KR20060049421A - Inorganic particle-containing compositions and process for preparing components for plasma display panel - Google Patents

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KR20060049421A
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지로 다까하시
히로아끼 무까이
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제이에스알 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은 종횡비가 높고 형상 균일성이 우수하며, 비교적 저온 조건(600 ℃ 이하)에서 행해지는 소성 처리에 의해 결착 수지를 완전히 분해 제거할 수 있고, 이로부터 유래하는 유기 물질을 함유하지 않는 PDP용 부재를 형성할 수 있는 무기 분체 함유 조성물 및 PDP용 부재의 형성 방법을 제공하는 것이다.The present invention has a high aspect ratio, excellent shape uniformity, and can be completely decomposed and removed from a binder resin by a calcination process performed under relatively low temperature conditions (600 ° C. or lower), and does not contain an organic substance derived therefrom. It is to provide an inorganic powder-containing composition capable of forming a member and a method for forming a member for PDP.

또한, 본 발명은 (A) 무기 분체, (B) 아크릴 수지, (C) 다관능성 (메트)아크릴레이트 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 무기 분체 함유 조성물, 그로부터 얻어지는 전사 필름 및 PDP용 부재의 형성 방법을 제공한다. Moreover, this invention contains (A) inorganic powder, (B) acrylic resin, (C) polyfunctional (meth) acrylate, and (D) photoinitiator, inorganic powder containing composition, transfer film obtained from it, and A method of forming a member for PDP is provided.

플라즈마 디스플레이 패널용 부재, 무기 분체, 전사 필름 Plasma Display Panel Member, Inorganic Powder, Transfer Film

Description

무기 분체 함유 조성물 및 플라즈마 디스플레이 패널용 부재의 형성 방법{Inorganic Particle-Containing Compositions and Process for Preparing Components for Plasma Display Panel}Inorganic Particle-Containing Compositions and Process for Preparing Components for Plasma Display Panel}

도 1은 교류형 플라즈마 디스플레이 패널의 단면 형상을 나타내는 모식도.1 is a schematic diagram showing a cross-sectional shape of an AC plasma display panel.

<도면의 주요 부호에 대한 설명><Description of Major Symbols in Drawing>

1, 2: 유리 기판 3: 격벽1, 2: glass substrate 3: partition wall

4: 투명 전극 5: 버스 전극4: transparent electrode 5: bus electrode

6: 어드레스 전극 7: 형광 물질6: address electrode 7: fluorescent material

8, 9: 유전체 10: 보호층8, 9: dielectric 10: protective layer

[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 제2003-86089호 공보[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-86089

[특허 문헌 2] 일본 특허 공개 제2004-51444호 공보[Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-51444

본 발명은 무기 분체 함유 조성물 및 그것을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널용 부재의 형성 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패 널의 격벽 등을 형성하기 위해 바람직하게 사용할 수 있는 무기 분체 함유 조성물 및 그것을 이용한 형성 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an inorganic powder-containing composition and a method for forming a member for a plasma display panel using the same. More specifically, the present invention relates to an inorganic powder-containing composition which can be preferably used for forming partition walls of plasma display panels and the like, and a forming method using the same.

최근, 평판형 형광 표시체로서 플라즈마 디스플레이가 주목받고 있다. 도 1은 교류형 플라즈마 디스플레이 패널(이하, 「PDP」라고도 함)의 단면 형상을 나타내는 모식도이다. 도 1에 있어서 (1) 및 (2)는 대항 배치된 유리 기판이고, (3)은 격벽이며, 유리 기판 (1), 유리 기판 (2) 및 격벽 (3)에 의해 셀이 구획 형성되어 있다. (4)는 유리 기판 (1)에 고정된 투명 전극, (5)는 투명 전극 (4)의 저항을 낮출 목적으로 상기 투명 전극 (4) 상에 형성된 버스 전극, (6)은 유리 기판 (2)에 고정된 어드레스 전극, (7)은 셀내에 유지된 형광 물질, (8)은 투명 전극 (4) 및 버스 전극 (5)를 피복하도록 유리 기판 (1)의 표면에 형성된 유전체층, (9)는 어드레스 전극 (6)을 피복하도록 유리 기판 (2)의 표면에 형성된 유전체층이고, (10)은 예를 들면 산화마그네슘을 포함하는 보호막이다. 또한, 컬러 PDP에 있어서는, 콘트라스트가 높은 화상을 얻기 위해 유리 기판과 유전체층 사이에 컬러 필터(적색ㆍ녹색ㆍ청색)나 블랙 매트릭스 등을 설치하는 경우가 있다.In recent years, a plasma display has attracted attention as a flat fluorescent display. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional shape of an AC plasma display panel (hereinafter also referred to as "PDP"). In FIG. 1, (1) and (2) are the glass substrates arrange | positioned opposingly, (3) is a partition, and the cell is partitioned by the glass substrate 1, the glass substrate 2, and the partition 3. . 4 is a transparent electrode fixed to the glass substrate 1, 5 is a bus electrode formed on the transparent electrode 4 for the purpose of lowering the resistance of the transparent electrode 4, 6 is a glass substrate 2 (7) is a fluorescent material held in the cell, (8) a dielectric layer formed on the surface of the glass substrate (1) to cover the transparent electrode (4) and the bus electrode (5), (9) Is a dielectric layer formed on the surface of the glass substrate 2 so as to cover the address electrode 6, and 10 is a protective film containing, for example, magnesium oxide. In addition, in a color PDP, in order to obtain an image with high contrast, a color filter (red, green, blue), a black matrix, or the like may be provided between the glass substrate and the dielectric layer.

이들 PDP에서의 각 부재의 형성 방법으로서는, 현재 이하의 방법이 주류이다.As a method of forming each member in these PDPs, the following methods are currently mainstream.

(1) 무기 분말, 결착 수지 및 용제를 함유하는 페이스트상의 조성물을 제조하고, 이 조성물을 스크린 인쇄에 의해 기판 상에 도포하여 건조하는 것을 복수회 반복함으로써 부재 형성 재료의 패턴을 형성하고, 이어서 이 패턴을 소성함으로써 유기 물질을 제거하여 무기 분말을 소결시키는 방법(스크린 인쇄법).(1) A paste-like composition containing an inorganic powder, a binder resin, and a solvent is produced, and the pattern of the member forming material is formed by repeating the application of the composition on a substrate by screen printing and drying a plurality of times, followed by A method of sintering an inorganic powder by removing an organic substance by firing a pattern (screen printing method).

(2) 무기 분말 및 결착 수지를 함유하는 부재 형성 재료막을 기판 상에 형성하여 그 위에 레지스트 패턴을 형성한 후, 블라스트 장치에 의해 레지스트로 피복되어 있지 않은 부분을 샌드 블라스트하고, 그 후 잔존한 레지스트층을 박리함으로써 부재 형성 재료 패턴을 형성하며, 이어서 이 패턴을 소성함으로써 유기 물질을 제거하여 무기 분말을 소결시키는 방법(샌드 블라스트법).(2) After forming a member-forming material film containing an inorganic powder and a binder resin on a substrate to form a resist pattern thereon, the portion not covered with the resist by a blasting apparatus is sand blasted, and then the remaining resist The method of forming a member formation material pattern by peeling a layer, and then baking this pattern removes an organic substance and sinters an inorganic powder (sandblasting method).

(3) 무기 분말 및 감광성 수지를 함유하는 감광성의 부재 형성 재료막을 기판 상에 형성하고, 얻어진 막을 노광, 현상하여 부재 형성 재료 패턴을 형성하며, 이어서 이 패턴을 소성함으로써 유기 물질을 제거하여 무기 분말을 소결시키는 방법(포토리소그래피법).(3) A photosensitive member formation material film containing an inorganic powder and a photosensitive resin is formed on a substrate, and the obtained film is exposed and developed to form a member formation material pattern, and then the organic material is removed by firing this pattern to remove the inorganic powder. A method of sintering (photolithography method).

(4) 무기 분말 및 결착 수지를 함유하는 부재 형성 재료막을 기판 상에 형성하고, 상기 막을 위에서부터, 형성하는 패턴 구조를 갖는 틀로 가압함으로써 패턴을 형성하며, 이어서 이 패턴을 소성함으로써 유기 물질을 제거하여 무기 분말을 소결시키는 방법(가압 성형법).(4) A member-forming material film containing an inorganic powder and a binder resin is formed on a substrate, and the pattern is formed by pressing the film into a mold having a pattern structure to be formed from above, followed by firing the pattern to remove the organic material. To sinter the inorganic powder (press molding method).

예를 들면, 격벽을 형성할 때, 부재 형성 재료층(격벽 형성 재료층)의 두께는 소성 공정에서의 유기 물질의 제거에 따른 막두께의 감소량을 고려하여 형성해야 할 격벽 높이의 1.3 내지 2.0배 정도로 하는 것이 필요하며, 예를 들면 격벽의 높이를 100 내지 150 ㎛로 하기 위해서는 130 내지 300 ㎛ 정도 두께의 격벽 형성 재료층을 형성할 필요가 있다.For example, when forming the partition wall, the thickness of the member formation material layer (the partition wall formation material layer) is 1.3 to 2.0 times the height of the partition wall to be formed in consideration of the amount of reduction in the film thickness due to the removal of the organic material in the firing step. In order to make the height of a partition 100 to 150 micrometers, it is necessary to form the partition formation material layer about 130-300 micrometers thick, for example.

상기 스크린 인쇄법에 의해 격벽을 형성하는 경우, 1회의 도포 처리에 의해 형성되는 도막의 두께가 15 내지 25 ㎛ 정도이기 때문에, 격벽 형성 재료층을 소정 의 두께로 하기 위해서는 유리 기판의 표면에 대하여 페이스트상의 조성물을 복수회(예를 들면 10 내지 20회)에 걸쳐 반복적으로 도포(다중 인쇄)할 필요가 있기 때문에 격벽 높이의 균일화가 곤란해진다. 또한, 공정도 장대해진다.In the case of forming the partition wall by the screen printing method, since the thickness of the coating film formed by one coating process is about 15 to 25 µm, in order to make the partition wall forming material layer a predetermined thickness, paste is applied to the surface of the glass substrate. Since it is necessary to apply | coat repeatedly (multiprinting) multiple times (for example, 10-20 times) the composition of a phase, it becomes difficult to equalize a partition height. In addition, the process is extended.

샌드 블라스트법에 있어서는 노광, 현상, 블라스트 등에 의한 공정의 장대화, 블라스트에 의한 폐기물의 발생이 문제가 된다.In the sand blasting method, problems such as lengthening of the process by exposure, developing, blasting, and the like and generation of waste due to blasting are problems.

포토리소그래피법에 있어서도 노광, 현상 공정이 필요하며, 폐기물의 발생 등이 문제가 된다.Also in the photolithography method, exposure and development processes are required, and generation of waste is a problem.

또한, 가압 성형법에 있어서는 공정이 언뜻 간단하게 보이지만, 틀에 대한 고도의 정밀 관리가 필요하고, 기판의 평탄성에 격벽 형성 재료층의 형상이 크게 영향을 미치는 것 등 신뢰성이 아직 불충분하였다.In addition, in the press molding method, the process seems simple at first glance, but high precision management of the mold is required, and reliability is still insufficient, such as the shape of the barrier rib material layer greatly affecting the flatness of the substrate.

상기 기존의 방법에 의해 격벽을 형성하는 경우의 상기와 같은 문제를 해결하는 수단으로서, 최근 감광성 페이스트 조성물을 기판 상에 특수한 토출 노즐에 의해 연속적으로 압출하면서 UV 경화하여 격벽을 형성하는 방법(이하, 「노즐 토출법」이라고도 함)이 제안되어 있다(특허 문헌 1 및 2).As a means for solving the above problems in the case of forming the partition by the conventional method, a method of forming the partition by UV curing while continuously extruding the photosensitive paste composition on the substrate by a special discharge nozzle (hereinafter, The "nozzle discharge method" is also proposed (patent documents 1 and 2).

이러한 노즐 토출법에 따르면, 높은 종횡비를 갖는 격벽을 종래의 방법과는 대비할 수 없을 정도로 매우 간단한 공정으로 형성할 수 있다.According to such a nozzle discharge method, a partition having a high aspect ratio can be formed in a very simple process that cannot be compared with a conventional method.

그러나, 종래 공지된 감광성 페이스트 조성물을 상기 노즐 토출법에 적용하고자 하면, 소성시에 형성된 패턴이 박리되거나 소성 후에 부재 내부에 공동이 발생하는 등 문제점이 많이 발생하여, 예를 들면 격벽에서 요구되는 높은 종횡비로 형상 균일성이 우수한 부재를 안정적으로 형성하는 것이 곤란하였다. However, if the conventionally known photosensitive paste composition is to be applied to the nozzle ejection method, many problems arise such as peeling of the pattern formed during firing or generation of voids inside the member after firing. It was difficult to stably form a member having excellent shape uniformity at an aspect ratio.

본 발명은 이상과 같은 사정에 기초하여 이루어진 것이다.This invention is made | formed based on the above circumstances.

본 발명의 제1 목적은, 높은 종횡비의 PDP용 부재를 형성할 수 있는 무기 분체 함유 조성물 및 PDP용 부재의 형성 방법을 제공하는 데 있다.A first object of the present invention is to provide an inorganic powder-containing composition capable of forming a high aspect ratio PDP member and a method for forming a PDP member.

본 발명의 제2 목적은, 형상 균일성이 우수한 PDP용 부재를 형성할 수 있는 무기 분체 함유 조성물 및 PDP용 부재의 형성 방법을 제공하는 데 있다.The 2nd object of this invention is to provide the inorganic powder containing composition which can form the member for PDP excellent in shape uniformity, and the formation method of the member for PDP.

본 발명의 제3 목적은, 비교적 저온 조건(600 ℃ 이하)에서 행해지는 소성 처리에 의해 결착 수지를 완전히 분해 제거할 수 있고, 이로부터 유래하는 유기 물질을 함유하지 않는 PDP용 부재를 형성할 수 있는 무기 분체 함유 조성물 및 PDP용 부재의 형성 방법을 제공하는 데 있다.A third object of the present invention is to completely decompose and remove the binder resin by firing treatment performed under relatively low temperature conditions (600 ° C. or lower), and to form a member for PDP that does not contain an organic substance derived therefrom. There is provided an inorganic powder-containing composition and a method for forming a member for PDP.

본 발명의 그 밖의 목적 및 효과는 이하의 설명으로 명백해질 것이다. Other objects and effects of the present invention will become apparent from the following description.

본 발명의 무기 분체 함유 조성물은, (A) 무기 분체, (B) 하기 화학식 1로 표시되는 구성 단위를 갖는 중합체(이하, 「중합체 (B)」라고도 함), (C) 다관능성 (메트)아크릴레이트 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 한다.The inorganic powder-containing composition of the present invention comprises (A) an inorganic powder, (B) a polymer having a structural unit represented by the following general formula (1) (hereinafter also referred to as "polymer (B)"), (C) polyfunctional (meth) It is characterized by containing an acrylate and (D) photoinitiator.

Figure 112005033075850-PAT00001
Figure 112005033075850-PAT00001

식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기이고, R2는 1가 유기기이다.In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is a monovalent organic group.

본 발명의 PDP용 부재의 형성 방법은, 본 발명의 무기 분체 함유 조성물을 노즐로부터 기판 상에 토출하면서 노즐과 기판을 상대적으로 이동하여 패턴을 형성하는 공정, 상기 패턴에 방사선을 조사하는 공정 및 상기 패턴을 소성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.The method for forming a member for a PDP of the present invention comprises the steps of relatively moving the nozzle and the substrate to form a pattern while discharging the inorganic powder-containing composition of the present invention from the nozzle onto the substrate, a step of irradiating the pattern with radiation, and It characterized by including a step of firing the pattern.

본 발명의 조성물에 따르면 하기와 같은 효과가 발휘된다.According to the composition of the present invention, the following effects are exerted.

(1) 조성물의 점도를 특정한 범위로 제어함으로써 종횡비가 높고, 형상 균일성이 우수한 유리 소결체(예를 들면, PDP의 격벽)를 형성할 수 있다.(1) By controlling the viscosity of the composition in a specific range, a glass sintered compact (for example, a partition of PDP) having a high aspect ratio and excellent shape uniformity can be formed.

(2) 상기 조성물을 사용함으로써 비교적 저온 조건(600 ℃ 이하)에서 행해지는 소성 처리에 의해 결착 수지를 완전히 분해 제거할 수 있고, 이로부터 유래하는 유기 물질을 함유하지 않는 유리 소결체를 형성할 수 있다.(2) By using the composition, the binder resin can be completely decomposed and removed by a calcination process performed under relatively low temperature conditions (600 ° C. or lower), and a glass sintered body containing no organic substance derived therefrom can be formed. .

(3) 상기 조성물을 사용함으로써 PDP의 격벽으로서 바람직한 유리 소결체를 형성할 수 있다.(3) By using the composition, a glass sintered body suitable as a partition wall of PDP can be formed.

(4) 상기 조성물을 노즐 토출법에 적용함으로써, 종래에서는 얻지 못한 매우 간단한 공정으로 유리 소결체(예를 들면, PDP용 격벽)를 형성할 수 있다. (4) By applying the composition to the nozzle discharge method, a glass sintered body (for example, PDP partition wall) can be formed by a very simple process not conventionally obtained.

이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.

무기 분체 함유 조성물Inorganic powder-containing composition

본 발명의 무기 분체 함유 조성물은 무기 분체, 중합체 (B), 다관능성 (메트)아크릴레이트 및 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 페이스트상의 조성물이다.The inorganic powder-containing composition of the present invention is a paste-like composition comprising an inorganic powder, a polymer (B), a polyfunctional (meth) acrylate, and a photopolymerization initiator.

이하, 조성물의 각 구성 성분에 대하여 설명한다.Hereinafter, each component of a composition is demonstrated.

<무기 분체><Inorganic powder>

본 발명의 무기 분체 함유 조성물에 사용되는 무기 분체는 형성 부재의 종류에 따라 상이하다.The inorganic powder used for the inorganic powder-containing composition of the present invention differs depending on the type of forming member.

예를 들면, 격벽 형성 재료 및 유전체층 형성 재료에 사용되는 무기 분체로서는 유리 분체, 바람직하게는 연화점이 400 내지 600 ℃인 유리 분체를 들 수 있다. 유리 분말의 연화점이 40O ℃ 미만인 경우에는, 상기 조성물에 의한 부재 형성 재료층의 소성 공정에 있어서, 유기 물질이 완전히 분해 제거되지 않은 단계에서 유리 분말이 용융되어 버리기 때문에, 형성되는 부재 중에 유기 물질의 일부가 잔류할 우려가 있다. 그 결과, 부재가 격벽인 경우에는 패널 내로 아웃 가스가 확산되어, 결과적으로 형광체의 수명 저하를 야기하거나, 유전체층의 경우에는 유전 특성이 떨어지거나 표시 특성이 떨어질 우려가 있다. 한편, 유리 분말의 연화점이 600 ℃를 초과하는 경우에는, 600 ℃보다 고온에서 소성할 필요가 있기 때문에 유리 기판에 왜곡 등이 발생하기 쉽다.For example, as an inorganic powder used for a partition formation material and a dielectric layer formation material, glass powder, Preferably the glass powder whose softening point is 400-600 degreeC is mentioned. In the case where the softening point of the glass powder is less than 40 ° C., the glass powder melts in a step in which the organic material is not completely decomposed and removed in the firing step of the member forming material layer by the composition. Some may remain. As a result, when the member is a partition wall, the outgas diffuses into the panel, resulting in a reduction in the lifetime of the phosphor, or in the case of the dielectric layer, the dielectric characteristics or the display characteristics may be degraded. On the other hand, when the softening point of glass powder exceeds 600 degreeC, since baking needs to be carried out at high temperature rather than 600 degreeC, distortion etc. are easy to generate | occur | produce in a glass substrate.

바람직한 유리 분말의 구체예로서는, 1. 산화납, 산화붕소, 산화규소, 산화칼슘(PbO-B2O3-SiO2-CaO계), 2. 산화아연, 산화붕소, 산화규소(ZnO-B2O3-SiO2계), 3. 산화납, 산화붕소, 산화규소, 산화알루미늄(PbO-B2O3-SiO2-Al2O3계), 4. 산화납, 산화아연, 산화붕소, 산화규소(PbO-ZnO-B2O3-SiO2), 5. 산화납, 산화아연, 산화붕소, 산화규소, 산화티탄(PbO-ZnO-B2O3-SiO2-TiO2계) 등을 예시할 수 있다. 또한, 이들 유리 분말에 예를 들면 산화알루미늄, 산화크롬, 산화망간 등의 무기 산화물 화합물 분말을 혼합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of preferred glass powders include: 1. lead oxide, boron oxide, silicon oxide, calcium oxide (PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -CaO-based), 2. zinc oxide, boron oxide, silicon oxide (ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 based), 3. Lead oxide, boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide (PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 based), 4. lead oxide, zinc oxide, boron oxide, Silicon oxide (PbO-ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 ), 5. lead oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide, titanium oxide (PbO-ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -TiO 2 type ), etc. Can be illustrated. Moreover, inorganic oxide compound powders, such as aluminum oxide, chromium oxide, and manganese oxide, can also be mixed and used for these glass powders, for example.

전극 형성 재료에 사용되는 무기 분체로서는 Ag, Au, Al, Ni, Ag-Pd 합금, Cu, Cr 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic powder used for the electrode forming material include Ag, Au, Al, Ni, Ag-Pd alloys, Cu, Cr, and the like.

저항체 형성 재료에 사용되는 무기 분체로서는 Ru02 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic powder used in the resistor forming material include Ru0 2 and the like.

형광체 형성 재료에 사용되는 무기 분체의 예로서는 Y2O3:Eu3+, Y2SiO5:Eu3+, Y3Al5O12:Eu3+, YVO4:Eu3+, (Y,Gd)BO3:Eu3+, Zn3(P04)2:Mn 등의 적색용 형광체; Zn2SiO4:Mn, BaAl12O19:Mn, BaMgAl14O23:Mn, LaPO4:(Ce,Tb), Y3(Al,Ga)5O12:Tb 등의 녹색용 형광체; Y2SiO5:Ce, BaMgAl10O17:Eu2+, BaMgAl14O23:Eu2+, (Ca,Sr,Ba)10(PO4)6Cl2:Eu2+, (Zn,Cd)S:Ag 등의 청색용 형광체를 들 수 있다.Examples of the inorganic powder used in the phosphor-forming material include Y 2 O 3 : Eu 3+ , Y 2 SiO 5 : Eu 3+ , Y 3 Al 5 O 12 : Eu 3+ , YVO 4 : Eu 3+ , (Y, Gd Red phosphors such as) BO 3 : Eu 3+ and Zn 3 (P0 4 ) 2 : Mn; Green phosphors such as Zn 2 SiO 4 : Mn, BaAl 12 O 19 : Mn, BaMgAl 14 O 23 : Mn, LaPO 4 : (Ce, Tb), Y 3 (Al, Ga) 5 O 12 : Tb; Y 2 SiO 5 : Ce, BaMgAl 10 O 17 : Eu 2+ , BaMgAl 14 O 23 : Eu 2+ , (Ca, Sr, Ba) 10 (PO 4 ) 6 Cl 2 : Eu 2+ , (Zn, Cd) Blue phosphors, such as S: Ag, are mentioned.

컬러 필터 형성 재료에 사용되는 무기 분체의 예로서는 Fe2O3, Pb3O4, CdS, CdSe, PbCrO4, PbSO4, Fe(NO3)3 등의 적색용 안료; Cr2O3, TiO2-CoO-NiO-ZnO, CoO-CrO-TiO2-Al2O3, Co3(PO4)2, CoO-ZnO 등의 녹색용 안료; 2(Al2Na2Si3O10)ㆍNa2S4, CoO-Al2O3 등의 청색용 안료 외에, 색보정용 무기 안료로서 PbCrO4-PbSO4, PbCrO4, PbCrO4-PbO, CdS, TiO2-NiO-Sb2O3 등의 황색 안료; Pb(Cr-Mo-S)O4 등의 오렌지색 안 료; Co3(PO4)2 등의 보라색 안료를 들 수 있다.Examples of the inorganic powder to form a color filter used in the materials Fe 2 O 3, Pb 3 O 4, CdS, CdSe, PbCrO 4, PbSO 4, Fe (NO 3) for a red pigment such as 3; Green pigments such as Cr 2 O 3 , TiO 2 -CoO-NiO-ZnO, CoO-CrO-TiO 2 -Al 2 O 3 , Co 3 (PO 4 ) 2 , CoO-ZnO; PbCrO 4 -PbSO 4 , PbCrO 4 , PbCrO 4 -PbO, CdS as inorganic pigments for color correction, in addition to blue pigments such as 2 (Al 2 Na 2 Si 3 O 10 ), Na 2 S 4 and CoO-Al 2 O 3 Yellow pigments such as TiO 2 -NiO-Sb 2 O 3 ; Orange pigments such as Pb (Cr-Mo-S) O 4 ; And purple pigments such as Co 3 (PO 4 ) 2 .

블랙 매트릭스 형성 재료에 사용되는 무기 분체로서는 Mn, Fe, Cr 등을 들 수 있다.Mn, Fe, Cr, etc. are mentioned as an inorganic powder used for a black matrix forming material.

또한, 격벽 형성 재료 및 유전체층 형성 재료 이외의 부재 형성 재료는, 상술한 무기 분체와 함께 유리 분말을 함유하는 것일 수도 있다. 유리 분말의 함유 비율은 무기 분체 전량에 대하여 20 중량% 이하, 바람직하게는 10 중량% 이하이다. In addition, member formation materials other than a partition formation material and a dielectric layer formation material may contain glass powder with the inorganic powder mentioned above. The content rate of glass powder is 20 weight% or less with respect to inorganic powder whole quantity, Preferably it is 10 weight% or less.

<중합체 (B)><Polymer (B)>

중합체 (B)는 아크릴 수지이며, 본 발명의 조성물의 결착 수지로서 함유된다. 중합체 (B)가 함유되어 있음으로써 얻어지는 PDP용 부재는 기판에 대해 우수한 접착성과 형상 균일성을 갖게 된다.Polymer (B) is an acrylic resin and is contained as binder resin of the composition of this invention. The member for PDP obtained by containing a polymer (B) has the outstanding adhesiveness and shape uniformity with respect to a board | substrate.

이러한 중합체로서는 적절한 점착성을 갖고 무기 분체를 결착시킬 수 있으며, 조성물의 소성 처리 온도(예를 들면 400 내지 600 ℃)에 의해 완전히 산화 제거되는 (공)중합체 중에서 선택되며, 상기 화학식 1로 표시되는 구성 단위를 갖는다. 상기 구성 단위는 하기 화학식 1a로 표시되는 화합물(이하, 「화합물 (1a)」라고도 함)을 중합 성분으로서 사용함으로써 얻어지며, 중합체 (B)로서는 화합물 (1a)의 단독중합체, 2종 이상의 화합물 (1a)의 공중합체, 및 화합물 (1a)와 다른 공중합성 단량체와의 공중합체가 포함된다.As such a polymer, it is possible to bind the inorganic powder with appropriate adhesiveness, and is selected from the (co) polymers which are completely oxidized and removed by the firing temperature (for example, 400 to 600 ° C.) of the composition, and is represented by Chemical Formula 1 Has units. The structural unit is obtained by using a compound represented by the following general formula (1a) (hereinafter also referred to as "compound (1a)") as a polymerization component, and as the polymer (B), a homopolymer of compound (1a), two or more compounds ( Copolymers of 1a) and copolymers of compound (1a) with other copolymerizable monomers.

Figure 112005033075850-PAT00002
Figure 112005033075850-PAT00002

식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기이고, R2는 1가 유기기이다.In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is a monovalent organic group.

상기 화학식 1a로 표시되는 (메트)아크릴레이트 화합물의 구체예로서는 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, i-프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, i-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, n-펜틸(메트)아크릴레이트, i-펜틸(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, n-헵틸(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, i-옥틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, n-노닐(메트)아크릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트, i-데실(메트)아크릴레이트, 운데실(메트)아크릴레이트, 도데실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, i-스테아릴(메트)아크릴레이트 등의 알킬(메트)아크릴레이트;Specific examples of the (meth) acrylate compound represented by Chemical Formula 1a include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (Meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-pentyl (meth) acrylate, i-pentyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate , n-heptyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, i-octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, n-decyl (Meth) acrylate, i-decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, i-ste Alkyl (meth) acrylates such as aryl (meth) acrylate;

히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 3-히드록시부틸(메트)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메트)아크릴레이트;Hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate and 3-hydroxybutyl (meth) acrylate;

페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이 트 등의 페녹시알킬(메트)아크릴레이트;Phenoxyalkyl (meth) acrylates such as phenoxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate;

2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-프로폭시에틸(메트)아크릴레이트, 2-부톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-메톡시부틸(메트)아크릴레이트 등의 알콕시알킬(메트)아크릴레이트;2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-propoxyethyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxybutyl ( Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate;

폴리에틸렌글리콜 모노(메트)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 모노(메트)아크릴레이트, 메톡시폴리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 에톡시폴리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트 등의 폴리알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트;Polyethylene glycol mono (meth) acrylate, ethoxy diethylene glycol (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, Polyalkylene glycols such as polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, ethoxy polypropylene glycol (meth) acrylate, and nonylphenoxy polypropylene glycol (meth) acrylate ( Meth) acrylates;

시클로헥실(메트)아크릴레이트, 4-부틸시클로헥실(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐(메트)아크릴레이트, 보르닐(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로데카닐(메트)아크릴레이트 등의 시클로알킬(메트)아크릴레이트;Cyclohexyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, bor Cycloalkyl (meth) acrylates such as niel (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate and tricyclodecanyl (meth) acrylate;

벤질(메트)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Benzyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, etc. are mentioned.

이들 중에서 상기 화학식 1a 중 R2로 표시되는 기가 알킬기, 알콕시알킬기 또는 히드록시알킬기를 함유하는 기인 것이 바람직하며, 특히 바람직한 (메트)아크릴레이트 화합물로서 메틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸 헥실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, i-데실(메트)아크릴레이트 및 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.Of these, the group represented by R 2 in Formula 1a is preferably a group containing an alkyl group, an alkoxyalkyl group or a hydroxyalkyl group, and methyl (meth) acrylate and n-butyl (meth) are particularly preferred as (meth) acrylate compounds. Acrylate, 2-ethyl hexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, i-decyl (meth) acrylate and 2-ethoxyethyl (meth) acrylate.

화합물 (1a)와의 공중합에 사용되는 다른 공중합성 단량체로서는, 화합물 (1a)와 공중합가능한 화합물이라면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 (메트)아크릴산, 비닐벤조산, 말레산, 비닐프탈산 등의 불포화 카르복실산류; 비닐벤질메틸에테르, 비닐글리시딜에테르, 스티렌, α-메틸스티렌, 부타디엔, 이소프렌 등의 비닐기 함유 라디칼 중합성 화합물을 들 수 있다.The other copolymerizable monomer used for the copolymerization with the compound (1a) is not particularly limited as long as it is a compound copolymerizable with the compound (1a). Examples thereof include unsaturated carboxyl such as (meth) acrylic acid, vinylbenzoic acid, maleic acid, and vinylphthalic acid. Acid; And vinyl group-containing radically polymerizable compounds such as vinyl benzyl methyl ether, vinyl glycidyl ether, styrene, α-methyl styrene, butadiene and isoprene.

중합체 (B)는 상기 화학식 1로 표시되는 구성 단위가 통상 70 중량% 이상, 바람직하게는 90 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 100 중량%인 것이다.As for the polymer (B), the structural unit represented by the said Formula (1) is 70 weight% or more normally, Preferably it is 90 weight% or more, More preferably, it is 100 weight%.

중합체 (B)의 분자량으로서는 GPC에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량으로서 2,000 내지 300,000인 것이 바람직하고, 5,000 내지 200,O00인 것이 더욱 바람직하다.As molecular weight of a polymer (B), it is preferable that it is 2,000-300,000 as a weight average molecular weight of polystyrene conversion by GPC, and it is more preferable that it is 5,000-200,00.

중합체 (B)는 25 ℃, 1기압의 조건하에서 콘 회전식 점도계를 이용하여 콘의 회전수 0.5 rpm(전단 속도 2 sec-1)으로 측정한 점도가 1,000 내지 30,000 cP인 것이 바람직하며, 5,000 내지 20,000 cP인 것이 특히 바람직하다. 또한, 2종 이상의 중합체를 사용하는 경우에는, 사용하는 중합체의 혼합물 점도가 상기 범위에 있는 것이 바람직하다.The polymer (B) preferably has a viscosity of 1,000 to 30,000 cP, measured at a rotational speed of 0.5 rpm (shearing speed of 2 sec -1 ) using a cone rotatable viscometer under conditions of 25 ° C and 1 atmosphere, and 5,000 to 20,000. It is especially preferable that it is cP. In addition, when using 2 or more types of polymers, it is preferable that the mixture viscosity of the polymer to be used exists in the said range.

본 발명의 조성물에서의 중합체 (B)의 함유량은, 무기 분체 100 중량부에 대하여 5 내지 40 중량부가 바람직하고, 7 내지 20 중량부가 특히 바람직하다.5-40 weight part is preferable with respect to 100 weight part of inorganic powders, and, as for content of the polymer (B) in the composition of this invention, 7-20 weight part is especially preferable.

중합체 (B)의 함유량이 5 중량부보다 적으면, 무기 분체의 분산성이 떨어지고, 방사선 조사 후의 패턴의 강도가 불충분해져 기판과의 밀착성이 불량해질 우려가 있다. 또한, 40 중량부를 초과하면, 기판과는 밀착되어 있지만, 형성된 부재 내부에 중합체 소실에 따른 공동이 많이 존재하여 부재의 강도가 불충분해지거나, 장기적으로 공동 내부로부터 가스가 방출되어 PDP의 성능 열화로 이어질 우려가 있다.When content of a polymer (B) is less than 5 weight part, the dispersibility of an inorganic powder will fall, the intensity | strength of the pattern after irradiation may become insufficient, and adhesiveness with a board | substrate may become bad. In addition, when the content exceeds 40 parts by weight, the substrate is in close contact with the substrate, but there are many cavities due to the disappearance of the polymer in the formed member, so that the strength of the member is insufficient, or gas is released from the interior of the cavity in the long term, resulting in deterioration of the performance of the PDP. It may lead to.

<다관능성 (메트)아크릴레이트><Multifunctional (meth) acrylate>

본 발명에 사용되는 다관능성 (메트)아크릴레이트는 방사선 조사에 의해 경화하고, 소성까지의 사이 및 소성시의 패턴 형상의 변형을 방지하여 높은 종횡비로 형상 균일성이 우수한 패턴을 형성하는 효과를 갖는 것이다.The polyfunctional (meth) acrylate used in the present invention has the effect of curing by irradiation with radiation, preventing deformation of the pattern shape up to and during firing, thereby forming a pattern having excellent shape uniformity at a high aspect ratio. will be.

상기 다관능성 (메트)아크릴레이트의 구체예로서는 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트류; 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트류; 양쪽 말단 히드록시폴리부타디엔, 양쪽 말단 히드록시폴리이소프렌, 양쪽 말단 히드록시폴리카프로락톤 등의 양쪽 말단 히드록실화 중합체의 디(메트)아크릴레이트류; 글리세린, 1,2,4-부탄트리올, 트리메틸올알칸, 테트라메틸올알칸, 디펜타에리트리톨 등의 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트류; 3가 이상의 다가 알코올의 폴리알킬렌글리콜 부가물의 폴리(메트)아크릴레이트류; 1,4-시클로헥산디올, 1,4-벤젠디올류 등의 환식 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트류; 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 알키드 수지 (메 트)아크릴레이트, 실리콘 수지 (메트)아크릴레이트, 스피란 수지 (메트)아크릴레이트 등의 올리고(메트)아크릴레이트류 등을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As a specific example of the said polyfunctional (meth) acrylate, Di (meth) acrylates of alkylene glycol, such as ethylene glycol and propylene glycol; Di (meth) acrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol; Di (meth) acrylates of both terminal hydroxylated polymers such as both terminal hydroxypolybutadiene, both terminal hydroxypolyisoprene and both terminal hydroxypolycaprolactone; Poly (meth) acrylates of trivalent or higher polyhydric alcohols such as glycerin, 1,2,4-butanetriol, trimethylolalkane, tetramethylolalkane, dipentaerythritol, etc .; Poly (meth) acrylates of polyalkylene glycol adducts of trivalent or higher polyhydric alcohols; Poly (meth) acrylates of cyclic polyols such as 1,4-cyclohexanediol and 1,4-benzenediols; Oligos, such as polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, alkyd resin (meth) acrylate, silicone resin (meth) acrylate, and spiran resin (meth) acrylate (Meth) acrylates etc. are mentioned, These can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 다관능성 (메트)아크릴레이트는 25 ℃, 1기압의 조건하에서 콘 회전식 점도계를 이용하여 콘의 회전수 2.5 rpm(전단 속도 10 sec-1)으로 측정한 점도가 100 내지 5,000 cP인 것이 바람직하고, 500 내지 2,000 cP인 것이 특히 바람직하다. 또한, 2종 이상의 다관능성 (메트)아크릴레이트를 사용하는 경우에는, 사용하는 다관능성 (메트)아크릴레이트의 혼합물 점도가 상기 범위에 있는 것이 바람직하다.The polyfunctional (meth) acrylate preferably has a viscosity of 100 to 5,000 cP measured at a rotational speed of 2.5 rpm (shearing speed of 10 sec −1 ) using a cone rotatable viscometer under conditions of 25 ° C. and 1 atmosphere. , 500 to 2,000 cP is particularly preferred. In addition, when using 2 or more types of polyfunctional (meth) acrylate, it is preferable that the mixture viscosity of the polyfunctional (meth) acrylate to be used exists in the said range.

상기 다관능성 (메트)아크릴레이트의 함유 비율은 무기 분체 100 중량부에 대하여 통상 5 내지 50 중량부, 바람직하게는 10 내지 30 중량부이다. 5 중량부 미만에서는 감광성이 부족하여 패턴 형상의 유지가 곤란해지는 경향이 있고, 50 중량부를 초과하면 조성물의 점도 특성이 불량해져 노즐에서의 토출성에 악영향을 미치는 경향이 있다.The content rate of the said polyfunctional (meth) acrylate is 5-50 weight part normally with respect to 100 weight part of inorganic powder, Preferably it is 10-30 weight part. If it is less than 5 parts by weight, the photosensitivity is insufficient, so that it is difficult to maintain the pattern shape. If it exceeds 50 parts by weight, the viscosity characteristic of the composition is poor, which tends to adversely affect the ejectability from the nozzle.

<광중합 개시제><Photoinitiator>

본 발명에 사용되는 광중합 개시제의 구체예로서는 벤질, 벤조인, 벤조페논, 캄포퀴논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-메틸-[4'-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로파논, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온 등의 카르보닐 화합 물; 아조이소부티로니트릴, 4-아지드벤즈알데히드 등의 아조 화합물 또는 아지드 화합물; 머캅탄디술피드 등의 유기 황 화합물; 벤조일퍼옥시드, 디-tert-부틸퍼옥시드, tert-부틸히드로퍼옥시드, 쿠멘히드로퍼옥시드, 파라메탄히드로퍼옥시드 등의 유기 퍼옥시드; 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2'-클로로페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-(2-푸라닐)에틸레닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진 등의 트리할로메탄류; 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등의 이미다졸 이량체 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the photopolymerization initiator used in the present invention include benzyl, benzoin, benzophenone, camphorquinone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2, 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-methyl- [4 '-(methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propaneone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4 Carbonyl compounds such as -morpholinophenyl) -butan-1-one; Azo compounds or azide compounds such as azoisobutyronitrile and 4-azide benzaldehyde; Organic sulfur compounds such as mercaptan disulfide; Organic peroxides such as benzoyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide and paramethane hydroperoxide; 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2'-chlorophenyl) -1,3,5-triazine, 2- [2- (2-furanyl) ethylenyl] -4,6-bis Trihalo methanes such as (trichloromethyl) -1,3,5-triazine; Imidazole dimers such as 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and the like. It can be used in combination of 2 or more type.

상기 광중합 개시제의 함유 비율은 다관능성 (메트)아크릴레이트 100 중량부에 대하여 통상 5 내지 30 중량부, 바람직하게는 10 내지 20 중량부이다. 5 중량부 미만에서는 감광성이 부족하여 양호한 패턴 형상의 발현이 곤란해지는 경향이 있고, 30 중량부를 초과하면 잔존하는 광중합 개시제가 소성시 악영향을 미치는 경향이 있다.The content rate of the said photoinitiator is 5-30 weight part normally with respect to 100 weight part of polyfunctional (meth) acrylates, Preferably it is 10-20 weight part. If it is less than 5 parts by weight, the photosensitivity is insufficient and the development of a good pattern shape tends to be difficult. If it exceeds 30 parts by weight, the remaining photopolymerization initiator tends to adversely affect the firing.

본 발명의 조성물에는 임의 성분으로서 다른 결착 수지, 용제, 분산제, 점착성 부여제, 표면 장력 조정제, 안정제, 가소제, 접착 보조제, 헐레이션 방지제, 보존 안정제, 소포제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 충전제, 형광체, 안료, 염료 등의 각종 첨가제가 함유될 수 있다.The composition of the present invention contains, as an optional component, other binder resins, solvents, dispersants, tackifiers, surface tension regulators, stabilizers, plasticizers, adhesion aids, antihalation agents, storage stabilizers, antifoaming agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, fillers, phosphors, Various additives such as pigments and dyes may be contained.

본 발명의 조성물에 임의로 함유되는 용제로서는 무기 분체와의 친화성, 결착 수지의 용해성이 양호하고, 조성물에 적절한 점성을 부여할 수 있음과 동시에 건조, 소성됨으로써 쉽게 증발 제거할 수 있는 것이 바람직하다. 또한, 특히 바람 직한 용제로서 표준 비점(1기압에서의 비점)이 100 내지 200 ℃인 케톤류, 알코올류 및 에스테르류(이하, 이들을「특정 용제」라고 함)를 들 수 있다.As the solvent optionally contained in the composition of the present invention, it is preferable that the affinity with the inorganic powder and the solubility of the binder resin are good, the viscosity can be imparted to the composition, and the evaporation can be easily removed by drying and baking. In particular, preferred solvents include ketones, alcohols, and esters (hereinafter, referred to as "specific solvents") having a standard boiling point (boiling point at 1 atmosphere) of 100 to 200 ° C.

이러한 특정 용제의 구체예로서는 디에틸케톤, 메틸부틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; n-펜탄올, 4-메틸-2-펜탄올, 시클로헥산올, 디아세톤알코올 등의 알코올류; 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 등의 에테르계 알코올류; 아세트산-n-부틸, 아세트산 아밀 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬에스테르류; 락트산 에틸, 락트산-n-부틸 등의 락트산 에스테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 에틸-3-에톡시프로피오네이트 등의 에테르계 에스테르류 등을 예시할 수 있으며, 이들 중에서 메틸부틸케톤, 시클로헥사논, 디아세톤알코올, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 락트산 에틸, 에틸-3-에톡시프로피오네이트 등이 바람직하다. 이들 특정 용제는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As a specific example of such a specific solvent, Ketones, such as a diethyl ketone, a methyl butyl ketone, a dipropyl ketone, cyclohexanone; alcohols such as n-pentanol, 4-methyl-2-pentanol, cyclohexanol and diacetone alcohol; Ether alcohols such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether; Saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as acetic acid-n-butyl and amyl acetate; Lactic acid esters such as ethyl lactate and lactic acid-n-butyl; Ether esters such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and ethyl-3-ethoxypropionate; and the like, and methylbutyl ketone and cyclohexanone can be exemplified. And diacetone alcohol, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethyl lactate, ethyl-3-ethoxypropionate, and the like are preferable. These specific solvents can be used individually or in combination of 2 or more types.

특정 용제 이외의 용제의 구체예로서는 테레빈유, 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 테르피네올, 부틸 카르비톨아세테이트, 부틸 카르비톨, i-프로필알코올, 벤질알코올 등을 들 수 있다.Specific examples of solvents other than the specific solvents include terebin oil, ethyl cellosolve, methyl cellosolve, terpineol, butyl carbitol acetate, butyl carbitol, i-propyl alcohol, benzyl alcohol, and the like.

본 발명의 조성물에서의 용제의 함유 비율로서는 조성물의 점도를 바람직한 범위로 유지한다는 관점에서, 무기 분체 100 중량부에 대하여 50 중량부 이하인 것이 바람직하고, 10 중량부 이하인 것이 더욱 바람직하다.As a content rate of the solvent in the composition of this invention, it is preferable that it is 50 weight part or less with respect to 100 weight part of inorganic powder from a viewpoint of maintaining the viscosity of a composition in a preferable range, and it is more preferable that it is 10 weight part or less.

또한, 전체 용제에 대한 특정 용제의 함유 비율은 50 중량% 이상인 것이 바람직하고, 70 중량% 이상인 것이 더욱 바람직하다.Moreover, it is preferable that it is 50 weight% or more, and, as for the content rate of the specific solvent with respect to all the solvents, it is more preferable that it is 70 weight% or more.

본 발명의 조성물은 상기 유리 분말, 결착 수지 및 광중합 개시제 및 임의 성분을 롤 혼련기, 믹서, 호모믹서, 샌드밀, 유성 교반식 분산기 등의 혼련ㆍ분산기를 이용하여 혼련함으로써 제조할 수 있다.The composition of this invention can be manufactured by kneading the said glass powder, binder resin, a photoinitiator, and arbitrary components using kneading | dispersing machines, such as a roll kneader, a mixer, a homomixer, a sand mill, and an oil-type stirring disperser.

상기와 같이 하여 제조되는 본 발명의 조성물은 도포에 적합한 유동성을 갖는 페이스트상의 조성물이다.The composition of this invention manufactured as mentioned above is a paste-like composition which has the fluidity suitable for application | coating.

본 발명의 무기 분체 함유 조성물을 노즐 토출법에 이용하는 경우의 점도는 100,000 내지 3,000,000 cP인 것이 바람직하다. 조성물의 점도가 100,000 cP 미만이면 페이스트가 노즐에 의해 토출되고 나서 노광되기까지의 사이에 액흘림, 평탄화 등이 발생하여 높은 종횡비의 구조물을 형성하지 못할 가능성이 있다. 또한, 페이스트 점도가 3,000,000 cP를 초과하면 노즐에서의 토출성이 불량해지는 등 취급성이 저하될 가능성이 있다.It is preferable that the viscosity at the time of using the inorganic powder containing composition of this invention for a nozzle discharge method is 100,000-3,000,000 cP. If the viscosity of the composition is less than 100,000 cP, there may be a possibility that liquid spillage, planarization, or the like occurs between the time when the paste is discharged by the nozzle and the exposure, thereby failing to form a high aspect ratio structure. Moreover, when paste viscosity exceeds 3,000,000 cP, handling property may fall, such as poor discharge property from a nozzle.

또한, 본 발명에서의 점도의 측정은 25 ℃, 1기압의 조건하에서 도끼 산교(주) 제조의 콘 회전식 점도계 RE-80U를 사용하고, 로터 NO.7을 사용하여 콘 회전수0.5 rpm으로 행한다. 더욱 바람직하게는 회전 개시 후 1 분을 경과했을 때의 계측치를 조성물의 점도라고 정의한다. 이것은 페이스트상의 조성물이 비뉴튼성을 나타내는 경우가 많기 때문이다.In addition, measurement of the viscosity in this invention is performed at cone | corn rotation speed 0.5rpm using rotor NO.7 using the cone rotary viscometer RE-80U by AX Sangyo Co., Ltd. on 25 degreeC and 1 atmosphere of conditions. More preferably, the measurement value when 1 minute passes after the start of rotation is defined as the viscosity of the composition. This is because the pasty composition often exhibits non-Newtonianity.

본 발명의 조성물은 상기한 바와 같이, 주로 노즐 토출법 등에 의해 PDP용 부재를 제조할 때 특히 바람직하게 사용할 수 있지만, 이들 용도로 한정되는 것이 아니며, 종래 공지된 패턴이나 무기막의 형성에도 바람직하게 사용할 수 있다.As described above, the composition of the present invention can be particularly preferably used when producing a member for PDP mainly by the nozzle ejection method or the like. However, the composition is not limited to these uses, and is preferably used for the formation of a conventionally known pattern or inorganic film. Can be.

PDP용 부재의 형성 방법Formation method of member for PDP

본 발명의 PDP용 부재의 형성 방법은, The method for forming the member for PDP of the present invention,

1. 본 발명의 무기 분체 함유 조성물을 노즐로부터 기판 상에 토출하면서 노즐과 기판을 상대적으로 이동하여 패턴을 형성하는 공정,1. Process of forming a pattern by relatively moving a nozzle and a board | substrate, discharging the inorganic powder containing composition of this invention on a board | substrate,

2. 상기 패턴에 방사선을 조사하는 공정, 및2. irradiating the pattern with radiation, and

3. 상기 패턴을 소성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.3. It characterized by including the step of firing the pattern.

상기 공정 1에서의 토출 조건으로서는, 예를 들면 형성하는 패턴 형상과 거의 동등한 치수의 노즐을 사용하여 토출 압력 0.1 내지 1 MPa, 토출 속도 0.2 내지 20 mm/초이다.As discharge conditions in the said process 1, discharge pressure is 0.1-1 Mpa and discharge speed is 0.2-20 mm / sec using the nozzle of the dimension substantially the same as the pattern shape to form, for example.

상기 공정 2에서 사용되는 방사선 조사 장치로서는 특별히 한정되는 것이 아니며, 예를 들면 반도체 및 액정 표시 장치를 제조할 때 사용되고 있는 노광 장치등이 이용된다. 또한, 노광에 이용되는 방사선으로서는, 예를 들면 자외선 등이 바람직하게 이용된다. It does not specifically limit as a radiation irradiation apparatus used at the said process 2, For example, the exposure apparatus etc. used when manufacturing a semiconductor and a liquid crystal display device are used. Moreover, as radiation used for exposure, an ultraviolet-ray etc. are used preferably, for example.

또한, 상기 공정 3에서의 소성 처리 온도로서는 조성물 중의 유기 물질이 소실되는 온도일 필요가 있으며, 통상 400 내지 600 ℃이다. 또한, 소성 시간은 통상 10 내지 60 분이다.Moreover, as baking process temperature in the said process 3, it is necessary to be temperature which the organic substance in a composition vanishes, and is 400-600 degreeC normally. Moreover, baking time is 10 to 60 minutes normally.

본 발명의 형성 방법에 의해 바람직하게 형성되는 격벽은, 일반적으로 패널의 표시 셀(표시 단위)의 가로 방향을 구획하는 것이다. 격벽에 의해 구획되는 표시 셀의 횡방향 피치의 크기는, 예를 들면 0.10 내지 1.00 mm이다.The partition which is preferably formed by the formation method of the present invention generally divides the horizontal direction of the display cell (display unit) of the panel. The magnitude | size of the lateral pitch of the display cell divided by the partition is 0.10 to 1.00 mm, for example.

격벽의 단면 형상, 폭, 높이, 격벽의 이격 거리 등의 치수는 목적으로 하는 PDP의 특성에 따라 적절하게 선정할 수 있다.Dimensions, such as the cross-sectional shape, width, height of a partition, and the separation distance of a partition, can be suitably selected according to the characteristic of the PDP made into the objective.

구체적으로는 격벽의 단면 형상에서의 바닥면의 폭이 10 내지 300 ㎛, 높이가 10 내지 500 ㎛, 격벽의 이격 거리가 50 내지 1000 ㎛가 되고, 상기 격벽 사이에 배치되는 전극의 폭이 50 내지 500 ㎛가 된다. 특히 전형적인 일례에 있어서는, 격벽의 단면 형상에 있어서의 바닥면의 폭이 50 ㎛, 높이가 150 ㎛, 격벽의 이격 거리가 300 ㎛가 되고, 상기 격벽 사이에 배치되는 전극의 폭이 100 ㎛가 된다.Specifically, the width of the bottom surface in the cross-sectional shape of the partition wall is 10 to 300 µm, the height is 10 to 500 µm, and the separation distance of the partition wall is 50 to 1000 µm, and the width of the electrode disposed between the partition walls is 50 to It becomes 500 micrometers. In a particularly typical example, the width of the bottom surface in the cross-sectional shape of the partition wall is 50 µm, the height is 150 µm, and the separation distance of the partition wall is 300 µm, and the width of the electrodes disposed between the partition walls is 100 µm. .

<실시예><Example>

이하, 본 발명의 실시예에 대하여 설명하지만, 본 발명이 이들에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하에 있어서 「부」는「중량부」를 나타낸다.Hereinafter, although the Example of this invention is described, this invention is not limited by these. In addition, "part" shows a "weight part" below.

또한, 실시예에서의 평가 방법은 하기와 같다.In addition, the evaluation method in an Example is as follows.

[조성물의 분산성][Dispersibility of Composition]

그라인더 게이지에 의해 20개 이상의 라인이 생기는 입경 눈금을 측정하고, 측정치가 7.5 미만인 경우를 분산성이 양호하다고 판단하였다. The particle size scale which 20 or more lines generate | occur | produce by the grinder gauge was measured, and it was judged that dispersibility was favorable when the measured value was less than 7.5.

[격벽 형상][Bulk wall shape]

격벽 표면의 균열, 기판으로부터의 박리 유무를 우선 육안으로 관찰하였다. 그 후, 비접촉 삼차원 형상 측정 장치「NH-3」(료꼬사 제조)을 이용하여, 제조한 격벽의 폭과 높이를 구하였다. 또한, 주사형 전자 현미경을 이용하여 격벽 파단면을 관찰하였다. 격벽 파단면의 관찰로부터 격벽 내부의 공동 유무와 그의 수 및 크기를 관찰하였다.First, the cracks on the surface of the partition wall and the presence or absence of peeling from the substrate were first visually observed. Then, the width | variety and the height of the manufactured partition were calculated | required using the non-contact three-dimensional shape measuring apparatus "NH-3" (Ryo Co., Ltd. product). In addition, the partition fracture surface was observed using a scanning electron microscope. From the observation of the partition fracture surface, the presence or absence of a cavity inside the partition and its number and size were observed.

[방출 가스 분석]Emission Gas Analysis

소성 후의 격벽에서의 미량 방출 가스 분석을 「유로 전환법」에 의한 분석에 의해 CO, CO2의 검출 유무를 확인하였다.A small amount of the gas discharged from the analysis of the barrier rib after firing was confirmed to detect the presence or absence of CO, CO 2 by the analysis by the "flow-route switching method".

<실시예 1><Example 1>

(1) 무기 분체 함유 조성물의 제조:(1) Preparation of Inorganic Powder-Containing Composition:

유리 분말로서 PbO-B2O3-SiO2-Al2O3-TiO2계(DTA 연화 전이점 460 ℃, 아사히 글래스(주) 제조)의 평균 입경이 1.0 ㎛인 유리 분말 100 부, 결착 수지로서 n-부틸메타크릴레이트와 라우릴메타크릴레이트 및 히드록시프로필메타크릴레이트를 중량비로 50/30/20이 되는 비율로 공중합시켜 얻어진 중합체 20 부, 다관능성 (메트)아크릴레이트로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 20 부, 광중합 개시제로서 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논 10 부를 분산기를 이용하여 혼련함으로써 본 발명의 조성물을 제조하였다.As a glass powder, PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 -TiO 2 based glass powder 100 (DTA softening transition ℃ 460, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) average particle diameter of 1.0 ㎛ parts, the binder resin 20 parts of a polymer obtained by copolymerizing n-butyl methacrylate, lauryl methacrylate and hydroxypropyl methacrylate at a ratio of 50/30/20 by weight, and dipentaeryte as a polyfunctional (meth) acrylate. The composition of the present invention was prepared by kneading 20 parts of lithol hexaacrylate and 10 parts of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone as a photopolymerization initiator using a dispersing machine.

얻어진 조성물에 대하여 분산도를 조사했더니 5 ㎛이고, 분산성이 우수한 조성물인 것이 확인되었다.When the dispersion degree was examined about the obtained composition, it was confirmed that it is 5 micrometers and it is a composition excellent in dispersibility.

(2) 격벽 성형 재료층의 형성:(2) Formation of partition wall forming material layer:

상기 조성물을 사용하여 노즐 토출법에 의해 유리 기판 상에 격벽 성형 재료층을 제조하였다. 즉, 연속적으로 조성물을 특수 노즐로부터 토출하고, 초고압 수은등에 의해 i선(파장 365 nm의 자외선)을 조사하여 경화시켰다. 여기에 조사량은 500 mJ/cm2로 하였다.Using the said composition, the partition wall forming material layer was produced on the glass substrate by the nozzle discharge method. That is, the composition was continuously discharged from a special nozzle, and irradiated with i-ray (ultraviolet light having a wavelength of 365 nm) with an ultra-high pressure mercury lamp to cure. Irradiation amount was 500 mJ / cm <2> here.

(3) 격벽 성형 재료층의 소성 처리 및 격벽의 평가:(3) Firing treatment of partition wall forming material layer and evaluation of partition wall:

상기 (2)에 의해 제조한 격벽 성형 재료층을 형성한 유리 기판을 소성로내에 배치하고, 화로내의 온도를 상온에서부터 10 ℃/분의 승온 속도로 560 ℃까지 승온하여 560 ℃의 온도 분위기하에서 10 분간 소성 처리함으로써 유리 기판 표면에 유리 소결체를 포함하는 격벽을 형성하였다.The glass substrate in which the partition formation material layer manufactured by said (2) was formed is arrange | positioned in a baking furnace, the temperature in a furnace is heated up to 560 degreeC with the temperature increase rate of 10 degree-C / min from normal temperature, and it is 10 minutes in 560 degreeC temperature atmosphere. By baking, the partition containing a glass sintered compact was formed in the glass substrate surface.

이 격벽의 성상을 육안으로 관찰했더니, 균열, 기판으로부터의 박리 등은 확인되지 않았다. 또한, 방출 가스의 분석에서도 CO, CO2는 검출되지 않았다.When the appearance of this partition was visually observed, no crack, peeling from the substrate, or the like was confirmed. In addition, CO and CO 2 were not detected in the analysis of the released gas.

상기 격벽의 형상을 측정했더니 폭 40 ㎛, 높이 130 ㎛의 종횡비가 높은 이상적인 구조물로 되어 있는 것을 알 수 있었다. 또한, 주사형 전자 현미경에 의한 단면 관찰의 결과, 치밀한 소결체로 되어 있는 것을 확인할 수 있었다. As a result of measuring the shape of the partition wall, it was found that the ideal structure had a high aspect ratio of 40 µm in width and 130 µm in height. Moreover, as a result of the cross-sectional observation by a scanning electron microscope, it was confirmed that it is a compact sintered compact.

<실시예 2, 3 및 비교예><Examples 2 and 3 and Comparative Examples>

하기 표 1에 나타낸 방법에 따라 유리 분말, 결착 수지, 다관능성 (메트)아크릴레이트 및 광중합 개시제의 조성비를 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 본 발명의 무기 분체 함유 조성물 및 비교용 조성물을 제조하였다.Inorganic powder-containing composition and comparative composition of the present invention in the same manner as in Example 1, except that the composition ratios of the glass powder, the binder resin, the polyfunctional (meth) acrylate and the photopolymerization initiator were changed according to the method shown in Table 1 below. Was prepared.

이어서, 얻어진 각각의 조성물을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 격벽 성형 재료층을 제조하였다.Next, the partition molding material layer was produced like Example 1 except having used each obtained composition.

그 후, 얻어진 각각의 격벽 성형 재료층을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 격벽 성형 재료층을 소성 처리하여 20 인치 패널용 유리 기판의 표면에 격벽을 제조하였다. Then, except having used each obtained partition formation material layer, it carried out similarly to Example 1, and baked the partition formation material layer, and manufactured the partition on the surface of the glass substrate for 20-inch panels.

실시예 2, 3 및 비교예에 관한 각각의 조성물에 대하여, 형성된 격벽의 성상을 관찰하였다.About each composition concerning Example 2, 3, and a comparative example, the property of the formed partition was observed.

이상의 결과를 표 1에 나타내었다.The above results are shown in Table 1.

Figure 112005033075850-PAT00003
Figure 112005033075850-PAT00003

본 발명의 조성물에 의해 종횡비가 높고 형상 균일성이 우수하며, 비교적 저온 조건에서 행해지는 소성 처리에 의해 결착 수지를 완전히 분해 제거할 수 있고, 이로부터 유래하는 유기 물질을 함유하지 않는, PDP 격벽으로 바람직한 유리 소결체를 형성할 수 있다.The composition of the present invention is a PDP partition wall having a high aspect ratio, excellent shape uniformity, and capable of completely decomposing and removing a binder resin by a calcination process performed under relatively low temperature conditions, and containing no organic substance derived therefrom. Preferable glass sintered compact can be formed.

Claims (5)

(A) 무기 분체, (B) 하기 화학식 1로 표시되는 구성 단위를 갖는 중합체, (C) 다관능성 (메트)아크릴레이트 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 무기 분체 함유 조성물. An inorganic powder-containing composition comprising (A) an inorganic powder, (B) a polymer having a structural unit represented by the following formula (1), (C) a polyfunctional (meth) acrylate, and (D) a photopolymerization initiator. <화학식 1><Formula 1>
Figure 112005033075850-PAT00004
Figure 112005033075850-PAT00004
식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기이고, R2는 1가 유기기이다.In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is a monovalent organic group.
제1항에 있어서, (B) 중합체의 함유량이 (A) 무기 분체 100 중량부에 대하여 5 내지 40 중량부인 무기 분체 함유 조성물.The inorganic powder-containing composition according to claim 1, wherein the content of the polymer (B) is 5 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the (A) inorganic powder. 제1항에 있어서, (A) 무기 분체가 유리 프릿인 무기 분체 함유 조성물.The inorganic powder-containing composition according to claim 1, wherein (A) the inorganic powder is a glass frit. 제1항에 기재된 무기 분체 함유 조성물을 노즐로부터 기판 상에 토출하면서 노즐과 기판을 상대적으로 이동하여 패턴을 형성하는 공정, A process of forming a pattern by relatively moving a nozzle and a board | substrate, discharging the inorganic powder containing composition of Claim 1 from a nozzle on a board | substrate, 상기 패턴에 방사선을 조사하는 공정 및 Irradiating the pattern with radiation; 상기 패턴을 소성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 디스플레이 패널용 부재의 형성 방법.A method for forming a member for a plasma display panel, comprising the step of firing the pattern. 제4항에 있어서, 얻어지는 부재가 격벽인 플라즈마 디스플레이 패널용 부재의 형성 방법.The method for forming a member for a plasma display panel according to claim 4, wherein the member obtained is a partition wall.
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