KR20040010277A - Photosensitive glass paste composition and plasma display panel - Google Patents

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KR20040010277A
KR20040010277A KR1020030049639A KR20030049639A KR20040010277A KR 20040010277 A KR20040010277 A KR 20040010277A KR 1020030049639 A KR1020030049639 A KR 1020030049639A KR 20030049639 A KR20030049639 A KR 20030049639A KR 20040010277 A KR20040010277 A KR 20040010277A
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제이에스알 가부시끼가이샤
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Abstract

PURPOSE: To provide a photosensitive glass paste composition that gives a glass sintered compact having a high aspect ratio and excellence in shape uniformity, that is capable of perfectly decomposing and removing a binding resin by the calcining treatment conducted at a relatively low temperature condition(600°C or lower) and that is capable of forming a glass sintered compact by the simple process. CONSTITUTION: The photosensitive glass paste composition which contains (A) a glass powder, (B) a polyfunctional (meth)acrylate and (C) a photopolymerization initiator and of which the viscosity is 100,000-3,000,000 cp is obtained.

Description

감광성 유리 페이스트 조성물 및 플라즈마 디스플레이 패널 {Photosensitive Glass Paste Composition and Plasma Display Panel}Photosensitive Glass Paste Composition and Plasma Display Panel

본 발명은 감광성 유리 페이스트 조성물에 관한 것이고, 더욱 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 등을 형성하기 위해 바람직하게 사용할 수 있는 감광성 유리 페이스트 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive glass paste composition, and more particularly, to a photosensitive glass paste composition which can be preferably used for forming partition walls and the like of a plasma display panel.

최근에 평판상의 형광 표시체로서 플라즈마 디스플레이가 주목받고 있다. 도 1은 교류형의 플라즈마 디스플레이 패널(이하, 「PDP」라고도 함)의 단면 형상을 나타내는 모식도이다. 동일한 도면에 있어서 1 및 2는 대향 배치된 유리 기판이고, 3은 격벽이고, 유리 기판(1), 유리 기판(2) 및 격벽(3)에 의해 셀이 구획 형성되어 있다. 4는 유리 기판(1)에 고정된 투명 전극, 5는 투명 전극의 저항을 내릴 목적으로, 투명 전극(4) 상에 형성된 버스 전극, 6은 유리 기판(2)에 고정된 어드레스 전극, 7은 셀 내에 보유된 형광 물질, 8은 투명 전극(4) 및 버스 전극(5)를 피복하도록 유리 기판(1)의 표면에 형성된 유전체층, 9는 어드레스 전극(6)을 피복하도록 유리 기판(2)의 표면에 형성된 유전체층, 10은 예를 들면 산화마그네슘으로 이루어지는 보호막이다. 격벽(3)은 주로 유리 소결체로부터 형성되고, 그 폭은 예를 들어 30 내지 60 ㎛, 높이는 100 내지 150 ㎛이다.Recently, a plasma display has attracted attention as a flat fluorescent display. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional shape of an AC plasma display panel (hereinafter also referred to as "PDP"). In the same figure, 1 and 2 are the glass substrates which oppose, 3 is a partition, and the cell is partitioned by the glass substrate 1, the glass substrate 2, and the partition 3. 4 is a transparent electrode fixed to the glass substrate 1, 5 is a bus electrode formed on the transparent electrode 4 for the purpose of lowering the resistance of the transparent electrode, 6 is an address electrode fixed to the glass substrate 2, 7 is The fluorescent material retained in the cell, 8 is a dielectric layer formed on the surface of the glass substrate 1 to cover the transparent electrode 4 and the bus electrode 5, and 9 is a portion of the glass substrate 2 to cover the address electrode 6. The dielectric layer 10 formed on the surface is a protective film made of, for example, magnesium oxide. The partition 3 is mainly formed from a glass sintered body, for example, 30-60 micrometers in width, and 100-150 micrometers in height.

격벽(3)의 형성 방법으로서는 현재 주로 이하의 방법 등이 있다.As the formation method of the partition 3, the following methods are mainly mainly present.

(1) 유리 분말, 결합 수지 및 용제를 함유하는 페이스트상 조성물(유리 페이스트 조성물)을 제조하고, 이 유리 페이스트 조성물을 스크린 인쇄에 의해 유리 기판(1)의 표면에 도포하여 건조시키는 것을 복수회 반복함으로써 격벽 성형 재료막을 형성하고, 계속해서 이 격벽 성형 재료층을 소성함으로써 유기 물질을 제거하여 유리 분말을 소결시키는 방법(스크린 인쇄법).(1) A paste-like composition (glass paste composition) containing a glass powder, a binder resin, and a solvent is produced, and the glass paste composition is applied to the surface of the glass substrate 1 by screen printing and dried several times. The method of forming a partition molding material film | membrane and then baking this partition molding material layer to remove an organic substance and to sinter glass powder (screen printing method).

(2) 유리 분말, 결합 수지 및 용제를 함유하는 페이스트상 조성물(유리 페이스트 조성물)을 제조하고, 이 유리 페이스트 조성물을 스크린 인쇄 또는 블레이드 코터 등에 의해 유리 기판(1)의 표면에 도포하여 건조시킴으로써 바탕이 되는 격벽 성형 재료층을 형성하고, 그 위에 레지스트액을 도포하거나, 드라이 필름 레지스트를 전사하여 노광 및 현상한 후, 블러스트 장치에 의해 주로 비노광부를 블러스트하고, 그 후 잔존하는 레지스트층을 박리함으로써 격벽 성형 재료층을 형성하며, 계속해서 이 격벽 성형 재료층을 소성함으로써 유기 물질을 제거하여 유리 분말을 소결시키는 방법(샌드 블러스트법).(2) A paste-like composition (glass paste composition) containing a glass powder, a binder resin and a solvent is produced, and the glass paste composition is applied to the surface of the glass substrate 1 by screen printing or a blade coater or the like and dried. After forming a barrier rib forming material layer, applying a resist liquid thereon, transferring a dry film resist, exposing and developing, and then blasting the non-exposed part mainly by a blasting apparatus, and then remaining resist layer A method of forming a partition wall forming material layer by peeling, followed by firing the partition wall forming material layer to remove an organic substance and sintering the glass powder (sand blast method).

(3) 유리 분말, 감광성 수지 및 용제를 함유하는 페이스트상 조성물(감광성 유리 페이스트 조성물)을 제조하고, 이 감광성 유리 페이스트 조성물을 스크린 인쇄 또는 블레이드 코터 등에 의해 유리 기판(1)의 표면에 도포하여 건조시킴으로써 바탕이 되는 감광성 격벽 성형 재료막을 형성하고, 그 감광성 격벽 성형 재료막을 노광 및 현상함으로써 격벽 성형 재료층을 형성하며, 계속해서 이 격벽 성형 재료층을 소성함으로써 유기 물질을 제거하여 유리 분말을 소결시키는 방법(감광성 페이스트법).(3) A paste-like composition (photosensitive glass paste composition) containing a glass powder, a photosensitive resin and a solvent is produced, and the photosensitive glass paste composition is applied to the surface of the glass substrate 1 by screen printing or a blade coater or the like and dried. By forming the underlying photosensitive partition wall forming material film, exposing and developing the photosensitive partition wall forming material film to form a partition wall forming material layer, and subsequently firing the partition wall forming material layer to remove the organic material and sintering the glass powder. Method (photosensitive paste method).

(4) 유리 분말, 결합 수지 및 용제를 함유하는 페이스트상 조성물(유리 페이스트 조성물)을 제조하고, 이 유리 페이스트 조성물을 스크린 인쇄 또는 블레이드 코터 등에 의해 유리 기판(1)의 표면에 도포하여 건조시킴으로써 바탕이 되는 격벽 성형 재료막을 형성하고, 그 격벽 성형 재료막을 위로부터, 격벽을 형성하는 바탕이 되는 구조를 갖는 형틀로 가압함으로써 격벽 성형 재료층을 형성하며, 계속해서이 격벽 성형 재료층을 소성함으로써 유기 물질을 제거하여 유리 분말을 소결시키는 방법(가압 성형법).(4) A paste-like composition (glass paste composition) containing a glass powder, a binder resin, and a solvent is produced, and the glass paste composition is applied to the surface of the glass substrate 1 by screen printing or a blade coater or the like and dried. Forming a partition wall forming material film, pressing the partition wall forming material film from above into a mold having a structure for forming a partition wall, and forming a partition wall forming material layer, and subsequently firing the partition wall forming material layer to form an organic material. Is removed to sinter the glass powder (press molding).

여기서, 유리 페이스트 조성물을 구성하는 결합 수지로서는 메틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리비닐알코올, 폴리비닐부티랄, 폴리에틸렌글리콜, 우레탄계 수지, 멜라민계 수지 등이 알려져 있고, 이들 중에서 유리 분말의 분산성, 조성물의 도포 특성, 연소의 용이성 등의 관점에서 에틸셀룰로오스가 바람직하다고 되어 있다(예를 들면 일본 특허 공개 (평)6-321619호 공보 참조).Here, as the binder resin constituting the glass paste composition, cellulose derivatives such as methyl cellulose, ethyl cellulose, and carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polyethylene glycol, urethane resin, melamine resin, and the like are known. Ethyl cellulose is said to be preferable from a viewpoint of the dispersibility of glass powder, the coating characteristic of a composition, the ease of combustion, etc. (for example, refer Unexamined-Japanese-Patent No. 6-321619).

또한, 유리 기판(1) 위에 형성되는 격벽 형성 재료층의 두께는 소성 공정에 있어서 유기 물질의 제거에 따른 막 두께의 감소를 고려하여, 형성해야 할 격벽(3)의 막 두께의 1.3 내지 2.0 배 정도로 하는 것이 필요하고, 예를 들면 격벽(3)의 막 두께를 100 내지 150 ㎛로 하기 위해서는 130 내지 300 ㎛ 정도 두께의 격벽 형성 재료층을 형성할 필요가 있다.In addition, the thickness of the barrier rib forming material layer formed on the glass substrate 1 is 1.3 to 2.0 times the thickness of the barrier rib 3 to be formed in consideration of the reduction of the film thickness due to the removal of the organic material in the firing process. In order to make the film thickness of the partition 3 into 100-150 micrometers, for example, it is necessary to form the partition formation material layer of about 130-300 micrometers in thickness.

한편, 상기 유리 페이스트 조성물을 스크린 인쇄법에 의해 도포하는 경우, 1회의 도포 처리에 의해 형성되는 도막의 두께는 15 내지 25 ㎛ 정도이다. 이 때문에 격벽 형성 재료층을 소정의 두께로 만들기 위해서는, 유리 기판의 표면에 대하여 상기 유리 페이스트 조성물을 복수회(예를 들면 10 내지 20 회)에 걸쳐 반복 도포(다중 인쇄)할 필요가 있기 때문에, 막 두께의 균일화가 곤란해진다. 또한 공정도 장대(長大)하게 된다.On the other hand, when apply | coating the said glass paste composition by the screen printing method, the thickness of the coating film formed by one coating process is about 15-25 micrometers. For this reason, in order to make a partition formation material layer into a predetermined thickness, it is necessary to apply | coat repeatedly (multiprinting) the said glass paste composition to the surface of a glass substrate several times (for example, 10-20 times), Uniformity of the film thickness becomes difficult. The process is also grand.

또한 샌드 블러스트법에 있어서는 노광 및 현상, 블러스트 등에 의한 공정의장대화, 블러스트에 의한 폐기물의 발생이 문제가 된다.Moreover, in the sand blasting method, the process lengthening by exposure, image development, blasting, etc., and generation | occurrence | production of the waste by a blast become a problem.

또한 감광성 페이스트법에 있어서도 노광 및 현상 공정이 필요하고, 폐기물의 발생 등이 문제가 된다.Moreover, also in the photosensitive paste method, an exposure and image development process are needed, and waste generation etc. become a problem.

또한 가압 성형법에 있어서, 공정은 얼핏보면 간단하게 보이지만, 형틀의 고도한 정밀 관리가 필요하고, 유리 기판의 평탄성에 격벽 형성 재료층의 형상이 크게 영향을 미치는 등 신뢰성이 아직 낮다.In addition, in the press molding method, the process looks simple at first glance, but high precision management of the mold is required, and reliability is still low, such as the shape of the barrier rib forming material layer greatly affects the flatness of the glass substrate.

상기 기존의 방법에 의해 격벽 형성 재료층을 형성하는 경우에 있어서 상기와 같은 문제를 해결하는 수단으로서, 최근 감광성 유리 페이스트 조성물을 유리 기판상에 특수한 토출 노즐에 의해 연속적으로 압출시키면서 UV 경화하여 격벽을 형성하는 방법(이하, 노즐 토출법)을 포함하는 PDP의 제조 방법이 제안되어 있다.As a means to solve the above problems in forming the barrier rib forming material layer by the conventional method, the barrier rib is formed by UV curing while continuously extruding the photosensitive glass paste composition on the glass substrate by a special discharge nozzle. A manufacturing method of a PDP including a forming method (hereinafter referred to as a nozzle ejecting method) has been proposed.

또한, 이러한 노즐 토출법을 포함하는 PDP의 제조 방법에 따르면, 고종횡비를 갖는 격벽을 종래의 방법과는 비교가 되지 않을 정도로 매우 간단한 공정으로 형성할 수 있다.In addition, according to the PDP manufacturing method including the nozzle ejection method, a partition having a high aspect ratio can be formed in a very simple process so as to be incomparable with the conventional method.

그러나, 종래 공지된 감광성 유리 페이스트 조성물을 이 노즐 토출법에 적용하고자 하면, 페이스트의 점도가 낮기 때문에 UV 경화 전에 페이스트의 액 흐름 등의 형상 변화가 일어나 버린다. 또한 통상의 스크린 인쇄 페이스트를 사용해도 동일하게 점도가 낮고, 비감광성이기 때문에 노즐로부터의 토출 후 UV 경화에 의한 형상 유지를 할 수 없다는 문제가 있었다.However, when the conventionally well-known photosensitive glass paste composition is applied to this nozzle discharge method, since the viscosity of a paste is low, shape changes, such as liquid flow of a paste, arise before UV hardening. Moreover, even if it uses a normal screen printing paste, since the viscosity is low and it is non-photosensitive, there existed a problem that shape retention by UV hardening after discharge from a nozzle cannot be performed.

또한, PDP를 구성하는 격벽에 양호한 전기적 특성을 발현시키는 관점에서, 상기 격벽에는 고종횡비, 형상 균일성이 요구된다.In addition, from the standpoint of expressing good electrical characteristics in the partitions constituting the PDP, the partitions are required to have a high aspect ratio and shape uniformity.

또한, PDP를 구성하는 격벽 제조 방법에는 매우 간단한 공정이 요구된다.Furthermore, a very simple process is required for the partition wall manufacturing method which comprises a PDP.

본 발명은 이상과 같은 사정에 기초하여 이루어진 것이다.This invention is made | formed based on the above circumstances.

본 발명의 제1의 목적은 고종횡비인 유리 소결체를 형성할 수 있는 감광성 유리 페이스트 조성물을 제공하는 것이다.A first object of the present invention is to provide a photosensitive glass paste composition capable of forming a glass sintered body having a high aspect ratio.

본 발명의 제2의 목적은 형상 균일성이 우수한 유리 소결체를 형성할 수 있는 감광성 유리 페이스트 조성물을 제공하는 것이다.A second object of the present invention is to provide a photosensitive glass paste composition capable of forming a glass sintered body having excellent shape uniformity.

본 발명의 제3의 목적은 비교적 저온 조건(600 ℃ 이하)에서 행해지는 소성 처리에 의해 결합 수지를 완전히 분해 제거할 수 있고, 이것에서 유래하는 유기 물질을 함유하지 않는 유리 소결체를 형성할 수 있는 감광성 유리 페이스트 조성물을 제공하는 것이다.A third object of the present invention is to completely decompose and remove the binder resin by firing treatment performed under relatively low temperature conditions (600 ° C. or lower), and to form a glass sintered body containing no organic substance derived therefrom. It is to provide a photosensitive glass paste composition.

본 발명의 제4의 목적은 PDP의 격벽으로서 바람직한 유리 소결체를 형성할 수 있는 감광성 유리 페이스트 조성물을 제공하는 것이다.A fourth object of the present invention is to provide a photosensitive glass paste composition capable of forming a glass sintered body which is suitable as a partition wall of a PDP.

본 발명의 제5의 목적은 예를 들어, PDP의 격벽 등을 종래에는 없었던 매우 간단한 공정으로 형성할 수 있는 감광성 유리 페이스트 조성물을 제공하는 것이다.A fifth object of the present invention is to provide a photosensitive glass paste composition capable of forming, for example, a partition of a PDP in a very simple process that has not been conventionally used.

도 1은 교류형 플라즈마 디스플레이 패널의 단면 형상을 나타내는 모식도.1 is a schematic diagram showing a cross-sectional shape of an AC plasma display panel.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1 유리 기판1 glass substrate

2 유리 기판2 glass substrates

3 격벽3 bulkhead

4 투명 전극4 transparent electrodes

5 버스 전극5 bus electrode

6 어드레스 전극6 address electrode

7 형광체7 phosphor

8 유전체층8 Dielectric Layer

9 유전체층9 dielectric layer

10 보호막10 Shield

본 발명의 유리 페이스트 조성물은 (A) 유리 분말, (B) 다관능성 (메트)아크릴레이트 및 (C) 광중합 개시제를 함유하고, 25 ℃, 1 기압의 조건하에 콘(cone) 회전식 점도계를 이용하여 콘의 회전수 0.5 rpm에서 측정한 점도가 100,000 내지 3,000,000 cp의 범위인 것을 특징으로 한다.The glass paste composition of this invention contains (A) glass powder, (B) polyfunctional (meth) acrylate, and (C) photoinitiator, using the cone rotational viscometer on 25 degreeC and 1 atmosphere conditions. The viscosity measured at 0.5 rpm of the cone is characterized in that the range of 100,000 to 3,000,000 cp.

<작용><Action>

(1) 조성물의 점도를 특정 범위로 제어함으로써, 고종횡비이며 형상 균일성이 우수한 유리 소결체(예를 들면, PDP의 격벽)을 형성할 수 있다.(1) By controlling the viscosity of the composition in a specific range, it is possible to form a glass sintered body (for example, PDP partition wall) having a high aspect ratio and excellent shape uniformity.

(2) 이 조성물을 노즐 토출법에 적용함으로써, 종래에는 얻을 수 없었던 매우 간단한 공정으로 유리 소결체(예를 들면, PDP용의 격벽)을 형성할 수 있다.(2) By applying this composition to a nozzle discharge method, a glass sintered body (for example, a partition for PDP) can be formed by a very simple process that has not been obtained in the past.

<발명의 실시 양태>Embodiments of the Invention

이하, 본 발명의 감광성 유리 페이스트 조성물에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the photosensitive glass paste composition of this invention is demonstrated in detail.

본 발명의 감광성 유리 페이스트 조성물은 유리 분말, 불포화 이중 결합을 갖는 중합체 및 (C) 광중합 개시제를 필수 성분으로 함유하고, 페이스트 점도가 100,000 내지 3,000,000 cp의 범위에 있는 것을 특징으로 한다.The photosensitive glass paste composition of this invention contains a glass powder, the polymer which has an unsaturated double bond, and (C) photoinitiator as an essential component, and is characterized by having a paste viscosity in the range of 100,000-3,000,000 cp.

조성물의 점도가 100,000 cp 미만이면 페이스트가 노즐에 의해 토출되고 나서 노광되기까지의 그 사이에 액 흐름, 평탄화 등이 일어나 버려 고종횡비의 구조물을 형성할 수 없다. 또한 페이스트 점도가 3,000,000 cp를 초과하면 노즐에서의 토출성이 나빠지는 등, 취급성이 저하된다.If the composition has a viscosity of less than 100,000 cps, the liquid flow, planarization, or the like may occur between the paste and the exposure after the paste is discharged by the nozzle, and a high aspect ratio structure cannot be formed. Moreover, when paste viscosity exceeds 3,000,000 cp, handling property will fall, for example, the discharge property from a nozzle will worsen.

또한, 본 발명에 있어서 점도의 측정은 25 ℃, 1 기압의 조건하에 도끼 산교(주) 제조 콘 회전식 점도계 RE-80U를 사용하고, 로터 번호 7을 사용하여 콘 회전수를 0.5 rpm으로 하여 행한다. 더욱 바람직하게는 로터 번호 7을 사용하여 회전 개시 후 1 분간 경과했을 때의 계측치를 조성물의 점도로 정의한다. 이것은 페이스트 조성물이 비뉴톤(Newton)성을 나타내는 경우가 많기 때문이다.In the present invention, the viscosity is measured at 25 ° C. and 1 atm using a cone rotary viscometer RE-80U manufactured by AXAKYO CO., LTD. And using a rotor No. 7 at a cone rotation speed of 0.5 rpm. More preferably, the measured value when 1 minute has passed after the start of rotation using rotor No. 7 is defined as the viscosity of the composition. This is because the paste composition is often non-Newtonian.

<유리 분말><Glass powder>

본 발명의 조성물을 구성하는 유리 분체로서는, 그의 연화점이 400 내지 600 ℃의 범위내에 있는 것이 바람직하다.As glass powder which comprises the composition of this invention, it is preferable that the softening point exists in the range of 400-600 degreeC.

유리 분말의 연화점이 400 ℃ 미만인 경우에는, 상기 조성물에 의한 격벽 형성 재료층의 소성 공정에 있어서 결합 수지 등의 유기 물질이 완전히 분해 제거되지 않은 단계에서 유리 분말이 용융되어 버리기 때문에, 형성되는 격벽 중에 유기 물질의 일부가 잔류하고, 그 결과 패널내로 배출 가스(out gas)가 확산되어, 결과적으로 형광체의 수명 저하를 야기할 우려가 있다. 한편, 유리 분말의 연화점이 600 ℃를 초과하는 경우에는, 600 ℃보다 고온에서 소성할 필요가 있기 때문에 유리 기판에 왜곡 등이 발생하기 쉽다.In the case where the softening point of the glass powder is less than 400 ° C, the glass powder melts at a stage in which the organic material such as the binder resin is not completely decomposed and removed in the firing step of the barrier rib forming material layer by the composition. Part of the organic substance remains, and as a result, outgas is diffused into the panel, which may result in a reduction in the lifetime of the phosphor. On the other hand, when the softening point of glass powder exceeds 600 degreeC, since baking needs to be carried out at high temperature rather than 600 degreeC, distortion etc. are easy to generate | occur | produce in a glass substrate.

바람직한 유리 분말의 구체예로서는 ① 산화납, 산화붕소, 산화규소, 산화칼슘(PbO-B2O3-SiO2-CaO계) ② 산화아연, 산화붕소, 산화규소(ZnO-B2O3-SiO2계) ③ 산화납, 산화붕소, 산화규소, 산화알루미늄(PbO-B2O3-SiO2-Al2O3계) ④ 산화납, 산화아연, 산화붕소, 산화규소(PbO-ZnO-B2O3-SiO2) ⑤ 산화납, 산화아연, 산화붕소, 산화규소, 산화티탄(PbO-ZnO-B2O3-SiO2-TiO2계) 등을 예시할 수 있다. 또한 이들 유리 분말에 예를 들면, 산화알루미늄, 산화크롬, 산화망간 등의 무기 산화물 화합물 분말을 혼합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of preferred glass powders include (1) lead oxide, boron oxide, silicon oxide and calcium oxide (PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -CaO-based) ② zinc oxide, boron oxide and silicon oxide (ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 type ) ③ Lead oxide, boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide (PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 type ) ④ Lead oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide (PbO-ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 ) ⑤ lead oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide, titanium oxide (PbO-ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -TiO 2 type ) and the like can be exemplified. Moreover, you may mix and use inorganic oxide compound powders, such as aluminum oxide, chromium oxide, and manganese oxide, for these glass powders, for example.

<다관능성 (메트)아크릴레이트><Multifunctional (meth) acrylate>

다관능성 (메트)아크릴레이트는 조성물에서의 결합 수지로서의 역할을 갖는다. 상기 (메트)아크릴레이트의 구체예로서는 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트류: 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트류; 양쪽 말단 히드록시 폴리부타디엔, 양쪽 말단 히드록시 폴리이소프렌, 양쪽 말단 히드록시 폴리카프로락톤 등의 양쪽 말단 히드록실화 중합체의 디(메트)아크릴레이트류; 글리세린, 1,2,4-부탄트리올, 트리메틸올알칸, 테트라메틸올알칸, 디펜타에리스리톨 등의 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트류; 3가 이상의 다가 알코올의 폴리알킬렌글리콜부가물의 폴리(메트)아크릴레이트류; 1,4-시클로헥산디올, 1,4-벤젠디올류 등의 환식 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트류; 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 알키드 수지 (메트)아크릴레이트, 실리콘 수지 (메트)아크릴레이트, 스피란 수지 (메트)아크릴레이트 등의 올리고(메트)아크릴레이트류 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Multifunctional (meth) acrylates have a role as binding resin in the composition. As a specific example of the said (meth) acrylate, Di (meth) acrylates of alkylene glycols, such as ethylene glycol and propylene glycol: Di (meth) acrylates of polyalkylene glycols, such as polyethyleneglycol and polypropylene glycol; Di (meth) acrylates of both terminal hydroxylated polymers such as both terminal hydroxy polybutadiene, both terminal hydroxy polyisoprene and both terminal hydroxy polycaprolactone; Poly (meth) acrylates of trivalent or higher polyhydric alcohols such as glycerin, 1,2,4-butanetriol, trimethylolalkane, tetramethylolalkane, dipentaerythritol; Poly (meth) acrylates of polyalkylene glycol adducts of trivalent or higher polyhydric alcohols; Poly (meth) acrylates of cyclic polyols such as 1,4-cyclohexanediol and 1,4-benzenediols; Oligos, such as polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, alkyd resin (meth) acrylate, silicone resin (meth) acrylate, and spiran resin (meth) acrylate ( And meth) acrylates. These may be used alone or in combination of two or more thereof.

상기 다관능성 (메트)아크릴레이트의 함유 비율은 유리 분말 100 중량부에 대하여 통상 10 내지 50 중량부, 바람직하게는 20 내지 40 중량부이다. 10 중량부 미만이면, 감광성이 부족하여 리브(rib) 형상을 유지하기가 곤란해지는 경향이 있고, 50 중량부를 초과하면, 페이스트의 점도 특성이 나빠져서 노즐에서의 토출성에 악영향을 미치는 경향이 있다.The content rate of the said polyfunctional (meth) acrylate is 10-50 weight part normally with respect to 100 weight part of glass powder, Preferably it is 20-40 weight part. If it is less than 10 parts by weight, the photosensitivity is insufficient and it is difficult to maintain a rib shape. If it exceeds 50 parts by weight, the viscosity characteristic of the paste is deteriorated, which tends to adversely affect the ejectability from the nozzle.

<광중합 개시제><Photoinitiator>

본 발명에 사용되는 광중합 개시제의 구체예로서는 벤질, 벤조인, 벤조페논, 캄포퀴논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤,2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-메틸-〔4'-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노-1-프로파논, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온 등의 카르보닐 화합물; 아조이소부티로니트릴, 4-아지도벤즈알데히드 등의 아조 화합물 또는 아지드 화합물; 머캅탄디술피드 등의 유기 황 화합물, 벤조일퍼옥시드, 디-tert-부틸퍼옥시드, tert-부틸히드로퍼옥시드, 쿠멘히드로퍼옥시드, 파라메탄히드로퍼옥시드 등의 유기 퍼옥시드; 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2'-클로로페닐)-1,3,5-트리아진, 2-〔2-(2-푸라닐)에틸레닐〕-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진 등의 트리할로메탄류; 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등의 이미다졸 이량체 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the photopolymerization initiator used in the present invention include benzyl, benzoin, benzophenone, camphorquinone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2, 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-methyl- [4 '-(methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propaneone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4 Carbonyl compounds such as -morpholinophenyl) -butan-1-one; Azo compounds or azide compounds such as azoisobutyronitrile and 4-azidobenzaldehyde; Organic peroxides such as organic sulfur compounds such as mercaptan disulfide, benzoyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide and paramethane hydroperoxide; 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2'-chlorophenyl) -1,3,5-triazine, 2- [2- (2-furanyl) ethylenyl] -4,6-bis Trihalo methanes such as (trichloromethyl) -1,3,5-triazine; Imidazole dimers such as 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, and the like. It can be used in combination of 2 or more type.

상기 광중합 개시제의 함유 비율은 다관능성 (메트)아크릴레이트 100 중량부에 대하여 통상 5 내지 30 중량부, 바람직하게는 10 내지 20 중량부이다. 5 중량부 미만이면, 감광성이 부족하여 리브 형상을 유지하기가 곤란해지는 경향이 있고, 30 중량부를 초과하면, 잔존하는 개시제가 소성시에 악영향을 미치는 경향이 있다.The content rate of the said photoinitiator is 5-30 weight part normally with respect to 100 weight part of polyfunctional (meth) acrylates, Preferably it is 10-20 weight part. If it is less than 5 parts by weight, the photosensitivity is insufficient and it is difficult to maintain the rib shape. If it exceeds 30 parts by weight, the remaining initiator tends to adversely affect the firing.

본 발명의 조성물에는 임의 성분으로서 다른 결합 수지, 용제, 분산제, 점착성 부여제, 표면 장력 조정제, 안정제, 가소제, 접착 조제, 헐레이션(halation) 방지제, 보존 안정제, 소포제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 필러, 형광체, 안료, 염료 등의 각종 첨가제가 함유될 수도 있다.The composition of the present invention contains, as an optional component, other binding resins, solvents, dispersants, tackifiers, surface tension regulators, stabilizers, plasticizers, adhesion aids, antihalation agents, storage stabilizers, antifoam agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, fillers. And various additives such as phosphors, pigments, and dyes.

본 발명의 조성물에 임의로 함유되는 용제로서는 유리 분말과의 친화성, 결합 수지의 용해성이 양호하고, 감광성 유리 페이스트 조성물에 적절한 점성을 부여할 수 있으면서도 건조, 소성시킴으로써 쉽게 증발 제거할 수 있는 것이 바람직하다. 또한, 특히 바람직한 용제로서 표준 비점(1 기압에서의 비점)이 100 내지 200 ℃인 케톤류, 알코올류 및 에스테르류(이하, 이들을 「특정 용제」라고 함)를 들 수 있다.As the solvent optionally contained in the composition of the present invention, it is preferable that the affinity with the glass powder and the solubility of the binder resin are good, and the photosensitive glass paste composition can be easily evaporated and removed by drying and calcining while providing proper viscosity. . Moreover, ketones, alcohols, and esters (henceforth, these are called a "specific solvent") whose standard boiling point (boiling point in 1 atmosphere) are 100-200 degreeC as an especially preferable solvent are mentioned.

이러한 특정 용제의 구체예로서는 디에틸케톤, 메틸부틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; n-펜탄올, 4-메틸-2-펜탄올, 시클로헥산올, 디아세톤알코올 등의 알코올류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 에테르계 알코올류; 아세트산-n-부틸, 아세트산아밀 등의 포화 지방족 모노카르복실산알킬에스테르류; 락트산에틸, 락트산-n-부틸 등의 락트산에스테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸-3-에톡시프로피오네이트 등의 에테르계 에스테르류 등을 예시할 수 있고, 이들 중에서 메틸부틸케톤, 시클로헥사논, 디아세톤알코올, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 락트산에틸, 에틸-3-에톡시프로피오네이트 등이 바람직하다. 이러한 특정 용제는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As a specific example of such a specific solvent, Ketones, such as a diethyl ketone, a methyl butyl ketone, a dipropyl ketone, cyclohexanone; alcohols such as n-pentanol, 4-methyl-2-pentanol, cyclohexanol and diacetone alcohol; Ether alcohols such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether; Saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as acetic acid-n-butyl and amyl acetate; Lactic acid esters such as ethyl lactate and lactic acid-n-butyl; Ether esters such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and ethyl-3-ethoxypropionate, and the like can be exemplified. Diacetone alcohol, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethyl lactate, ethyl-3-ethoxypropionate, and the like are preferable. These specific solvents can be used individually or in combination of 2 or more types.

특정 용제 이외의 용제의 구체예로서는 테레빈유, 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 테르피네올, 부틸카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨, 이소프로필알코올, 벤질알코올 등을 들 수 있다.Specific examples of solvents other than the specific solvents include terebin oil, ethyl cellosolve, methyl cellosolve, terpineol, butyl carbitol acetate, butyl carbitol, isopropyl alcohol, benzyl alcohol, and the like.

본 발명의 조성물에서의 용제의 함유 비율로서는, 조성물의 점도를 바람직한범위로 유지하는 관점에서 유리 분말 100 중량부에 대하여 50 중량부 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 10 중량부 이하이다.As a content rate of the solvent in the composition of this invention, it is preferable that it is 50 weight part or less with respect to 100 weight part of glass powder from a viewpoint of maintaining the viscosity of a composition in a preferable range, More preferably, it is 10 weight part or less.

또한, 총 용제에 대한 특정 용제의 함유 비율은 50 중량% 이상인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 70 중량% 이상이다.Moreover, it is preferable that the content rate of the specific solvent with respect to the total solvent is 50 weight% or more, More preferably, it is 70 weight% or more.

본 발명의 조성물은 상기 유리 분말, 결합 수지 및 광중합 개시제 및 임의 성분을 롤 혼련기, 믹서, 호모 믹서, 샌드 밀, 유성(遊星) 교반식 분산기 등의 혼련ㆍ분산기를 이용하여 혼련함으로써 제조할 수 있다.The composition of the present invention can be prepared by kneading the glass powder, the binder resin, the photopolymerization initiator and any component by using a kneader / disperser such as a roll kneader, a mixer, a homo mixer, a sand mill, a planetary stirring disperser, or the like. have.

상기한 바와 같이 하여 제조되는 본 발명의 조성물은 도포에 적합한 유동성을 갖는 페이스트상 조성물이다.The composition of the present invention produced as described above is a pasty composition having fluidity suitable for application.

본 발명의 조성물은 상기한 바와 같이 주로 노즐 토출법 등에 의해 격벽 성형 재료층을 형성하여, 플라즈마 디스플레이의 격벽 등을 제조할 때에 특히 바람직하게 사용할 수 있지만, 이러한 용도에 한정되는 것은 아니고, 종래에 공지된 막 형성 재료층의 형성 방법에도 바람직하게 사용할 수 있다.The composition of the present invention can be particularly preferably used to form a partition wall forming material layer mainly by a nozzle ejection method as described above to produce a partition wall of a plasma display, and the like, but is not limited to such a use. It can also use suitably also for the formation method of the formed film forming material layer.

<플라즈마 디스플레이 패널><Plasma display panel>

본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은, 격벽 등이 본 발명의 감광성 유리 페이스트 조성물을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 한다.The plasma display panel of the present invention is characterized in that partition walls and the like are formed using the photosensitive glass paste composition of the present invention.

격벽 형성 방법의 일례로서는, 기판상에 노즐 토출법에 의해 본 발명의 감광성 유리 페이스트 조성물을 토출하여 연속적으로 노광 및 경화한 후 소성하는 방법을 들 수 있다.As an example of a partition formation method, the photosensitive glass paste composition of this invention is discharged on a board | substrate by the nozzle ejection method, and the method of baking after exposing and hardening continuously is mentioned.

토출의 조건으로서는, 예를 들면 리브 형상과 거의 동등한 치수의 노즐을 이용하고, 토출 압력 0.1 내지 1 MPa, 토출 속도 0.2 내지 20 mm/초이다.As discharge conditions, discharge nozzles of 0.1 to 1 MPa and discharge speeds of 0.2 to 20 mm / sec are used, for example, using nozzles having dimensions substantially equal to the rib shape.

또한, 노광에 사용되는 방사선 조사 장치로서는 특별히 제한되는 것은 아니고, 예를 들면 반도체 및 액정 표시 장치를 제조할 때 사용되는 노광 장치 등이 사용된다. 또한, 노광에 사용되는 방사선으로서는, 예를 들면 자외선 등이 바람직하게 사용된다.In addition, it does not specifically limit as a radiation irradiation apparatus used for exposure, For example, the exposure apparatus etc. which are used when manufacturing a semiconductor and a liquid crystal display device are used. In addition, as radiation used for exposure, an ultraviolet-ray etc. are used preferably, for example.

또한, 소성 처리의 온도로서는, 조성물 중의 유기 물질이 소실되는 온도인 것이 필요하고, 통상 400 내지 600 ℃이다. 또한, 소성 시간은 통상 10 내지 60 분간이다.Moreover, as temperature of a baking process, it is necessary that it is the temperature which the organic substance in a composition vanishes, and is 400-600 degreeC normally. Moreover, baking time is 10 to 60 minutes normally.

본 발명의 제조 방법에 의해 형성되는 격벽은, 일반적으로 패널의 표시 셀(표시 단위)의 가로 방향을 구획하는 것이다. 격벽에 의해서 구획되는 표시 셀의 가로 방향 피치의 크기는 예를 들면 0.10 내지 1.00 mm이다.The partition formed by the manufacturing method of this invention divides the horizontal direction of the display cell (display unit) of a panel generally. The magnitude | size of the horizontal pitch of the display cell divided by the partition is 0.10-1.00 mm, for example.

격벽의 단면 형상, 폭, 높이, 격벽의 이격 거리 등의 치수는 목적하는 플라즈마 디스플레이 패널의 특성에 따라서 적절하게 선정할 수 있다.Dimensions, such as the cross-sectional shape, width, height of a partition, the space | interval of a partition, etc. can be suitably selected according to the characteristic of the target plasma display panel.

구체적으로는, 격벽의 단면 형상에서의 저면의 폭이 10 내지 300 ㎛, 높이가 10 내지 500 ㎛, 격벽의 이격 거리가 50 내지 1000 ㎛이고, 상기 격벽 사이에 배치되는 전극의 폭이 50 내지 500 ㎛이다. 특히 전형적인 일례에 있어서는, 격벽의 단면 형상에서의 저면의 폭이 50 ㎛, 높이가 150 ㎛, 격벽의 이격 거리가 300 ㎛이고, 상기 격벽 사이에 배치되는 전극의 폭이 100 ㎛이다.Specifically, the width of the bottom surface in the cross-sectional shape of the partition wall is 10 to 300 µm, the height is 10 to 500 µm, and the separation distance of the partition wall is 50 to 1000 µm, and the width of the electrode disposed between the partition walls is 50 to 500. [Mu] m. In a particularly typical example, the width of the bottom surface in the cross-sectional shape of the partition wall is 50 µm, the height is 150 µm, the separation distance of the partition wall is 300 µm, and the width of the electrode disposed between the partition walls is 100 µm.

이하, 본 발명의 실시예에 대하여 설명하지만, 본 발명이 이들에 의해 한정되는 것은 아니다. (또한, 이하에 있어서 「부」는 「중량부」를 나타낸다.Hereinafter, although the Example of this invention is described, this invention is not limited by these. (In addition, "part" shows a "weight part" below.

또한, 실시예에서의 평가 방법은 하기와 같다.In addition, the evaluation method in an Example is as follows.

〔점도〕〔Viscosity〕

콘 회전식 점도계 「RE-80 U」(도끼 산교(주) 제조)를 이용하여 감광성 유리 페이스트 조성물의 점도를 측정하였다. 또한 로터는 로터 번호 7을 사용하고, 콘의 회전수를 0.5 rpm으로 설정하여 회전 개시 후 1 분 경과했을 때의 계측치를 그 페이스트 조성물의 점도로 정의하였다.The viscosity of the photosensitive glass paste composition was measured using the cone rotational viscometer "RE-80U" (Tokyo Sangyo Co., Ltd. product). In addition, the rotor used rotor No. 7, the rotation speed of the cone was set to 0.5 rpm, and the measured value when 1 minute passed after the start of rotation was defined as the viscosity of the paste composition.

〔격벽 형상〕(Bulk wall shape)

비접촉 삼차원 형상 측정 장치 「NH-3」(료꼬사 제조)를 이용하여, 제조한 격벽의 치수, 종횡비를 구하였다. 또한 보다 상세한 성상 관측에는 주사형 전자 현미경을 이용하였다.The dimension and aspect ratio of the manufactured partition were calculated | required using the non-contact three-dimensional shape measuring apparatus "NH-3" (made by Ryo Co., Ltd.). In addition, the scanning electron microscope was used for the observation of a more detailed property.

<실시예 1><Example 1>

(1) 감광성 유리 페이스트 조성물의 제조:(1) Preparation of Photosensitive Glass Paste Composition:

유리 분말로서 PbO-B2O3-SiO2-Al2O3-TiO2계(DTA 연화 전이점 460 ℃, 아사히 글라스(주) 제조)로 이루어지고, 평균 입경이 1.3 ㎛인 유리 분말 100 부, 불포화 이중 결합을 갖는 결합 수지로서 폴리에폭시아크릴레이트(비스페놀 A 디글리시딜에테르아크릴산 부가물) 30 부/광중합 개시제로서 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤 10 부를 분산기를 이용하여 혼련함으로써, 점도가 600,000 cp인 본 발명의 조성물을 제조하였다.As a glass powder, PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 -TiO 2 based glass powder 100 (DTA softening transition ℃ 460, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) made of a, a mean particle diameter of 1.3 ㎛ unit By kneading 30 parts of polyepoxyacrylate (bisphenol A diglycidyl ether acrylic acid adduct) as a binder resin having an unsaturated double bond / 10 parts of 1-hydroxycyclohexyl-phenyl-ketone as a photopolymerization initiator by using a dispersing group To prepare a composition of the present invention, the viscosity is 600,000 cp.

(2) 격벽 성형 재료층의 형성:(2) Formation of partition wall forming material layer:

상기 조성물을 사용하고, 노즐 토출법에 의해 유리 기판상에 격벽 성형 재료층을 제조하였다. 즉, 조성물을 특수 노즐로부터 연속적으로 토출하고, 초고압 수은등으로부터 i 선(파장 365 nm의 자외선)을 조사하여 경화시켰다. 여기서, 조사량은 500 mJ/cm2로 하였다.Using the said composition, the partition molding material layer was produced on the glass substrate by the nozzle discharge method. That is, the composition was continuously discharged from a special nozzle, and cured by irradiating i-ray (ultraviolet light having a wavelength of 365 nm) from an ultra-high pressure mercury lamp. Here, the irradiation amount was 500 mJ / cm 2 .

(3) 격벽 성형 재료층의 소성 처리 및 격벽의 평가:(3) Firing treatment of partition wall forming material layer and evaluation of partition wall:

상기 (2)에 의해 제조한 격벽 성형 재료층을 형성한 유리 기판을 소성로 내에 배치하여, 소성로 내의 온도를 상온에서 10 ℃/분의 승온 속도로 580 ℃까지 승온하여 580 ℃의 온도 분위기하에서 10 분간에 걸쳐 소성 처리함으로써 유리 기판의 표면에 유리 소결체로 이루어지는 격벽을 형성하였다.The glass substrate in which the partition formation material layer manufactured by said (2) was formed is arrange | positioned in a baking furnace, the temperature in a baking furnace is heated up to 580 degreeC at the temperature increase rate of 10 degree-C / min from normal temperature, and it is 10 minutes in 580 degreeC temperature atmosphere. By baking over, the partition which consists of glass sintered compacts was formed in the surface of a glass substrate.

이 격벽의 성상을 육안으로 관찰한 결과, 균열, 기판으로부터의 박리 등은 확인되지 않았다.As a result of visual observation of the properties of the partition, no crack, peeling from the substrate, or the like was confirmed.

이 격벽의 형상을 측정한 결과, 폭 40 ㎛, 높이 130 ㎛의 종횡비가 높은 이상적인 구조물이 형성됨을 알았다. 또한 상세한 측정으로부터 형상의 균일성이 우수한 것이었다. 평가 결과를 하기 표 1에 나타내었다.As a result of measuring the shape of the partition, it was found that an ideal structure having a high aspect ratio of 40 μm in width and 130 μm in height was formed. Moreover, the shape uniformity was excellent from the detailed measurement. The evaluation results are shown in Table 1 below.

<실시예 2, 3 및 비교예 1, 2><Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2>

표 1에 나타내는 처방에 따라서, 유리 분말과 결합 수지, 광중합 개시제의 조성비를 변화시킨 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 본 발명의 감광성 유리 페이스트 조성물 및 비교용 감광성 유리 페이스트 조성물을 제조하였다.According to the prescription shown in Table 1, except having changed the composition ratio of glass powder, binder resin, and a photoinitiator, it carried out similarly to Example 1, and manufactured the photosensitive glass paste composition and comparative photosensitive glass paste composition of this invention.

계속해서, 얻어진 감광성 유리 페이스트 조성물 각각을 사용한 것 이외에는,실시예 1과 동일하게 하여 격벽 성형 재료층을 제조하였다.Then, the partition molding material layer was produced like Example 1 except having used each of the obtained photosensitive glass paste compositions.

그 후, 얻어진 격벽 성형 재료층 각각을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 격벽 성형 재료층의 소성 처리를 행하고, 20 인치 패널용의 유리 기판 표면에 격벽을 제조하였다.Then, the baking process of the partition molding material layer was performed like Example 1 except having used each of the obtained partition molding material layers, and the partition was manufactured on the glass substrate surface for 20 inch panels.

실시예 2, 3 및 비교예 1, 2에 따른 조성물의 각각에 대하여 ① 노즐에서의 토출 등의 취급성을 조사하고, ② 형성된 격벽의 성상을 관찰하고, ③ 상기 격벽의 형상을 측정하였다.For each of the compositions according to Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2, the handling properties such as the ejection from the nozzle were examined, the properties of the formed partition walls were observed, and the shape of the partition walls was measured.

이상의 결과를 표 1에 나타내었다.The above results are shown in Table 1.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 조성Furtherance 유리 분말Glass powder 100100 100100 100100 100100 100100 결합 수지Bound resin 3030 2828 3232 4040 2525 광개시제Photoinitiator 1010 1010 1010 1010 1010 점도(cp)Viscosity (cp) 60만600,000 100만1 million 40만400,000 5만50,000 400만4 million 취급성Handleability 양호Good 양호Good 양호Good 약간 나쁨Slightly bad 극히 나쁨Extremely bad 격벽 성상Bulkhead 양호Good 양호Good 양호Good 약간 나쁨Slightly bad 약간 나쁨Slightly bad 격벽 폭(㎛)Bulkhead width (㎛) 4040 3030 5050 100100 3030 격벽 높이(㎛)Bulkhead height (㎛) 130130 130130 130130 5050 130130 종횡비Aspect ratio 높음height 높음height 높음height 낮음lowness 높음height 형상 균일성Shape uniformity 양호Good 양호Good 양호Good 극히 나쁨Extremely bad 나쁨Bad

본 발명의 조성물에 따르면 하기와 같은 효과가 발휘된다.According to the composition of the present invention, the following effects are exerted.

(1) 조성물의 점도를 특정 범위로 제어함으로써, 고종횡비이며 형상 균일성이 우수한 유리 소결체(예를 들면, PDP의 격벽)을 형성할 수 있다.(1) By controlling the viscosity of the composition in a specific range, it is possible to form a glass sintered body (for example, PDP partition wall) having a high aspect ratio and excellent shape uniformity.

(2) 이 조성물을 사용함으로써 비교적 저온 조건(600 ℃ 이하)에서 행해지는 소성 처리에 의해 결합 수지를 완전히 분해 제거할 수 있고, 이것에서 유래하는 유기 물질을 함유하지 않는 유리 소결체를 형성할 수 있다.(2) By using this composition, the binder resin can be completely decomposed and removed by a calcination process performed under relatively low temperature conditions (600 ° C. or less), and a glass sintered body containing no organic substance derived therefrom can be formed. .

(3) 이 조성물을 사용함으로써 PDP의 격벽으로서 바람직한 유리 소결체를 형성할 수 있다.(3) By using this composition, the glass sintered compact suitable as a partition of PDP can be formed.

(4) 이 조성물을 노즐 토출법에 적용함으로써, 종래에는 얻을 수 없었던 매우 간단한 공정으로 유리 소결체(예를 들면, PDP 용의 격벽)을 형성할 수 있다.(4) By applying this composition to a nozzle ejection method, a glass sintered body (for example, a partition for PDP) can be formed by a very simple process that has not been conventionally obtained.

Claims (3)

(A) 유리 분말, (B) 다관능성 (메트)아크릴레이트 및 (C) 광중합 개시제를 함유하고, 25 ℃, 1 기압의 조건하에 콘 회전식 점도계를 사용하여 콘 회전수 0.5 rpm에서 측정한 점도가 100,000 내지 3,000,000 cp인 것을 특징으로 하는 감광성 유리 페이스트 조성물.(A) glass powder, (B) polyfunctional (meth) acrylate, and (C) photoinitiator, and the viscosity measured at the cone rotation speed of 0.5 rpm using the cone rotational viscometer on conditions of 25 degreeC and 1 atmosphere A photosensitive glass paste composition, characterized in that 100,000 to 3,000,000 cp. 제1항에 있어서, 노즐 토출법에 의해 패널 부재를 형성하기 위해 사용되는 감광성 유리 페이스트 조성물.The photosensitive glass paste composition of Claim 1 used for forming a panel member by a nozzle discharge method. 제1항에 기재된 감광성 유리 페이스트 조성물을 사용하여 형성된 패널 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.The panel member formed using the photosensitive glass paste composition of Claim 1 is provided, The plasma display panel characterized by the above-mentioned.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100708707B1 (en) * 2005-08-03 2007-04-17 삼성에스디아이 주식회사 Plasma display panel

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005123830A1 (en) 2004-06-21 2005-12-29 Sekisui Chemical Co., Ltd. Binder resin composition, paste, and green sheet
JP2006139989A (en) * 2004-11-11 2006-06-01 Jsr Corp Manufacturing method of back plate for plasma display panel
JP2008179028A (en) * 2007-01-24 2008-08-07 Mitsubishi Materials Corp Printing method using concave plate offset printing method
CN112341003A (en) * 2020-11-26 2021-02-09 中国建材国际工程集团有限公司 Photochromic glass and preparation method thereof

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000260335A (en) * 1999-03-12 2000-09-22 Toray Ind Inc Member for plasma display panel
JP3832177B2 (en) * 1999-03-17 2006-10-11 東レ株式会社 Glass paste and method for producing display panel member using the same
JP4449179B2 (en) * 2000-07-05 2010-04-14 東レ株式会社 Photosensitive paste, display member using the same, and method for manufacturing display member
JP3366630B2 (en) * 2000-10-04 2003-01-14 大日本スクリーン製造株式会社 Method and apparatus for forming barrier ribs for flat display device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100708707B1 (en) * 2005-08-03 2007-04-17 삼성에스디아이 주식회사 Plasma display panel

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