JP2007297265A - Glass for covering electrode, electric wiring-formed glass plate and plasma display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガラス基板上にITO(スズがドープされた酸化インジウム)、酸化スズ等の透明電極等が形成されている場合にこれら電極を絶縁被覆するのに好適な電極被覆用ガラス、電気配線形成ガラス板およびプラズマディスプレイ装置(PDP)に関する。 The present invention relates to a glass for electrode coating and an electric wiring suitable for insulatingly coating these electrodes when transparent electrodes such as ITO (indium oxide doped with tin) and tin oxide are formed on a glass substrate. The present invention relates to a formed glass plate and a plasma display device (PDP).
PDPは代表的な大画面フルカラー表示装置である。
PDPは、表示面として使用される前面基板と多数のストライプ状またはワッフル状の隔壁が形成された背面基板とを対向させて封着し、それら基板間に放電ガスを封入して製造される。
PDP is a typical large-screen full-color display device.
The PDP is manufactured by sealing a front substrate used as a display surface and a rear substrate on which a large number of stripe-shaped or waffle-shaped barrier ribs are formed facing each other, and enclosing a discharge gas between the substrates.
前面基板は、前面ガラス基板上に面放電を発生する複数の表示電極対が形成されており、それら電極対が透明ガラスによって被覆されているものである。
背面基板は、背面ガラス基板上に前記表示電極対と直交するアドレス電極が形成され、そのアドレス電極がガラス(通常は着色ガラス)によって被覆され、その上に隔壁、蛍光体層が形成されているものである。
In the front substrate, a plurality of display electrode pairs that generate surface discharge are formed on a front glass substrate, and these electrode pairs are covered with transparent glass.
In the rear substrate, address electrodes orthogonal to the display electrode pair are formed on the rear glass substrate, the address electrodes are covered with glass (usually colored glass), and barrier ribs and phosphor layers are formed thereon. Is.
前面基板および背面基板におけるガラスによる電極被覆は、ガラス粉末を含有するグリーンシートを電極上に転写後焼成する、ガラス粉末を含有するペーストを電極上に塗布後焼成する、等の方法によって行われる。
しかし、このような焼成を行うことによりこれら基板に反りが生ずることがあり、この問題を解決するために焼成後の冷却を特殊な方法で行うことが提案されている(特許文献1参照)。
Electrode coating with glass on the front substrate and the rear substrate is performed by a method of transferring a green sheet containing glass powder onto the electrode and baking it, or applying a paste containing glass powder on the electrode and baking it.
However, such firing may cause warpage of these substrates, and in order to solve this problem, it has been proposed to perform cooling after firing by a special method (see Patent Document 1).
従来の電極被覆用ガラスは先に述べたような反りを生じやすいものであると考えられるが、PDPの製造時にたとえば特許文献1で提案されているような方法をとることによって反りの問題が解決されていると考えられる。
しかし、反りが生じにくい電極被覆用ガラスが得られればPDPの製造時にこのような特殊な方法をとる必要がなくなることが期待される。
本発明はこのような問題を解決できる電極被覆用ガラス、電気配線形成ガラス板およびPDPの提供を目的とする。
The conventional electrode coating glass is considered to be prone to warp as described above, but the warp problem can be solved by adopting the method proposed in Patent Document 1, for example, when manufacturing a PDP. It is thought that.
However, if an electrode coating glass that is less likely to warp is obtained, it is expected that there is no need to take such a special method when manufacturing a PDP.
An object of the present invention is to provide an electrode coating glass, an electrical wiring forming glass plate, and a PDP that can solve such problems.
本発明は、下記酸化物基準のモル%表示で、B2O3 30〜47%、SiO2 25〜42%、ZnO 5〜17%、Li2O+Na2O+K2O 9〜17%、から本質的になり、Li2OおよびNa2Oのいずれか一方または両方とK2Oとを含有し、Li2Oを含有する場合その含有量が2.5%以下であり、PbOを含有しない電極被覆用ガラス(本発明のガラス)を提供する。 The present invention is essentially by mole% based on the following oxides, B 2 O 3 30~47%, SiO 2 25~42%, ZnO 5~17%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 9~17%, from manner becomes, contains either one or both and K 2 O of Li 2 O and Na 2 O, and the content is 2.5% or less when they contain Li 2 O, electrodes containing no PbO A glass for coating (the glass of the present invention) is provided.
また、本発明のガラスであって、Na2O/K2Oが0.25未満であり、Li2Oが0.1〜2.5%である電極被覆用ガラス(第1のガラス)を提供する。
また、本発明のガラスであって、Na2O/K2Oが0.25〜1であり、Li2Oを含有する場合その含有量が1.5%以下である電極被覆用ガラス(第2のガラス)を提供する。
また、本発明のガラスであって、Na2O/K2Oが1超であり、Li2Oを含有しない電極被覆用ガラス(第3のガラス)を提供する。
Further, a glass of the present invention, Na 2 O / K 2 O is less than 0.25, glass for covering electrodes Li 2 O is 0.1 to 2.5 percent (first glass) provide.
Further, a glass of the present invention, Na 2 O / K 2 O is 0.25 to 1, the glass for covering electrodes content of 1.5% or less (the case containing Li 2 O 2 glass).
Further, a glass of the present invention, Na 2 O / K 2 O is greater than 1, to provide a glass for covering electrodes containing no Li 2 O (third glass).
また、本発明のガラスであって、Na2Oが4〜8%、K2Oが5〜10%、MgO、CaO、SrOまたはBaOを含有する場合それらの含有量の合計が11%以下、CuO、CeO2またはCoOを含有する場合それらの含有量の合計が3%以下であり、B2O3、SiO2、ZnO、Li2O、Na2O、K2O、MgO、CaO、SrO、BaO、CuO、CeO2およびCoOの含有量の合計が90%以上である電極被覆用ガラス(第4のガラス)を提供する。 Further, when the glass of the present invention contains Na 2 O 4-8%, K 2 O 5-10%, MgO, CaO, SrO or BaO, the total content thereof is 11% or less, When CuO, CeO 2 or CoO is contained, the total content thereof is 3% or less, B 2 O 3 , SiO 2 , ZnO, Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, MgO, CaO, SrO Provided is a glass for electrode coating (fourth glass) in which the total content of BaO, CuO, CeO 2 and CoO is 90% or more.
また、ガラス板上に電気配線パターンが形成されており、その電気配線パターンが前記電極被覆用ガラスにより被覆されている電気配線形成ガラス板を提供する。
また、表示面として使用される前面ガラス基板、背面ガラス基板および隔壁によりセルが区画形成されているPDPであって、前面ガラス基板上の透明電極が前記電極被覆用ガラスにより被覆されているPDPを提供する。
Moreover, the electrical wiring pattern is formed on the glass plate, The electrical wiring formation glass plate with which the electrical wiring pattern is coat | covered with the said glass for electrode coating is provided.
A PDP in which cells are defined by a front glass substrate, a rear glass substrate, and partition walls used as a display surface, wherein a transparent electrode on the front glass substrate is coated with the electrode coating glass. provide.
本発明者は、B2O3を30〜47モル%、SiO2を30〜42モル%、ZnOを5〜17モル%およびK2Oをそれぞれ含有する種々の組成の無鉛ガラスをPDP用ガラス基板上に塗布後焼成し、ガラス層が形成された基板の反りを後述する方法で測定したところ、ガラス層が形成されていない基板面が凹状になったときを反りが負、同基板面が凸状になったときを反りが正として、Li2OおよびNa2Oのいずれも含有しないものは反りが大きく、また、Li2Oの含有量を増加させると反りが増加することを見出し、本発明に至った。 The present inventor has, B 2 O 3 and 30 to 47 mol%, a SiO 2 30 to 42 mol%, glass for PDP unleaded glass of various compositions containing ZnO 5 to 17 mol% and K 2 O, respectively When the warpage of the substrate on which the glass layer was formed was measured by the method described later, the warpage was negative when the substrate surface on which the glass layer was not formed became concave, and the substrate surface was When warping is positive, warping is positive, and those containing neither Li 2 O nor Na 2 O are found to have large warping, and when the content of Li 2 O is increased, the warping increases. The present invention has been reached.
また、Li2Oを含有しないガラスについて、Na2OとK2Oのモル比(Na2O/K2O)が0から1まで増加するのにともない反りは負の値から正の値に単調に増加し、Na2O/K2Oが1を超えるとその増加率が小さくなることを見出し、本発明の好ましい態様に至った。 Further, with respect to the glass not containing Li 2 O, the warpage is changed from a negative value to a positive value as the molar ratio of Na 2 O to K 2 O (Na 2 O / K 2 O) increases from 0 to 1. It increased monotonously, and when Na 2 O / K 2 O exceeded 1, the increase rate was found to be small, and the preferred embodiment of the present invention was achieved.
本発明のガラスを用いてPDP前面基板の電極被覆を行うことにより、前面基板の反りを小さくできる。 By performing electrode coating of the PDP front substrate using the glass of the present invention, the warpage of the front substrate can be reduced.
本発明のガラスは通常、粉末化して電極被覆に用いられる。なお、粉末化は通常、ガラスを粉砕後分級して行われる。
ガラスペーストを用いて電極被覆を行う場合、粉末化された本発明のガラス(以下、本発明のガラス粉末という。)はビヒクルと混練されガラスペーストとされる。このガラスペーストは、たとえば透明電極等の電極が形成されているガラス基板に塗布、焼成され、当該電極を被覆するガラス層が形成される。なお、PDP前面基板の製造においては焼成は典型的には600℃以下の温度で行われる。
グリーンシートを用いて電極被覆を行う場合、本発明のガラス粉末は樹脂と混練され、得られた混練物はポリエチレンフィルム等の支持フィルムの上に塗布されてグリーンシートとされる。このグリーンシートはたとえばガラス基板上に形成された電極上に転写後、焼成され、当該電極を被覆するガラス層が形成される。
The glass of the present invention is usually powdered and used for electrode coating. In addition, powdering is normally performed by classifying glass after pulverization.
When electrode coating is performed using a glass paste, the powdered glass of the present invention (hereinafter referred to as the glass powder of the present invention) is kneaded with a vehicle to form a glass paste. This glass paste is applied and baked on a glass substrate on which an electrode such as a transparent electrode is formed, for example, to form a glass layer covering the electrode. In the production of the PDP front substrate, firing is typically performed at a temperature of 600 ° C. or lower.
When electrode coating is performed using a green sheet, the glass powder of the present invention is kneaded with a resin, and the obtained kneaded product is coated on a support film such as a polyethylene film to form a green sheet. This green sheet is transferred onto an electrode formed on a glass substrate, for example, and then baked to form a glass layer covering the electrode.
本発明のガラス粉末の質量平均粒径(D50)は0.5μm以上であることが好ましい。0.5μm未満では粉末化に要する時間が長くなりすぎるおそれがある。より好ましくは0.7μm以上である。また、前記質量平均粒径は4μm以下であることが好ましい。より好ましくは3μm以下である。
本発明のガラス粉末の最大粒径は20μm以下であることが好ましい。20μm超では、厚みを通常30μm以下とすることが求められるPDPの電極被覆ガラス層の形成に用いようとすると当該ガラス層の表面に凹凸が発生し、PDPの画像がゆがむおそれがある。より好ましくは10μm以下である。
The glass powder of the present invention preferably has a mass average particle diameter (D 50 ) of 0.5 μm or more. If it is less than 0.5 μm, the time required for pulverization may be too long. More preferably, it is 0.7 μm or more. The mass average particle diameter is preferably 4 μm or less. More preferably, it is 3 μm or less.
The maximum particle size of the glass powder of the present invention is preferably 20 μm or less. If it exceeds 20 μm, if it is used to form an electrode-covered glass layer of PDP that is usually required to have a thickness of 30 μm or less, irregularities are generated on the surface of the glass layer, and the image of PDP may be distorted. More preferably, it is 10 μm or less.
本発明のガラスの50〜350℃における平均線膨張係数(α)は65×10−7〜90×10−7/℃であることが好ましく、典型的には65×10−7〜85×10−7/℃である。
本発明のガラスの軟化点(Ts)は630℃以下であることが好ましい。630℃超では600℃以下の温度での焼成によっては緻密な焼成層(ガラス層)を得にくくなるおそれがある。より好ましくは600℃以下である。
The average linear expansion coefficient (α) of the glass of the present invention at 50 to 350 ° C. is preferably 65 × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C., typically 65 × 10 −7 to 85 × 10. -7 / ° C.
The glass of the present invention preferably has a softening point (Ts) of 630 ° C. or lower. If it exceeds 630 ° C., it may be difficult to obtain a dense fired layer (glass layer) by firing at a temperature of 600 ° C. or lower. More preferably, it is 600 degrees C or less.
本発明のガラスはその1MHzにおける比誘電率(ε)を低くしたい場合、たとえば8未満にしたい場合に好適であり、そのεは典型的には6〜7である。 The glass of the present invention is suitable when it is desired to lower its relative dielectric constant (ε) at 1 MHz, for example, less than 8, and the ε is typically 6 to 7.
後述する方法で本発明のガラスからなるガラス層が形成された基板を測定して得られた反り(W)は−50〜50μmの範囲にあることが好ましく、より好ましくは−30〜30μmである。以下では、反りという語は原則として反りが凹状であるか凸状であるかを問題とせずその大きさ(Wの絶対値)を問題とするときに使用する。 The warp (W) obtained by measuring the substrate on which the glass layer made of the glass of the present invention is formed by the method described later is preferably in the range of −50 to 50 μm, more preferably −30 to 30 μm. . In the following, the term “warp” is used when, as a general rule, it does not matter whether the warp is concave or convex, but the magnitude (the absolute value of W).
次に、本発明のガラスの組成について説明する。なお、以下ではモル%を単に%と表示する。
B2O3はガラスを安定化させる、またはTsを下げる成分であり、必須である。30%未満ではガラス化が困難になる。好ましくは32%以上である。47%超ではTsがかえって高くなる、または分相が起こりやすくなる。好ましくは45%以下、より好ましくは42%以下、典型的には40%以下である。
SiO2はガラスの骨格をなす成分であり、必須である。25%未満ではガラス化しにくくなる。好ましくは30%以上、より好ましくは32%以上である。42%超ではTsが高くなりすぎる。好ましくは40%以下、より好ましくは38%以下である。
Next, the composition of the glass of the present invention will be described. Hereinafter, mol% is simply expressed as%.
B 2 O 3 is a component that stabilizes the glass or lowers Ts and is essential. If it is less than 30%, vitrification becomes difficult. Preferably it is 32% or more. If it exceeds 47%, Ts becomes rather high, or phase separation tends to occur. It is preferably 45% or less, more preferably 42% or less, and typically 40% or less.
SiO 2 is a component constituting a glass skeleton and is essential. If it is less than 25%, it becomes difficult to vitrify. Preferably it is 30% or more, more preferably 32% or more. If it exceeds 42%, Ts becomes too high. Preferably it is 40% or less, More preferably, it is 38% or less.
ZnOはTsを下げる、またはαを小さくする成分であり、必須である。5%未満ではTsが高くなる。好ましくは10%以上である。17%超では焼成時に結晶が析出しやすくなる。好ましくは15%以下、Tsをより下げたい等の場合には典型的には12%以下である。 ZnO is a component that lowers Ts or reduces α, and is essential. If it is less than 5%, Ts becomes high. Preferably it is 10% or more. If it exceeds 17%, crystals tend to precipitate during firing. It is preferably 15% or less, and is typically 12% or less when it is desired to lower Ts.
Li2O、Na2OおよびK2Oはガラス化しやすくする、またはTsを下げる成分であり、Li2OおよびNa2Oのいずれか一方または両方とK2Oとを含有しなければならない。
これら3成分の含有量の合計R2Oが9%未満ではTsが高くなる。典型的には10%以上である。R2Oが17%超ではαが大きくなる。典型的には15%以下である。
Li2OおよびNa2Oのいずれも含有しない、またはK2Oを含有しないものであると、反りが大きくなる。
Li2Oを含有する場合その含有量が2.5%超では反りが大きくなる。
Na2OおよびK2Oの含有量の合計は典型的には10.5%以上である。
Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are components that facilitate vitrification or lower Ts, and must contain one or both of Li 2 O and Na 2 O and K 2 O.
When the total R 2 O content of these three components is less than 9%, Ts becomes high. Typically 10% or more. When R 2 O exceeds 17%, α increases. Typically 15% or less.
If neither Li 2 O nor Na 2 O is contained, or K 2 O is not contained, warpage increases.
When Li 2 O is contained, if its content exceeds 2.5%, the warpage becomes large.
The total content of Na 2 O and K 2 O is typically 10.5% or more.
本発明のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。その場合における上記成分以外の成分の含有量の合計は好ましくは12%以下、より好ましくは10%以下、典型的には5%以下である。
たとえば、Tsを下げる、またはαを小さくする等のためにMgO、CaO、SrOまたはBaOを、これら4成分の含有量の合計ROが11%以下の範囲で含有してもよい場合がある。11%超ではガラス化が困難になるおそれがある。ROは典型的には7%以下である。
The glass of the present invention consists essentially of the above components, but may contain other components as long as the object of the present invention is not impaired. In this case, the total content of components other than the above components is preferably 12% or less, more preferably 10% or less, and typically 5% or less.
For example, there are cases where MgO, CaO, SrO or BaO may be contained within a range where the total RO of these four components is 11% or less in order to lower Ts or reduce α. If it exceeds 11%, vitrification may be difficult. RO is typically 7% or less.
また、焼成時における脱バインダが不足して焼成後のガラス中にカーボンが残留してそのガラスが着色する現象を抑制したい場合などにはCuO、CeO2またはCoOをこれら3成分の含有量合計が3%まで含有してもよい場合がある。前記合計が3%超ではガラスの着色がかえって顕著になる。典型的には1.5%以下である。
これら3成分のいずれかを含有する場合、CuOを1.5%以下の範囲で含有することが典型的である。
In addition, when it is desired to suppress the phenomenon that carbon is left in the glass after baking due to insufficient binder removal at the time of baking, the total content of these three components is CuO, CeO 2 or CoO. It may be contained up to 3%. If the total exceeds 3%, the coloring of the glass becomes rather remarkable. Typically, it is 1.5% or less.
When one of these three components is contained, it is typical that CuO is contained in a range of 1.5% or less.
また、焼結性向上等のためにBi2O3を5%まで含有してもよいが、Bi2O3には資源問題等が存在するのでこの観点からはBi2O3は含有しないものとすることが好ましい。
この他に、Al2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、MnO2等の成分が例示される。これら成分は通常、α、Ts、化学的耐久性、ガラスの安定性、ガラス被覆層の透過率などの調整、銀発色現象の抑制などの目的で添加される。
なお、本発明のガラスはPbOを含有しない。
In addition, Bi 2 O 3 may be contained up to 5% for improving the sinterability, but Bi 2 O 3 does not contain Bi 2 O 3 from this point of view because there are resource problems and the like. It is preferable that
In addition, components such as Al 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , and MnO 2 are exemplified. These components are usually added for the purposes of adjusting α, Ts, chemical durability, glass stability, transmittance of the glass coating layer, and suppressing silver coloring phenomenon.
The glass of the present invention does not contain PbO.
前記第1のガラスはNa2O/K2Oが0.25未満であり、Li2Oを0.1〜2.5%含有することによりWの絶対値をたとえば40μm以下にしようとするものである。
Na2O/K2Oが0すなわちNa2Oを含有しない場合、Li2Oは1〜2%であることが好ましく、典型的には1.3〜1.7である。Na2O/K2Oが0超0.04以下の場合も同様である。
The first glass has Na 2 O / K 2 O of less than 0.25 and contains 0.1 to 2.5% of Li 2 O, so that the absolute value of W is set to 40 μm or less, for example. It is.
When Na 2 O / K 2 O is 0, that is, when Na 2 O is not contained, Li 2 O is preferably 1 to 2%, and typically 1.3 to 1.7. The same applies when Na 2 O / K 2 O is more than 0 and 0.04 or less.
Na2O/K2Oが0.04超0.2以下の場合、Li2Oは典型的には0.5〜1.5%である。
Na2O/K2Oが0.2超0.25未満の場合、Li2Oは典型的には0.1〜1.3%である。
When Na 2 O / K 2 O is more than 0.04 and 0.2 or less, Li 2 O is typically 0.5 to 1.5%.
When Na 2 O / K 2 O is more than 0.2 and less than 0.25, Li 2 O is typically 0.1 to 1.3%.
Na2Oを含有する場合の典型的な含有量は3.5%以下である。
また、K2Oの典型的な含有量は9〜14%である。
第1のガラスは焼結性を高めてガラス層の透明性を向上させたい場合などに好適な態様である。
A typical content in the case of containing Na 2 O is 3.5% or less.
The typical content of K 2 O is 9 to 14%.
The first glass is a suitable mode when it is desired to improve the transparency of the glass layer by increasing the sinterability.
前記第2のガラスはNa2O/K2Oが0.25〜1であり、Li2Oを含有する場合その含有量を1.5%以下とすることによりWの絶対値をたとえば40μm以下にしようとするものである。
Na2O/K2Oが0.25以上0.4未満の場合、Wの絶対値をより小さくしようとすればLi2Oを含有することが好ましく、その典型的な含有量は0.1〜1.3%である。
The second glass has Na 2 O / K 2 O of 0.25 to 1, and when Li 2 O is contained, the absolute value of W is, for example, 40 μm or less by setting the content to 1.5% or less. It is something to try.
When Na 2 O / K 2 O is 0.25 or more and less than 0.4, it is preferable to contain Li 2 O in order to make the absolute value of W smaller, and the typical content thereof is 0.1 ~ 1.3%.
Na2O/K2Oが0.4以上1以下の場合、Li2Oは含有しないことが好ましく、含有するとしても0.5%以下であることが好ましい。 When Na 2 O / K 2 O is 0.4 or more and 1 or less, Li 2 O is preferably not contained, and even if it is contained, it is preferably 0.5% or less.
Na2Oの典型的な含有量は2〜8%、K2Oの典型的な含有量は5〜13%である。
第2のガラスは、銀電極被覆に用いたときに起こりやすい焼成時のいわゆる銀発色を抑制したい場合などに好適な態様である。
The typical content of Na 2 O is 2-8% and the typical content of K 2 O is 5-13%.
The second glass is a mode suitable for the case where it is desired to suppress so-called silver color development at the time of firing, which is likely to occur when used for silver electrode coating.
前記第3のガラスはNa2O/K2Oが1超であり、Li2Oを含有しないものとすることによりWの絶対値をたとえば50μm以下にしようとするものである。なお、Na2O/K2Oは典型的には2以下である。
Na2Oの典型的な含有量は5〜10%である。
The third glass has Na 2 O / K 2 O of more than 1 and does not contain Li 2 O, so that the absolute value of W is set to 50 μm or less, for example. Na 2 O / K 2 O is typically 2 or less.
Typical content of Na 2 O is from 5 to 10%.
前記第4のガラスは、B2O3、SiO2、ZnO、Li2O、Na2O、K2O、MgO、CaO、SrO、BaO、CuO、CeO2およびCoOの各成分以外の成分を、本発明の目的を損なわない範囲で合計で10%以下含有してもよく、好ましくはその合計は5%以下である。
第4のガラスは典型的にはLi2Oを含有しない。
The fourth glass contains components other than B 2 O 3 , SiO 2 , ZnO, Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, MgO, CaO, SrO, BaO, CuO, CeO 2 and CoO. In the range not impairing the object of the present invention, the total content may be 10% or less, and preferably the total is 5% or less.
The fourth glass typically does not contain Li 2 O.
本発明のガラスは先にも述べたようにεを低くしてたとえばεを6〜7にしたい場合などに好適なものであるが、εをそれほど低くはしたくない場合には次のようなガラス(ガラスA)、すなわち、下記酸化物基準のモル%表示で、B2O3 33〜42%、SiO2 5〜12%、ZnO 28〜45%、Li2O+Na2O+K2O 3〜8%、Li2O 0〜4%、MgO+CaO+SrO+BaO 5〜20%、BaO 5〜15%、CuO+CeO2+CoO 0〜3%、から実質的になり、PbOを含有しないガラスが好適な態様であり、そのεは典型的には8〜9である。 As described above, the glass of the present invention is suitable when ε is lowered to make ε 6-7, for example, but when ε is not desired to be so low, glass (glass a), i.e., by mol% based on the following oxides, B 2 O 3 33~42%, SiO 2 5~12%, ZnO 28~45%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 3~8 %, Li 2 O 0-4%, MgO + CaO + SrO + BaO 5-20%, BaO 5-15%, CuO + CeO 2 + CoO 0-3%, and a glass containing no PbO is a preferred embodiment, and its ε Is typically 8-9.
以下で、ガラスAの組成について説明する。
B2O3はガラスを安定化させる、またはTsを下げる成分であり、必須である。33%未満ではガラス化が困難になる、またはTsが高くなる。典型的には34%以上である。42%超ではガラス化がかえって困難になる。好ましくは42%以下、典型的には40%以下である。
SiO2はガラスの骨格をなす成分であり、必須である。5%未満ではガラス化が困難になる。典型的には7%以上である。12%超ではTsが高くなりすぎる。典型的には11%以下である。
Hereinafter, the composition of the glass A will be described.
B 2 O 3 is a component that stabilizes the glass or lowers Ts and is essential. If it is less than 33%, vitrification becomes difficult, or Ts becomes high. Typically, it is 34% or more. If it exceeds 42%, vitrification becomes rather difficult. Preferably it is 42% or less, typically 40% or less.
SiO 2 is a component constituting a glass skeleton and is essential. If it is less than 5%, vitrification becomes difficult. Typically 7% or more. If it exceeds 12%, Ts becomes too high. Typically 11% or less.
ZnOはTsを下げる、またはαを小さくする成分であり、必須である。28%未満ではTsが高くなる。45%超ではガラス化が困難になる、または焼成時に結晶が析出しやすくなる。好ましくは42%以下である。ZnOは典型的には30〜40%である。 ZnO is a component that lowers Ts or reduces α, and is essential. If it is less than 28%, Ts becomes high. If it exceeds 45%, vitrification becomes difficult, or crystals tend to precipitate during firing. Preferably it is 42% or less. ZnO is typically 30-40%.
Li2O、Na2OおよびK2Oはガラス化しやすくする、またはTsを下げる効果を有する成分であり、いずれか1種以上を含有しなければならない。これら3成分の含有量の合計R2Oが3%未満では前記効果が小さい。典型的には4%以上である。R2Oが8%超ではαが大きくなる。
Li2Oを含有する場合その含有量が4%超では反りが大きくなる。典型的には3%以下である。
Na2Oを含有する場合その含有量は典型的には4%以下である。
K2Oは2%以上含有することが好ましい。2%未満では反りが大きくなるおそれがある。この場合、K2Oの含有量は典型的には6%以下である。
Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are components that have the effect of facilitating vitrification or lowering Ts, and must contain at least one of them. If the total R 2 O content of these three components is less than 3%, the effect is small. Typically 4% or more. If R 2 O exceeds 8%, α increases.
When Li 2 O is contained, if its content exceeds 4%, the warp becomes large. Typically 3% or less.
When Na 2 O is contained, its content is typically 4% or less.
It is preferable to contain 2% or more of K 2 O. If it is less than 2%, warping may increase. In this case, the content of K 2 O is typically 6% or less.
BaOはTsを下げる成分であり、必須である。5%未満ではTsが高くなる。典型的には6%以上である。15%超ではαが大きくなる。典型的には13%以下である。
反りを小さくしたい場合、B2O3が38%以下、ZnOが32%以上かつBaOが11%以下であることが好ましい。
BaO is a component that lowers Ts and is essential. If it is less than 5%, Ts becomes high. Typically 6% or more. If it exceeds 15%, α becomes large. Typically 13% or less.
When it is desired to reduce the warp, it is preferable that B 2 O 3 is 38% or less, ZnO is 32% or more, and BaO is 11% or less.
MgO、CaOおよびSrOはいずれも必須ではないが、Tsを下げる、またはαを小さくする等のために、これら3成分とBaOの含有量の合計ROが20%になるまでは含有してもよい。20%超ではガラス化が困難になるおそれがある。ROは典型的には8〜18%である。
CaOを含有する場合その含有量は5%以下であることが好ましい。5%超では焼成時に結晶が析出しやすくなる。
MgO, CaO and SrO are not essential, but may be contained until the total RO of the contents of these three components and BaO reaches 20% in order to lower Ts or reduce α. . If it exceeds 20%, vitrification may be difficult. RO is typically 8-18%.
When CaO is contained, the content is preferably 5% or less. If it exceeds 5%, crystals tend to precipitate during firing.
CuO、CeO2およびCoOはいずれも必須ではないが、焼成時における脱バインダが不足して焼成後のガラス中にカーボンが残留してそのガラスが着色する現象を抑制したい場合などにはいずれか1種以上をこれら3成分の含有量合計が3%以下の範囲で含有することが好ましい。前記合計が3%超ではガラスの着色がかえって顕著になる。典型的には1.5%以下である。
これら3成分のいずれかを含有する場合、CuOを1.5%以下の範囲で含有することが典型的であり、0.3〜1%の範囲が例示される。
CuO, CeO 2, and CoO are not essential, but any one is used to suppress the phenomenon that the binder is not enough during firing and carbon remains in the fired glass and the glass is colored. It is preferable to contain at least seeds in a range where the total content of these three components is 3% or less. If the total exceeds 3%, the coloring of the glass becomes rather remarkable. Typically, it is 1.5% or less.
When it contains any of these three components, it is typical to contain CuO in a range of 1.5% or less, and a range of 0.3 to 1% is exemplified.
ガラスAは実質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。その場合における上記成分以外の成分の含有量の合計は好ましくは10%以下、典型的には5%以下である。
そのような成分として、Al2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、MnO2等が例示される。これら成分は通常、α、Ts、化学的耐久性、ガラスの安定性、ガラス被覆層の透過率などの調整、銀発色現象の抑制などの目的で添加される。
なお、PbOは含有しない。
また、Bi2O3は焼結性向上等のために5%以下の範囲で含有してもよいが、資源問題等が存在するのでBi2O3は含有しないことがより好ましい。
Glass A substantially consists of the above components, but may contain other components as long as the object of the present invention is not impaired. In this case, the total content of components other than the above components is preferably 10% or less, and typically 5% or less.
Examples of such components include Al 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , MnO 2 and the like. These components are usually added for the purpose of adjusting α, Ts, chemical durability, glass stability, the transmittance of the glass coating layer, and suppressing the silver coloring phenomenon.
PbO is not contained.
Bi 2 O 3 may be contained in an amount of 5% or less in order to improve the sinterability, but it is more preferable not to contain Bi 2 O 3 because there are resource problems and the like.
本発明の電気配線形成ガラス板としてはPDP前面基板が典型的であり、この場合における電気配線は表示電極対などによって構成される。
本発明の電気配線形成ガラス板において電極被覆用ガラスにより被覆されている部分の最大径は典型的には14cm以上であり、このようなものにおいて反り抑制の効果が顕著になることが多い。なお、前記最大径とはたとえば前記部分が長方形である場合にはその2本の対角線の長さの大きい方をいい、42インチ以上のPDPに使用する時は106cm以上である。
The electric wiring forming glass plate of the present invention is typically a PDP front substrate, and the electric wiring in this case is constituted by a display electrode pair or the like.
The maximum diameter of the portion covered with the electrode coating glass in the electric wiring forming glass plate of the present invention is typically 14 cm or more, and in such a case, the effect of warpage suppression is often significant. The maximum diameter means, for example, when the portion is rectangular, the longer of the two diagonals, and is 106 cm or more when used for a 42-inch or larger PDP.
本発明のPDPは、電極被覆用ガラスとして本発明のガラスを用いる以外は周知の方法によって製造できる。 The PDP of the present invention can be produced by a known method except that the glass of the present invention is used as the electrode coating glass.
表のB2O3からCoOまたはCuOまでの欄にモル%表示で示した組成となるように原料を調合、混合した。これを、白金坩堝を用いて1250℃にそれぞれ加熱し60分間溶融した。
例1〜9は第1のガラスの実施例、例10〜36は第2のガラスの実施例、例37〜40は第3のガラスの実施例、例41〜48は比較例、例A1〜A6はガラスAの実施例、例A7はガラスAの比較例である。なお、例8、9、32〜36、39、40については先に述べたような溶融は行わず、それらのTs、α、εおよびWの値は組成から推測して求めた。
The raw materials were prepared and mixed so as to have a composition represented by mol% in the column from B 2 O 3 to CoO or CuO in the table. This was heated to 1250 ° C. using a platinum crucible and melted for 60 minutes.
Examples 1-9 are examples of the first glass, Examples 10-36 are examples of the second glass, Examples 37-40 are examples of the third glass, Examples 41-48 are comparative examples, Examples A1- A6 is an example of glass A, and example A7 is a comparative example of glass A. In Examples 8, 9, 32-36, 39, and 40, melting as described above was not performed, and the values of Ts, α, ε, and W were estimated from the composition.
先に述べたようにして得られた溶融ガラスの一部をステンレス鋼製の型枠に流し込み、徐冷した。徐冷されたガラスを長さ20mm、直径5mmの円柱状に加工し、これを試料としてブルカーエイエックスエス社製水平示差検出方式熱膨張計TD5010SA−Nを用いて前記αを測定した。結果を表に示す(単位:10−7/℃)。 A portion of the molten glass obtained as described above was poured into a stainless steel mold and gradually cooled. The slowly cooled glass was processed into a cylindrical shape having a length of 20 mm and a diameter of 5 mm, and α was measured using this as a sample using a horizontal differential detection type thermal expansion meter TD5010SA-N manufactured by Bruker AXS. The results are shown in the table (unit: 10 −7 / ° C.).
残った溶融ガラスの一部をステンレス鋼製ローラーに流し込んでフレーク化した。得られたガラスフレークをアルミナ製のボールミルで16時間乾式粉砕後、気流分級を行い、D50が2〜4μmであるガラス粉末を作製した。
このガラス粉末を試料として示差熱分析装置(DTA)を用いて前記Tsを測定した。結果を表に示す(単位:℃)。
A part of the remaining molten glass was poured into a stainless steel roller to be flaked. The obtained after the glass flakes 16 hours dry grinding in an alumina ball mill, subjected to an air classifier, to prepare a glass powder D 50 is 2-4 [mu] m.
Using the glass powder as a sample, Ts was measured using a differential thermal analyzer (DTA). The results are shown in the table (unit: ° C).
前記溶融ガラスの残部をステンレス鋼製の型枠に流し込み、徐冷した。徐冷されたガラスを直径40mm、厚み3mmの円盤状に加工しその両面に電極としてアルミニウムを蒸着したものをサンプルとし、横河ヒューレットパッカード社製LCRメーター4192Aを用いて電極接触法によって前記εを測定した。結果を表に示す。 The remainder of the molten glass was poured into a stainless steel mold and slowly cooled. Samples obtained by processing slowly cooled glass into a disk shape having a diameter of 40 mm and a thickness of 3 mm and depositing aluminum as electrodes on both sides thereof are used as samples, and the ε is measured by an electrode contact method using an LCR meter 4192A manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Company. It was measured. The results are shown in the table.
また、前記ガラス粉末100gを、α−テルピネオール等にエチルセルロースを10質量%溶解した有機ビヒクル25gと混練してペーストインク(ガラスペースト)を作製し、大きさが100mm×100mm(最大径:141mm)、厚みが1.8mmであるガラス基板(旭硝子社製PD200)上に、焼成後の膜厚が20μmとなるよう均一にスクリーン印刷し、120℃で10分間乾燥した。その後、このガラス基板を昇温速度毎分10℃で570℃まで加熱してその温度に30分間保持して焼成を行い、ガラス基板上にガラス層を形成した。 Further, 100 g of the glass powder was kneaded with 25 g of an organic vehicle in which 10% by mass of ethyl cellulose was dissolved in α-terpineol or the like to prepare a paste ink (glass paste) having a size of 100 mm × 100 mm (maximum diameter: 141 mm), On a glass substrate (PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a thickness of 1.8 mm, screen printing was performed uniformly so that the film thickness after firing was 20 μm, and dried at 120 ° C. for 10 minutes. Then, this glass substrate was heated up to 570 ° C. at a temperature rising rate of 10 ° C. per minute, held at that temperature for 30 minutes, and baked to form a glass layer on the glass substrate.
このガラス層付きガラス基板の対角線上の長さ100mmの部分について、その反りを表面粗さ計を用いて測定した。結果を表に示す(単位:μm)。この反り(W)は±50μm以内であることが望ましい。なお、例28〜31、38のWの値は組成からの推測値である。 The warpage of the portion of the glass substrate with a glass layer having a length of 100 mm on the diagonal line was measured using a surface roughness meter. The results are shown in the table (unit: μm). This warp (W) is preferably within ± 50 μm. In addition, the value of W of Examples 28-31 and 38 is an estimated value from a composition.
PDPの透明電極等を被覆するガラスとして利用できる。 It can be used as glass for covering a PDP transparent electrode or the like.
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