JPH08321257A - Plasma display panel barrier forming application liquid, its manufacture, and barrier forming method - Google Patents

Plasma display panel barrier forming application liquid, its manufacture, and barrier forming method

Info

Publication number
JPH08321257A
JPH08321257A JP12462495A JP12462495A JPH08321257A JP H08321257 A JPH08321257 A JP H08321257A JP 12462495 A JP12462495 A JP 12462495A JP 12462495 A JP12462495 A JP 12462495A JP H08321257 A JPH08321257 A JP H08321257A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
barrier
solvent
coating liquid
plasma display
display panel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12462495A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsuya Tabei
達也 田部井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP12462495A priority Critical patent/JPH08321257A/en
Publication of JPH08321257A publication Critical patent/JPH08321257A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE: To form a defect-free barrier forming layer in one run of operation by preparing a coating liquid for formation of PDP barrier from a glass powder having a low melting point, fire-resistant filler, binder resin, and solvent, wherein the boiling point of the solvent should be below 150 deg.C at a normal pressure. CONSTITUTION: A small quantity of solvent having high boiling point such as di. 2-ethylhexylpthalate is added to a solvent having a low boiling point such as methyl isobutyl ketone, in which a binder resin such as ethyl cellulose is dissolved, and thereto a plasticizer such as polyoxyethylene alkyl phosphate (ester) is added so that a vehicle is produced. and to this vehicle, glass frit, crushed brown alumina, and black pigment are added in despersion so that a coating liquid is provided. An electrode 2 and a dielectric substance layer 3 are formed on a glass board 1 on the back surface of a plasma display panel(PDP), and the coating liquid is cast to form a barrier forming layer 4. Thereover a resist pattern 7 is formed. followed by sandblasting and baking, and a defect-free barrier 8 in good shape is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル(以下、PDPと記す)の障壁形成用塗工液及び
その製造方法並びにPDPの障壁形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating liquid for forming a barrier of a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP), a method for producing the same, and a method for forming a barrier for a PDP.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ガス放電パネルであるPDP
は、2枚の基板に挟まれた微小な放電空間としてのセル
を多数備えており、セルごとに放電して発光するか、或
いは生じた紫外線により蛍光体を発光させるようになっ
ている。これらの微小セルの間には、セル相互の干渉を
防ぐため、また両基板間の間隔を一定に保つために障壁
が設けられている。そして、従来この障壁の形成には、
障壁形成用ペーストを用いてスクリーン印刷によりパタ
ーニングすることが一般的に行われてきた。
2. Description of the Related Art Generally, a PDP which is a gas discharge panel
Has a large number of cells as minute discharge spaces sandwiched between two substrates, and discharges each cell to emit light, or emits ultraviolet rays to cause a phosphor to emit light. Barriers are provided between these minute cells in order to prevent mutual interference between the cells and to keep the distance between both substrates constant. And conventionally, in the formation of this barrier,
Patterning by screen printing using a barrier forming paste has been generally performed.

【0003】ところで、上記したPDPでは、放電空間
をできるだけ大きくして高輝度の発光を得るために、壁
面が垂直に切り立ち、幅が狭く高さの高い障壁が要求さ
れる。特に高精細のディスプレイでは、例えば高さ10
0μmに対して、幅30〜50μmといった高アスペク
ト比の障壁が必要とされる。しかしながら上述のスクリ
ーン印刷では、1回の印刷で形成できる膜厚がせいぜい
数10μmであるため、印刷と乾燥を多数回、一般的に
は10回以上も繰り返す必要があり、生産性が悪いとい
う問題点がある。また、スクリーン印刷で形成される塗
膜は周辺部が窪んで凸状になるため、多数回の重ね刷り
を行うとダレが蓄積されて底辺部が広がってしまう問題
があり、障壁のファインピッチ化には限界があった。ま
た、スクリーン印刷では、印刷版の歪みのためピッチ精
度に限界があり、パネルの大型化に対応できないという
問題点もあった。
By the way, in the above-mentioned PDP, in order to make the discharge space as large as possible and to obtain high-luminance light emission, a barrier wall having a vertical wall and a narrow width and a high height is required. Especially in a high-definition display, for example, a height of 10
A barrier with a high aspect ratio, such as a width of 30 to 50 μm, is required for 0 μm. However, in the above-mentioned screen printing, since the film thickness that can be formed by one printing is several tens of μm at most, it is necessary to repeat printing and drying a large number of times, generally 10 times or more, resulting in poor productivity. There is a point. In addition, since the coating film formed by screen printing has a dented peripheral portion and a convex shape, when overprinting a large number of times, there is the problem that sagging accumulates and the bottom portion expands. There was a limit. Further, in screen printing, there is a problem in that the pitch accuracy is limited due to the distortion of the printing plate, and it is not possible to cope with an increase in the size of the panel.

【0004】このような問題を解決し得る方法として、
サブトラクティブ法を用いた障壁形成方法が提案されて
いる(電子材料、1983年、No.11、p13
8)。すなわち、障壁形成層を形成した後、上面にサブ
トラクティブ用レジストパターンを印刷やフォトリソグ
ラフィーにより形成し、レジストパターンの開口部の障
壁形成材料を除去する方法である。その中でも、圧縮気
体と混合された微粒子を高速で噴射して物理的にエッチ
ングを行う、いわゆるサンドブラスト加工法がとりわけ
期待されている。このサンドブラスト加工法を用いれ
ば、壁面が垂直に切り立ち、幅が狭く高さの高い望まし
い形状に障壁材を加工することが可能である。また、レ
ジストのパターニングにフォトリソ工程を採用すること
によりパターン精度を高くすることができるので大型化
にも対応できる。
As a method capable of solving such a problem,
A barrier formation method using a subtractive method has been proposed (Electronic Materials, 1983, No. 11, p13).
8). That is, this is a method in which after forming the barrier forming layer, a subtractive resist pattern is formed on the upper surface by printing or photolithography, and the barrier forming material in the opening of the resist pattern is removed. Among them, what is called a sandblasting method, in which fine particles mixed with a compressed gas are jetted at high speed to physically perform etching, is particularly expected. By using this sandblasting method, it is possible to process the barrier material into a desired shape in which the wall surface is cut vertically and the width is narrow and the height is high. Further, by adopting a photolithography process for patterning the resist, it is possible to increase the pattern accuracy, so that it is possible to cope with an increase in size.

【0005】このサンドブラスト法により障壁を形成す
るためには、始めに未焼成の障壁形成層をガラス基板等
の上に100〜200μm程度の均一な厚さで形成する
工程が必要である。従来この工程には、スクリーン印刷
法によりベタ印刷を多数回繰り返す方法か、或いはブレ
ードコーター等によりキャストして1回で塗布する方法
が用いられてきた。そしてここで用いられる塗工液はテ
ルピネオール、ブチルカルビトールアセテートなどのよ
うな高沸点溶剤を用いてロールミルにより混練すること
で製造されていた。
In order to form a barrier by the sandblast method, first, a step of forming an unfired barrier forming layer on a glass substrate or the like with a uniform thickness of about 100 to 200 μm is necessary. Conventionally, in this step, a method of repeating solid printing a large number of times by a screen printing method or a method of casting with a blade coater or the like and applying it at once has been used. The coating solution used here was manufactured by kneading with a roll mill using a high boiling point solvent such as terpineol, butyl carbitol acetate and the like.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、スクリ
ーン印刷法で障壁形成層を形成する場合、何回(通常5
〜10回必要)もベタ印刷をし、その度ごとに乾燥を繰
り返すので生産性が悪いという問題点があり、また紗の
目により塗膜表面に凹凸が発生するという問題点があ
る。そこで、ブレードコーター等により塗工液をキャス
トして障壁形成層を1回で形成するのが好ましいとも考
えられるが、この場合には乾燥過程において種々の欠陥
が発生するという新たな問題を生じる。また、これらの
欠陥を回避できたとしても、乾燥には長時間と多くのエ
ネルギーを必要とし、さらには乾燥装置に高度な制御が
必要とされる。なお、ここで言う欠陥は具体的に次のよ
うにして発生する。
However, when the barrier forming layer is formed by the screen printing method, the number of times (usually 5 times) is required.
Since solid printing is also performed 10 to 10 times) and drying is repeated each time, there is a problem that productivity is poor, and there is a problem that irregularities are generated on the coating film surface due to gauze. Therefore, it is considered preferable to cast the coating liquid with a blade coater or the like to form the barrier forming layer once, but in this case, a new problem occurs in which various defects occur during the drying process. Even if these defects can be avoided, the drying requires a long time and a lot of energy, and further, the drying device requires a high degree of control. The defect mentioned here occurs specifically as follows.

【0007】(1)塗工液中の溶剤を除去するために必
要な熱風が塗膜を流動させてしまい、障壁形成層の膜厚
にムラが発生する。 (2)塗工液に高沸点溶剤を使用しているため、初期乾
燥から100℃以上の高温加熱が必要である。しかしな
がら、100℃以上の雰囲気内にキャスト後のガラス基
板を投入した場合、ガラス基板の熱容量があるためにキ
ャスト膜は上部の方から温度が上昇し、表面近傍が先に
乾燥して皮を張ってしまう。このように皮張り現象が生
じると、キャスト膜内部の乾燥が極端に遅くなったり、
ちりめん状の皺や騰沸によるクレーター或いはそれをき
っかけとしたひび割れなどの欠陥を引き起こすことにな
る。 (3)ホットプレート加熱により塗工液を乾燥させる場
合には、キャスト膜の下部より加熱することが可能であ
るが、ガラス基板の平坦性は必ずしも良くないため、ホ
ットプレートとの接触は部分的になり、このため熱伝導
に差が生じてムラを発生させる。
(1) The hot air necessary for removing the solvent in the coating liquid causes the coating film to flow, resulting in uneven thickness of the barrier forming layer. (2) Since a high boiling point solvent is used for the coating liquid, it is necessary to heat at a high temperature of 100 ° C. or higher from the initial drying. However, when the glass substrate after casting is put into an atmosphere of 100 ° C. or higher, the temperature of the cast film rises from the upper part due to the heat capacity of the glass substrate, and the vicinity of the surface is dried and skinned first. Will end up. If such a skinning phenomenon occurs, the inside of the cast film will be dried extremely slowly,
It causes defects such as dust wrinkles, craters due to boiling water or cracks caused by them. (3) When the coating liquid is dried by heating with a hot plate, it is possible to heat from the lower part of the cast film, but the flatness of the glass substrate is not necessarily good, so contact with the hot plate is partial. Therefore, a difference occurs in heat conduction, causing unevenness.

【0008】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、欠陥のない
障壁形成層を1回で形成できるようにしたPDPの障壁
形成用塗工液及びその製造方法を提供し、合わせてその
塗工液を用いたPDPの障壁形成方法を提供することに
ある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a barrier forming coating for a PDP, which can form a defect-free barrier forming layer at one time. Another object of the present invention is to provide a liquid and a method for producing the same, and a method for forming a PDP barrier using the coating liquid.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る障壁形成用塗工液は、少なくとも低融
点ガラス粉末と耐火物フィラーとバインダー樹脂と溶剤
とを含むPDPの障壁形成用塗工液において、前記溶剤
の沸点が常圧にて150℃以下であることを特徴として
いる。
In order to achieve the above object, a barrier forming coating liquid according to the present invention is used for forming a barrier of a PDP containing at least a low melting point glass powder, a refractory filler, a binder resin and a solvent. The coating liquid is characterized in that the boiling point of the solvent is 150 ° C. or lower at normal pressure.

【0010】低融点ガラスとしては、主成分としてPb
Oを50%以上含み、ガラスの分相を防止する効果を持
たせたり、軟化点を調整したり、熱膨張係数をガラス基
板に合わせたりするために、Al2 3 、B2 3 、S
iO2 、MgO、CaO、SrO、BaO等を含有する
ものが一般に用いられる。
As the low melting point glass, the main component is Pb.
Al 2 O 3 , B 2 O 3 , in order to have the effect of preventing the phase separation of glass, adjust the softening point, and adjust the coefficient of thermal expansion to the glass substrate, containing O by 50% or more. S
Those containing iO 2 , MgO, CaO, SrO, BaO, etc. are generally used.

【0011】耐火物フィラーとしては、500〜600
℃程度の焼成温度で軟化しないものが広く使用でき、安
価に入手できるものとして、アルミナ、マグネシア、カ
ルシア、コージュライト、シリカ、ムライト、ジルコン
等のセラミック粉体が好適に用いられる。
The refractory filler is 500 to 600.
Ceramic powders such as alumina, magnesia, calcia, cordierite, silica, mullite, and zircon that can be widely used and do not soften at a firing temperature of about 0 ° C. are preferably used.

【0012】PDPの外光反射を低減し、実用上のコン
トラストを上げるために、しばしば障壁は黒色にするこ
とが求められる。この場合、耐火性の黒色顔料として、
Co−Cr−Fe、Co−Mn−Fe、Co−Fe−M
n−Al、Co−Ni−Cr−Fe、Co−Ni−Mn
−Cr−Fe、Co−Ni−Al−Cr−Fe、Co−
Mn−Al−Cr−Fe−Si等の顔料が用いられる。
一方、蛍光体の発光を有効にパネル前面に導く目的で、
逆に障壁を白くした方が良い場合もある。この場合に
は、耐火性の白色顔料としてチタニア等が用いられる。
In order to reduce the reflection of external light from the PDP and increase the practical contrast, the barrier is often required to be black. In this case, as a refractory black pigment,
Co-Cr-Fe, Co-Mn-Fe, Co-Fe-M
n-Al, Co-Ni-Cr-Fe, Co-Ni-Mn
-Cr-Fe, Co-Ni-Al-Cr-Fe, Co-
A pigment such as Mn-Al-Cr-Fe-Si is used.
On the other hand, in order to effectively guide the light emission of the phosphor to the front surface of the panel,
Conversely, it may be better to whiten the barrier. In this case, titania or the like is used as the refractory white pigment.

【0013】無機成分中の低融点ガラスの含有率は30
〜70重量%が好ましい。多すぎると焼成による形状保
持性に難が生じる。また、脱バインダー性を損ない、緻
密性が悪化するため好ましくない。逆に少なすぎると、
耐火物フィラーの間隙を充分に埋めることができず、緻
密性が悪化すると同時に焼成後の機械的強度が低下し、
パネル封着の際に欠けを生じる。
The content of low melting point glass in the inorganic component is 30.
˜70 wt% is preferred. If the amount is too large, the shape retention due to firing becomes difficult. In addition, debinding property is impaired and denseness is deteriorated, which is not preferable. On the contrary, if it is too small,
The gap between the refractory fillers cannot be filled sufficiently, the denseness deteriorates, and at the same time the mechanical strength after firing decreases.
Chips occur when sealing panels.

【0014】バインダー樹脂は、低温で燃焼/分解/気
化し、炭化物が障壁中に残存しないことが必要であり、
エチルセルロース、メチルセルロース、ニトロセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースプロピオネー
ト、セルロースブチレート等のセルロース系樹脂、又は
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ノルマ
ルブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、
イソプロピルメタクリレート、2−エチルメチルメタク
リレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の重
合体若しくはこれらの共重合体からなるアクリル系樹脂
が好ましく用いられる。
The binder resin must be burned / decomposed / vaporized at low temperatures so that no carbides remain in the barrier,
Cellulose resins such as ethyl cellulose, methyl cellulose, nitrocellulose, cellulose acetate, cellulose propionate, and cellulose butyrate, or methyl methacrylate, ethyl methacrylate, normal butyl methacrylate, isobutyl methacrylate,
An acrylic resin made of a polymer such as isopropyl methacrylate, 2-ethylmethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, or a copolymer thereof is preferably used.

【0015】さらに添加剤として、可塑剤、界面活性
剤、消泡剤、酸化防止剤等が必要に応じて用いられる。
このうち可塑剤としては、フタル酸エステル類、セバチ
ン酸エステル類、リン酸エステル類、アジピン酸エステ
ル類、グリコール酸エステル類、クエン酸エステル類等
が一般的に用いられる。可塑剤の添加率が高すぎると樹
脂の柔軟性が増し、サンドブラストによる研削速度が遅
くなるので、可塑剤の添加量は樹脂量に対して重量比で
1/5以下が好ましい。
Further, as an additive, a plasticizer, a surfactant, an antifoaming agent, an antioxidant and the like are used as required.
Among them, as the plasticizer, phthalic acid esters, sebacic acid esters, phosphoric acid esters, adipic acid esters, glycolic acid esters, citric acid esters and the like are generally used. If the addition rate of the plasticizer is too high, the flexibility of the resin increases and the grinding speed by sandblasting slows down. Therefore, the addition amount of the plasticizer is preferably 1/5 or less by weight ratio with respect to the resin amount.

【0016】上記のように、本発明では溶剤の沸点が常
圧にて150℃以下であることを要件としている。この
沸点が150℃以下の溶剤としては、用いるバインダー
樹脂に対して良溶媒であることが好ましく、アセトン、
メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン類、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の炭化水素類、メチルアセテート、エチルアセテート、
イソプロピルアセテート、ノルマルプロピルアセテー
ト、イソブチルアセテート、ノルマルブチルアセテー
ト、ノルマルペンチルアセテート、イソペンチルアセテ
ート等のエステル類、メタノール、エタノール、イソピ
ロパノール、ノルマルプロパノール、ノルマルブタノー
ル、イソブタノール、トルオール、キシロール等のアル
コール類、メチレンクロライド、クロロホルム、1,2
−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン等の
塩素化炭化水素類、エチルエーテル、1,4−ジオキサ
ン等のエーテル類、2−メトキシエタノール、2−エト
キシエタノール等のグリコール誘導体などが挙げられ
る。さらに、塗工液のレオロジー特性、乾燥特性、分散
安定性等などを調節する目的で、より高沸点の溶剤を少
量添加してもよい。
As described above, the present invention requires that the boiling point of the solvent is 150 ° C. or lower at normal pressure. The solvent having a boiling point of 150 ° C. or lower is preferably a good solvent for the binder resin used, and acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone and diisobutyl ketone, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene, toluene and xylene, methyl acetate, ethyl acetate,
Isopropyl acetate, normal propyl acetate, isobutyl acetate, normal butyl acetate, normal pentyl acetate, isopentyl acetate and other esters, methanol, ethanol, isopyranol, normal propanol, normal butanol, isobutanol, toluene, xylol and other alcohols, methylene Chloride, chloroform, 1,2
Examples include chlorinated hydrocarbons such as dichloroethane and 1,1,1-trichloroethane, ethers such as ethyl ether and 1,4-dioxane, and glycol derivatives such as 2-methoxyethanol and 2-ethoxyethanol. Further, a small amount of a solvent having a higher boiling point may be added for the purpose of adjusting rheological properties, drying properties, dispersion stability, etc. of the coating liquid.

【0017】溶剤の沸点が常圧にて150℃を越える場
合、塗工液を塗布した際の乾燥ムラを充分に回避でき
ず、また乾燥時間の短縮を図ることもできない。乾燥時
間の短縮という観点からすると溶剤の沸点は低いほどよ
いが、低すぎる場合には、塗工液の脱泡工程や供給工程
において揮発量が多くなり、塗工液の組成を安定化する
ことが困難になるという問題が生じる。また、塗布方法
としてリバースロールコーティングのような塗工ヘッド
がオープンな方法を用いる際には、ヘッド部分での溶剤
の揮発を抑える必要があるため、溶剤の沸点は高めの方
が好ましい。
When the boiling point of the solvent exceeds 150 ° C. under normal pressure, it is not possible to sufficiently avoid unevenness in drying when the coating liquid is applied, and it is also impossible to shorten the drying time. From the viewpoint of shortening the drying time, the lower the boiling point of the solvent, the better, but if it is too low, the amount of volatilization increases in the defoaming process and the supplying process of the coating liquid, and the composition of the coating liquid should be stabilized. The problem arises that it becomes difficult. When a method such as reverse roll coating in which the coating head is open is used as the coating method, it is necessary to suppress the volatilization of the solvent in the head portion, so it is preferable to raise the boiling point of the solvent.

【0018】溶剤の選定は、溶剤の揮発性と、使用する
バインダー樹脂の溶解性を主に考慮して行われる。バイ
ンダー樹脂に対する溶剤の溶解性が低いと、、固形分比
が同一でも塗工液の粘度が高くなってしまい、塗布適性
が悪化するという問題を生じる。
The selection of the solvent is carried out mainly considering the volatility of the solvent and the solubility of the binder resin used. If the solubility of the solvent in the binder resin is low, the viscosity of the coating liquid will be high even if the solid content ratio is the same, and the suitability for coating will be deteriorated.

【0019】溶剤の含有率は、少なすぎると塗工液の粘
度が高くなりすぎ、塗工液内の気泡を抜くことが困難と
なる、レベリング不良により塗布面の平滑性が悪くな
る、等の問題が生じるため好ましくなく、逆に多すぎる
場合には、分散粒子の沈降が早くなり塗工液の組成を安
定化することが困難になる、乾燥に多大なエネルギーと
時間を要する、等の問題が生じるため好ましくなく、好
適には25〜50重量%である。
If the content of the solvent is too low, the viscosity of the coating solution becomes too high, it becomes difficult to remove air bubbles in the coating solution, and the smoothness of the coated surface is deteriorated due to poor leveling. It is not preferable because it causes a problem. On the contrary, when it is too much, the settling of dispersed particles becomes fast and it becomes difficult to stabilize the composition of the coating liquid, and it takes a lot of energy and time for drying. Is not preferred, and is preferably 25 to 50% by weight.

【0020】塗工液中のバインダー樹脂は、セルロース
系樹脂、アクリル系樹脂の何れを主体とする場合であっ
ても、サンドブラスト加工における研削性を高めるた
め、前記溶剤を除いた成分中の樹脂含有率は1〜4重量
%であることが望ましい。少なすぎると塗工液の安定性
が悪化する、乾燥工程においてヒビ割れが生じやすくな
る、などの問題を生じる。
The binder resin in the coating liquid contains a resin in the component excluding the solvent in order to enhance the grindability in sandblasting, regardless of whether the binder resin is mainly composed of a cellulose resin or an acrylic resin. The rate is preferably 1 to 4% by weight. If the amount is too small, the stability of the coating liquid may be deteriorated, and cracks may be easily generated in the drying process.

【0021】次に、本発明に係る塗工液の製造方法は、
少なくとも低融点ガラス粉末と耐火物フィラーとバイン
ダー樹脂と溶剤とを含む混合物であって、その溶剤の沸
点が常圧にて150℃以下である混合物を、ボールミル
により分散調合することを特徴とする。
Next, the method for producing the coating liquid according to the present invention is as follows.
A mixture containing at least a low-melting glass powder, a refractory filler, a binder resin, and a solvent, in which the boiling point of the solvent is 150 ° C. or less at normal pressure, is dispersed and prepared by a ball mill.

【0022】すなわち、バインダー樹脂を溶剤で溶解し
必要に応じて添加剤を加えた溶液(ビヒクル)中に無機
成分(低融点ガラス粉末と耐火物フィラー)を混合して
なる混合物を作製した後、この混合物をボールミルにか
けて分散調合するが、不純物の混入を避けるために、セ
ラミックボールを用い、さらに好ましくは内壁がセラミ
ックやプラスチックで被覆されたボールミルを使用す
る。そして、分散調合した後、真空攪拌機を用いて減圧
脱泡する。
That is, after a binder resin is dissolved in a solvent and an additive is added if necessary, a mixture (inorganic component (low melting glass powder and refractory filler)) is mixed with a solution (vehicle) to prepare a mixture. This mixture is dispersed in a ball mill and blended, and in order to avoid mixing of impurities, a ceramic ball is used, and more preferably, a ball mill whose inner wall is coated with ceramic or plastic is used. Then, after dispersion and blending, defoaming is performed under reduced pressure using a vacuum stirrer.

【0023】次に、本発明に係るPDPの障壁形成方法
は、上記の塗工液を対象物上にベタ塗工して障壁形成層
を形成した後、該障壁形成層上に設けたレジストパター
ンを介してサンドブラスト加工を行うことで障壁形成層
をパターニングする工程を含むことを特徴とする。
Next, in the method for forming a barrier of a PDP according to the present invention, the above coating solution is solidly coated on an object to form a barrier forming layer, and then a resist pattern provided on the barrier forming layer. The method is characterized by including a step of patterning the barrier forming layer by performing a sandblasting process via.

【0024】塗工液の塗布方式としては、ブレードコー
ティング、コンマコーティング、リバースロールコーテ
ィング、スプレーコーティング、ガンコーティング、イ
クストルージョンコーティング、リップコーティング等
が好ましく用いられる。塗布はガラス基板上に行うこと
が一般的であるが、場合によっては、フィルム上に塗布
し、これをガラス基板に転写することも可能である。ま
た、フィルム側に障壁形成層とレジスト層とを形成して
おき、ガラス基板に同時に転写することも可能である。
As the coating method of the coating liquid, blade coating, comma coating, reverse roll coating, spray coating, gun coating, extrusion coating, lip coating and the like are preferably used. The application is generally performed on a glass substrate, but in some cases, it is also possible to apply it on a film and transfer it to the glass substrate. It is also possible to form a barrier forming layer and a resist layer on the film side and transfer them simultaneously to the glass substrate.

【0025】レジストパターンの形成は、印刷により直
接パターニングすることも可能であるが、大面積で高精
細の加工を行う場合には、レジスト材料としてフォトレ
ジストを使用し、フォトリソグラフィー法を用いること
が好ましい。フォトレジストとしては、ドライフィルム
レジスト、液状レジストの何れもが使用可能で、併用す
ることも可能である。また、レジストとしてはアルカリ
現像型、水現像型、有機溶剤現像型があるが、環境への
影響の小さいアルカリ現像型か水現像型が好ましく使用
される。
The resist pattern can be directly formed by printing, but in the case of performing high-precision processing in a large area, a photoresist is used as a resist material and a photolithography method is used. preferable. As the photoresist, either a dry film resist or a liquid resist can be used, and they can be used in combination. As the resist, there are an alkali developing type, a water developing type and an organic solvent developing type, but an alkali developing type or a water developing type which has a small effect on the environment is preferably used.

【0026】サンドブラスト加工後に行うレジスト剥離
は、剥離液を用いて行うことが好ましい。スプレーによ
りパネル上方より剥離液を噴霧して行う方法が量産安定
性を得るために好ましく行われる。また、レジスト剥離
後の焼成工程は、酸化雰囲気中にて500〜600℃の
ピーク温度にて好適に行われる。
The resist stripping performed after sandblasting is preferably performed using a stripping solution. A method of spraying a stripping solution from above the panel is preferably carried out to obtain stability in mass production. Further, the baking process after the resist is peeled off is suitably performed in an oxidizing atmosphere at a peak temperature of 500 to 600 ° C.

【0027】[0027]

【作用】本発明の塗工液は、溶剤の沸点が低く揮発性が
高いため、乾燥に要するエネルギーが少なく、塗布して
から短時間で乾燥できる。また、塗布した後の初期乾燥
では強い熱風を必要とせず、風の影響によるムラの発生
回避できる。また、室温或いは僅かの加熱で溶剤の揮発
を進行できるため、塗膜内の上下温度分布の差による皮
張り現象が生じない。
Since the coating liquid of the present invention has a low boiling point of the solvent and high volatility, it requires less energy for drying and can be dried in a short time after coating. Further, in the initial drying after application, strong hot air is not required, and unevenness due to the influence of wind can be avoided. Further, since the solvent can be volatilized at room temperature or with slight heating, the skinning phenomenon due to the difference in the vertical temperature distribution in the coating film does not occur.

【0028】[0028]

【実施例】【Example】

(実施例1)下記組成A(重量%)からなる障壁形成用
塗工液を作製した。具体的には、まずの低沸点溶剤に
の高沸点溶剤を少量添加してなる溶剤によりのバイ
ンダー樹脂を溶解した後、これにの可塑剤を添加して
ビヒクルを調製した。次いでこのビヒクルと〜の無
機粉体を混合してなる混合物を作製した後、この混合物
をボールミル(10mmφアルミナボール、ポリプロピ
レン製ポット)により15時間攪拌して分散調合した。
続いて真空攪拌機により減圧脱泡して塗工液を得た。
Example 1 A barrier forming coating liquid having the following composition A (% by weight) was prepared. Specifically, a vehicle was prepared by first dissolving a binder resin in a solvent obtained by adding a small amount of a high boiling point solvent to a low boiling point solvent, and then adding a plasticizer thereto. Then, a mixture was prepared by mixing the vehicle and the inorganic powders of ~, and the mixture was dispersed and prepared by stirring for 15 hours with a ball mill (10 mmφ alumina balls, polypropylene pot).
Subsequently, defoaming was performed under reduced pressure with a vacuum stirrer to obtain a coating liquid.

【0029】 <組成A> メチルイソブチルケトン(沸点:115℃) 25.4 ジ・2−エチルヘキシルフタレート 0.2 エチルセルロース(日新化成製、エトセルstd.20) 1.5 ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル 0.1 (花王製、エスタミットTR−09) ガラスフリット(日本電気ガラス製、GA−21) 44.7 粉砕褐色アルミナ(富士見研磨剤工業製、WA#8000) 11.9 黒色顔料(根元特殊化学製、耐熱ブラック4200) 16.2<Composition A> Methyl isobutyl ketone (boiling point: 115 ° C.) 25.4 Di-2-ethylhexyl phthalate 0.2 Ethyl cellulose (Ethcel std. 20, manufactured by Nisshin Kasei) 1.5 Polyoxyethylene alkyl phosphate ester 0.1 (Kao, Estamit TR-09) Glass frit (Nippon Electric Glass, GA-21) 44.7 Pulverized brown alumina (Fujimi Abrasives Co., Ltd., WA # 8000) 11.9 Black pigment (Root special chemistry) Made, heat resistant black 4200) 16.2

【0030】そして、上記の塗工液を使用してPDPの
背面板上に障壁を形成した。図1を参照してこの障壁形
成手順を説明する。
Then, a barrier was formed on the back plate of the PDP using the above coating solution. This barrier formation procedure will be described with reference to FIG.

【0031】まず、図1(a)に示すように、ガラスか
らなる基板1上に電極2を形成し、その上に誘電体層3
を形成した後、さらに上記組成Aの塗工液をリバースロ
ールコーターにより誘電体層3の上にキャストした。そ
して、40℃の温風を0.3m/秒前後の微風にて15
分間当て、次に70℃の温風を0.6m/秒の風速で1
0分間、さらに120℃の温風を5m/秒の風速で10
分間当てて乾燥させた。これにより、平均膜厚が160
μmで、膜厚均一性が高く、表面平滑性も良好な障壁形
成層4を得た。
First, as shown in FIG. 1A, an electrode 2 is formed on a substrate 1 made of glass, and a dielectric layer 3 is formed thereon.
After forming, the coating liquid of the above composition A was cast on the dielectric layer 3 with a reverse roll coater. Then, warm air at 40 ° C. is applied with a gentle breeze around 0.3 m / sec for 15 minutes.
Apply for 1 minute, then warm air at 70 ℃ at a wind speed of 0.6m / sec for 1
0 minutes, then warm air at 120 ° C at a wind speed of 5 m / sec for 10 minutes
Apply for minutes to dry. As a result, the average film thickness is 160
The barrier-forming layer 4 having a thickness of μm and high film thickness uniformity and good surface smoothness was obtained.

【0032】次いで、基板1を80℃に加熱し、図1
(b)に示すように、ドライフィルムレジスト5をラミ
ネートした。使用したドライフィルムレジスト5は日本
合成化学工業製の「NCP225」である。次に、図1
(c)に示すように、線幅80μm、ピッチ220μm
のラインパターンマスク6を介して紫外線により露光を
行った。露光条件は364nmにおいて強度200μW
/cm2 、照射量120mJ/cm2 である。露光後、
炭酸ナトリウム1wt%水溶液により液温30℃でスプ
レー現像を行った。以上の工程により、図1(d)に示
す如く線幅80μm、ピッチ220μmのサンドブラス
ト用レジストパターン7が得られた。
Then, the substrate 1 is heated to 80 ° C.
As shown in (b), a dry film resist 5 was laminated. The dry film resist 5 used is “NCP225” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry. Next, FIG.
As shown in (c), line width 80 μm, pitch 220 μm
Exposure was performed with ultraviolet rays through the line pattern mask 6. The exposure condition is an intensity of 200 μW at 364 nm.
/ Cm 2 , and the irradiation dose is 120 mJ / cm 2 . After exposure,
Spray development was performed with a 1 wt% aqueous solution of sodium carbonate at a liquid temperature of 30 ° C. Through the above steps, a sandblast resist pattern 7 having a line width of 80 μm and a pitch of 220 μm was obtained as shown in FIG.

【0033】続いて、50℃にて2時間乾燥/エージン
グした後、図2(a)に示すように、サンドブラスト加
工による不要部分の除去を行った。この場合、ノズルと
基板1の距離は10cmとし、研磨剤に褐色溶融アルミ
ナ#1000を用いて噴出圧力3kg/cm2 でサンド
ブラスト処理を行った。
Subsequently, after drying / aging at 50 ° C. for 2 hours, unnecessary portions were removed by sandblasting as shown in FIG. 2 (a). In this case, the distance between the nozzle and the substrate 1 was set to 10 cm, and the sand blasting treatment was performed using brown fused alumina # 1000 as the abrasive at a jet pressure of 3 kg / cm 2 .

【0034】サンドブラスト処理を終了した後、図2
(b)に示すように、剥離液を用いてレジストパターン
7の剥離を行った。具体的には、剥離液として水酸化ナ
トリウム2.0w%水溶液を使用し、30℃にてスプレ
ー剥離した。そして、水洗を施した後、80℃のオーブ
ン中で15分間乾燥した。次いで、ピーク温度550℃
にて焼成し、図2(c)に示すように障壁形成材料を結
着させた。これにより欠けなどの欠陥がなく、表面平滑
性の高い形状の良好な障壁8が形成された。
After finishing the sandblasting process, as shown in FIG.
As shown in (b), the resist pattern 7 was peeled off using a peeling solution. Specifically, a 2.0 w% aqueous solution of sodium hydroxide was used as a stripping solution, and spray stripping was performed at 30 ° C. Then, after washing with water, it was dried in an oven at 80 ° C. for 15 minutes. Then, peak temperature 550 ℃
Then, the barrier-forming material was bound as shown in FIG. As a result, there was no defect such as chipping, and a good barrier 8 having a high surface smoothness was formed.

【0035】(実施例2)下記組成B(重量%)からな
る障壁形成用塗工液を実施例1と同様な方法で作製し
た。すなわち、の低沸点溶剤、の高沸点溶剤、の
バインダー樹脂、の可塑剤によりビヒクルを調製した
後、このビヒクルと〜の無機粉体を混合した混合物
を実施例と同じボールミルにて分散調合し、続いて真空
攪拌機により減圧脱泡して塗工液を得た。
Example 2 A barrier forming coating solution having the following composition B (% by weight) was prepared in the same manner as in Example 1. That is, low boiling point solvent, high boiling point solvent, binder resin, after preparing a vehicle with a plasticizer, a mixture of this vehicle and an inorganic powder was dispersed and blended in the same ball mill as in the example, Subsequently, defoaming was performed under reduced pressure with a vacuum stirrer to obtain a coating liquid.

【0036】 <組成B> トルエン(沸点:110℃) 29.0 ジ・2−エチルヘキシルフタレート 0.2 ポリメタクリル酸メチル 1.5 (ローム・アンドハース・ジャパン製、パラロイドB−82) ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル 0.1 (花王製、エスタミットTR−09) ガラスフリット(日本電気ガラス製、GA−21) 42.5 粉砕褐色アルミナ(富士見研磨剤工業製、WA#8000) 11.3 黒色顔料(根元特殊化学製、耐熱ブラック4200) 15.4<Composition B> Toluene (boiling point: 110 ° C.) 29.0 Di-2-ethylhexyl phthalate 0.2 Polymethyl methacrylate 1.5 (Rohm and Haas Japan, Paraloid B-82) Polyoxyethylene Alkyl phosphate ester 0.1 (manufactured by Kao, Estamit TR-09) Glass frit (manufactured by Nippon Electric Glass, GA-21) 42.5 Grinded brown alumina (manufactured by Fujimi Abrasive Industry Co., Ltd., WA # 8000) 11.3 Black pigment (Nippon Specialty Chemicals, heat resistant black 4200) 15.4

【0037】そして、この組成Bの塗工液を使用して実
施例1と同様な工程でPDPの背面板上に障壁を形成し
た。本実施例の場合も、欠けなどの欠陥がなく、表面平
滑性の高い形状の良好な障壁が形成できた。
Then, a barrier was formed on the back plate of the PDP by the same process as in Example 1 using the coating solution of the composition B. Also in the case of this example, there was no defect such as chipping, and a good barrier having a high surface smoothness could be formed.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の障壁形成
用塗工液は、その溶剤として沸点が常圧にて150℃以
下のものを主体とする溶剤を用いているので、塗工液を
塗布した後、その乾燥工程に要する時間は短くて済む上
に、初期乾燥では強い熱風を必要としないので風の影響
による塗布膜のムラ発生を回避でき、しかも塗膜内の上
下温度分布の差による皮張り現象を生じることがなく、
したがって欠陥のない障壁形成層を1回で形成すること
ができる。
As described above, the barrier-forming coating liquid of the present invention uses a solvent mainly having a boiling point of 150 ° C. or less at normal pressure. After coating, the time required for the drying process is short, and since strong hot air is not required in the initial drying, unevenness of the coating film due to the influence of wind can be avoided, and the vertical temperature distribution in the coating film There is no skinning phenomenon due to the difference,
Therefore, a defect-free barrier formation layer can be formed once.

【0039】また、本発明の障壁形成方法においては、
上記した低沸点の溶剤を主体とする溶剤を用いてなる塗
工液を使用し、これをベタ塗布して障壁形成層を形成す
るので、欠陥のない障壁形成層が簡単に得られるため、
スクリーン印刷により重ね刷りして所定の膜厚を得るの
に比べて生産性が向上し、しかもサンドブラスト加工に
より、欠陥がなく形状の良好な障壁を形成することがで
きる。
Further, in the barrier forming method of the present invention,
Using a coating liquid containing a solvent mainly composed of a solvent having a low boiling point as described above, a barrier-forming layer is formed by solid-coating this, so that a defect-free barrier-forming layer can be easily obtained.
The productivity is improved as compared with overprinting by screen printing to obtain a predetermined film thickness, and by sandblasting, it is possible to form a barrier having a good shape without defects.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】障壁形成方法の実施例を示す前半の工程図であ
る。
FIG. 1 is a process drawing of the first half showing an embodiment of a barrier forming method.

【図2】図1に続く後半の工程図である。FIG. 2 is a process diagram of the latter half of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 電極 3 誘電体層 4 障壁形成層 5 レジスト 6 マスク 7 レジストパターン 8 障壁 1 Substrate 2 Electrode 3 Dielectric Layer 4 Barrier Forming Layer 5 Resist 6 Mask 7 Resist Pattern 8 Barrier

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも低融点ガラス粉末と耐火物フ
ィラーとバインダー樹脂と溶剤とを含むプラズマディス
プレイパネルの障壁形成用塗工液において、前記溶剤の
沸点が常圧にて150℃以下であることを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネルの障壁形成用塗工液。
1. A coating liquid for forming a barrier of a plasma display panel, which comprises at least a low-melting glass powder, a refractory filler, a binder resin and a solvent, wherein the boiling point of the solvent is 150 ° C. or lower at normal pressure. A characteristic coating liquid for barrier formation in plasma display panels.
【請求項2】 前記バインダー樹脂が、セルロース系樹
脂、アクリル系樹脂の何れかを主体とし、前記溶剤を除
いた成分中の樹脂含有率が1〜4重量%であることを特
徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイパネルの
障壁形成用塗工液。
2. The binder resin is mainly composed of a cellulosic resin or an acrylic resin, and the resin content of the components excluding the solvent is 1 to 4% by weight. 1. A coating liquid for forming a barrier for a plasma display panel according to 1.
【請求項3】 少なくとも低融点ガラス粉末と耐火物フ
ィラーとバインダー樹脂と溶剤とを含む混合物であっ
て、その溶剤の沸点が常圧にて150℃以下である混合
物を、ボールミルにより分散調合することを特徴とする
プラズマディスプレイパネルの障壁形成用塗工液の製造
方法。
3. A ball mill is used to disperse and blend a mixture containing at least a low-melting glass powder, a refractory filler, a binder resin, and a solvent, the boiling point of the solvent being 150 ° C. or less at normal pressure. A method for producing a coating liquid for forming a barrier of a plasma display panel, the method comprising:
【請求項4】 前記混合物中のバインダー樹脂が、セル
ロース系樹脂、アクリル系樹脂の何れかを主体とし、前
記溶剤を除いた成分中の樹脂含有率が1〜4重量%であ
ることを特徴とする請求項3記載のプラズマディスプレ
イパネルの障壁形成用塗工液の製造方法。
4. The binder resin in the mixture is mainly composed of a cellulosic resin or an acrylic resin, and the resin content of the components excluding the solvent is 1 to 4% by weight. The method for producing a coating liquid for forming a barrier of a plasma display panel according to claim 3.
【請求項5】 少なくとも低融点ガラス粉末と耐火物フ
ィラーとバインダー樹脂と溶剤とを含み、前記溶剤の沸
点が常圧にて150℃以下である塗工液を使用するプラ
ズマディスプレイパネルの障壁形成方法であって、該塗
工液を対象物上にベタ塗工して障壁形成層を形成した
後、該障壁形成層上に設けたレジストパターンを介して
サンドブラスト加工を行うことで障壁形成層をパターニ
ングする工程を含むことを特徴とするプラズマディスプ
レイパネルの障壁形成方法。
5. A method for forming a barrier of a plasma display panel, which uses a coating liquid containing at least a low-melting glass powder, a refractory filler, a binder resin and a solvent, and the boiling point of the solvent is 150 ° C. or lower at atmospheric pressure. That is, the coating liquid is solidly coated on an object to form a barrier forming layer, and then the barrier forming layer is patterned by sandblasting through a resist pattern provided on the barrier forming layer. A method of forming a barrier in a plasma display panel, comprising:
【請求項6】 前記バインダー樹脂が、セルロース系樹
脂、アクリル系樹脂の何れかを主体とし、前記溶剤を除
いた成分中の樹脂含有率が1〜4重量%である塗工液を
用いたことを特徴とする請求項5記載のプラズマディス
プレイパネルの障壁形成方法。
6. A coating liquid in which the binder resin is mainly a cellulose resin or an acrylic resin, and the resin content of the components excluding the solvent is 1 to 4% by weight. The method for forming a barrier of a plasma display panel according to claim 5.
JP12462495A 1995-05-24 1995-05-24 Plasma display panel barrier forming application liquid, its manufacture, and barrier forming method Pending JPH08321257A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12462495A JPH08321257A (en) 1995-05-24 1995-05-24 Plasma display panel barrier forming application liquid, its manufacture, and barrier forming method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12462495A JPH08321257A (en) 1995-05-24 1995-05-24 Plasma display panel barrier forming application liquid, its manufacture, and barrier forming method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08321257A true JPH08321257A (en) 1996-12-03

Family

ID=14890028

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12462495A Pending JPH08321257A (en) 1995-05-24 1995-05-24 Plasma display panel barrier forming application liquid, its manufacture, and barrier forming method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08321257A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990027577A (en) * 1997-09-30 1999-04-15 김영남 Dielectric layer of AC plasma display device
US6194333B1 (en) * 1998-04-30 2001-02-27 Lg Electronics Inc. Dielectric composition for plasma display panel
JP2001072418A (en) * 1999-06-30 2001-03-21 Sumitomo Chem Co Ltd Production of magnesium titanate powder
JP2001072434A (en) * 1999-06-30 2001-03-21 Sumitomo Chem Co Ltd Inorganic filler for compounding of glass paste
FR2808020A1 (en) 2000-04-19 2001-10-26 Sumitomo Chemical Co GLASS PULP CONTAINING MINERAL POWDER FOR PLASMA DISPLAY PANEL
FR2818798A1 (en) * 2000-12-22 2002-06-28 Thomson Multimedia Sa METHOD OF MANUFACTURING A NETWORK OF BARRIERS IN MINERAL MATERIAL ON A SLAB FOR A PLASMA DISPLAY PANEL

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990027577A (en) * 1997-09-30 1999-04-15 김영남 Dielectric layer of AC plasma display device
US6194333B1 (en) * 1998-04-30 2001-02-27 Lg Electronics Inc. Dielectric composition for plasma display panel
JP2001072418A (en) * 1999-06-30 2001-03-21 Sumitomo Chem Co Ltd Production of magnesium titanate powder
JP2001072434A (en) * 1999-06-30 2001-03-21 Sumitomo Chem Co Ltd Inorganic filler for compounding of glass paste
FR2808020A1 (en) 2000-04-19 2001-10-26 Sumitomo Chemical Co GLASS PULP CONTAINING MINERAL POWDER FOR PLASMA DISPLAY PANEL
US6825140B2 (en) 2000-04-19 2004-11-30 Sumitomo Chemical Company, Limited Glass paste
FR2818798A1 (en) * 2000-12-22 2002-06-28 Thomson Multimedia Sa METHOD OF MANUFACTURING A NETWORK OF BARRIERS IN MINERAL MATERIAL ON A SLAB FOR A PLASMA DISPLAY PANEL

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4654864B2 (en) Method for manufacturing plasma display panel
KR20040104790A (en) Plasma display panel barrier rib using black resist and manufacturing method thereof
JPH08321257A (en) Plasma display panel barrier forming application liquid, its manufacture, and barrier forming method
EP1495480A1 (en) Method of manufacturing barrier ribs for pdp by etching of thick film using water-based solution and compositions therefor
US7339318B2 (en) Plate for a plasma panel with reinforced porous barriers
JPH11185601A (en) Manufacture of plasma display
JP3619605B2 (en) Pattern forming material, thick film pattern forming method, and plasma display panel
JP2000327371A (en) Glass paste and production of member for display panel using the same
JP2000164121A (en) Paste for forming barrier rib for plasma display panel, and method of forming barrier rib
JP4337535B2 (en) Patterned glass layer forming glass paste, patterned glass layer forming photosensitive film, and method for producing display panel member using the same
JP3979813B2 (en) Method for manufacturing substrate for plasma display panel
KR20040010277A (en) Photosensitive glass paste composition and plasma display panel
JP3568344B2 (en) Method for forming barrier of plasma display panel
JP4135385B2 (en) Display member inspection method and display member manufacturing method using the same
JP3521995B2 (en) Method for forming barrier of plasma display panel
JPH10177839A (en) Barrier rib forming method for plasma display panel
JPH10255668A (en) Plasma display panel and its manufacture
JPH10241579A (en) Plasma display backside substrate and its manufacture
JP2001035366A (en) Barrier rib forming method of plasma display panel
JP3666937B2 (en) Thick film pattern forming method
JP4329155B2 (en) Method for regenerating substrate and method for manufacturing back plate for plasma display
JP2000208042A (en) Barrier-rib forming method for plasma display panel
KR100651672B1 (en) Inorganic film, a member for pdp using the same and method of manufacturing them
JP4106766B2 (en) Display substrate manufacturing method
JPH1190826A (en) Barrier forming sheet composition and glass paste composition for plasma display panel

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040218