤および界面活性剤を含有する隔壁用ペーストであって、樹脂としてアクリル重合体を含有する隔壁用ペーストを提供する(以下、本発明のペースト2という。)。
The present invention provides a partition wall paste containing glass powder, a resin and an organic solvent, and includes a partition wall paste containing polyvinyl butyral and / or polymethacrylate as a resin (hereinafter referred to as paste 1 of the present invention). ). Moreover, what contains surfactant in the paste 1 of this invention is provided.
The present invention also provides a partition wall paste containing glass powder, a resin, an organic solvent, and a surfactant, the partition wall paste containing an acrylic polymer as a resin (hereinafter referred to as paste 2 of the present invention). .)

 本発明のペースト1は、ポリビニルブチラールまたはポリメタクリレートを用いているので、塗布膜厚を厚くしても乾燥時に亀裂が発生しにくく、サンドブラストに要する時間も長くならない上、乾燥膜とドライフィルムとの密着性を良好に保持できる。
 また、界面活性剤を用いることで、乾燥膜の固化や乾燥膜と基板との密着性の低下を防止することができ、さらにサンドブラストに要する時間を短縮し、乾燥膜とドライフィルムとの密着性を良好に保持できる。サンドブラストに要する時間の短縮は、界面活性剤が隔壁用ペースト中のガラス粉末などの無機粉末に吸着することで、樹脂と無機粉末との結びつきを弱めるので、サンドブラスト時に樹脂が飛びやすくなるためと推定している。
Since the paste 1 of the present invention uses polyvinyl butyral or polymethacrylate, even if the coating film thickness is increased, cracks are unlikely to occur during drying, the time required for sandblasting does not increase, and the dry film and the dry film Good adhesion can be maintained.
In addition, by using a surfactant, it is possible to prevent solidification of the dry film and deterioration of the adhesion between the dry film and the substrate, and further reduce the time required for sandblasting, and the adhesion between the dry film and the dry film. Can be maintained well. The shortening of the time required for sand blasting is presumed that the surfactant adsorbs to inorganic powder such as glass powder in the partition wall paste and weakens the bond between the resin and the inorganic powder, so that the resin is likely to fly during sand blasting. doing.

 本発明は、背面基板を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、該背面基板のガラス基板上に、上記の隔壁用ペーストを塗布した後に乾燥し、加工し、焼成して隔壁を形成する工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。この製造方法によれば、隔壁の高さが高く、高輝度で、高画質なPDPを、サンドブラスト加工に要する時間を特に長くすることなく製造できる。 The present invention is a method for manufacturing a plasma display panel having a back substrate, the step of applying the partition wall paste on the glass substrate of the back substrate, drying, processing, and firing to form the partition wall A method of manufacturing a plasma display panel having the above is provided. According to this manufacturing method, a PDP having a high partition wall, high brightness, and high image quality can be manufactured without particularly increasing the time required for sandblasting.

 本発明によれば、塗布膜厚を厚くしても、乾燥時に亀裂が発生しにくく、サンドブラストに要する時間も長くならず、ドライフィルムとの密着性も良好な隔壁用ペーストが得られる。また、本発明によれば、高輝度で、画質に優れたPDPを、サンドブラスト加工に要する時間を特に長くすることなく製造できる。 According to the present invention, even when the coating film thickness is increased, cracks are hardly generated during drying, the time required for sandblasting is not prolonged, and a partition wall paste having good adhesion to the dry film can be obtained. In addition, according to the present invention, a PDP having high brightness and excellent image quality can be produced without particularly increasing the time required for sandblasting.

 本発明の隔壁用ペースト(以下、本発明のペーストという。)は通常、ガラス粉末、セラミックスフィラー、耐熱顔料等の無機粉末と、有機バインダとしての樹脂および該樹脂を溶解する溶剤を含むビヒクルとを混練して製造される。
 本発明のペーストは、PDPやVFD等の隔壁形成に用いられ、通常、表面にアドレス電極および該アドレス電極を被覆する絶縁被覆層が形成されたガラス基板の上の全面に塗布し、乾燥後サンドブラスト法等により所望の形状に加工された後、焼成される。
The partition wall paste of the present invention (hereinafter referred to as the paste of the present invention) usually comprises an inorganic powder such as a glass powder, a ceramic filler, and a heat-resistant pigment, and a vehicle containing a resin as an organic binder and a solvent for dissolving the resin. Manufactured by kneading.
The paste of the present invention is used for forming barrier ribs such as PDP and VFD, and is usually applied to the entire surface of a glass substrate on which an address electrode and an insulating coating layer for covering the address electrode are formed. After being processed into a desired shape by a method or the like, it is fired.

 前記焼成が行われる温度は通常、500〜620℃である。500℃未満では焼成後の隔壁に前記樹脂が一部残留し、PDPまたはVFDにおいてパネルを封着する際またはパネル放電時にこれら残留樹脂がガスとなって放出されるおそれがある。620℃超ではガラス基板が変形するおそれがある。 The temperature at which the firing is performed is usually 500 to 620 ° C. If the temperature is lower than 500 ° C., a part of the resin remains in the partition after firing, and the residual resin may be released as a gas when sealing the panel in PDP or VFD or during panel discharge. If it exceeds 620 ° C., the glass substrate may be deformed.

 ガラス粉末の軟化点TSは450〜650℃であることが好ましい。450℃未満では前記焼成時にガラスが流動しすぎ、所定の隔壁形状が得られないおそれがある。より好ましくは500℃以上である。650℃超では焼成時のガラス流動性が低下し、緻密な隔壁が得られないおそれがある。より好ましくは620℃以下、特に好ましくは600℃未満である。 The softening point T S of the glass powder is preferably 450 to 650 ° C. If it is less than 450 degreeC, glass may flow too much at the time of the said baking, and there exists a possibility that a predetermined partition shape may not be obtained. More preferably, it is 500 degreeC or more. If it exceeds 650 ° C., the glass fluidity at the time of firing is lowered, and there is a possibility that dense partition walls cannot be obtained. More preferably, it is 620 degreeC or less, Especially preferably, it is less than 600 degreeC.

 ガラス粉末を焼成して得られる焼成体の50〜350℃における平均線熱膨張係数αは65×10-7〜85×10-7/℃であることが好ましい。この範囲外では、ガラス基板との膨張マッチングが困難となる。より好ましくは70×10-7〜80×10-7/℃である。なお、ガラス基板の前記平均線膨張係数は典型的には65×10-7〜85×10-7/℃である。 The average linear thermal expansion coefficient α at 50 to 350 ° C. of the fired body obtained by firing the glass powder is preferably 65 × 10 −7 to 85 × 10 −7 / ° C. Outside this range, expansion matching with the glass substrate becomes difficult. More preferably, it is 70 × 10 −7 to 80 × 10 −7 / ° C. The average linear expansion coefficient of the glass substrate is typically 65 × 10 −7 to 85 × 10 −7 / ° C.

 ガラス粉末は下記酸化物基準のモル%表示で本質的に、
 B23 5〜80%、SiO2 0〜45%、ZnO 0〜60%、PbO+Bi23 0〜70%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜50%、Li2O+Na2O+K2O 0〜30%、Al23+TiO2+ZrO2 0〜13%、CuO 0〜3%、SnO2 0〜3%、または、
23 0〜60%、SiO2 20〜65%、ZnO 0〜60%、PbO+Bi23 0〜70%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜50%、Li2O+Na2O+K2O 0〜30%、Al23+TiO2+ZrO2 0〜13%、CuO+SnO2+CeO2 0〜5%、
からなることが好ましい。ここで、たとえば「SnO2:0〜3%」とは、SnO2は必須ではないが3%まで含有してもよい、との意である。
Glass powder is essentially expressed in terms of mol% based on the following oxides:
B 2 O 3 5~80%, SiO 2 0~45%, 0~60% ZnO, PbO + Bi 2 O 3 0~70%, MgO + CaO + SrO + BaO 0~50%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~30%, Al 2 O 3 + TiO 2 + ZrO 2 0-13%, CuO 0-3%, SnO 2 0-3%, or
B 2 O 3 0-60%, SiO 2 20-65%, ZnO 0-60%, PbO + Bi 2 O 3 0-70%, MgO + CaO + SrO + BaO 0-50%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0-30%, Al 2 O 3 + TiO 2 + ZrO 2 0-13%, CuO + SnO 2 + CeO 2 0-5%,
Preferably it consists of. Here, for example, “SnO 2 : 0 to 3%” means that SnO 2 is not essential but may be contained up to 3%.

 ガラス粉末には、上記成分以外にも、その他の成分を本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。その場合、「その他の成分」の含有量の合計は5%以下であることが好ましい。
 前記「その他の成分」として、La23等の希土類酸化物、P25、MnO、Fe23、CoO、NiO、GeO2、Y23、MoO3、Rh23、Ag2O、In23、TeO2、WO3、ReO2、V25、PdO等が例示される。
In addition to the above components, the glass powder may contain other components as long as the object of the present invention is not impaired. In that case, the total content of “other components” is preferably 5% or less.
As the “other components”, rare earth oxides such as La 2 O 3 , P 2 O 5 , MnO, Fe 2 O 3 , CoO, NiO, GeO 2 , Y 2 O 3 , MoO 3 , Rh 2 O 3 , Examples thereof include Ag 2 O, In 2 O 3 , TeO 2 , WO 3 , ReO 2 , V 2 O 5 , and PdO.

 セラミックスフィラーは必須ではないが必要に応じて含有してもよい。セラミックスフィラーとして、アルミナ、ムライト、ジルコン、ジルコニア、コージェライト、チタン酸アルミニウム、β−スポジュメン、α−石英、石英ガラス、β−石英固溶体、β−ユークリプタイト等の粉末が例示される。 セ ラ ミ ッ ク ス Ceramic filler is not essential, but may be contained if necessary. Examples of the ceramic filler include powders of alumina, mullite, zircon, zirconia, cordierite, aluminum titanate, β-spodumene, α-quartz, quartz glass, β-quartz solid solution, β-eucryptite, and the like.

 耐熱顔料は必須ではないが必要に応じて含有してもよい。耐熱顔料として、チタニア等の白色顔料、Fe−Mn複酸化物系、Fe−Co−Cr複酸化物系、Fe−Mn−Al複酸化物系等の顔料が例示される。 Although the heat resistant pigment is not essential, it may be contained if necessary. Examples of the heat resistant pigment include white pigments such as titania, pigments such as Fe—Mn complex oxide, Fe—Co—Cr complex oxide, and Fe—Mn—Al complex oxide.

 本発明のペーストにおける樹脂の含有割合は、無機粉末を100質量部として0.5〜8質量部であることが好ましい。0.5質量部未満ではドライフィルムとの密着性が弱くなるおそれがある。より好ましくは1質量部以上である。8質量部超ではブラストレートが遅くなりすぎるおそれがある。より好ましくは4質量部以下または3質量部以下である。 The content ratio of the resin in the paste of the present invention is preferably 0.5 to 8 parts by mass with 100 parts by mass of the inorganic powder. If it is less than 0.5 mass part, there exists a possibility that adhesiveness with a dry film may become weak. More preferably, it is 1 part by mass or more. If it exceeds 8 parts by mass, the blast rate may be too slow. More preferably, it is 4 parts by mass or less or 3 parts by mass or less.

 本発明のペースト1の樹脂は、塗布膜厚を厚くしたときに、サンドブラストに要する時間が長くならずに、かつドライフィルムとの密着性も良好とするために、ポリビニルブチラールおよびポリメタクリレートのいずれか一種以上の樹脂を含有しなければならない。 The resin of the paste 1 of the present invention is one of polyvinyl butyral and polymethacrylate in order that the time required for sandblasting does not become long and the adhesion to the dry film is good when the coating film thickness is increased. Must contain one or more resins.

 ポリビニルブチラールの重量平均分子量は20,000〜130,000であることが好ましい。20,000未満では乾燥膜とドライフィルムの密着性が不足するおそれがある。130,000超ではターピネオール等の有機溶剤に溶解しにくくなる。 The weight average molecular weight of polyvinyl butyral is preferably 20,000 to 130,000. If it is less than 20,000, the adhesion between the dry film and the dry film may be insufficient. If it exceeds 130,000, it becomes difficult to dissolve in an organic solvent such as terpineol.

 ポリメタクリレートの重量平均分子量は10,000〜800,000であることが好ましい。10,000未満では乾燥膜とドライフィルムの密着性が不足するおそれがある。より好ましくは50,000以上である。800,000超ではターピネオール等の有機溶剤に溶解しにくくなる。より好ましくは360,000以下である。 The weight average molecular weight of the polymethacrylate is preferably 10,000 to 800,000. If it is less than 10,000, there exists a possibility that the adhesiveness of a dry film and a dry film may be insufficient. More preferably, it is 50,000 or more. If it exceeds 800,000, it becomes difficult to dissolve in an organic solvent such as terpineol. More preferably, it is 360,000 or less.

 本発明のペースト2の樹脂は、塗布膜厚を厚くしたときに、サンドブラストに要する時間が長くならずに、かつドライフィルムとの密着性も良好とするために、アクリル重合体を含有しなければならない。 The resin of the paste 2 of the present invention does not contain an acrylic polymer so that the time required for sandblasting does not become long and the adhesion to the dry film is good when the coating film thickness is increased. Don't be.

 アクリル重合体の重量平均分子量は10,000〜800,000であることが好ましく、50,000〜360,000であることがより好ましい。10,000未満では乾燥膜とドライフィルムの密着性が不足するおそれがある。800,000超ではターピネオール等の有機溶剤に溶解しにくくなる。 The weight average molecular weight of the acrylic polymer is preferably 10,000 to 800,000, and more preferably 50,000 to 360,000. If it is less than 10,000, there exists a possibility that the adhesiveness of a dry film and a dry film may be insufficient. If it exceeds 800,000, it becomes difficult to dissolve in an organic solvent such as terpineol.

 アクリル重合体は、繰り返し単位として下記式1〜4から選ばれる少なくとも1種を75〜100質量%有することが好ましい。より好ましくは、アクリル重合体は、式1または式3を繰り返し単位として75〜100質量%含むポリメタクリレートである。
 −(CH2−CHCOOH)− ・・・式1、
 −(CH2−CCH3COOH)− ・・・式2、
 −(CH2−CHCOOR)− ・・・式3、
 −(CH2−CCH3COOR)− ・・・式4。
 ここで、Rはメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、ヘキシル基、2−エチルヘキシル基またはCn2n+1(n:10〜18)である。
The acrylic polymer preferably has 75 to 100% by mass of at least one selected from the following formulas 1 to 4 as a repeating unit. More preferably, the acrylic polymer is polymethacrylate containing 75 to 100% by mass of Formula 1 or Formula 3 as a repeating unit.
- (CH 2 -CHCOOH) - ··· Formula 1,
- (CH 2 -CCH 3 COOH) - ··· Formula 2,
- (CH 2 -CHCOOR) - ··· Formula 3,
- (CH 2 -CCH 3 COOR) - ··· Equation 4.
Here, R is a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, a hexyl group, a 2-ethylhexyl group, or C n H 2n + 1 (n: 10 to 18).

 このアクリル重合体は、下記式1’〜4’から選ばれる少なくとも1種の単量体75〜100質量%とそれ以外の単量体0〜25質量%とを(共)重合させて得ることができる。重合方法は特に制限されない。
 CH2=CHCOOH ・・・式1’、
 CH2=CCH3COOH ・・・式2’、
 CH2=CHCOOR ・・・式3’、
 CH2=CCH3COOR ・・・式4’。
 ここで、Rは式3および4と同義である。
This acrylic polymer is obtained by (co) polymerizing 75 to 100% by mass of at least one monomer selected from the following formulas 1 ′ to 4 ′ and 0 to 25% by mass of other monomers. Can do. The polymerization method is not particularly limited.
CH 2 = CHCOOH Formula 1 ′,
CH 2 = CCH 3 COOH Formula 2 ′,
CH 2 = CHCOOR Formula 3 ′,
CH 2 = CCH 3 COOR Formula 4 ′.
Here, R is as defined in formulas 3 and 4.

 これらの樹脂を含有していないと、サンドブラストに要する時間が長くなる、またはサンドブラスト時にドライフィルムが剥離するおそれがある。 If these resins are not contained, the time required for sandblasting may be increased, or the dry film may be peeled off during sandblasting.

 樹脂として、必須ではないがエチルセルロースを含有することが好ましい。エチルセルロースを含有しないと、塗布しにくくなる、乾燥膜の平滑性が確保しにくくなる、乾燥膜亀裂が発生しやすくなる等の問題が発生するおそれがある。 Although it is not essential as a resin, it is preferable to contain ethyl cellulose. If ethyl cellulose is not contained, problems such as difficulty in coating, difficulty in ensuring the smoothness of the dry film, and the tendency for dry film cracking to occur may occur.

 エチルセルロースの重量平均分子量は50,000〜200,000であることが好ましい。50,000未満では乾燥膜とドライフィルムの密着性が不足するおそれがある。200,000超ではターピネオール等の有機溶剤に溶解しにくくなる。 The weight average molecular weight of ethyl cellulose is preferably 50,000 to 200,000. If it is less than 50,000, the adhesion between the dry film and the dry film may be insufficient. If it exceeds 200,000, it becomes difficult to dissolve in an organic solvent such as terpineol.

 樹脂がエチルセルロースを含有する場合、樹脂100質量部に対してエチルセルロースの含有割合は95質量部以下であることが好ましい。前記含有割合が95質量部より多くなると、十分なブラストレートを確保しつつドライフィルムの密着性を確保する事が難しくなる。
 本発明のペースト1においては、樹脂がエチルセルロースを含有する場合、エチルセルロースを20〜90質量部、ポリビニルブチラールおよび/またはポリメタクリレートを合計で10〜80質量部の割合で含有することが好ましい。エチルセルロースを20〜80質量部、ポリビニルブチラールおよび/またはポリメタクリレートを合計で20〜80質量部の割合で含有することがより好ましい。特に好ましくはエチルセルロースが40質量部以上であり、最も好ましくはエチルセルロースを50〜70質量部、ポリビニルブチラールおよび/またはポリメタクリレートを合計で30〜50質量部の割合、または、エチルセルロースを50〜85質量部、ポリビニルブチラールおよび/またはポリメタクリレートを合計で15〜50質量部の割合である。
 本発明のペースト2においては、樹脂がエチルセルロースを含有する場合、エチルセルロース25〜90質量部、アクリル重合体を10〜75質量部の割合で含有することが好ましい。エチルセルロースは、より好ましくは40質量部以上、特に好ましくは50質量部以上である。
 本発明における樹脂は本質的に熱可塑性樹脂からなるが、本発明の目的を損なわない範囲で熱可塑性樹脂以外の樹脂を含有してもよい。
When the resin contains ethyl cellulose, the content ratio of ethyl cellulose is preferably 95 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin. When the said content rate exceeds 95 mass parts, it will become difficult to ensure the adhesiveness of a dry film, ensuring sufficient blast rate.
In the paste 1 of this invention, when resin contains ethyl cellulose, it is preferable to contain 20-90 mass parts of ethyl cellulose and polyvinyl butyral and / or polymethacrylate in the ratio of 10-80 mass parts in total. It is more preferable to contain 20 to 80 parts by mass of ethyl cellulose and 20 to 80 parts by mass of polyvinyl butyral and / or polymethacrylate in total. Particularly preferably, ethyl cellulose is 40 parts by mass or more, most preferably 50 to 70 parts by mass of ethyl cellulose, a ratio of 30 to 50 parts by mass in total of polyvinyl butyral and / or polymethacrylate, or 50 to 85 parts by mass of ethyl cellulose. , Polyvinyl butyral and / or polymethacrylate in a total proportion of 15 to 50 parts by mass.
In the paste 2 of this invention, when resin contains ethyl cellulose, it is preferable to contain ethyl cellulose 25-90 mass parts and an acrylic polymer in the ratio of 10-75 mass parts. The ethyl cellulose is more preferably 40 parts by mass or more, particularly preferably 50 parts by mass or more.
The resin in the present invention consists essentially of a thermoplastic resin, but may contain a resin other than the thermoplastic resin as long as the object of the present invention is not impaired.

 有機溶剤は、ターピネオール、エチレングリコールアルキルエーテル(例えばエチレングリコールモノエチルエーテル)、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル(例えばブチルカルビトール)、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート(例えばブチルカルビトールアセテート)、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジアルキルエーテルアセテート、トリエチレングリコールアルキルエーテルアセテート、トリエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジプロピレングリコールアルキルエーテル、トリプロピレングリコールアルキルエーテル(例えばトリプロピレングリコールn−ブチルエーテル)、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、アセチルトリアルキルシトレート、トリアルキルシトレート、2,2,4−トリメチル−1,3ペンタジオールモノイソブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3ペンタジオールジイソブチレート、フタル酸ジメチル(ジメチルフタレート)、フタル酸ジエチル(ジエチルフタレート)、およびフタル酸ジブチル(ジブチルフタレート)(ここでアルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルまたは2−エチルヘキシルを表す)、からなる群から選ばれる1種以上であることが好ましい。ターピネオール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、2,2,4−トリメチル−1,3ペンタジオールモノイソブチレートおよびプロプレングリコールフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上であることがより好ましい。 Organic solvents include terpineol, ethylene glycol alkyl ether (eg, ethylene glycol monoethyl ether), diethylene glycol monoalkyl ether (eg, butyl carbitol), ethylene glycol monoalkyl ether acetate (eg, butyl carbitol acetate), diethylene glycol monoalkyl ether acetate, Diethylene glycol dialkyl ether acetate, triethylene glycol alkyl ether acetate, triethylene glycol alkyl ether, propylene glycol alkyl ether, propylene glycol phenyl ether, dipropylene glycol alkyl ether, tripropylene glycol alkyl ether (for example, tripropylene glycol n-butyl ether) ), Propylene glycol alkyl ether acetate, dipropylene glycol alkyl ether acetate, tripropylene glycol alkyl ether acetate, acetyl trialkyl citrate, trialkyl citrate, 2,2,4-trimethyl-1,3 pentadiol monoisobutyrate 2,2,4-trimethyl-1,3 pentadiol diisobutyrate, dimethyl phthalate (dimethyl phthalate), diethyl phthalate (diethyl phthalate), and dibutyl phthalate (dibutyl phthalate), where alkyl is methyl, It is preferably at least one selected from the group consisting of ethyl, propyl, butyl, hexyl or 2-ethylhexyl). More preferably, it is at least one selected from the group consisting of terpineol, diethylene glycol monobutyl ether, 2,2,4-trimethyl-1,3 pentadiol monoisobutyrate and propylene glycol phenyl ether.

 界面活性剤は、本発明のペースト1においては必須ではないが、必要に応じて含有してもよく、リン酸エステル系、カルボン酸エステル系、ポリアルキルグリコールエーテル系、アルキルポリエーテルアミン系、アルキルアンモニウム塩系等のものが例示される。 The surfactant is not essential in the paste 1 of the present invention, but may be contained as necessary. Phosphate ester, carboxylic ester, polyalkyl glycol ether, alkyl polyether amine, alkyl Examples thereof include ammonium salts.

 本発明のペーストにおける界面活性剤は、親水性部分に極性基を有することが好ましい。極性基としては、カルボキシル基、リン酸基、アミノ基および水酸基からなる群から選ばれる1種以上の極性基が挙げられる。これらの極性基を有する界面活性剤のなかでも、下記式5で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテルのカルボン酸もしくはリン酸エステルまたはその塩、アルキルリン酸エステルまたはその塩、ヒドロキシエチルアルキルアミン、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、あるいはポリエステルのアルキロールアミン塩が好ましい。ここで、アルキルは炭素数8〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル(たとえば、オクチル、ラウリル、セチル、ステアリル、オレイルなど。)であり、アルキレンは炭素数2〜5の直鎖または分岐鎖のアルキレン(たとえば、エチレン、プロピレンなど。)である。 The surfactant in the paste of the present invention preferably has a polar group in the hydrophilic part. Examples of the polar group include one or more polar groups selected from the group consisting of a carboxyl group, a phosphate group, an amino group, and a hydroxyl group. Among these surfactants having a polar group, carboxylic acid or phosphate ester of polyoxyalkylene alkyl ether represented by the following formula 5 or salt thereof, alkyl phosphate ester or salt thereof, hydroxyethylalkylamine, poly An oxyalkylene alkylamine or an alkylolamine salt of polyester is preferred. Here, alkyl is a linear or branched alkyl having 8 to 20 carbon atoms (for example, octyl, lauryl, cetyl, stearyl, oleyl, etc.), and alkylene is a linear or branched alkyl having 2 to 5 carbon atoms. Alkylene (for example, ethylene, propylene, etc.).

 R1O(R2O)nX ・・・式5
 ここで、R1は炭素数8〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル基、R2は炭素数2〜5のアルキレン基、nは1〜20、Xはカルボキシル基またはリン酸基である。
R 1 O (R 2 O) n X Formula 5
Here, R 1 is a linear or branched alkyl group having 8 to 20 carbon atoms, R 2 is an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, n is 1 to 20, and X is a carboxyl group or a phosphate group.

 具体的には、前記式5で表される化合物としてポリオキシエチレンラウリルエーテルカルボン酸塩、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル等、アルキルリン酸エステルとしてラウリルリン酸エステル等、ヒドロキシエチルアルキルアミンとしてN−ヒドロキシエチルラウリルアミン等、ポリオキシアルキレンアルキルアミンとしてポリオキシエチレンラウリルアミン等が挙げられる。 Specifically, polyoxyethylene lauryl ether carboxylate, polyoxyethylene lauryl ether phosphate, etc. as the compound represented by the formula 5, lauryl phosphate, etc. as alkyl phosphate, N as hydroxyethylalkylamine, etc. Examples of polyoxyalkylene alkylamines such as -hydroxyethyl laurylamine include polyoxyethylene laurylamine.

 界面活性剤を含有することにより、前述したとおり、乾燥膜の亀裂や乾燥膜と基板との密着性の低下を防止することができ、さらにサンドブラストに要する時間を短縮し、乾燥膜とドライフィルムとの密着性を良好に保持できる。
 本発明のペーストには、界面活性剤は2種類以上含有させてもよい。本発明のペーストにおける界面活性剤の含有量は0.01〜3質量%が好ましい。2質量%以下がより好ましく、1質量%以下が特に好ましい。3質量%超では、かえって乾燥膜に亀裂が入る、乾燥膜と基板との密着性が低下する、等の問題が起こるおそれがある。
By containing a surfactant, as described above, it is possible to prevent cracking of the dried film and a decrease in adhesion between the dried film and the substrate, further reducing the time required for sandblasting, It is possible to maintain good adhesion.
Two or more kinds of surfactants may be contained in the paste of the present invention. The content of the surfactant in the paste of the present invention is preferably 0.01 to 3% by mass. 2 mass% or less is more preferable, and 1 mass% or less is especially preferable. If it exceeds 3% by mass, cracks may occur in the dry film, and the adhesion between the dry film and the substrate may be deteriorated.

 また、本発明のペーストは、粘度調整等を行いたい場合は、非イオン性界面活性剤を含有することが好ましい。この場合、非イオン性界面活性剤の含有量の合計は3質量%以下であることが好ましい。
 非イオン性界面活性剤としては、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコールアルキルエステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ポリオキシエチレンポリプロピレンアルキルエーテル、ポリエチレングリコールアルキルアミン、ヒドロキシエチルアルキルアミン、リン酸エステル、カルボン酸エステル、ポリアルキルグリコールエーテル、アルキルポリエーテルアミンまたはアルキルアンモニウム塩等が例示される。ここで、アルキルは、オクチル、ラウリル、セチル、ステアリル、オレイルなどである。
The paste of the present invention preferably contains a nonionic surfactant when viscosity adjustment or the like is desired. In this case, the total content of nonionic surfactants is preferably 3% by mass or less.
Nonionic surfactants include polyethylene glycol alkyl ether, polyethylene glycol alkyl ester, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl ester, polyoxyethylene polypropylene alkyl ether, polyethylene glycol alkylamine, hydroxyethyl alkylamine, phosphoric acid Examples thereof include esters, carboxylic acid esters, polyalkyl glycol ethers, alkyl polyether amines, and alkyl ammonium salts. Here, alkyl is octyl, lauryl, cetyl, stearyl, oleyl and the like.

 本発明のペーストに下記粘度比低下剤を含有させることも、ドライフィルムとの密着性を良好に保持したままサンドブラストに要する時間を短縮することが可能になるので、好ましい。
 ここで、本発明では、ペーストの粘度を回転粘度計により測定し、スピンドル回転数を10rpm(ずり速度=4s-1に相当する。)として測定した粘度をη10とし、スピンドル回転数を50rpm(ずり速度=20s-1に相当する。)として測定した粘度をη50とした場合に、η10/η50を粘度比と定義する。
 粘度比低下剤は、ペースト100質量部に対し5質量部添加したときに、添加前のペーストの粘度比を1として、添加後のペーストの粘度比が0.9以下となるようなものである。添加後の粘度比が、0.8以下となるようなものが好ましい。
 粘度比低下剤の沸点または分解点は600℃以下であることが好ましく、沸点は典型的には300℃以上である。
 粘度比低下剤として界面活性剤が典型的である。
It is also preferable to include the following viscosity ratio reducing agent in the paste of the present invention because the time required for sandblasting can be shortened while maintaining good adhesion to the dry film.
Here, in the present invention, the viscosity of the paste is measured with a rotational viscometer, the viscosity measured with a spindle speed of 10 rpm (corresponding to a shear rate of 4 s −1 ) is η 10 , and the spindle speed is 50 rpm ( Η 10 / η 50 is defined as the viscosity ratio, where η 50 is the viscosity measured as shear rate = 20 s −1 .
The viscosity ratio reducing agent is such that when 5 parts by mass is added to 100 parts by mass of the paste, the viscosity ratio of the paste before addition is 1, and the viscosity ratio of the paste after addition is 0.9 or less. . The viscosity ratio after addition is preferably 0.8 or less.
The boiling point or decomposition point of the viscosity ratio reducing agent is preferably 600 ° C. or lower, and the boiling point is typically 300 ° C. or higher.
Surfactants are typical as viscosity ratio reducing agents.

 以下で、本発明のペーストを用いたPDPの製造方法を説明する。
 本発明において、PDPは、たとえば交流方式であれば次のようにして製造される。
 図1に示すように、前面ガラス基板1aの上に、電極2をパターニングして形成し、バス線(図示せず)を形成した後、電極を保護する透明誘電体層3を形成し、透明誘電体層3の上に通常MgOからなる保護膜を形成して、前面基板を製造する。
 一方、背面基板の作製では、まず、背面ガラス基板1bの上に、パターニングされたアドレス電極5を形成したのち、該アドレス電極を被覆する絶縁被覆層8を形成する。隔壁6は、前述した通り、本発明のペーストを絶縁被覆層8上に全面に塗布し乾燥させた後、サンドブラストにより所望の隔壁パターンに加工し、焼成して形成する。次いで、蛍光体層4を印刷・焼成して形成する。
 PDPは、前面ガラス基板1a、背面ガラス基板1bの周縁にシール材(図示せず)をディスペンサで塗布し、上記のように作製した前面基板と背面基板を、基板の電極が対向するように組み立ててパネル化し、焼成して、プラズマディスプレイの内部を排気して、放電空間7にNeやHe−Xeなどの放電ガスを封入して作製する。
 なお、上記の例は交流方式について述べたが、本発明は直流方式にも適用できる。
Below, the manufacturing method of PDP using the paste of this invention is demonstrated.
In the present invention, the PDP is manufactured as follows, for example, in the case of an AC system.
As shown in FIG. 1, an electrode 2 is formed by patterning on a front glass substrate 1a to form a bus line (not shown), and then a transparent dielectric layer 3 that protects the electrode is formed and transparent. A protective film usually made of MgO is formed on the dielectric layer 3 to manufacture a front substrate.
On the other hand, in the production of the rear substrate, first, the patterned address electrode 5 is formed on the rear glass substrate 1b, and then the insulating coating layer 8 that covers the address electrode is formed. As described above, the partition wall 6 is formed by applying the paste of the present invention on the entire surface of the insulating coating layer 8 and drying it, processing it into a desired partition pattern by sandblasting, and baking it. Next, the phosphor layer 4 is formed by printing and baking.
In the PDP, a sealant (not shown) is applied to the periphery of the front glass substrate 1a and the rear glass substrate 1b with a dispenser, and the front substrate and the rear substrate manufactured as described above are assembled so that the electrodes of the substrate face each other. A panel is formed, fired, the inside of the plasma display is exhausted, and a discharge gas such as Ne or He—Xe is sealed in the discharge space 7.
In the above example, the AC method is described, but the present invention can also be applied to a DC method.

 モル%表示の組成が、B23:37.1%、SiO2:24.8%、PbO:24.7%、BaO:8.9%、Al23:3.5%、SnO2:1%であるガラス粉末A、および、B23:37.1%、SiO2:24.7%、ZnO:3.5%、PbO:25.7%、BaO:4.5%、Al23:3.5%、SnO2:1%であるガラス粉末Bを次のようにして作製した。 The composition represented by mol% is B 2 O 3 : 37.1%, SiO 2 : 24.8%, PbO: 24.7%, BaO: 8.9%, Al 2 O 3 : 3.5%, SnO 2 : 1% glass powder A and B 2 O 3 : 37.1%, SiO 2 : 24.7%, ZnO: 3.5%, PbO: 25.7%, BaO: 4.5% , Al 2 O 3: 3.5% , SnO 2: was prepared by the glass powder B is 1% as follows.

 すなわち、原料を上記組成となるように調合して混合し、1200〜1350℃の電気炉中で白金るつぼを用いて1時間溶解し、溶融ガラスを流し出して薄板状ガラスに成形した。該薄板状ガラスをボールミルで粉砕して平均粒径が1.5μmのガラス粉末とした。ガラス粉末として、例1、2、4〜6ではガラス粉末Aを、例3、7〜12ではガラス粉末Bをそれぞれ用いた。 That is, the raw materials were prepared and mixed so as to have the above composition, melted for 1 hour using a platinum crucible in an electric furnace at 1200 to 1350 ° C., and the molten glass was poured out and formed into a sheet glass. The thin glass sheet was pulverized with a ball mill to obtain a glass powder having an average particle size of 1.5 μm. As the glass powder, glass powder A was used in Examples 1, 2, 4 to 6, and glass powder B was used in Examples 3 and 7 to 12, respectively.

 次に、樹脂と有機溶剤を表1〜3に示す構成で各ビヒクルを85℃で4時間攪拌、溶解し作製した。なお、ポリメタクリレートの主成分はイソブチルメタクリレートであり、繰り返し単位としてイソブチルメタクリレートを99質量%含むものである。
 表1〜3中、分子量は重量平均分子量であり、ビヒクル中の樹脂量はビヒクルを100質量部としたときの樹脂の含有割合である。溶剤1はターピネオール、溶剤2はジエチレングリコールモノブチルエーテル、溶剤3は2,2,4−トリメチル−1,3ペンタジオールモノイソブチレート、溶剤4はプロピレングリコールフェニルエーテルである。
Next, each vehicle was stirred and dissolved at 85 ° C. for 4 hours with the constitution shown in Tables 1 to 3 for the resin and the organic solvent. The main component of polymethacrylate is isobutyl methacrylate and contains 99% by mass of isobutyl methacrylate as a repeating unit.
In Tables 1 to 3, the molecular weight is the weight average molecular weight, and the amount of resin in the vehicle is the resin content when the vehicle is 100 parts by mass. Solvent 1 is terpineol, solvent 2 is diethylene glycol monobutyl ether, solvent 3 is 2,2,4-trimethyl-1,3 pentadiol monoisobutyrate, and solvent 4 is propylene glycol phenyl ether.

 次に、ガラス粉末、アルミナ粉末、シリカ粉末およびチタニア粉末を表1〜3に質量比で示す割合で混合して無機粉末を作製した。
 ペーストは、表1〜3に示す各構成のペーストを前記無機粉末100質量部に対するビヒクル中の樹脂含有割合が同表の「ペーストの樹脂含有量」の欄に質量部表示で示すものとなるような割合で、ビヒクルと無機粉末とを混合して作製した。
Next, an inorganic powder was prepared by mixing glass powder, alumina powder, silica powder and titania powder in the ratios shown in Tables 1 to 3 by mass ratio.
As for the paste, the resin content ratio in the vehicle with respect to 100 parts by mass of the inorganic powder in the pastes having the respective configurations shown in Tables 1 to 3 is indicated in parts by mass in the column of “resin content of paste” in the same table. The vehicle and the inorganic powder were mixed at a proper ratio.

 ペーストは次のようにして作製した。すなわち、無機粉末およびビヒクルに、作製されるべきペーストを100質量部として表1〜3に示す界面活性剤を0〜1.0質量部の割合で加え、三本ロールで混練してずり速度4s-1での粘度が40Pa・sとなるように粘度調整し、ペーストを作製した。
 界面活性剤1はN−ヒドロキシエチルラウリルアミン(下記式(1)で表される構造の化合物)であり、界面活性剤2はリン酸基を含む共重合物のアルキロールアミン塩で「Disperbyk180」(ビックケミー・ジャパン株式会社製)を用いた。
The paste was prepared as follows. That is, 100 parts by mass of the paste to be produced is added to the inorganic powder and vehicle, and the surfactant shown in Tables 1 to 3 is added in a proportion of 0 to 1.0 part by mass, and the mixture is kneaded with three rolls and the shear rate is 4 s. The viscosity was adjusted so that the viscosity at -1 was 40 Pa · s, and a paste was prepared.
Surfactant 1 is N-hydroxyethyllaurylamine (a compound having a structure represented by the following formula (1)), and surfactant 2 is an alkylolamine salt of a copolymer containing a phosphate group, and “Disperbyk180”. (Bick Chemie Japan Co., Ltd.) was used.

Figure 2004115783
Figure 2004115783

 得られたペーストを10cm角のガラス基板(旭硝子社製PD200)に400μmのスペーサでブレードコートし、120℃の乾燥機にて1.5時間乾燥させ、乾燥膜とした。例1〜11は本発明、例12は比較例である。 The obtained paste was blade-coated with a 400 μm spacer on a 10 cm square glass substrate (PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) and dried in a 120 ° C. dryer for 1.5 hours to obtain a dry film. Examples 1 to 11 are the present invention, and Example 12 is a comparative example.

 得られた乾燥膜を目視観察した結果、例1〜12のいずれについても亀裂は認められなかった。 As a result of visual observation of the obtained dry film, no crack was observed in any of Examples 1 to 12.

 次に、例1〜12の乾燥膜について、以下に述べるようにしてブラストレート(単位:μm/回)およびドライフィルム密着性の指標であるドライフィルム累積剥離本数(単位:本)を調べた。結果を表1〜3のブラストレートおよび剥離本数の欄に示す。 Next, the dry films of Examples 1 to 12 were examined for the blast rate (unit: μm / time) and the dry film cumulative peel number (unit: book), which is an index of dry film adhesion, as described below. A result is shown in the column of the blast rate and peeling number of Tables 1-3.

 ブラストレート:不二製作所社製サンドブラスト装置(型式 SCM−1ADE−NH−401P)を用いて、サクション圧150kPa、圧送エアー圧75kPa、ガン移動速度4m/分、ローラー回転数2.5rpmの条件で乾燥膜を4回またはそれ以下の回数ブラストし、横軸にブラスト回数、縦軸に累積切削深さをとって直線近似した傾きの値をブラストレートとした。なお、ブラストする回数については4回未満で全て切削した場合には切削が終了した回数とした。たとえば3回で切削が終了した場合にはブラスト回数は3回とした。 Blast straight: Drying using a sand blasting device (model SCM-1ADE-NH-401P) manufactured by Fuji Seisakusho under the conditions of suction pressure 150 kPa, pumping air pressure 75 kPa, gun moving speed 4 m / min, and roller rotation speed 2.5 rpm. The film was blasted 4 times or less, and the value of the gradient approximated linearly by taking the number of blasts on the horizontal axis and the cumulative cutting depth on the vertical axis was taken as the blast rate. In addition, about the frequency | count of blasting, when it cut all by less than 4 times, it was set as the frequency | count that cutting was completed. For example, when cutting is completed in 3 times, the number of blasts is 3 times.

 ドライフィルム累積剥離本数:東京応化工業社製のドライフィルムBF704を4cm×5cmに切断し、ロール温度110℃、ロール圧150kPa、基板搬送速度0.45m/分の条件で1回ラミネ−タに通した。その後、線幅40、50、60、80、100、125、150、200μmの8種類のラインが各5本、計40本あるパターンの露光マスクをセットして250mJ/cm2で露光し、0.3%炭酸ナトリウム水溶液の現像液で現像したものを50℃の乾燥機で15分乾燥させた。これを不二製作所社製サンドブラスト装置(型式 SCM−1ADE−NH−401P)を用いて、サクション圧450kPa、圧送エアー圧225kPa、ガン移動速度2.7m/分、ローラー回転数6.25rpmの条件でブラストし、ドライフィルムが線長の半分以上剥がれたラインの本数を累積剥離本数とした。 Cumulative number of dry films peeled: Cut dry film BF704 made by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. into 4 cm x 5 cm, and pass through a laminator once under the conditions of a roll temperature of 110 ° C, a roll pressure of 150 kPa, and a substrate transport speed of 0.45 m / min. did. Thereafter, an exposure mask having a pattern with a total of 40 lines of 8 types of line widths of 40, 50, 60, 80, 100, 125, 150, and 200 μm is set and exposed at 250 mJ / cm 2. Developed with a 3% aqueous solution of sodium carbonate and dried for 15 minutes in a dryer at 50 ° C. Using a sandblasting device (model SCM-1ADE-NH-401P) manufactured by Fuji Seisakusho, the suction pressure was 450 kPa, the pumping air pressure was 225 kPa, the gun moving speed was 2.7 m / min, and the roller rotation speed was 6.25 rpm. The number of lines in which the dry film was peeled off by half or more of the line length was defined as the cumulative number of peeled films.

 ブラストレートは30μm/回以上であることが好ましい。30μm/回未満では膜厚の厚い乾燥膜をサンドブラストする際に時間がかかりすぎるおそれがある。より好ましくは35μm/回以上。更に好ましくは40μm/回以上、特に好ましくは50μm/回以上である。 It is preferable that the blast rate is 30 μm / time or more. If it is less than 30 μm / time, it may take too much time to sandblast a thick dry film. More preferably, it is 35 μm / time or more. More preferably, it is 40 μm / time or more, and particularly preferably 50 μm / time or more.

 ドライフィルム累積剥離本数は剥がれた本数が合計で25本未満であることが好ましい。25本以上では、上記サンドブラスト条件よりは緩やかな条件で通常行なわれる隔壁形成時のサンドブラスト条件においてもドライフィルムが乾燥膜から剥離するおそれがある。より好ましくは20本未満、特に好ましくは15本未満である。 The cumulative number of peeled dry films is preferably less than 25 in total. When the number is 25 or more, the dry film may be peeled off from the dried film even under the sand blasting condition at the time of partition formation, which is usually performed under conditions milder than the sand blasting condition. More preferably, it is less than 20, and particularly preferably less than 15.

Figure 2004115783
Figure 2004115783

Figure 2004115783
Figure 2004115783

Figure 2004115783
Figure 2004115783

プラズマディスプレイの代表的な一例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of a typical example of a plasma display.

符号の説明Explanation of symbols

  1a:前面ガラス基板
  1b:背面ガラス基板
  2: 電極
  3: 透明誘電体層
  4: 蛍光体層
  5: アドレス電極
  6: 隔壁
  7: 放電空間
  8: 絶縁被覆層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a: Front glass substrate 1b: Back glass substrate 2: Electrode 3: Transparent dielectric layer 4: Phosphor layer 5: Address electrode 6: Partition 7: Discharge space 8: Insulation coating layer

Claims (16)

 ガラス粉末、樹脂および有機溶剤を含有する隔壁用ペーストであって、樹脂としてポリビニルブチラールおよび/またはポリメタクリレートを含有することを特徴とする隔壁用ペースト。 A partition wall paste containing glass powder, a resin and an organic solvent, wherein the partition wall paste contains polyvinyl butyral and / or polymethacrylate as the resin.  界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1記載の隔壁用ペースト。 The partition wall paste according to claim 1, further comprising a surfactant.  ガラス粉末、樹脂、有機溶剤および界面活性剤を含有する隔壁用ペーストであって、樹脂としてアクリル重合体を含有することを特徴とする隔壁用ペースト。 A partition wall paste containing glass powder, a resin, an organic solvent, and a surfactant, wherein the partition wall paste contains an acrylic polymer as a resin.  アクリル重合体が、繰り返し単位として下記式1〜4から選ばれる少なくとも1種を75〜100質量%有することを特徴とする請求項3に記載の隔壁用ペースト。
 −(CH2−CHCOOH)− ・・・式1、
 −(CH2−CCH3COOH)− ・・・式2、
 −(CH2−CHCOOR)− ・・・式3、
 −(CH2−CCH3COOR)− ・・・式4。
 ここで、Rはメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、ヘキシル基、2−エチルヘキシル基またはCn2n+1(n:10〜18)である。
The acrylic polymer has 75 to 100% by mass of at least one selected from the following formulas 1 to 4 as a repeating unit.
- (CH 2 -CHCOOH) - ··· Formula 1,
- (CH 2 -CCH 3 COOH) - ··· Formula 2,
- (CH 2 -CHCOOR) - ··· Formula 3,
- (CH 2 -CCH 3 COOR) - ··· Equation 4.
Here, R is a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, a hexyl group, a 2-ethylhexyl group, or C n H 2n + 1 (n: 10 to 18).
 界面活性剤が親水性部分に極性基を有することを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の隔壁用ペースト。 The partition wall paste according to any one of claims 2 to 4, wherein the surfactant has a polar group in the hydrophilic portion.  極性基が、カルボキシル基、リン酸基、アミノ基および水酸基からなる群から選ばれる1種以上の極性基であることを特徴とする請求項5に記載の隔壁用ペースト。 6. The partition wall paste according to claim 5, wherein the polar group is at least one polar group selected from the group consisting of a carboxyl group, a phosphate group, an amino group and a hydroxyl group.  界面活性剤が、下記式5で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテルのカルボン酸もしくはリン酸エステルまたはその塩、アルキルリン酸エステルまたはその塩、ヒドロキシエチルアルキルアミン、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、あるいはポリエステルのアルキロールアミン塩(ここで、アルキルは炭素数8〜20の直鎖または分岐鎖のアルキルであり、アルキレンは炭素数2〜5の直鎖または分岐鎖のアルキレンである。)、であることを特徴とする請求項2〜6のいずれかに記載の隔壁用ペースト。
 R1O(R2O)nX ・・・式5
 ここで、R1は炭素数8〜20の直鎖または分岐鎖のアルキル基、R2は炭素数2〜5のアルキレン基、nは1〜20、Xはカルボキシル基またはリン酸基である。
The surfactant is a carboxylic acid or phosphate ester of a polyoxyalkylene alkyl ether represented by the following formula 5 or a salt thereof, an alkyl phosphate ester or a salt thereof, a hydroxyethylalkylamine, a polyoxyalkylenealkylamine, or a polyester. An alkylolamine salt (wherein alkyl is linear or branched alkyl having 8 to 20 carbon atoms, and alkylene is linear or branched alkylene having 2 to 5 carbon atoms). The partition wall paste according to any one of claims 2 to 6.
R 1 O (R 2 O) n X Formula 5
Here, R 1 is a linear or branched alkyl group having 8 to 20 carbon atoms, R 2 is an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, n is 1 to 20, and X is a carboxyl group or a phosphate group.
 ポリビニルブチラールの重量平均分子量が20,000〜130,000であることを特徴とする請求項1、2、5〜7のいずれかに記載の隔壁用ペースト。 8. The partition wall paste according to claim 1, wherein the polyvinyl butyral has a weight average molecular weight of 20,000 to 130,000.  アクリル重合体の重量平均分子量が10,000〜800,000であることを特徴とする請求項3〜8のいずれかに記載の隔壁用ペースト。 9. The partition wall paste according to claim 3, wherein the acrylic polymer has a weight average molecular weight of 10,000 to 800,000.  樹脂としてエチルセルロースを含有することを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の隔壁用ペースト。 The partition wall paste according to any one of claims 1 to 9, wherein the resin contains ethyl cellulose.  エチルセルロースの重量平均分子量が50,000〜200,000であることを特徴とする請求項10に記載の隔壁用ペースト。 11. The partition wall paste according to claim 10, wherein the weight average molecular weight of ethyl cellulose is 50,000 to 200,000.  樹脂100質量部中のエチルセルロースの含有割合が95質量部以下であることを特徴とする請求項10または11に記載の隔壁用ペースト。 12. The partition wall paste according to claim 10, wherein a content ratio of ethyl cellulose in 100 parts by mass of the resin is 95 parts by mass or less.  有機溶剤として、ターピネオール、エチレングリコールアルキルエーテル、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジアルキルエーテルアセテート、トリエチレングリコールアルキルエーテルアセテート、トリエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジプロピレングリコールアルキルエーテル、トリプロピレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、アセチルトリアルキルシトレート、トリアルキルシトレート、2,2,4−トリメチル−1,3ペンタジオールモノイソブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3ペンタジオールジイソブチレート、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、およびフタル酸ジブチル(ここでアルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、2−エチルヘキシルまたはフェニルである。)、からなる群から選ばれる1種以上を含むことを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載の隔壁用ペースト。 As organic solvents, terpineol, ethylene glycol alkyl ether, diethylene glycol monoalkyl ether, ethylene glycol monoalkyl ether acetate, diethylene glycol monoalkyl ether acetate, diethylene glycol dialkyl ether acetate, triethylene glycol alkyl ether acetate, triethylene glycol alkyl ether, propylene glycol alkyl Ether, propylene glycol phenyl ether, dipropylene glycol alkyl ether, tripropylene glycol alkyl ether, propylene glycol alkyl ether acetate, dipropylene glycol alkyl ether acetate, tripropylene glycol alkyl ether acetate, acetate Rutrialkyl citrate, trialkyl citrate, 2,2,4-trimethyl-1,3 pentadiol monoisobutyrate, 2,2,4-trimethyl-1,3 pentadiol diisobutyrate, dimethyl phthalate, phthalate And at least one selected from the group consisting of diethyl acid and dibutyl phthalate (wherein alkyl is methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, 2-ethylhexyl or phenyl). Item 13. The partition wall paste according to any one of Items 1 to 12.  ガラス粉末が下記酸化物基準のモル%表示で本質的に、
23 5〜80%、
SiO2              0〜45%、
ZnO 0〜60%、
PbO+Bi23 0〜70%、
MgO+CaO+SrO+BaO 0〜50%、
Li2O+Na2O+K2O 0〜30%、
Al23+TiO+ZrO2 0〜13%、
CuO 0〜3%、
SnO2 0〜3%、
からなることを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載の隔壁用ペースト。
The glass powder is essentially expressed in terms of mol% based on the following oxides:
B 2 O 3 5-80%,
SiO 2 0~45%,
ZnO 0-60%,
PbO + Bi 2 O 3 0-70%,
MgO + CaO + SrO + BaO 0-50%,
Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0-30%,
Al 2 O 3 + TiO + ZrO 2 0-13%,
CuO 0-3%,
SnO 2 0-3%,
The partition wall paste according to claim 1, comprising:
 ガラス粉末が下記酸化物基準のモル%表示で本質的に、
23 0〜60%、
SiO2              20〜65%、
ZnO               0〜60%、
PbO+Bi23         0〜70%、
MgO+CaO+SrO+BaO   0〜50%、
Li2O+Na2O+K2O 0〜30%、
Al23+TiO2+ZrO2   0〜13%、
CuO+SnO2+CeO2     0〜5%、
からなることを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載の隔壁用ペースト。
The glass powder is essentially expressed in terms of mol% based on the following oxides:
B 2 O 3 0-60%,
SiO 2 20~65%,
ZnO 0-60%,
PbO + Bi 2 O 3 0-70%,
MgO + CaO + SrO + BaO 0-50%,
Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0-30%,
Al 2 O 3 + TiO 2 + ZrO 2 0-13%,
CuO + SnO 2 + CeO 2 0-5%,
The partition wall paste according to claim 1, comprising:
 背面基板を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、該背面基板のガラス基板上に、請求項1〜15のいずれかに記載の隔壁用ペーストを塗布した後に乾燥し、加工し、焼成して隔壁を形成する工程を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 A method for producing a plasma display panel having a back substrate, wherein the partition wall paste according to any one of claims 1 to 15 is applied on the glass substrate of the back substrate, and then dried, processed, and fired. A method of manufacturing a plasma display panel, comprising a step of forming partition walls.
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