JP2007277016A - Lead-free glass for coating fluorescent flat lamp electrode - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lead-free glass for coating a fluorescent flat lamp electrode. <P>SOLUTION: The lead-free glass for coating the fluorescent flat lamp electrode essentially comprises, in mol%, 20-50% B<SB>2</SB>O<SB>3</SB>, 5-35% SiO<SB>2</SB>, 10-30% ZnO, 0-10% Al<SB>2</SB>O<SB>3</SB>, 0-10% SrO, 6-16% BaO, 2-16% Li<SB>2</SB>O, 0-10% Na<SB>2</SB>O+K<SB>2</SB>O, 0-9% Bi<SB>2</SB>O<SB>3</SB>, 0-2% CuO+CeO<SB>2</SB>, provided that the molar ratio of (B<SB>2</SB>O<SB>3</SB>+SiO<SB>2</SB>+Al<SB>2</SB>O<SB>3</SB>)/(Bi<SB>2</SB>O<SB>3</SB>+BaO) is ≥3.25 and the total amount of MgO and CaO is ≤8 mol%. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、平面蛍光ランプ(Flat Fluorescent Lamp。FFLと略称されることがある。)の電極を絶縁被覆するのに適した無鉛ガラスに関する。   The present invention relates to a lead-free glass suitable for insulatingly coating an electrode of a flat fluorescent lamp (sometimes abbreviated as FFL).

近年、薄型の平板型カラー表示装置が注目を集めている。このような表示装置では画像を形成する画素における表示状態を制御するために各画素に電極が形成される。このような電極としては、画像の質の低下を防ぐために、ガラス基板上に形成されたITOまたは酸化スズの薄膜等の透明電極が用いられている。   In recent years, thin flat panel color display devices have attracted attention. In such a display device, an electrode is formed in each pixel in order to control a display state in the pixel forming the image. As such an electrode, a transparent electrode such as an ITO or tin oxide thin film formed on a glass substrate is used in order to prevent deterioration in image quality.

前記表示装置の表示面として使用されるガラス基板の表面に形成される透明電極は、精細な画像を実現するために細い線状に加工される。そして各画素を独自に制御するためには、このような微細に加工された透明電極相互の絶縁性を確保する必要がある。ところが、ガラス基板の表面に水分が存在する場合やガラス基板中にアルカリ成分が存在する場合、このガラス基板の表面を介して若干の電流が流れることがある。このような電流を防止するには、透明電極間に絶縁層を形成することが有効である。また、透明電極間に形成される絶縁層による画像の質の低下を防ぐべくこの絶縁層は透明であることが好ましい。
このような絶縁層を形成する絶縁材料としては種々のものが知られているが、なかでも、透明であり信頼性の高い絶縁材料であるガラス材料が広く用いられている。
The transparent electrode formed on the surface of the glass substrate used as the display surface of the display device is processed into a thin line shape in order to realize a fine image. And in order to control each pixel independently, it is necessary to ensure the insulation between such finely processed transparent electrodes. However, when moisture is present on the surface of the glass substrate or when an alkali component is present in the glass substrate, a slight current may flow through the surface of the glass substrate. In order to prevent such a current, it is effective to form an insulating layer between the transparent electrodes. The insulating layer is preferably transparent in order to prevent deterioration in image quality due to the insulating layer formed between the transparent electrodes.
Various insulating materials for forming such an insulating layer are known. Among them, glass materials that are transparent and highly reliable insulating materials are widely used.

最近大型平面カラーディスプレイ装置として期待されているプラズマディスプレイパネル(PDP)においては、表示面として使用される前面基板、背面基板および隔壁によりセルが区画形成されており、そのセル中でプラズマ放電を発生させることにより画像が形成される。前記前面基板の表面には透明電極が形成されており、この透明電極をプラズマから保護するために、プラズマ耐久性に優れたガラスにより前記透明電極を被覆することが必須である。   In a plasma display panel (PDP), which has recently been expected as a large flat color display device, cells are partitioned by a front substrate, a rear substrate and barrier ribs used as display surfaces, and plasma discharge is generated in the cells. By doing so, an image is formed. A transparent electrode is formed on the surface of the front substrate. In order to protect the transparent electrode from plasma, it is essential to cover the transparent electrode with glass having excellent plasma durability.

このような電極被覆に用いられるガラスは、通常はガラス粉末にして使用される。たとえば、前記ガラス粉末に必要に応じてフィラー等を添加した上で樹脂、溶剤等と混合してガラスペーストとしこれを透明電極が形成されているガラス基板に塗布後焼成する方法、前記ガラス粉末に樹脂、さらに必要に応じてフィラー等を混合して得られたスラリーをグリーンシートに成形しこれを透明電極が形成されているガラス基板上にラミネート後焼成する方法、等の方法によって前記透明電極を被覆する。   The glass used for such electrode coating is usually used as a glass powder. For example, a method of adding a filler or the like to the glass powder as needed and mixing it with a resin, a solvent or the like to form a glass paste on a glass substrate on which a transparent electrode is formed and baking it, The transparent electrode is formed by a method such as a method of forming a slurry obtained by mixing a resin and, if necessary, a filler or the like into a green sheet, laminating the slurry on a glass substrate on which the transparent electrode is formed, and firing. Cover.

電極被覆用ガラスには、先に述べたような電気絶縁性の他に、たとえば、軟化点(Ts)が450〜650℃であること、50〜350℃における平均線膨張係数(α)が60×10−7〜90×10−7/℃であること、焼成して得られる電極被覆ガラス層の透明性が高いこと、誘電率が低いこと、等が求められており、種々のガラスが従来提案されている。
さらに、近年は鉛を含有しないガラスが望まれており、たとえば、質量百分率表示で、B 34.0%、SiO 4.4%、ZnO 49.9%、BaO 3.9%、KO 7.8%、からなる電極被覆用ガラスが開示されている(特許文献1参照。)。
In addition to the electrical insulation as described above, the electrode coating glass has, for example, a softening point (Ts) of 450 to 650 ° C. and an average linear expansion coefficient (α) at 50 to 350 ° C. of 60. There are demands that the electrode-coated glass layer obtained by firing has a high transparency, a low dielectric constant, and the like, and that various glasses have been conventionally used, such as × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C. Proposed.
Furthermore, recently, glass containing no lead has been desired. For example, in terms of mass percentage, B 2 O 3 34.0%, SiO 2 4.4%, ZnO 49.9%, BaO 3.9%, K 2 O 7.8%, glass for covering electrodes is disclosed consisting of (refer to Patent Document 1.).

特開2002−249343号公報(表1)JP 2002-249343 A (Table 1)

前記鉛を含有しないガラスは、それにより被覆されたITO膜付きガラスの可視光透過率が74%であるようなものである(特許文献1参照。)。
近年、この可視光透過率をより高くでき、かつ誘電率を低くできる無鉛ガラスが求められている。
本発明はこのような課題を解決するための無鉛ガラスであって平面蛍光ランプ電極被覆に用いることができるものの提供を目的とする。
The glass containing no lead is such that the visible light transmittance of the ITO film-coated glass coated thereby is 74% (see Patent Document 1).
In recent years, there has been a demand for lead-free glass that can increase the visible light transmittance and lower the dielectric constant.
An object of the present invention is to provide a lead-free glass for solving such problems, which can be used for covering a flat fluorescent lamp electrode.

本発明は、下記酸化物基準のモル%表示で、B 20〜50%、SiO 5〜35%、ZnO 10〜30%、Al 0〜10%、SrO 0〜10%、BaO 6〜16%、LiO 2〜16%、NaO+KO 0〜10%、Bi 0〜9%、CuO+CeO 0〜2%から本質的になり、(B+SiO+Al)/(Bi+BaO)が3.25以上であり、MgOまたはCaOを含有する場合MgO+CaOが8モル%以下である無鉛ガラス(本発明のガラス1)からなる平面蛍光ランプ電極被覆用ガラスを提供する。 The present invention is expressed in terms of mol% based on the following oxides: B 2 O 3 20 to 50%, SiO 2 5 to 35%, ZnO 10 to 30%, Al 2 O 3 0 to 10%, SrO 0 to 10% BaO 6-16%, Li 2 O 2-16%, Na 2 O + K 2 O 0-10%, Bi 2 O 3 0-9%, CuO + CeO 2 0-2%, (B 2 O 3 + SiO 2 + Al 2 O 3 ) / (Bi 2 O 3 + BaO) is 3.25 or more, and when MgO or CaO is contained, it is made of lead-free glass (glass 1 of the present invention) in which MgO + CaO is 8 mol% or less. A flat fluorescent lamp electrode coating glass is provided.

また、同表示で、B 20〜50%、SiO 5〜35%、ZnO 10〜30%、Al 0〜10%、SrO 0〜10%、BaO 6〜16%、LiO 2〜16%、NaO+KO 0〜10%、CuO+CeO 0〜2%から本質的になり、Biを含有しない無鉛ガラス(本発明のガラス2)からなる平面蛍光ランプ電極被覆用ガラスを提供する。 In the same display, B 2 O 3 20-50%, SiO 2 5-35%, ZnO 10-30%, Al 2 O 3 0-10%, SrO 0-10%, BaO 6-16%, Li A flat fluorescent lamp made of lead-free glass (glass 2 of the present invention) consisting essentially of 2 O 2-16%, Na 2 O + K 2 O 0-10%, CuO + CeO 2 0-2% and not containing Bi 2 O 3 An electrode coating glass is provided.

本発明によれば、平面蛍光ランプ電極被覆用ガラスであって無鉛のものが得られる。   According to the present invention, lead-free glass for flat fluorescent lamp electrode coating is obtained.

本発明の無鉛ガラス(以下、本発明のガラスという。)は通常粉末状とされる。   The lead-free glass of the present invention (hereinafter referred to as the glass of the present invention) is usually powdered.

たとえば、本発明のガラスの粉末は印刷性を付与するための有機ビヒクル等を用いてガラスペーストとされ、ガラス基板上に形成された電極上に前記ガラスペーストを塗布、焼成して電極を被覆する。なお、有機ビヒクルとはエチルセルロース等のバインダをα−テルピネオール等の有機溶剤に溶解したものである。また、先に述べたようなグリーンシート法を用いて電極を被覆してもよい。   For example, the glass powder of the present invention is made into a glass paste using an organic vehicle or the like for imparting printability, and the glass paste is applied onto the electrode formed on the glass substrate and fired to coat the electrode. . The organic vehicle is obtained by dissolving a binder such as ethyl cellulose in an organic solvent such as α-terpineol. Further, the electrode may be coated using the green sheet method as described above.

本発明のガラスの粉末に必要に応じて耐熱顔料やセラミックスフィラーを添加したものを電極被覆材料として使用してもよい。
耐熱顔料としては、クロム・銅を主体とする複合酸化物粉末、クロム・鉄を主体とする複合酸化物粉末等の黒色顔料、ルチル型酸化チタン粉末、アナタース型酸化チタン粉末等の白色顔料、などが例示される。
セラミックスフィラーとしては、誘電率や焼結性の調整などが可能なシリカ粉末、アルミナ粉末などが例示される。
What added the heat resistant pigment and the ceramic filler to the glass powder of this invention as needed may be used as an electrode coating material.
Examples of heat-resistant pigments include black pigments such as composite oxide powders mainly composed of chromium and copper, composite oxide powders mainly composed of chromium and iron, white pigments such as rutile type titanium oxide powders and anatase type titanium oxide powders, etc. Is exemplified.
Examples of the ceramic filler include silica powder and alumina powder capable of adjusting dielectric constant and sinterability.

なお、本発明のガラスは特に透明電極や銀電極の被覆に好適である。   The glass of the present invention is particularly suitable for coating transparent electrodes and silver electrodes.

本発明のガラスのTsは450〜650℃であることが好ましい。650℃超では、通常使用されているガラス基板(ガラス転移点:550〜620℃)が焼成時に変形するおそれがある。
ガラス転移点が610〜630℃であるようなガラス基板を用いる等の場合には、Tsは630℃以下であることが好ましく、580〜600℃であることがより好ましい。
ガラス転移点が550〜560℃であるようなガラス基板を用いる等の場合、Tsは580℃未満であることが好ましく、また530℃以上であることが好ましい。
また、単層構造の電極被覆ガラス層に用いる場合等にはTsは好ましくは520℃以上、より好ましくは550℃以上、ガラス転移点が610〜630℃であるようなガラス基板を用いる等の場合には580℃以上であることが特に好ましい。
It is preferable that Ts of the glass of this invention is 450-650 degreeC. If it exceeds 650 ° C., a commonly used glass substrate (glass transition point: 550 to 620 ° C.) may be deformed during firing.
In the case of using a glass substrate having a glass transition point of 610 to 630 ° C., Ts is preferably 630 ° C. or less, and more preferably 580 to 600 ° C.
In the case of using a glass substrate having a glass transition point of 550 to 560 ° C., Ts is preferably less than 580 ° C., and preferably 530 ° C. or more.
Further, when used for an electrode-coated glass layer having a single layer structure, Ts is preferably 520 ° C. or higher, more preferably 550 ° C. or higher, and a glass substrate having a glass transition point of 610 to 630 ° C. is used. In particular, the temperature is preferably 580 ° C. or higher.

前記ガラス基板としては通常、αが80×10−7〜90×10−7/℃のものが用いられる。したがってこのようなガラス基板と膨張特性をマッチングさせ、ガラス基板のそりや強度の低下を防止するためには、本発明のガラスのαは好ましくは60×10−7〜90×10−7/℃、より好ましくは70×10−7〜85×10−7/℃である。
本発明のガラスは、Tsが450〜650℃、αが60×10−7〜90×10−7/℃であることが好ましい。
As the glass substrate, those having α of 80 × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C. are usually used. Therefore, in order to match the expansion characteristics with such a glass substrate and prevent warpage of the glass substrate and a decrease in strength, α of the glass of the present invention is preferably 60 × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C. More preferably, it is 70 * 10 < -7 > -85 * 10 < -7 > / degreeC.
The glass of the present invention preferably has a Ts of 450 to 650 ° C. and α of 60 × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C.

本発明のガラスの1MHzにおける比誘電率(ε)は9.5以下であることが好ましい。9.5超ではPDPのセルの静電容量が大きくなりすぎ、PDPの消費電力が増大するおそれがある。より好ましくは9以下、特に好ましくは8.5以下である。
本発明のガラスの250℃における比抵抗(ρ)は10Ωcm以上であることが好ましい。10Ωcm未満では電気絶縁不良が起こるおそれがある。
The relative dielectric constant (ε) at 1 MHz of the glass of the present invention is preferably 9.5 or less. If it exceeds 9.5, the capacitance of the PDP cell becomes too large, and the power consumption of the PDP may increase. More preferably, it is 9 or less, Especially preferably, it is 8.5 or less.
The specific resistance (ρ) at 250 ° C. of the glass of the present invention is preferably 10 9 Ωcm or more. If it is less than 10 9 Ωcm, electrical insulation failure may occur.

本発明のガラスは基板上の銀電極被覆に用いた場合に銀発色現象を呈さない、または銀発色現象を呈したとしても顕著ではないものであることが好ましい。なお、銀発色現象とは、たとえばガラス基板上の透明電極上に形成された銀含有バス電極をガラスで被覆した場合に、そのガラスに銀が拡散しガラスが茶色または黄色に着色する現象である。   It is preferable that the glass of the present invention does not exhibit a silver coloring phenomenon when it is used for coating a silver electrode on a substrate, or is not noticeable even if it exhibits a silver coloring phenomenon. The silver coloring phenomenon is a phenomenon in which, for example, when a silver-containing bus electrode formed on a transparent electrode on a glass substrate is covered with glass, silver diffuses into the glass and the glass is colored brown or yellow. .

次に、本発明のガラスの組成についてモル百分率表示を用いて説明する。
はガラスを安定化させる成分であり、必須である。20%未満ではガラスが不安定になる。好ましくは22%以上、Tsを高くしたい、εを小さくしたい等の場合にはより好ましくは25%以上である。50%超ではTsが高くなる。好ましくは45%以下、典型的には40%以下である。
Next, the composition of the glass of the present invention will be described using a mole percentage display.
B 2 O 3 is a component that stabilizes the glass and is essential. If it is less than 20%, the glass becomes unstable. It is preferably 22% or more, and more preferably 25% or more when it is desired to increase Ts or decrease ε. If it exceeds 50%, Ts becomes high. Preferably it is 45% or less, typically 40% or less.

SiOはガラスを安定化させる成分であり、必須である。また、銀発色現象を抑制する効果を有する。5%未満ではガラスが不安定になり、また耐候性が低下する。TsまたはT550を高くしたい、εを小さくしたい等の場合には好ましくは7%以上、より好ましくは10%以上、特に好ましくは13%以上である。35%超ではTsが高くなる。好ましくは29%以下、より好ましくは25%以下、典型的には24%以下である。 SiO 2 is a component that stabilizes the glass and is essential. In addition, it has the effect of suppressing the silver coloring phenomenon. If it is less than 5%, the glass becomes unstable and the weather resistance deteriorates. Want to increase the Ts or T 550, preferably in the case of such desirable to reduce the epsilon 7% or more, more preferably 10% or more, particularly preferably 13% or more. If it exceeds 35%, Ts becomes high. It is preferably 29% or less, more preferably 25% or less, and typically 24% or less.

ZnOはTsを低下させる成分であり、必須である。10%未満ではTsが高くなる。好ましくは15%以上、より好ましくは17%以上である。30%超では焼成時に結晶が析出しやすくなりT550が低くなるおそれがある。好ましくは29%以下、より好ましくは28%以下、典型的には25%以下である。 ZnO is a component that lowers Ts and is essential. If it is less than 10%, Ts becomes high. Preferably it is 15% or more, More preferably, it is 17% or more. If it exceeds 30%, crystals tend to precipitate during firing and T550 may be lowered. It is preferably 29% or less, more preferably 28% or less, and typically 25% or less.

Alは必須ではないが、ガラスを安定化させるために10%まで含有してもよい。10%超では失透しやすくなる。好ましくは8%以下、より好ましくは7%以下である。Alを含有する場合その含有量は2%以上であることが好ましい。
、SiOおよびAlの含有量の合計B+SiO+Alは本発明のガラス、特にガラス1においては46%以上であることが好ましい。46%未満では前記εが大きくなるおそれがある。より好ましくは48%以上、特に好ましくは49%以上である。
Al 2 O 3 is not essential, but may be contained up to 10% in order to stabilize the glass. If it exceeds 10%, devitrification tends to occur. Preferably it is 8% or less, More preferably, it is 7% or less. When Al 2 O 3 is contained, the content is preferably 2% or more.
The total B 2 O 3 + SiO 2 + Al 2 O 3 content of B 2 O 3 , SiO 2 and Al 2 O 3 is preferably 46% or more in the glass of the present invention, particularly in the glass 1. If it is less than 46%, the ε may increase. More preferably, it is 48% or more, and particularly preferably 49% or more.

SrOは必須ではないが、耐水性を向上させる、分相を抑制する、またはαを大きくするために10%まで含有してもよい。10%超ではTsが高くなる、またはT550が低くなるおそれがある。好ましくは7%以下、より好ましくは5%以下、特に好ましくは4%以下である。T550をより高くしたい等の場合には3%以下または2%以下であることが好ましい。 SrO is not essential, but may be contained up to 10% in order to improve water resistance, suppress phase separation, or increase α. If it exceeds 10%, Ts tends to be high, or T 550 may be low. Preferably it is 7% or less, More preferably, it is 5% or less, Most preferably, it is 4% or less. When it is desired to increase T550 , it is preferably 3% or less or 2% or less.

BaOは、分相を抑制する、αを大きくする、またはT550を高くする効果を有し、必須である。6%未満では前記効果が小さい。好ましくは7%以上、典型的には8%以上である。16%超ではαがかえって大きくなりすぎる。好ましくは14%以下である。 BaO suppresses phase separation has the effect of increasing the α be increased, or T 550, is essential. If it is less than 6%, the effect is small. Preferably it is 7% or more, typically 8% or more. If it exceeds 16%, α will be too large. Preferably it is 14% or less.

LiOはTsを低下させる、αを大きくする、またはT550を高くする効果を有し、必須である。2%未満では前記効果が小さい。好ましくは2.5%以上、より好ましくは4%以上、特に好ましくは5%以上である。16%超ではαが大きくなりすぎる。
なお、典型的にはLiOが4〜16%、かつBaOが5〜14%である。
NaOおよびKOはいずれも必須ではないが、Tsを低下させるため、またはαを大きくするためにいずれか一方または両者を、合計で10%までの範囲で含有してもよい。10%超ではαがかえって大きくなりすぎる。
Li 2 O has an effect of decreasing Ts, increasing α, or increasing T 550 and is essential. If it is less than 2%, the effect is small. Preferably it is 2.5% or more, More preferably, it is 4% or more, Most preferably, it is 5% or more. If it exceeds 16%, α becomes too large.
Typically, Li 2 O is 4 to 16%, and BaO is 5 to 14%.
Both Na 2 O and K 2 O are not essential, but either one or both may be contained within a total range of up to 10% in order to decrease Ts or increase α. If it exceeds 10%, α will be too large.

NaOを含有する場合、その含有量は9%以下であることが好ましい。9%超ではT550が低くなるおそれがある。T550をより高くしたい等の場合にはNaO含有量は6%以下であることが好ましい。
Oを含有する場合その含有量は、好ましくは9%以下である。KOが9%超ではガラス基板との膨張特性マッチングが困難になる、または、PDPの前面基板に適用したときにそのT550が低下するおそれがある。KOの含有量は、より好ましくは6%以下、特に好ましくは4%以下、最も好ましくは3%以下である。
LiO、NaOおよびKOの含有量の合計LiO+NaO+KOは16%以下であることが好ましい。また、LiO+NaO+KOは4%以上であることが好ましい。典型的には6%以上または7%以上である。
When Na 2 O is contained, the content is preferably 9% or less. If it exceeds 9%, T 550 tends to be low. Content of Na 2 O in the case of such is desired to further increase the T 550 is preferably at most 6%.
When K 2 O is contained, its content is preferably 9% or less. If K 2 O exceeds 9%, it is difficult to match the expansion characteristics with the glass substrate, or the T 550 may be lowered when applied to the front substrate of the PDP. The content of K 2 O is more preferably 6% or less, particularly preferably 4% or less, and most preferably 3% or less.
The total Li 2 O + Na 2 O + K 2 O content of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O is preferably 16% or less. Further, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is preferably 4% or more. Typically, it is 6% or more or 7% or more.

ガラス1においては、Biは必須ではないがTsを低下させるために9%まで含有してもよい。9%超ではεが高くなるおそれがある。好ましくは5%以下、より好ましくは4%以下である。Biを含有しない、またはBiを1モル%未満の範囲で含有することが好ましい。なお、ガラス2はBiを含有しない。
モル比(B+SiO+Al)/(Bi+BaO)はガラス1においては3.25以上であり、ガラス2においては3.25以上であることが好ましい。3.25未満ではεが大きくなる、またはそのおそれがある。より好ましくは3.8以上である。
In the glass 1, Bi 2 O 3 is not essential, but may be contained up to 9% in order to reduce Ts. If it exceeds 9%, ε may be high. Preferably it is 5% or less, More preferably, it is 4% or less. It is preferable not to contain Bi 2 O 3 or to contain Bi 2 O 3 in a range of less than 1 mol%. The glass 2 contains no Bi 2 O 3.
The molar ratio (B 2 O 3 + SiO 2 + Al 2 O 3 ) / (Bi 2 O 3 + BaO) is preferably 3.25 or more for glass 1 and 3.25 or more for glass 2. If it is less than 3.25, ε becomes large or there is a risk of it. More preferably, it is 3.8 or more.

CuOおよびCeOはいずれも必須ではないが、銀発色現象を抑制したい等の場合には合計で2%まで含有してもよい。この場合、いずれか1種のみを含有してもよいが、CuOは含有することが好ましく、両者を含有することがより好ましい。CuO+CeOが2%超では電極被覆ガラス層の着色が顕著となりT550が低下する。好ましくは1.6%以下である。CuOおよび/またはCeOを含有する場合CuO+CeOは、好ましく0.2%以上、より好ましくはで0.4%以上である。CuOおよびCeOの両者を含有する場合それぞれの含有量はいずれも0.1〜0.8%であることが好ましい。 Both CuO and CeO 2 are not essential, but may be contained up to 2% in total when it is desired to suppress the silver coloring phenomenon. In this case, any one of them may be contained, but CuO is preferably contained, more preferably both. If CuO + CeO 2 exceeds 2%, the electrode-coated glass layer is markedly colored and T550 is lowered. Preferably it is 1.6% or less. When CuO and / or CeO 2 is contained, CuO + CeO 2 is preferably 0.2% or more, more preferably 0.4% or more. When both CuO and CeO 2 are contained, each content is preferably 0.1 to 0.8%.

CuOを含有する場合、その含有量は好ましくは0.1%以上、より好ましくは0.2%以上、特に好ましくは0.3%以上である。   When CuO is contained, the content is preferably 0.1% or more, more preferably 0.2% or more, and particularly preferably 0.3% or more.

CeOを含有する場合、その含有量は好ましくは0.1%以上、より好ましくは0.2%以上、特に好ましくは0.4%以上である。 When CeO 2 is contained, its content is preferably at least 0.1%, more preferably at least 0.2%, particularly preferably at least 0.4%.

ガラス1において銀発色現象をより抑制したい等の場合には、Biが1%以上かつCuO+CeOが0.2%以上であることが好ましく、Biが1.5%以上かつCuO+CeOが0.5%以上であることがより好ましい。
この場合においてCuOをたとえば0.2%以上含有する場合、ZnO、NaOおよびKOの含有量の合計ZnO+NaO+KOは30%以下であることが好ましい。30%超ではT550が低くなるおそれがある。より好ましくは26%以下である。
When it is desired to further suppress the silver coloring phenomenon in the glass 1, it is preferable that Bi 2 O 3 is 1% or more and CuO + CeO 2 is 0.2% or more, Bi 2 O 3 is 1.5% or more and It is more preferable that CuO + CeO 2 is 0.5% or more.
In this case, when CuO is contained by 0.2% or more, for example, the total ZnO + Na 2 O + K 2 O content of ZnO, Na 2 O and K 2 O is preferably 30% or less. If it exceeds 30%, T 550 tends to be low. More preferably, it is 26% or less.

本発明のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。そのような成分を含有する場合、それらの含有量の合計は、好ましくは10%以下、より好ましくは5%以下である。
前記その他の成分としては、Tsもしくはαの調整、ガラスの安定化、化学的耐久性の向上等のためのTiO、ZrO、La、Tsを低下させるためのF等ハロゲン成分、等が例示される。
本発明のガラスはPbOを含有しない。
The glass of the present invention consists essentially of the above components, but may contain other components as long as the object of the present invention is not impaired. When such components are contained, the total content thereof is preferably 10% or less, more preferably 5% or less.
Examples of the other components include TiO 2 , ZrO 2 , La 2 O 3 for adjusting Ts or α, stabilization of glass, improvement of chemical durability, etc., halogen components such as F for lowering Ts, Etc. are exemplified.
The glass of the present invention does not contain PbO.

また、本発明のガラスがMgOまたはCaOを含有する場合、それらの含有量の合計はガラス1においては8%以下であり、ガラス2においては好ましくは8%以下である。8%超ではT550が低下する、またはそのおそれがある。T550をより高くしたい場合、MgO+CaOは3%以下であることが好ましく、MgOおよびCaOはそれぞれ2%以下であることがより好ましく、MgOは含有しないことが特に好ましい。 When the glass of the present invention contains MgO or CaO, the total content thereof is 8% or less in the glass 1 and preferably 8% or less in the glass 2. If it exceeds 8%, T 550 may be decreased, or there is a possibility of this. When it is desired to make T 550 higher, MgO + CaO is preferably 3% or less, more preferably MgO and CaO are each 2% or less, and particularly preferably no MgO is contained.

ガラス1において銀発色現象を抑制したい等の場合においては、SiOが7%以上、Alが0〜8%、SrOが0〜5%、LiOが2.5%以上、ZnO+NaO+KOが30%以下、CuOが0.2%以上であり、MgOまたはCaOを含有する場合MgO+CaOが3%以下であるものであることが好ましい。Alが0〜7%、LiOが4%以上、ZnO+NaO+KOが26%以下であることがより好ましい。また、BaOが7%以上であることがより好ましい。 When it is desired to suppress the silver coloring phenomenon in the glass 1, SiO 2 is 7% or more, Al 2 O 3 is 0 to 8%, SrO is 0 to 5%, Li 2 O is 2.5% or more, ZnO + Na When 2 O + K 2 O is 30% or less, CuO is 0.2% or more, and MgO or CaO is contained, MgO + CaO is preferably 3% or less. More preferably, Al 2 O 3 is 0 to 7%, Li 2 O is 4% or more, and ZnO + Na 2 O + K 2 O is 26% or less. Further, BaO is more preferably 7% or more.

本発明のガラスにおいてTsを530℃以上580℃未満としたい場合、典型的には、Bが23〜38%、SiOが6〜23%、ZnOが21〜28%、Alが4〜6%、BaOが8〜11%であって、LiOが10〜15%かつNaO+KOが0.5〜6%であるか、または、LiOが8〜15%かつNaO+KOが2〜6%である。 When Ts is desired to be 530 ° C. or higher and lower than 580 ° C. in the glass of the present invention, typically, B 2 O 3 is 23 to 38%, SiO 2 is 6 to 23%, ZnO is 21 to 28%, Al 2 O 3 is 4 to 6%, BaO is 8 to 11%, Li 2 O is 10 to 15% and Na 2 O + K 2 O is 0.5 to 6%, or Li 2 O is 8 to 8%. 15% and Na 2 O + K 2 O is 2-6%.

Tsを580℃以上630℃以下とし、かつ銀発色を抑制したい場合、典型的には、Bが29〜39%、SiOが12〜23%、ZnOが20〜28%、Alが2〜8%、BaOが14%以下、LiOが13%以下、NaO+KOが0〜6%、CuO+CeOが0.2モル%以上である。 When Ts is set to 580 ° C. or more and 630 ° C. or less and silver color development is desired to be suppressed, typically, B 2 O 3 is 29 to 39%, SiO 2 is 12 to 23%, ZnO is 20 to 28%, Al 2 O 3 is 2 to 8%, BaO 14% or less, Li 2 O is 13 percent or less, Na 2 O + K 2 O 0 to 6%, is CuO + CeO 2 is more than 0.2 mol%.

例1〜75については表のBからCeOまでの欄にモル百分率表示で示す組成となるように、原料を調合して混合し、1200〜1350℃の電気炉中で白金ルツボを用いて1時間溶融し、薄板状ガラスに成形した後、ボールミルで粉砕し、ガラス粉末を得た。なお、表のB+Si+Alの欄にB+SiO+Alのモル百分率表示含有量を、BSiAl/BiBaの欄にモル比(B+SiO+Al)/(Bi+BaO)をそれぞれ示す。
例1〜23、31〜75は実施例、例24〜30は比較例である。
For Examples 1 to 75, the raw materials were mixed and mixed so as to have a composition expressed in mole percentages in the columns from B 2 O 3 to CeO 2 in the table, and a platinum crucible was placed in an electric furnace at 1200 to 1350 ° C. It was melted for 1 hour, formed into a sheet glass, and then pulverized with a ball mill to obtain a glass powder. Incidentally, the molar percentage display content of B 2 O 3 + SiO 2 + Al 2 O 3 in the column of the table of B + Si + Al, the molar ratio in the column of BSiAl / BiBa (B 2 O 3 + SiO 2 + Al 2 O 3) / (Bi 2 O 3 + BaO) respectively.
Examples 1 to 23 and 31 to 75 are examples, and examples 24 to 30 are comparative examples.

これらガラス粉末について、軟化点Ts(単位:℃)、結晶化ピーク温度Tc(単位:℃)、前記平均線膨張係数α(単位:10−7/℃)、前記比誘電率εおよび前記比抵抗ρ(単位:Ωcm)を以下に述べるようにして測定した。結果を表に示すが、空欄は測定しなかったことを示す。
Ts、Tc:800℃までの範囲で示差熱分析計を用いて測定した。Tcの欄の「−」は、800℃までで結晶化ピークが認められなかったことを示す。なお、800℃までで結晶化ピークが認められるものは焼成時に結晶が析出し透過率を高くできないおそれがある。
α:ガラス粉末を加圧成形後、Tsより30℃高い温度で10分間焼成して得た焼成体を直径5mm、長さ2cmの円柱状に加工し、熱膨張計で50〜350℃の平均線膨張係数を測定した。
For these glass powders, the softening point Ts (unit: ° C.), the crystallization peak temperature Tc (unit: ° C.), the average linear expansion coefficient α (unit: 10 −7 / ° C.), the relative dielectric constant ε, and the specific resistance. ρ (unit: Ωcm) was measured as described below. The results are shown in the table, but the blank indicates that no measurement was performed.
Ts, Tc: Measured with a differential thermal analyzer in the range up to 800 ° C. “−” In the column of Tc indicates that no crystallization peak was observed up to 800 ° C. In the case where a crystallization peak is observed up to 800 ° C., crystals may precipitate during firing, and the transmittance may not be increased.
α: After the glass powder is pressure-molded, a fired body obtained by firing at a temperature 30 ° C. higher than Ts for 10 minutes is processed into a cylindrical shape having a diameter of 5 mm and a length of 2 cm, and an average of 50 to 350 ° C. with a thermal dilatometer. The linear expansion coefficient was measured.

ε:ガラス粉末を再溶融し板状に成形後、加工して50mm×50mm×厚さ3mmの測定試料とした。測定試料の両面にアルミニウム電極を蒸着により作製し、LCRメータを用いて周波数1MHzでの比誘電率を測定した。
ρ:εの測定試料と同じ試料を用いて250℃の電気炉中で比抵抗を測定した。表には前記単位で表したρの常用対数を示す。
ε: The glass powder was remelted, formed into a plate shape, and then processed to obtain a measurement sample of 50 mm × 50 mm × thickness 3 mm. Aluminum electrodes were formed on both surfaces of the measurement sample by vapor deposition, and the relative dielectric constant at a frequency of 1 MHz was measured using an LCR meter.
The specific resistance was measured in an electric furnace at 250 ° C. using the same sample as the measurement sample of ρ: ε. The table shows the common logarithm of ρ expressed in units.

また、前記ガラス粉末100gを有機ビヒクル25gと混練してガラスペーストを作製した。なお、有機ビヒクルは、α−テルピネオールにエチルセルロースを質量百分率表示で12%溶解して作製した。
次に、大きさ50mm×75mm、厚さ2.8mmのガラス基板を用意し、このガラス基板の表面48mm×73mmの部分にスクリーン印刷用銀ペーストを印刷し焼成して銀層を形成した。なお、前記ガラス基板は、質量百分率表示組成が、SiO 58%、Al 7%、NaO 4%、KO 6.5%、MgO 2%、CaO 5%、SrO 7%、BaO 7.5%、ZrO 3%、であり、またガラス転移点が626℃、αが83×10−7/℃、であるガラスからなる。
Further, 100 g of the glass powder was kneaded with 25 g of an organic vehicle to prepare a glass paste. The organic vehicle was prepared by dissolving 12% of ethyl cellulose in α-terpineol in terms of mass percentage.
Next, a glass substrate having a size of 50 mm × 75 mm and a thickness of 2.8 mm was prepared, and a silver paste for screen printing was printed and fired on the surface of the glass substrate having a surface of 48 mm × 73 mm to form a silver layer. The glass substrate has a mass percentage display composition of SiO 2 58%, Al 2 O 3 7%, Na 2 O 4%, K 2 O 6.5%, MgO 2%, CaO 5%, SrO 7%. BaO 7.5%, ZrO 2 3%, and a glass transition point of 626 ° C. and α of 83 × 10 −7 / ° C.

このように銀層が形成されたガラス基板と、銀層が形成されていないガラス基板とを用意し、それぞれの50mm×50mmの部分に前記ガラスペーストを均一にスクリーン印刷後、120℃で10分間乾燥した。これらガラス基板を昇温速度10℃/分で温度がTsに達するまで加熱し、さらにその温度をTsに30分間保持して焼成した。このようにしてガラス基板上に形成されたガラス層の厚さは30〜35μmであった。
銀層が形成されていないガラス基板上に前記ガラス層が形成された試料について、波長550nmの光の透過率(単位:%)および濁度(単位:%)を以下に述べるようにして測定した。また、銀層が形成されたガラス基板上に前記ガラス層が形成された試料について、銀発色の有無を調べた。結果を表に示す。
A glass substrate on which a silver layer is thus formed and a glass substrate on which no silver layer is formed are prepared, and the glass paste is uniformly screen-printed on each 50 mm × 50 mm portion, and then at 120 ° C. for 10 minutes. Dried. These glass substrates were heated at a heating rate of 10 ° C./min until the temperature reached Ts, and the temperature was maintained at Ts for 30 minutes, followed by firing. Thus, the thickness of the glass layer formed on the glass substrate was 30-35 micrometers.
For a sample in which the glass layer was formed on a glass substrate on which no silver layer was formed, the light transmittance (unit:%) and turbidity (unit:%) at a wavelength of 550 nm were measured as described below. . Moreover, the presence or absence of silver coloring was investigated about the sample in which the said glass layer was formed on the glass substrate in which the silver layer was formed. The results are shown in the table.

透過率:日立製作所社製の自記分光光度計U−3500(積分球型)を用いて波長550nmの光の透過率を測定した(試料のない状態を100%とした。)。この透過率は、好ましくは78%以上、より好ましくは81%以上である。なお、この透過率に1%を加えたものが、透明電極上に被覆のために当該ガラス層を形成した場合のPDP前面基板に対する波長550nmの光の透過率に相当する。   Transmittance: The transmittance of light having a wavelength of 550 nm was measured using a self-recording spectrophotometer U-3500 (integrating sphere type) manufactured by Hitachi, Ltd. (the state where no sample was taken was defined as 100%). This transmittance is preferably 78% or more, more preferably 81% or more. In addition, what added 1% to this transmittance | permeability is equivalent to the transmittance | permeability of the light of wavelength 550nm with respect to a PDP front substrate at the time of forming the said glass layer for coating | cover on a transparent electrode.

濁度:スガ試験器社製のヘーズメータ(ハロゲン球を用いたC光源)を使用した。ハロゲン球からの光をレンズによって平行光線として試料に入射させ、積分球により全光線透過率Ttと拡散透過率Tdを測定し、次式により算出した。
濁度(%)=(Td/Tt)×100 。
この濁度は、好ましくは25%以下、より好ましくは20%以下である。なお、この濁度に1%を加えたものが、透明電極上に被覆のために当該ガラス層を形成した場合のPDP前面基板に対する濁度に相当する。
Turbidity: A haze meter (C light source using a halogen bulb) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. was used. The light from the halogen sphere was made incident on the sample as a parallel light beam through a lens, and the total light transmittance Tt and the diffuse transmittance Td were measured with an integrating sphere.
Turbidity (%) = (Td / Tt) × 100.
This turbidity is preferably 25% or less, more preferably 20% or less. In addition, what added 1% to this turbidity is equivalent to the turbidity with respect to the PDP front substrate at the time of forming the said glass layer for coating | cover on a transparent electrode.

銀発色:ガラス層の色が無色、青色または青緑色のものは銀発色が抑制されているとして○、ガラス層の色が黄色のものは銀発色が顕著であるとして×とした。結果を表の銀発色Aの欄に示す。
また、銀発色現象をより顕著にさせるべくTsよりも低い温度、すなわちTsが600℃以上のものに対しては590℃で、Tsが580℃以上600℃未満のものに対しては570℃で、Tsが560℃以上580℃未満のものに対しては550℃でそれぞれ焼成して得られたガラス層について評価した。結果を表の銀発色Bの欄に示す。なお、同欄における○は銀発色Aの○と同じであるが、△はガラス層の色が薄黄色、黄緑色等であって銀発色がそれほど顕著ではなく焼成をTsで行う等によって銀発色の抑制可能性が存在するもの、×はガラス層の色が顕著な黄色であって銀発色が顕著であるものである。
Silver color development: The glass layer color was colorless, blue or blue-green when the silver color development was suppressed, and the glass layer color yellow when the silver color development was marked as x. The results are shown in the column of silver coloring A in the table.
In order to make the silver coloring phenomenon more prominent, the temperature is lower than Ts, that is, 590 ° C. for Ts of 600 ° C. or higher, and 570 ° C. for Ts of 580 ° C. or higher and lower than 600 ° C. The glass layers obtained by firing at 550 ° C. for Ts of 560 ° C. or more and less than 580 ° C. were evaluated. The results are shown in the column of silver coloring B in the table. In the same column, ○ is the same as ○ of silver color A, but Δ is silver color due to the fact that the color of the glass layer is light yellow, yellowish green, etc. X indicates that the color of the glass layer is markedly yellow and silver coloration is significant.

例76〜101についてはその組成からTs、α、εを計算によって求めた。その結果を表に示す。   About Examples 76-101, Ts, (alpha), and (epsilon) were calculated | required by calculation from the composition. The results are shown in the table.

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Claims (12)

下記酸化物基準のモル%表示で、B 20〜50%、SiO 5〜35%、ZnO 10〜30%、Al 0〜10%、SrO 0〜10%、BaO 6〜16%、LiO 2〜16%、NaO+KO 0〜10%、Bi 0〜9%、CuO+CeO 0〜2%、から本質的になり、(B+SiO+Al)/(Bi+BaO)が3.25以上であり、MgOまたはCaOを含有する場合MgO+CaOが8モル%以下である平面蛍光ランプ電極被覆用無鉛ガラス。 In mole% based on the following oxides, B 2 O 3 20~50%, SiO 2 5~35%, 10~30% ZnO, Al 2 O 3 0~10%, SrO 0~10%, BaO 6~ 16%, Li 2 O 2-16%, Na 2 O + K 2 O 0-10%, Bi 2 O 3 0-9%, CuO + CeO 2 0-2%, consisting essentially of (B 2 O 3 + SiO 2 A lead-free glass for covering a flat fluorescent lamp electrode in which + Al 2 O 3 ) / (Bi 2 O 3 + BaO) is 3.25 or more and MgO or CaO is contained, and MgO + CaO is 8 mol% or less. +SiO+Alが46モル%以上である請求項1に記載の平面蛍光ランプ電極被覆用無鉛ガラス。 The lead-free glass for covering a flat fluorescent lamp electrode according to claim 1, wherein B 2 O 3 + SiO 2 + Al 2 O 3 is 46 mol% or more. モル%表示で、SiOが7%以上、Alが0〜8%、SrOが0〜5%、LiOが2.5%以上、ZnO+NaO+KOが30%以下、CuOが0.2%以上であり、MgOまたはCaOを含有する場合MgO+CaOが3%以下である請求項1または2に記載の平面蛍光ランプ電極被覆用無鉛ガラス。 In terms of mol%, SiO 2 is 7% or more, Al 2 O 3 is 0 to 8%, SrO is 0 to 5%, Li 2 O is 2.5% or more, ZnO + Na 2 O + K 2 O is 30% or less, CuO The lead-free glass for covering a flat fluorescent lamp electrode according to claim 1 or 2, wherein MgO + CaO is 3% or less when MgO or CaO is contained. LiO+NaO+KOが16モル%以下である請求項1、2または3に記載の平面蛍光ランプ電極被覆用無鉛ガラス。 The lead-free glass for covering a flat fluorescent lamp electrode according to claim 1, wherein Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 16 mol% or less. Biを含有しない、またはBiを1モル%未満の範囲で含有する請求項1〜4のいずれかに記載の平面蛍光ランプ電極被覆用無鉛ガラス。 Bi 2 O 3 does not contain, or Bi 2 O 3 the flat fluorescent lamp for covering electrodes lead-free glass according to claim 1 containing in the range of less than 1 mole%. Biが1モル%以上、CuO+CeOが0.2モル%以上である請求項1〜4のいずれかに記載の平面蛍光ランプ電極被覆用無鉛ガラス。 Bi 2 O 3 is 1 mol% or more, CuO + flat fluorescent lamp for covering electrodes lead-free glass according to any one of claims 1 to 4 CeO 2 is not less than 0.2 mol%. 下記酸化物基準のモル%表示で、B 20〜50%、SiO 5〜35%、ZnO 10〜30%、Al 0〜10%、SrO 0〜10%、BaO 6〜16%、LiO 2〜16%、NaO+KO 0〜10%、CuO+CeO 0〜2%、から本質的になり、Biを含有しない平面蛍光ランプ電極被覆用無鉛ガラス。 In mole% based on the following oxides, B 2 O 3 20~50%, SiO 2 5~35%, 10~30% ZnO, Al 2 O 3 0~10%, SrO 0~10%, BaO 6~ Lead-free glass for covering a flat fluorescent lamp electrode, which is essentially composed of 16%, Li 2 O 2-16%, Na 2 O + K 2 O 0-10%, CuO + CeO 2 0-2%, and does not contain Bi 2 O 3 . CuO+CeOが0.2モル%以上である請求項7に記載の平面蛍光ランプ電極被覆用無鉛ガラス。 The lead-free glass for covering a flat fluorescent lamp electrode according to claim 7, wherein CuO + CeO 2 is 0.2 mol% or more. モル%表示で、Bが23〜38%、SiOが6〜23%、ZnOが21〜28%、Alが4〜6%、BaOが8〜11%であって、LiOが10〜15%かつNaO+KOが0.5〜6%、または、LiOが8〜15%かつNaO+KOが2〜6%である請求項1〜8のいずれかに記載の平面蛍光ランプ電極被覆用無鉛ガラス。 In terms of mol%, B 2 O 3 is 23 to 38%, SiO 2 is 6 to 23%, ZnO is 21 to 28%, Al 2 O 3 is 4 to 6%, BaO is 8 to 11%, 9. Li 2 O is 10 to 15% and Na 2 O + K 2 O is 0.5 to 6%, or Li 2 O is 8 to 15% and Na 2 O + K 2 O is 2 to 6%. Lead-free glass for covering flat fluorescent lamp electrodes according to any one of the above. モル%表示で、Bが29〜39%、SiOが12〜23%、ZnOが20〜28%、Alが2〜8%、BaOが14%以下、LiOが13%以下、NaO+KOが0〜6%、CuO+CeOが0.2モル%以上である請求項1〜7のいずれかに記載の平面蛍光ランプ電極被覆用無鉛ガラス。 In terms of mol%, B 2 O 3 is 29 to 39%, SiO 2 is 12 to 23%, ZnO is 20 to 28%, Al 2 O 3 is 2 to 8%, BaO is 14% or less, Li 2 O is 13% or less, Na 2 O + K 2 O 0 to 6%, the plane fluorescent lamp for covering electrodes lead-free glass according to any one of claims 1 to 7 CuO + CeO 2 is not less than 0.2 mol%. 軟化点が450〜650℃、50〜350℃における平均線膨張係数が60×10−7〜90×10−7/℃である請求項1〜10のいずれかに記載の平面蛍光ランプ電極被覆用無鉛ガラス。 The softening point is 450 to 650 ° C, and the average linear expansion coefficient at 50 to 350 ° C is 60 x 10 -7 to 90 x 10 -7 / ° C. The flat fluorescent lamp electrode coating according to any one of claims 1 to 10 Lead-free glass. 1MHzにおける比誘電率が9.5以下である請求項1〜11のいずれかに記載の平面蛍光ランプ電極被覆用無鉛ガラス。
The lead-free glass for covering a flat fluorescent lamp electrode according to any one of claims 1 to 11, wherein a relative dielectric constant at 1 MHz is 9.5 or less.
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