JP2007224275A - Glass paste for forming partitioning wall - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass paste for forming a partitioning wall capable of obtaining a dried membrane capable of preventing sand blasting property from lowering even on drying at a high temperature in order to dry the paste applied on a glass substrate plate in a short time, while maintaining the close adhesion with the substrate plate or a dry film resist and membrane strength. <P>SOLUTION: This paste for forming the partitioning wall used for the formation of the partitioning wall of a plasma display by using an organic resin containing 1 to 5 mass% total amount of a cellulose-based resin and butyral resin is characterized by containing an antioxidant. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイの隔壁の形成に使用される隔壁形成用ガラスペーストに関するものである。   The present invention relates to a barrier rib forming glass paste used for forming barrier ribs of a plasma display.

プラズマディスプレイは、自己発光型のフラットディスプレイであり、軽量薄型、高視野角等の優れた特性を備えており、大画面化が容易であることから、最も将来性のある表示装置として注目されている。   The plasma display is a self-luminous flat display that has excellent characteristics such as light weight and thinness, high viewing angle, etc., and it is easy to enlarge the screen, so it is attracting attention as the most promising display device. Yes.

図1は、このようなプラズマディスプレイパネルの構造を示す断面図である。図1に示すように、プラズマディスプレイパネルにおいては、一般に、前面ガラス基板1と背面ガラス基板2とが対向して設けられており、これらの基板の間の空間には、多数のガス放電部に区切るため、隔壁(バリアリブ)3が形成されている。前面ガラス基板1の上には、一対の透明電極4が形成されており、これらの透明電極4間で電圧が印加され、プラズマ放電が生じる。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of such a plasma display panel. As shown in FIG. 1, in a plasma display panel, a front glass substrate 1 and a rear glass substrate 2 are generally provided facing each other, and a large number of gas discharge portions are provided in a space between these substrates. A partition wall (barrier rib) 3 is formed for separation. A pair of transparent electrodes 4 are formed on the front glass substrate 1, and a voltage is applied between the transparent electrodes 4 to generate plasma discharge.

透明電極4の上には、前面ガラス基板1の全面を覆うように誘電体層5が形成されている。誘電体層5の上には、プラズマを安定に形成するためのMgOからなる保護層6が形成されている。   A dielectric layer 5 is formed on the transparent electrode 4 so as to cover the entire surface of the front glass substrate 1. On the dielectric layer 5, a protective layer 6 made of MgO for stably forming plasma is formed.

隔壁3間の背面ガラス基板2の上には、データ電極7が形成されている。隔壁3間の、隔壁3の側壁及び背面ガラス基板2の上には、データ電極7を覆うように蛍光体8が塗布されている。   A data electrode 7 is formed on the rear glass substrate 2 between the partition walls 3. On the side walls of the partition walls 3 and the back glass substrate 2 between the partition walls 3, a phosphor 8 is applied so as to cover the data electrodes 7.

透明電極4間に電圧が印加され、これによって隔壁3で仕切られたガス放電部内にプラズマ放電が生じ、プラズマ放電により発生した紫外線が蛍光体8に照射され、蛍光体8が発光する。   A voltage is applied between the transparent electrodes 4, thereby generating a plasma discharge in the gas discharge section partitioned by the partition 3, and the phosphor 8 is irradiated with ultraviolet rays generated by the plasma discharge, and the phosphor 8 emits light.

上記プラズマディスプレイパネルにおいて、隔壁3は、通常、背面ガラス基板2の上に形成される。そして、隔壁3を形成した背面ガラス基板2と前面ガラス基板1とが対向するように組み合わされることによりパネルが構成される。図1に示すパネル構造においては、背面ガラス基板2の上に直接隔壁3が形成されているが、背面ガラス基板2の上にデータ電極7を覆う電極保護用の誘電体層を形成した後、この誘電体層の上に隔壁を形成するパネル構造のものも知られている。   In the plasma display panel, the partition walls 3 are usually formed on the rear glass substrate 2. And the panel is comprised by combining the back glass substrate 2 in which the partition 3 was formed, and the front glass substrate 1 so that it might oppose. In the panel structure shown in FIG. 1, the partition walls 3 are formed directly on the rear glass substrate 2, but after forming a dielectric layer for electrode protection covering the data electrodes 7 on the rear glass substrate 2, A panel structure in which partition walls are formed on the dielectric layer is also known.

上記隔壁を形成する代表的な方法として、サンドブラスト法が知られている。サンドブラスト法は、隔壁形成用ガラスペーストをスクリーン印刷等により塗布し、乾燥させて隔壁材料層を所定の厚みとなるように背面ガラス基板上に、直接若しくは誘電体層の上に全面にわたって形成する。さらに、この上にドライフィルムレジスト(DFR)を塗布し露光、現像した後に、ドライフィルムレジスト膜が形成されていない箇所をサンドブラストにより除去し、残ったドライフィルムレジスト膜を剥離し、焼成することで所定箇所に隔壁を形成する方法である。   As a typical method for forming the partition wall, a sand blast method is known. In the sandblasting method, a partition wall forming glass paste is applied by screen printing or the like and dried to form a partition wall material layer on the entire surface of the back glass substrate or on the dielectric layer so as to have a predetermined thickness. Furthermore, after applying a dry film resist (DFR) on this, exposing and developing, the portion where the dry film resist film is not formed is removed by sandblasting, and the remaining dry film resist film is peeled off and baked. This is a method of forming a partition wall at a predetermined location.

そのため、隔壁形成用ガラスペーストには、(1)サンドブラスト性が良好であること、(2)ガラスペーストを塗布、乾燥して得られる乾燥膜の強度が高く、サンドブラストによる隔壁破壊が起こりにくいこと、(3)基板やドライフィルムレジストとの密着性が高いこと、等の特性が求められる。   Therefore, the partition wall-forming glass paste has (1) good sandblasting properties, (2) high strength of the dried film obtained by applying and drying the glass paste, and partition wall damage due to sandblasting hardly occurs. (3) Properties such as high adhesion to the substrate and dry film resist are required.

従来、これらの要求を満たすために、隔壁形成用ガラスペースト中にセルロース系樹脂が添加されている。セルロース系樹脂は、乾燥して得られる乾燥膜の基板やドライフィルムレジストとの密着性、及び膜強度を高める効果があるが、同時にサンドブラスト処理の際に時間が掛かり、プラズマディスプレイパネルの生産効率が低下する。生産効率向上のために、セルロース系樹脂の添加量を減少させると、乾燥膜の強度が劣化してサンドブラスト中に隔壁が破壊したり、隔壁と基板やドライフィルムレジストとの密着性が低下して、隔壁が欠落する等の問題が生じる。   Conventionally, in order to satisfy these requirements, a cellulose-based resin has been added to the partition wall forming glass paste. Cellulosic resins have the effect of increasing the adhesion of the dry film obtained by drying and the substrate and dry film resist, and the film strength, but at the same time it takes time during the sandblasting process, which increases the production efficiency of the plasma display panel. descend. If the amount of cellulose-based resin added is reduced to improve production efficiency, the strength of the dry film will deteriorate and the partition will break during sandblasting, or the adhesion between the partition and the substrate or dry film resist will decrease. Problems such as missing partition walls occur.

そこで、基板やドライフィルムレジストとの密着性や膜強度を維持しながらサンドブラスト性の低下を防止して、生産効率を向上させるために、特許文献1に示すようなセルロース系樹脂とブチラール樹脂を含む有機樹脂を用いた隔壁形成用ガラスペーストが提案されている。
特開2003−257322号公報
Therefore, in order to prevent the decrease in sandblasting property while maintaining the adhesion and film strength with the substrate and the dry film resist, and to improve the production efficiency, a cellulose resin and a butyral resin as shown in Patent Document 1 are included. A partition-forming glass paste using an organic resin has been proposed.
JP 2003-257322 A

ところで、近年、さらなる生産効率向上のために、ガラス基板に塗布したペーストを高温、短時間で乾燥する傾向にある。   By the way, in recent years, in order to further improve the production efficiency, the paste applied to the glass substrate tends to be dried at a high temperature in a short time.

しかしながら、特許文献1で開示されているようなセルロース系樹脂とブチラール樹脂を含む有機樹脂を用いた隔壁形成用ガラスペーストをガラス基板上に塗布し、塗布したペーストを短時間で乾燥させるために200℃程度の温度で乾燥すると、ペースト中の有機樹脂が乾燥工程の熱によって酸化、分解されて(具体的には、セルロース樹脂やブチラール樹脂の酸化、水酸化によって起こる低炭化水素化、CO2、H2O化による分解、ブチラール基の脱離を伴う分解)、得られる乾燥膜は、基板やドライフィルムレジストとの密着性、膜強度及びサンドブラスト性が低下することがあった。 However, in order to apply a partition-forming glass paste using an organic resin containing a cellulose-based resin and a butyral resin as disclosed in Patent Document 1 on a glass substrate, and to dry the applied paste in a short time 200 When dried at a temperature of about 0 ° C., the organic resin in the paste is oxidized and decomposed by the heat of the drying process (specifically, oxidation of cellulose resin or butyral resin, reduction of hydrocarbons caused by hydroxylation, CO 2 , Decomposition due to H 2 O conversion, decomposition accompanied by elimination of butyral groups), and the resulting dry film may have reduced adhesion to the substrate or dry film resist, film strength, and sandblasting.

本発明の目的は、ガラス基板上に塗布したペーストを短時間で乾燥するために、高温で乾燥しても、基板やドライフィルムレジストとの密着性や膜強度を維持しながらサンドブラスト性の低下を防止できる乾燥膜を得ることが可能な隔壁形成用ガラスペーストを提供することである。   The purpose of the present invention is to dry the paste applied on the glass substrate in a short time, so that even if it is dried at a high temperature, the adhesion to the substrate and the dry film resist and the film strength are maintained while the sandblasting property is lowered. An object of the present invention is to provide a partition wall forming glass paste capable of obtaining a dry film that can be prevented.

本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、セルロース系樹脂とブチラール樹脂を合量で1〜5質量%含有する有機樹脂を用いたプラズマディスプレイの隔壁の形成に使用される隔壁形成用ガラスペーストであって、酸化防止剤を含有することを特徴とする。   The partition wall forming glass paste of the present invention is a partition wall forming glass paste used for forming a partition wall of a plasma display using an organic resin containing a cellulose resin and a butyral resin in a total amount of 1 to 5% by mass. Further, it contains an antioxidant.

また、本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、酸化防止剤の含有量が、質量百万分率で1〜10000ppmであることを特徴とする。   Moreover, the glass paste for partition formation of this invention is characterized by the content of antioxidant being 1-10000 ppm in mass parts per million.

また、本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、酸化防止剤が、リン系、フェノール系及び硫黄系の有機化合物の内、いずれか一種以上であることを特徴とする。   Further, the partition wall forming glass paste of the present invention is characterized in that the antioxidant is any one or more of phosphorus-based, phenol-based and sulfur-based organic compounds.

また、本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、セルロース系樹脂とブチラール樹脂の使用割合が、質量比で90:10〜40:60であることを特徴とする。   Moreover, the glass paste for partition formation of this invention is characterized by the usage-ratio of a cellulose resin and a butyral resin being 90: 10-40: 60 by mass ratio.

また、本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、セルロース系樹脂が、エチルセルロースであることを特徴とする。   The partition wall forming glass paste of the present invention is characterized in that the cellulose resin is ethyl cellulose.

また、本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、ブチラール樹脂が、10000〜80000の質量平均分子量(Mw)を有することを特徴とする。   Further, the partition wall forming glass paste of the present invention is characterized in that the butyral resin has a mass average molecular weight (Mw) of 10,000 to 80,000.

また、本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、質量百分率で、ガラス粉末50〜80%、無機フィラー粉末3〜30%、有機樹脂1〜5%、溶剤5〜30%、酸化防止剤1〜10000ppmの割合であることを特徴とする。   Moreover, the glass paste for partition wall formation of this invention is a mass percentage, and is 50-80% of glass powder, 3-30% of inorganic filler powder, 1-5% of organic resin, 5-30% of solvent, 1-10,000 ppm of antioxidant. It is the ratio of this.

本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、ガラス基板上に塗布したペーストを短時間で乾燥するために、200℃程度の温度で乾燥しても、有機樹脂の酸化分解反応が起こり難くなるため、得られる乾燥膜は、基板やドライフィルムレジストとの密着性が高く、しかも、乾燥膜の強度を維持しながらサンドブラスト性の低下を防止できる。また、ガラス基板上に塗布したペーストの乾燥時間を短縮することができ生産効率を向上させることができる。それ故、プラズマディスプレイの隔壁形成用ガラスペーストとして好適である。   The partition wall forming glass paste of the present invention is obtained because the paste applied on the glass substrate is dried in a short time, so that the oxidative decomposition reaction of the organic resin hardly occurs even when dried at a temperature of about 200 ° C. The resulting dry film has high adhesion to the substrate and the dry film resist, and can prevent a decrease in sandblasting properties while maintaining the strength of the dry film. Moreover, the drying time of the paste applied on the glass substrate can be shortened, and the production efficiency can be improved. Therefore, it is suitable as a glass paste for forming a partition wall of a plasma display.

本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、酸化防止剤を含有しているため、セルロース系樹脂とブチラール樹脂を含む有機樹脂を用いたペーストをガラス基板上に塗布し、高い温度で乾燥しても、乾燥工程の熱による有機樹脂の酸化、分解(具体的には、セルロース樹脂やブチラール樹脂の酸化、水酸化によって起こる低炭化水素化、CO2、H2O化による分解、ブチラール基の脱離を伴う分解)を抑えることができる。そのため、得られる乾燥膜は、基板やドライフィルムレジストとの密着性が高く、しかも、膜強度を維持しながらサンドブラスト性の低下を防止することできる。また、ガラス基板上に塗布したペーストの乾燥時間を短縮することができ生産効率を向上させることができる。 Since the partition wall-forming glass paste of the present invention contains an antioxidant, a paste using an organic resin containing a cellulosic resin and a butyral resin is applied on a glass substrate and dried at a high temperature. Oxidation and decomposition of organic resin due to heat in drying process (specifically, oxidation of cellulose resin and butyral resin, reduction of hydrocarbons caused by hydroxylation, decomposition due to CO 2 and H 2 O conversion, elimination of butyral group) Accompanying decomposition) can be suppressed. Therefore, the obtained dry film has high adhesion to the substrate and the dry film resist, and can prevent a decrease in sandblasting properties while maintaining the film strength. Moreover, the drying time of the paste applied on the glass substrate can be shortened, and the production efficiency can be improved.

酸化防止剤の含有量としては、質量百万分率で1〜10000ppmであることが好ましい。酸化防止剤が1ppm以上であれば、ガラス基板上に塗布したペーストを短時間で乾燥するために、200℃程度の温度で乾燥しても、乾燥工程の熱による有機樹脂の酸化、分解を防止することが可能となる。また、10000ppm以下であれば、乾燥膜を500〜600℃の温度で焼成する際に、有機樹脂、溶剤及び酸化防止剤の有機物の分解が完了し、これら有機物の残渣(炭化物)を少量に抑えることが可能となる。酸化防止剤の好ましい範囲は5〜6000ppmである。   As content of antioxidant, it is preferable that it is 1-10000 ppm in mass parts per million. If the antioxidant is 1 ppm or more, in order to dry the paste applied on the glass substrate in a short time, even if it is dried at a temperature of about 200 ° C., the oxidation and decomposition of the organic resin due to the heat of the drying process is prevented. It becomes possible to do. Moreover, if it is 10000 ppm or less, when baking a dry film at the temperature of 500-600 degreeC, decomposition | disassembly of the organic substance of an organic resin, a solvent, and antioxidant will be completed, and these organic substance residue (carbide) will be suppressed to a small quantity. It becomes possible. The preferable range of the antioxidant is 5 to 6000 ppm.

尚、本発明でいう酸化防止剤とは、ガラス基板上に塗布したペーストを乾燥させる際に、有機樹脂と酸素が結合して有機樹脂が分解することを抑制する効果を有するものをいう。   In addition, the antioxidant as used in the field of this invention means what has an effect which suppresses that an organic resin and oxygen couple | bond together and an organic resin decomposes | disassembles when drying the paste apply | coated on the glass substrate.

本発明で使用する酸化防止剤としては、リン系、フェノール系及び硫黄系の有機化合物の内、いずれか一種以上を使用することが好ましい。   As the antioxidant used in the present invention, it is preferable to use at least one of phosphorus-based, phenol-based and sulfur-based organic compounds.

リン系有機化合物を酸化防止剤として使用する場合、トリフェニルフォスフェイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト等を用いることができる。   When a phosphorous organic compound is used as an antioxidant, triphenyl phosphate, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, or the like can be used.

また、フェノール系有機化合物を酸化防止剤として使用する場合、2,6−ジ−t−ブチル−P−クレゾール、4,4’−チオビス−(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、トリエチレングリコールビス[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネート]、n−オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート等を用いることができる。   When a phenolic organic compound is used as an antioxidant, 2,6-di-t-butyl-P-cresol, 4,4′-thiobis- (6-t-butyl-3-methylphenol), tetrakis [Methylene-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, triethylene glycol bis [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionate] N-octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate and the like can be used.

また、イオウ系有機化合物を酸化防止剤として使用する場合、ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ジトリデシルチオジプロピオネート等を用いることができる。   Moreover, when using a sulfur type organic compound as antioxidant, dilauryl thiodipropionate, distearyl thiodipropionate, ditridecyl thiodipropionate, etc. can be used.

尚、乾燥膜を焼成する際に生じる有機樹脂や溶剤及び酸化防止剤の残渣を少なくするには、フェノール系有機化合物を用いることが望ましい。また、ペーストの乾燥工程では、有機樹脂の酸化、分解を抑えることができ、乾燥膜の焼成工程では、有機物の分解が完了し、残渣を少なくするには、酸化防止剤の分子量が200〜1000(好ましくは200〜800)のものを使用することが望ましい。   In order to reduce the residue of the organic resin, the solvent and the antioxidant generated when the dried film is fired, it is desirable to use a phenolic organic compound. In the drying process of the paste, the oxidation and decomposition of the organic resin can be suppressed. In the baking process of the dry film, the decomposition of the organic substance is completed, and the molecular weight of the antioxidant is 200 to 1000 in order to reduce the residue. It is desirable to use (preferably 200 to 800).

本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、上記の酸化防止剤の他に、ガラス粉末、フィラー粉末、有機樹脂及び溶剤を主成分とする。以下、各成分について説明する。   The partition wall-forming glass paste of the present invention contains glass powder, filler powder, organic resin and solvent as main components in addition to the above-mentioned antioxidant. Hereinafter, each component will be described.

本発明において使用するガラス粉末は、熱膨張係数が60〜90×10-7/℃(30〜300℃)で、480〜630℃の軟化点を有するガラスであれば制限はないが、特に、PbO−B23−SiO2系やBaO−ZnO−B23−SiO2系やZnO−Bi23−B23−SiO2系のガラスを使用することが望ましい。 The glass powder used in the present invention is not limited as long as it has a thermal expansion coefficient of 60 to 90 × 10 −7 / ° C. (30 to 300 ° C.) and a softening point of 480 to 630 ° C., It is desirable to use PbO—B 2 O 3 —SiO 2 type, BaO—ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 type, or ZnO—Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —SiO 2 type glass.

PbO−B23−SiO2系ガラスとしては、質量百分率で、PbO 35〜75%、B23 0〜50%、SiO2 8〜30%、Al23 0〜10%、ZnO 0〜10%、CaO+MgO+SrO+BaO 0〜10%、SnO2+TiO2+ZrO2 0〜6%の組成を有するガラスを使用することができる。 The PbO-B 2 O 3 -SiO 2 based glass, in percent by mass, PbO 35~75%, B 2 O 3 0~50%, SiO 2 8~30%, Al 2 O 3 0~10%, ZnO Glass having a composition of 0 to 10%, CaO + MgO + SrO + BaO 0 to 10%, SnO 2 + TiO 2 + ZrO 2 0 to 6% can be used.

BaO−ZnO−B23−SiO2系ガラスとしては、質量百分率で、BaO 20〜50%、ZnO 25〜50%、B23 10〜35%、SiO2 0〜10%の組成を有するガラスや、BaO 0〜25%、ZnO 15〜60%、B23 15〜35%、SiO2 3〜30%、Al23 0〜20%、Li2O+Na2O+K2O 1〜15%の組成を有するガラスを使用することができる。 The BaO-ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 based glass, in mass percentage, have BaO 20~50%, 25~50% ZnO, B 2 O 3 10~35%, a composition of SiO2 0% Glass, BaO 0-25%, ZnO 15-60%, B 2 O 3 15-35%, SiO 2 3-30%, Al 2 O 3 0-20%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 1-15 % Glass composition can be used.

ZnO−Bi23−B23−SiO2系のガラスとしては、質量百分率で、ZnO 25〜45%、Bi23 15〜40%、B23 10〜30%、SiO2 0.5〜10%、CaO+MgO+SrO+BaO 0〜24%の組成を有するガラスを使用することができる。 ZnO—Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —SiO 2 -based glass has a mass percentage of ZnO 25-45%, Bi 2 O 3 15-40%, B 2 O 3 10-30%, SiO 2 Glass having a composition of 0.5-10%, CaO + MgO + SrO + BaO 0-24% can be used.

ガラス粉末の含有量は、50〜80質量%であることが好ましい。ガラス粉末が50%以上であれば、緻密な焼成層が得ることができる。また、80%以下であれば、ペースト化が可能であり、焼成時の変形を少なくすることが可能となる。   The content of the glass powder is preferably 50 to 80% by mass. If the glass powder is 50% or more, a dense fired layer can be obtained. Moreover, if it is 80% or less, it can be paste-ized and it becomes possible to reduce the deformation | transformation at the time of baking.

尚、上記ガラス粉末の粒度分布は、50%平均粒子径(D50)を1〜7μm、且つ、最大粒子径(Dmax)を5〜30μmにすることが望ましい。つまり、D50が1μm以上及びDmaxが5μm以上であると、隔壁の形状維持性が良好になり、また、D50が7μm以下及びDmaxが30μm以下であれば、焼結性が高くなり、緻密な隔壁が得やすくなる。 The particle size distribution of the glass powder, 1 to 7 [mu] m 50% average particle diameter (D 50), and it is desirable to the maximum particle diameter (D max) to 5 to 30 [mu] m. That is, when D 50 is 1 μm or more and D max is 5 μm or more, the shape maintenance of the partition wall is good, and when D 50 is 7 μm or less and D max is 30 μm or less, the sinterability is high. It becomes easy to obtain a dense partition.

本発明において使用する無機フィラー粉末は、石英ガラス、α−石英、アルミナ、チタニア(ルチル、アナターゼ型)、ジルコニア、無機顔料、ジルコン等から選ばれる1種以上からなる。特に、α−石英等のシリカ系材料を使用すると隔壁を低誘電率化でき、消費電力の低減が可能になる。また、隔壁の機械的強度を向上させるために、フィラーの一部又は全部を球状フィラーにしてもよい。   The inorganic filler powder used in the present invention comprises one or more selected from quartz glass, α-quartz, alumina, titania (rutile, anatase type), zirconia, inorganic pigment, zircon and the like. In particular, when a silica-based material such as α-quartz is used, the partition walls can have a low dielectric constant, and power consumption can be reduced. Moreover, in order to improve the mechanical strength of a partition, you may make a part or all of a filler a spherical filler.

尚、ガラス粉末としてPbO−B23−SiO2系ガラスを使用する場合は、無機フィラー粉末としてアルミナを、また、ガラス粉末としてBaO−ZnO−B23−SiO2系ガラスやZnO−Bi23−B23−SiO2系ガラスを使用する場合は、無機フィラー粉末としてムライトを使用すると、透過性に優れた焼成膜を得ることができる。 When PbO—B 2 O 3 —SiO 2 glass is used as the glass powder, alumina is used as the inorganic filler powder, and BaO—ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 glass or ZnO— is used as the glass powder. When Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —SiO 2 glass is used, a fired film having excellent permeability can be obtained by using mullite as the inorganic filler powder.

無機フィラー粉末の含有量は、3〜30質量%であることが好ましい。フィラー粉末が3%以上であれば、焼成後の隔壁の十分な強度と形状を保つことができる。また30%以下であれば、ガラスの焼結が可能で、焼成後十分な強度を得ることができる。   The content of the inorganic filler powder is preferably 3 to 30% by mass. If filler powder is 3% or more, sufficient intensity | strength and shape of the partition after baking can be maintained. If it is 30% or less, the glass can be sintered and sufficient strength can be obtained after firing.

また、無機フィラー粉末の粒度分布を、平均粒子径(D50)が0.5〜8μm、かつ最大粒子径(Dmax)が5〜30μmにすることが望ましい。つまり、D50が0.5μm以上及びDmaxが5μm以上であると、ペーストの粘性、焼結時の強度が良好になり、またD50が8μm以下及びDmaxが30μm以下であれば、焼成前後の表面粗さがスムーズとなり、前面板と合わせた時、前面板の破損が起こり難くなり良好である。 The particle size distribution of the inorganic filler powder is desirably 0.5 to 8 μm in average particle diameter (D 50 ) and 5 to 30 μm in maximum particle diameter (D max ). That is, when D 50 is 0.5 μm or more and D max is 5 μm or more, the viscosity of the paste and the strength during sintering are good, and when D 50 is 8 μm or less and D max is 30 μm or less, firing is performed. The front and back surface roughness is smooth, and when combined with the front plate, the front plate is less likely to break, which is good.

本発明において使用する有機樹脂は、セルロース系樹脂とブチラール樹脂を併用し、その含有量は、合量で1〜5質量%の範囲にすることが重要である。有機樹脂が1%より低いと、乾燥膜の強度が弱くなりすぎて隔壁を形成することが困難となり、5%より多いと、乾燥膜の強度が強くなりすぎてサンドブラスト性が低下し、生産効率が低下する問題が生じる。有機溶剤の好ましい範囲は1.2〜3.6質量%である。   It is important that the organic resin used in the present invention is a cellulosic resin and a butyral resin in combination, and the total content thereof is in the range of 1 to 5% by mass. If the organic resin is lower than 1%, the strength of the dry film becomes too weak to form partition walls, and if it exceeds 5%, the strength of the dry film becomes too strong and the sand blasting property is lowered, resulting in production efficiency. This causes a problem of lowering. A preferable range of the organic solvent is 1.2 to 3.6% by mass.

また、セルロース系樹脂とブチラール樹脂の使用割合は、質量比で90:10〜40:60の範囲にすることが好ましい。セルロース系樹脂が多くなると、隔壁の乾燥膜強度が低下したり、ガラス基板やドライフィルムレジストとの密着性が低下する傾向にあり、ブチラール系樹脂が多くなると、サンドブラスト性が低下し、生産効率が低下する傾向にあるが、両者がこの範囲内であれば、適度なブラスト性等が得られる。セルロース系樹脂とブチラール樹脂のより好ましい使用割合は88:12〜50:50である。   Moreover, it is preferable that the usage-ratio of a cellulose resin and a butyral resin shall be the range of 90: 10-40: 60 by mass ratio. When the cellulose-based resin increases, the dry film strength of the partition walls tends to decrease or the adhesion to the glass substrate or the dry film resist tends to decrease. When the butyral-based resin increases, the sand blasting property decreases and the production efficiency increases. Although both tend to decrease, if both are within this range, moderate blasting properties and the like can be obtained. A more preferable use ratio of the cellulosic resin and the butyral resin is 88:12 to 50:50.

尚、セルロース系樹脂は、乾燥膜の強度や基板とドライフィルムレジストとの密着性を向上させる効果がある。セルロース系樹脂としては、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等が使用可能で、特にエチルセルロースは、隔壁材料層形成時の印刷やコーターに適したペースト特性となることから好ましい。   The cellulose resin has an effect of improving the strength of the dry film and the adhesion between the substrate and the dry film resist. As the cellulose-based resin, ethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose and the like can be used. In particular, ethyl cellulose is preferable because it has paste characteristics suitable for printing and coater when the partition wall material layer is formed.

また、ブチラール樹脂は、基板とドライフィルムレジストとの密着性の確保に重要な役割を有する。その効果はセルロース系樹脂と共存させることにより有効に発揮される。ガラス基板やドライフィルムとの密着性をより向上させ、しかも、適度な乾燥膜の強度と柔軟性及び高い平滑性を得るためには、ブチラール樹脂としては、質量平均分子量(Mw)が10000〜80000のものを使用することが望ましい。さらに、ガラス基板やドライフィルムとの密着性を向上させるには、重合度が200〜1000、ブチラール化度が65〜80mol%(好ましくは70〜80mol%)のものを使用することが望ましい。   Moreover, butyral resin has an important role in ensuring the adhesion between the substrate and the dry film resist. The effect is effectively exhibited by coexisting with the cellulosic resin. In order to further improve the adhesion to a glass substrate or a dry film, and to obtain an appropriate dry film strength, flexibility and high smoothness, the butyral resin has a mass average molecular weight (Mw) of 10,000 to 80000. It is desirable to use those. Furthermore, in order to improve the adhesion to a glass substrate or a dry film, it is desirable to use one having a polymerization degree of 200 to 1000 and a butyralization degree of 65 to 80 mol% (preferably 70 to 80 mol%).

本発明において使用する溶剤は、材料をペースト化するための材料であり、その含有量は5〜30質量%程度が一般的である。溶剤としては、ターピネオール、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタジオールモノイソブチレート等を単独あるいは混合して使用することができる。   The solvent used in the present invention is a material for pasting the material, and its content is generally about 5 to 30% by mass. As the solvent, terpineol, diethylene glycol monobutyl ether acetate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol monoisobutyrate or the like can be used alone or in combination.

尚、得られるペーストの粘度としては、ペーストの保管性や印刷性の点から、23℃、ずり速度5.7/秒の条件で測定したときの値で100〜1200ポイズの範囲になるように調整することが望ましい。   The viscosity of the resulting paste is in the range of 100 to 1200 poise as measured at 23 ° C. and a shear rate of 5.7 / sec from the viewpoint of paste storage and printability. It is desirable to adjust.

以上の材料から構成される本発明のペーストを用いて、プラズマディスプレイの隔壁を形成するには、まず、ペーストをスクリーン印刷法や一括コート法等を用いて背面基板上に直接、或いはアドレス電極保護用誘電体層を介して塗布し、所定の膜厚の塗布層を形成した後、乾燥させる。次いで、レジスト膜を形成し、露光、現像する。続いて、サンドブラスト法で不要な部分を除去した後、焼成する。このようにして所定形状の隔壁を得ることができる。   In order to form a plasma display partition using the paste of the present invention composed of the above materials, first, the paste is directly applied to the back substrate by using a screen printing method or a batch coating method, or address electrode protection is performed. Application via a dielectric layer for forming a coating layer having a predetermined film thickness, followed by drying. Next, a resist film is formed, exposed and developed. Subsequently, unnecessary portions are removed by a sand blasting method, followed by baking. In this way, a partition having a predetermined shape can be obtained.

以下、実施例に基づき本発明を説明する。   Hereinafter, the present invention will be described based on examples.

表1〜表7は本発明の実施例(試料No.1〜14)及び比較例(試料No.15〜19)を示している。尚、試料No.19については、比較のために、ペースト中の有機樹脂が酸化反応を起こさない温度条件で乾燥したものである。   Tables 1 to 7 show examples (samples Nos. 1 to 14) and comparative examples (samples Nos. 15 to 19) of the present invention. Sample No. For comparison, the organic resin in the paste was dried under a temperature condition that does not cause an oxidation reaction.

まず、質量%で、BaO 12%、ZnO 50%、B23 20%、SiO2 12%、Li2O 1%、Na2O 4%、K2O 1%の組成となるように各種酸化物原料を調合し、均一に混合した後、白金坩堝に入れて1250℃で2時間溶融して均一なガラス体を得た。これをアルミナボールミルで粉砕、分級を行い、平均粒子径D50が3μm、Dmaxが20μmのガラス粉末を得た。 First of all, various compositions having a mass% of BaO 12%, ZnO 50%, B 2 O 3 20%, SiO 2 12%, Li 2 O 1%, Na 2 O 4%, K 2 O 1%. After the oxide raw materials were prepared and mixed uniformly, they were put in a platinum crucible and melted at 1250 ° C. for 2 hours to obtain a uniform glass body. This was pulverized and classified with an alumina ball mill to obtain a glass powder having an average particle diameter D 50 of 3 μm and D max of 20 μm.

このガラスの軟化点は550℃、線膨張係数は75.0×10-7/℃であった。尚、上記ガラス粉末の粒度分布の測定は、島津製作所製のSALD−2000Jにて行った。また、最大粒子径Dmaxは、積算値が99.9%である時の値として求めた。粒度分布の値の算出に用いる屈折率には、実数部は1.75を、虚数部は0.05iを使用した。 The glass had a softening point of 550 ° C. and a linear expansion coefficient of 75.0 × 10 −7 / ° C. The particle size distribution of the glass powder was measured with SALD-2000J manufactured by Shimadzu Corporation. The maximum particle diameter Dmax was determined as a value when the integrated value was 99.9%. For the refractive index used to calculate the value of the particle size distribution, 1.75 for the real part and 0.05i for the imaginary part were used.

次に、表に示す割合で、ガラス粉末、フィラー粉末、有機樹脂、溶剤及び酸化防止剤を混合し、3本ロールミルで均一に混練した。尚、フィラー粉末として、α−石英粉末(D50 1.5μm、Dmax 10μm)、ムライト粉末(D50 2.0μm、Dmax 15μm)及びアルミナ粉末(D50 3.5μm、Dmax 15μm)を用いた。セルロース系樹脂としてはエチルセルロースを用いた。また、ブチラール樹脂としては、重合度が約300、ブチラール化度が75mol%、液体クロマトグラフィにて測定される質量平均分子量が表に示すものを使用した。溶剤としてはターピネオールを用いた。 Next, glass powder, filler powder, organic resin, solvent and antioxidant were mixed at the ratio shown in the table, and kneaded uniformly with a three-roll mill. As filler powders, α-quartz powder (D 50 1.5 μm, D max 10 μm), mullite powder (D 50 2.0 μm, D max 15 μm) and alumina powder (D 50 3.5 μm, D max 15 μm) are used. Using. Ethyl cellulose was used as the cellulose resin. As the butyral resin, those having a degree of polymerization of about 300, a degree of butyralization of 75 mol%, and a mass average molecular weight measured by liquid chromatography shown in the table were used. Turpineol was used as the solvent.

得られた隔壁形成用ペーストを用いて隔壁を形成した。まず、各ペースト試料を、アプリケーターにてペースト厚みが400μmとなるようにガラス板に塗布した。続いて、50℃の乾燥機中でペーストのレベリングを行い、IR炉にて200℃、20分で乾燥(試料No.19のみ、150℃、30分で乾燥)させることにより、膜厚約180μmの隔壁材料層を有する基板を2枚作製した。   A partition wall was formed using the obtained partition wall forming paste. First, each paste sample was apply | coated to the glass plate so that paste thickness might be set to 400 micrometers with an applicator. Subsequently, the paste was leveled in a dryer at 50 ° C. and dried in an IR furnace at 200 ° C. for 20 minutes (sample No. 19 only, dried at 150 ° C. for 30 minutes) to obtain a film thickness of about 180 μm. Two substrates having the partition wall material layer were prepared.

1枚の基板は、乾燥膜の表面状態を観察した後、そのままサンドブラスト性の評価に用いた。   One substrate was used for sandblasting evaluation as it was after observing the surface state of the dry film.

また、もう1枚の基板は、東京応化製ドライフィルムレジスト(商品名 オーディルS8040)をラミネートし、ネガ遮光フィルム(感光ライン40〜200μm幅、L/S 1/2)にて露光した。その後、0.5%炭酸ソーダ溶液で現像、水洗し、ドライフィルムレジストの不要部分を除去し、乾燥膜とドライフィルムレジストとの密着性を評価した。   The other substrate was laminated with a dry film resist (trade name: Odile S8040) manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd., and exposed with a negative light-shielding film (photosensitive line 40-200 μm wide, L / S 1/2). Thereafter, development with 0.5% sodium carbonate solution and washing with water were carried out, unnecessary portions of the dry film resist were removed, and adhesion between the dry film and the dry film resist was evaluated.

さらに、ドライフィルムレジストとの密着性を評価した後のサンプルをサンドブラスト法により、レジストで覆われていない部分を除去して隔壁形状に成形した後に、1%苛性ソーダ溶液に浸漬してドライフィルムレジストを剥離、除去した後にシャワーにて水洗を行い、隔壁状の乾燥膜とガラス基板との密着性を評価した。   Further, the sample after evaluating the adhesion to the dry film resist was removed by sand blasting to remove the portion not covered with the resist to form a partition wall shape, and then immersed in a 1% caustic soda solution to form the dry film resist. After peeling and removing, the film was washed with water in a shower, and the adhesion between the partition wall-like dry film and the glass substrate was evaluated.

また、ガラス基板との密着性評価後のサンプルを550℃で10分間焼成して隔壁を作製し、隔壁の状態及び焼成膜(隔壁)の着色を評価した。   Moreover, the sample after adhesiveness evaluation with a glass substrate was baked at 550 degreeC for 10 minute (s), the partition was produced, and the coloring of the state of a partition and a baking film (partition) was evaluated.

上記のように、各試料について、乾燥膜の表面状態、サンドブラスト性、ドライフィルム及び基板との密着性、隔壁の状態及び焼成膜の着色について評価した。結果を各表に示す。   As described above, each sample was evaluated for the surface state of the dry film, the sandblasting property, the adhesion between the dry film and the substrate, the state of the partition walls, and the coloring of the fired film. The results are shown in each table.

表から明らかなように、本発明の実施例である試料No.1〜14は、乾燥膜の凹みの数が10個以下と少なく表面は平滑であった。また、サンドブラスト性を示す研削深さが93〜130μmと適切であった。また、ドライフィルムレジストを現像した後の乾燥膜上に残ったドライフィルムレジストの幅は80μm以下であり、ドライフィルムとの密着性は良好であった。また、ドライフィルムレジスト膜を除去した後の隔壁の欠損率も10%以下と低くガラス基板との密着性についても良好であった。さらに、焼成して得られた隔壁は、ブラストによる欠け等が認められず、良好な隔壁形状を有していた。また、焼成膜の着色についても、L*値が85以上と高く、有機物の残渣による着色は少なく白色の焼成膜が得られた。尚、試料No.8については酸化防止剤の含有量が11000ppmと多く、試料No.14については酸化防止剤の分子量が1178と大きいため、他の試料に比べてサンドブラスト性を示す研削深さが小さく、また、焼成膜のL*値が低いものであった。また、試料No.9については有機樹脂中のブチラール樹脂の比率が低く、試料No.11についてはブチラール樹脂の分子量が9000と小さく、試料No.13については酸化防止剤の分子量が小さいため、他の試料に比べてドライフィルムやガラス基板との密着性が劣るものであった。さらに、試料No.10については有機樹脂中のブチラール樹脂の比率が高く、試料No.12についてはブチラール樹脂の分子量が90000と大きいため、他の試料に比べて乾燥膜の凹みの数が多く、また、サンドブラスト性を示す研削深さが小さいものであった。   As is apparent from the table, sample No. which is an example of the present invention is shown. In Nos. 1 to 14, the number of dents in the dry film was as small as 10 or less, and the surface was smooth. Moreover, the grinding depth which shows sandblasting property was appropriate with 93-130 micrometers. Moreover, the width | variety of the dry film resist which remained on the dry film after developing a dry film resist was 80 micrometers or less, and adhesiveness with a dry film was favorable. Moreover, the defect rate of the partition walls after removing the dry film resist film was as low as 10% or less, and the adhesion to the glass substrate was also good. Furthermore, the partition walls obtained by firing did not show chipping or the like due to blasting, and had a good partition shape. In addition, regarding the coloring of the fired film, the L * value was as high as 85 or more, and the white fired film was obtained with little coloring due to organic residues. Sample No. For No. 8, the antioxidant content is as high as 11000 ppm. For No. 14, since the molecular weight of the antioxidant was as large as 1178, the grinding depth showing sandblasting was small compared to other samples, and the L * value of the fired film was low. Sample No. For No. 9, the ratio of butyral resin in the organic resin is low, and For No. 11, the molecular weight of the butyral resin was as small as 9000. For No. 13, since the molecular weight of the antioxidant was small, the adhesion to a dry film or a glass substrate was inferior to other samples. Furthermore, sample no. For No. 10, the ratio of butyral resin in the organic resin is high. For No. 12, since the molecular weight of the butyral resin was as large as 90000, the number of dents in the dry film was larger than in other samples, and the grinding depth showing sandblasting was small.

一方、比較例である試料No.15、17及び18は、ドライフィルムレジストを現像した後の乾燥膜上に残ったドライフィルムレジストの幅は150μm以上と大きく、また、ドライフィルムレジスト膜を除去した後の隔壁の欠損率も13%以上と高く、ドライフィルムやガラス基板との密着性にも問題があった。さらに、焼成して得られた隔壁には、ブラストによる欠けが確認された。尚、試料No.15については、サンドブラスト性を示す研削深さが190μmと大きく、サンドブラスト性にも問題があった。   On the other hand, sample No. which is a comparative example. In Nos. 15, 17 and 18, the width of the dry film resist remaining on the dry film after developing the dry film resist is as large as 150 μm or more, and the defect rate of the partition walls after removing the dry film resist film is 13%. As described above, there was a problem in adhesion to a dry film or a glass substrate. Furthermore, the blast chipping was confirmed in the partition walls obtained by firing. Sample No. For No. 15, the grinding depth showing sandblasting properties was as large as 190 μm, and there was a problem with sandblasting properties.

試料No.16は、サンドブラスト性を示す研削深さが65μmと小さく、サンドブラスト性に問題があった。   Sample No. No. 16 had a small sanding blasting depth of 65 μm and had a problem with sand blasting.

さらに、試料No.19は、サンドブラスト性、ガラス基板やドライフィルムとの密着性、焼成して得られた隔壁の状態及び外観については問題ないが、ガラス基板上に塗布したペーストの乾燥時間が長くかかるため、生産効率が低い。   Furthermore, sample no. No. 19 has no problem with sandblasting, adhesion to a glass substrate or dry film, the state and appearance of the partition walls obtained by firing, but it takes a long time to dry the paste applied on the glass substrate. Is low.

尚、各評価は次のようにして実施した。   Each evaluation was performed as follows.

乾燥膜の表面状態は、乾燥膜の表面に横から光を当て、その表面(100cm2の範囲)を実体顕微鏡(10倍)にて観察し、凹みにより見られる直径1mm以上の影の個数をカウントした。この個数が少ない程、表面が平滑であり、表面状態が良好であり、具体的には、10個以下であれば、表面状態が良好であると言える。 The surface condition of the dried film is as follows. The surface of the dried film is illuminated from the side, and the surface (100 cm 2 range) is observed with a stereomicroscope (10 times). I counted. The smaller the number, the smoother the surface and the better the surface state. Specifically, when the number is 10 or less, it can be said that the surface state is good.

サンドブラスト性は、不二製作所製サンドブラスト機ニューマブラスターを用い、炭酸カルシウム粉末(S4#600)で90秒サンドブラストして研削深さを測定した。この値が85〜140μm程度であれば、サンドブラスト性が良好であると言える。   The sand blasting property was measured by sandblasting with a calcium carbonate powder (S4 # 600) for 90 seconds using a sandblasting machine pneumatic blaster manufactured by Fuji Seisakusho. If this value is about 85-140 micrometers, it can be said that sandblasting property is favorable.

ドライフィルムとの密着性は、現像後に残るドライフィルムレジストの幅を測定した。ドライフィルムレジストの幅が細い程、密着性は高く、具体的には、80μm以下であれば、ドライフィルムとの密着性は高いといえる。   For the adhesion to the dry film, the width of the dry film resist remaining after development was measured. The narrower the width of the dry film resist, the higher the adhesiveness. Specifically, it can be said that the adhesiveness to the dry film is high if it is 80 μm or less.

また、ガラス基板との密着性については、ドライフィルムレジスト膜を剥離した後のガラス基板を目視観察して、幅80μm長さ80mmの隔壁形状の乾燥膜100本について欠損の有無を確認し、100本当りの欠損した乾燥膜数を隔壁欠損率とし評価した。隔壁欠損率が低い程、ガラス基板との密着性は高く、具体的には、隔壁欠損率が10%以下であれば、ガラス基板との密着性は高いと言える。   Further, for adhesion to the glass substrate, the glass substrate after the dry film resist film was peeled off was visually observed to confirm the presence or absence of defects in 100 partition wall-shaped dry films having a width of 80 μm and a length of 80 mm. The number of dry films lost per book was evaluated as the partition wall defect rate. The lower the partition defect rate, the higher the adhesion to the glass substrate. Specifically, if the partition defect rate is 10% or less, it can be said that the adhesion to the glass substrate is high.

隔壁の状態は、焼成後の隔壁表面を実体顕微鏡(20倍)にて観察したものであり、欠けやオーバーサンド(過度のサンドブラストにより、リブ中央部が削られすぎて断面形状が鼓形になる状態)の有無を観察した。これらが認められなければ○、認められるものを×として示した。   The state of the partition wall is the surface of the partition wall after firing was observed with a stereomicroscope (20 times), and the cross-sectional shape became a drum shape due to chipping or over-sand (excess sand blasting causes the center of the rib to be excessively shaved). The state) was observed. When these were not recognized, it was shown as ◯ and those recognized as x.

隔壁の着色は、焼成膜のL*値(明るさ)を色差計で測定し評価した。尚、L*値が大きい程、有機物の残渣が少なく、白色の焼成膜が得られていることを示し、具体的には、L*値が85以上(好ましくは88以上)であれば、有機物の残渣による黒着色の無い白色の焼成膜であると言える。   The coloration of the partition walls was evaluated by measuring the L * value (brightness) of the fired film with a color difference meter. The larger the L * value, the less organic residue, indicating that a white fired film is obtained. Specifically, if the L * value is 85 or more (preferably 88 or more), the organic matter It can be said that it is a white fired film without black coloring due to the residue.

プラズマディスプレイパネルの構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of a plasma display panel.

符号の説明Explanation of symbols

1 前面ガラス基板
2 背面ガラス基板
3 隔壁
4 透明電極
5 誘電体層
6 保護層
7 データ電極
8 蛍光体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Front glass substrate 2 Back glass substrate 3 Partition 4 Transparent electrode 5 Dielectric layer 6 Protective layer 7 Data electrode 8 Phosphor

Claims (7)

セルロース系樹脂とブチラール樹脂を合量で1〜5質量%含有する有機樹脂を用いたプラズマディスプレイの隔壁の形成に使用される隔壁形成用ガラスペーストであって、酸化防止剤を含有することを特徴とする隔壁形成用ガラスペースト。   A glass paste for forming a partition wall used for forming a partition wall of a plasma display using an organic resin containing a cellulose resin and a butyral resin in a total amount of 1 to 5% by mass, which contains an antioxidant. A glass paste for forming partition walls. 酸化防止剤の含有量が、質量百万分率で1〜10000ppmであることを特徴とする請求項1記載の隔壁形成用ガラスペースト。   The partition forming glass paste according to claim 1, wherein the content of the antioxidant is 1 to 10,000 ppm in terms of parts per million by mass. 酸化防止剤が、リン系、フェノール系及び硫黄系の有機化合物の内、いずれか一種以上であることを特徴とする請求項1記載の隔壁形成用ガラスペースト。   The partition forming glass paste according to claim 1, wherein the antioxidant is at least one of phosphorous, phenolic and sulfur organic compounds. セルロース系樹脂とブチラール樹脂の使用割合が、質量比で90:10〜40:60であることを特徴とする請求項1記載の隔壁形成用ガラスペースト。   The partition wall-forming glass paste according to claim 1, wherein the ratio of the cellulose-based resin and the butyral resin used is 90:10 to 40:60 by mass ratio. セルロース系樹脂が、エチルセルロースであることを特徴とする請求項1記載の隔壁形成用ガラスペースト。   2. The partition wall forming glass paste according to claim 1, wherein the cellulosic resin is ethyl cellulose. ブチラール樹脂が、10000〜80000の質量平均分子量(Mw)を有することを特徴とする請求項1記載の隔壁形成用ガラスペースト。   The partition-forming glass paste according to claim 1, wherein the butyral resin has a mass average molecular weight (Mw) of 10,000 to 80,000. 質量百分率で、ガラス粉末50〜80%、無機フィラー粉末3〜30%、有機樹脂1〜5%、溶剤5〜30%、酸化防止剤1〜10000ppmの割合であることを特徴とする請求項1記載の隔壁形成用ガラスペースト。   The glass powder is 50 to 80%, the inorganic filler powder is 3 to 30%, the organic resin is 1 to 5%, the solvent is 5 to 30%, and the antioxidant is 1 to 10000 ppm by mass percentage. The glass paste for barrier rib formation of description.
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