JP4282885B2 - Low melting point glass for electrode coating and plasma display device - Google Patents

Low melting point glass for electrode coating and plasma display device Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ITO(スズがドープされた酸化インジウム)または酸化スズ等の透明電極を絶縁被覆するのに適した低融点ガラス、およびプラズマディスプレイ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、薄型の平板型カラー表示装置が注目を集めている。このような表示装置においては、画像を形成する画素における表示状態を制御するために各画素に電極を形成しなければならない。画像の質の低下を防ぐために、前記電極として透明電極が用いられている。透明電極としては、ガラス基板上に形成されたITOまたは酸化スズの薄膜が多く用いられている。ここでいう酸化スズは、フッ素、アンチモン、等がドープされた酸化スズを含む。
【0003】
前記表示装置の表示面として使用されるガラス基板の表面に形成される透明電極は、精細な画像を実現するために細い線状に加工される。そして各画素を独自に制御するためには、このような微細に加工された透明電極相互の絶縁性を確保する必要がある。ところが、ガラス基板の表面に水分が存在する場合やガラス基板中にアルカリ成分が存在する場合、このガラス基板の表面を介して若干の電流が流れることがある。このような電流を防止するには、透明電極間に絶縁層を形成することが有効である。また、透明電極間に形成される絶縁層による画像の質の低下を防ぐためには、この絶縁層は透明であることが好ましい。
【0004】
このような絶縁層を形成する絶縁材料としては種々のものが知られているが、なかでも、透明であり信頼性の高い絶縁材料であるガラス材料が広く用いられている。
最近大型平面カラーディスプレイ装置として期待されているプラズマディスプレイ装置(以下PDPという。)においては、典型的には、表示面として使用される前面基板、背面基板および隔壁によりセルが区画形成されており、該セル中でプラズマ放電を発生させることにより画像が形成される。前記前面基板の表面には透明電極が形成されており、この透明電極をプラズマから保護するために、プラズマ耐久性に優れたガラスにより前記透明電極の被覆することが必須である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
このような電極被覆に用いられるガラスは、通常はガラス粉末にして使用される。すなわち、前記ガラス粉末に必要に応じてフィラー等を添加後ペースト化し、このようにして得られたガラスペーストを、透明電極が形成されているガラス基板に塗布、焼成することによって前記透明電極を被覆する。
【0006】
このような電極被覆用ガラスには、電気絶縁性の他に、軟化点がたとえば650℃以下であること、線膨張係数がたとえば80×10-7/℃程度であること、焼成して得られる電極被覆ガラス層の透明性が高いこと、等が求められており、種々のガラスが従来より提案されている。たとえば、特開平11−180726号公報には、質量百分率表示で、PbO+Bi23:52〜68%、B23:14〜28%、SiO2:0〜5%、ZnO:6〜23%、Al23:0〜8%、CeO2:0〜5%、SnO2:0〜5%、から実質的になる非結晶性ガラスが開示されている。
【0007】
しかし、PDPにおいては近年一層の画質向上が求められており、これに伴ない前記電極被覆ガラス層の透明性を一層高くすることが求められている。
本発明は、この課題を解決するための電極被覆用低融点ガラスおよびプラズマディスプレイ装置、を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記酸化物基準の質量百分率表示で、実質的に、PbO 25〜85%、B 10〜60%、SiO 2〜40%、Al 0〜25%、Bi 0〜35%、MgO 0〜40%、CaO 0〜40%、SrO 0〜40%、BaO 0〜40%、ZnO 0〜4%、LiO 0〜20%、NaO 0〜20%、KO 0〜20%、CuO 0.2〜0.9%、からなり、MgO+CaO+SrO+BaOが0〜40%であり、MoおよびSbのいずれも含有しない電極被覆用低融点ガラス、を提供する。
【0009】
また、本発明は、前面基板を有するプラズマディスプレイ装置であって、該前面基板を構成するガラス基板上の透明電極が前記電極被覆用低融点ガラスにより被覆されているプラズマディスプレイ装置、を提供する。
【0010】
本発明者は、PDPにおける前記電極被覆ガラス層の透明性低下の原因の一つが、以下に述べる炭素含有不純物の前記電極被覆ガラス層への残留であると推定し、本発明に至った。
電極被覆用低融点ガラスは、通常は粉末状にして使用される。電極被覆用低融点ガラス粉末は、印刷性を付与するための有機ビヒクル等を用いてガラスペーストとし、このガラスペーストを、ガラス基板上に形成された電極上に塗布、焼成して電極を被覆する。
【0011】
焼成して得られたこの電極被覆ガラス層は、遷移金属等の着色成分を含有しない場合でも、茶色または黒色に着色することが多い。この現象は、有機ビヒクル等に含まれる炭素含有不純物が前記電極被覆ガラス層に残留し、この炭素含有不純物が電極被覆ガラス層を着色している現象であると考えられる。なお、前記茶色の着色によって典型的には波長400nmの光の透過率が低下する。
なお、この炭素含有不純物は、PDPにおいてプラズマが発生しているときに、電極被覆ガラス層に存在する水等と反応して炭酸ガスとして電極被覆ガラス層から放出され、これによりPDPの輝度も低下すると考えられる。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の電極被覆用低融点ガラス(以下単に本発明のガラスという。)は、通常は粉末状にして使用される。本発明のガラスの粉末は、印刷性を付与するための有機ビヒクル等を用いてガラスペーストとされ、これを、ガラス基板上に形成された電極上に塗布、焼成して電極を被覆する。ここでいう有機ビヒクルは、エチルセルロース等のバインダをα−テルピネオール等の有機溶剤に溶解したものである。なお、本発明のガラスは、典型的には鉛ガラスまたは鉛ホウ酸塩ガラスである。
PDPにおいては、本発明のガラスは前面基板の透明電極の被覆に好適に使用される。
【0013】
前記粉末の平均粒径は0.5μm以上であることが好ましい。0.5μm未満では、焼成して得られた電極被覆ガラス層中の気泡が多くなり透明性が低下するおそれがあり、また、粉末状にするために要する時間が顕著に増加するおそれがある。より好ましくは0.7μm以上である。
【0014】
また、前記粉末の最大粒径は35μm以下であることが好ましい。PDPにおける前記電極被覆ガラス層の厚さは通常40μm以下であるが、前記最大粒径が35μm超ではこの電極被覆ガラス層の表面に凹凸が発生しPDPの画像がゆがむおそれがある。前記最大粒径は、より好ましくは20μm以下である。
【0015】
本発明のガラスの軟化点は450〜650℃であることが好ましい。理由を以下に述べる。
前記ガラス基板としては、通常、ガラス転移点が550〜620℃のものが用いられる。この場合、ガラス基板の変形を避けるために、前記ガラスペーストの焼成は620℃以下で行われる。焼成を620℃以下で行うためには、本発明のガラスの軟化点は650℃以下であることが好ましい。また、前記焼成時の早い段階で本発明のガラスが軟化流動して電極を完全に被覆することによって焼成時における電極の電気特性劣化を防止するためにも、軟化点は650℃以下であることが好ましい。より好ましくは640℃以下、特に好ましくは630℃以下である。
【0016】
一方、PDPの前面基板において、ITOまたは酸化スズ等の透明電極のみでは電気抵抗が高すぎる場合、これら透明電極上にAgやAlや三層構造のCr−Cu−Cr等の金属層(以下、この金属層を金属電極という。)を形成する場合がある。軟化点が450℃未満のガラスによりこれら金属電極を被覆すると、金属電極が侵食されたり、金属電極を介しての透明電極の侵食が促進されたりするおそれがある。特に、焼成が520℃以上で行われる場合、軟化点が450℃未満のガラスにより金属電極を被覆すると透明電極の侵食が顕著になる。また、この場合、軟化点が450℃以上520℃未満のガラスにより金属電極を被覆すると、透明電極の侵食はなくなるが、焼成時に電極被覆ガラス層中の気泡が大きくなり電極被覆ガラス層の透過率が減少する。
【0017】
本発明のガラスの軟化点は500℃以上であることがより好ましい。さらに好ましくは520℃以上、特に好ましくは550℃以上、最も好ましくは580℃以上である。
【0018】
また、軟化点が450℃以上であれば、焼成時にガラスの軟化流動が始まる前にガラスペースト中の有機ビヒクルは完全に揮発し、有機ビヒクル中の炭素含有不純物の電極被覆ガラス層への大量残存、それに伴なう電極被覆ガラス層の透過率低下、の防止も期待される。実際、有機ビヒクルの構成成分であるバインダとして使用されるエチルセルロースと、軟化点が600℃であり平均粒径が3μmであるガラス粉末とを乳鉢中で混合して得られた混合粉末を、毎分10℃で昇温しその重量減少率と温度の関係を調べたところ、450℃で該重量減少率は0となった。
【0019】
さらに、軟化点が520℃以上であれば電極被覆ガラス層を単層構造にできる。これに対し、軟化点が520℃未満では前記透明電極侵食現象のために単層構造とすることは困難になり、軟化点が520℃未満のガラスを上層、軟化点がたとえば520℃以上のより軟化点が高いガラスを下層とする非単層構造にしなければならなくなるおそれがある。ここでいう下層は透明電極と直接接する層である。
【0020】
前記ガラス基板としては、通常、50〜350℃における平均線膨張係数が80×10-7〜90×10-7/℃のものが用いられる。したがってこのようなガラス基板と膨張特性をマッチングさせ、ガラス基板のそりや強度の低下を防止するためには、本発明のガラスの前記平均線膨張係数は60×10-7〜90×10-7/℃であることが好ましく、70×10-7〜85×10-7/℃であることがより好ましい。なお、50〜350℃における平均線膨張係数を以下では単に膨張係数という。
【0021】
また、本発明のガラスの室温から400℃までの範囲における比抵抗、より典型的には室温から300℃までの範囲における比抵抗は、前記ガラス基板に用いられるガラスの前記温度範囲における比抵抗の0.1倍またはそれ以上であることが好ましい。この条件が満たされないと電気絶縁性が不足するおそれがある。
ガラス基板に用いられるガラスの150℃における比抵抗は典型的には1011Ω・cm程度である。このことから本発明のガラスの150℃における比抵抗は1010Ω・cm以上であることが好ましく、1011Ω・cm以上であることがより好ましい。
【0022】
本発明のガラスの比誘電率は18以下であることが好ましい。18超ではPDPのセルの静電容量が大きくなりすぎ、PDPの消費電力が増大するおそれがある。より好ましくは12以下、特に好ましくは10.5以下、最も好ましくは10以下である。
【0023】
本発明のガラスは焼成時に結晶化しないことが好ましい。この観点からは、本発明のガラスの結晶化温度Tcは焼成温度よりも高いことが好ましい。焼成温度より80℃以上高いことがより好ましい。ここでいう結晶化温度は示差熱分析(DTA)によって得られる結晶化ピーク温度であり、結晶化ピークが認められない場合は、Tc=∞とする。
【0024】
前記Tcは700℃以上であることが好ましい。700℃未満では、通常行われる500〜620℃での焼成においてガラスが結晶化し透明性が低下するおそれがある。より好ましくは750℃以上である。
【0025】
本発明のガラスは、MoおよびSbのいずれも含有しないが、Cuは必須成分として含有する。質量百分率表示で、CuOとして換算したCu含有量(以下、CuO含有量という。)が0.2%未満では、電極被覆ガラス層の透過率が低下する。好ましくは0.3%以上である。0.9%超ではCuに起因する着色が濃くなりすぎる。好ましくは0.8%以下、より好ましくは0.7%以下である。なお、以下では含有量は質量百分率で表す。
【0026
【0027
【0028】
【0029
【0030
【0031】
次に、本発明のガラスの組成について説明する。なお、CuOについては先に述べたので省略する。
PbOは軟化点を低下させ、また膨張係数を大きくする効果を有し、必須である。25%未満では、前記効果が小さすぎる。好ましくは30%以上である。85%超では、比誘電率が大きくなりすぎる、または黄色着色が濃くなりすぎる。好ましくは83.8%以下、より好ましくは75%以下である。
【0032】
23は必須である。ガラスを安定化させるために、または焼成時のガラス流動性を高め電極被覆ガラス層中の残存気泡を減少させて透過率を高くするために、60%まで含有してもよい。60%超では、軟化点が高くなりすぎたり、ガラスが分相したりするおそれがある。好ましくは55%以下である。B23は10%以上含有し、より好ましくは11%以上、最も好ましくは23%以上である。なお、前記残存気泡の大きさは典型的には30μmである。
【0033】
SiO2は必須である。ガラスを安定化させるために、または銀発色現象を抑制するために、40%まで含有してもよい。ここでいう銀発色現象は、PDP前面基板のガラス基板上に形成された銀含有バス電極をガラスで被覆した場合に、該ガラスに銀が拡散しガラスが茶色に着色しPDPの画質が低下する現象である。SiO2は前記銀の拡散を抑制する効果があると考えられる。SiO2含有量が40%超では、焼成時のガラス流動性が低下し電極被覆ガラス層中の残存気泡が増加して透過率が低下するおそれがある。SiO2含有量は、より好ましくは35%以下、さらに好ましくは15%以下、最も好ましくは12%以下である。
【0034】
前記銀発色現象を特に抑制したい場合、SiO2含有量は5%以上であることが好ましい。より好ましくは6.6%以上である。また、この場合、PbO含有量は83.8%以下かつB23含有量は11%以上であることが好ましい。
【0035】
Al23は必須ではないが、ガラスを安定化させるために25%まで含有してもよい。25%超ではガラスが失透するおそれがある。より好ましくは15%以下、特に好ましくは10%以下である。
【0036】
Bi23は必須ではないが、軟化点を低下させるために35%まで含有してもよい。35%超ではガラスが黄色に着色したり、比誘電率が大きくなりすぎたりするおそれがある。より好ましくは30%以下、特に好ましくは5%以下である。
【0037】
MgO、CaO、SrOおよびBaOはいずれも必須ではないが、ガラスの耐水性を高めるために、またはガラスの分相を抑制するために、それぞれ40%まで含有してもよい。なお、ガラスの比誘電率を特に低下させたい場合はMgOを含有することが好ましい。これら成分のそれぞれの含有量が40%超では焼成時の結晶化が顕著となり透過率が低下するおそれがある。より好ましくは35%以下、特に好ましくは30%以下である。
【0038】
なお、MgOについては5%以下であることが最も好ましい。5%超では、焼成時のガラス流動性が低下し電極被覆ガラス層中の残存気泡が増加して透過率が低下するおそれがある。
MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量の合計は40%以下であることが好ましい。より好ましくは35%以下である。
【0039】
ZnOは必須ではないが、軟化点を低下させるために4%までとされる
【0040】
Li2O、Na2OおよびK2Oはいずれも必須ではないが、軟化点を低下させるために、それぞれ20%まで含有してもよい。20%超では、ガラスの耐水性が低下したり、膨張係数が大きくなりすぎたりするおそれがある。より好ましくはそれぞれ5%以下である。
Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計は20%以下であることが好ましい。より好ましくは5%以下である。
本発明のガラスは実質的に上記成分からなることが好ましいが、この他の成分を本発明の目的を損なわない範囲で10%まで含有してもよい。
【0041】
本発明のプラズマディスプレイ装置(以下本発明のPDPという。)の前面基板においては、ガラス基板の上に透明電極が形成されており、該透明電極が形成されているガラス基板の表面が本発明のガラスにより被覆されている。
前面基板に用いられるガラス基板の厚さは通常2.8mmであり、このガラス基板自体の波長550nmの光に対する透過率(以下T550と記す。)は典型的には90%である。また、その濁度は典型的には0.4%である。
【0042】
また、透明電極は、たとえば幅0.5mmの帯状であり、それぞれの帯状電極が互いに平行となるように形成される。各帯状電極中心線間の距離は、たとえば0.83〜1.0mmであり、この場合、透明電極がガラス基板表面を占める割合は50〜60%である。
【0043】
本発明のPDPの前面基板については、T550は77%以上であることが好ましい。77%未満ではPDPの画質が低下するおそれがある。より好ましくは79%以上、特に好ましくは80%以上である。また、その濁度は21%以下であることが好ましい。21%超ではPDPの画質が低下するおそれがある。より好ましくは20%以上、特に好ましくは15%以下である。
【0044】
本発明のPDPは、たとえば交流方式のものであれば次のようにして製造される。
図1に示すように、ガラス基板1aの表面にパターニングされた透明電極2およびバス線(図示せず)を形成したのち、本発明のガラスの粉末を塗布・焼成してガラス層3を形成し、最後に保護膜として酸化マグネシウムの層(図示せず)を形成し、前面基板10とする。一方、ガラス基板1bの上には、パターニングされたアドレス用電極5を形成したのち、ストライプ状に隔壁6を形成し、さらに蛍光体層4を印刷・焼成して背面基板20とする。
【0045】
前面基板10と背面基板20の周縁にシール材(図示せず)をディスペンサで塗布し、透明電極2とアドレス用電極5が対向するように組み立てた後、焼成してプラズマディスプレイ装置とする。そしてプラズマディスプレイ装置内部を排気して、放電空間7にNeやHe−Xeなどの放電ガスを封入する。
なお、上記の例は交流方式のものであるが、本発明は直流方式のものにも適用できる。
【0046】
【実施例】
表のPbOからSb23までの欄に質量百分率で示す組成となるように、原料を調合して混合し、1300℃の電気炉中で白金ルツボを用いて1時間溶融し、薄板状ガラスに成形した後、ボールミルで粉砕し、ガラス粉末を得た。例1〜3、〜10は実施例、例A1〜A7は比較例である。
【0047】
これらガラス粉末について、軟化点(単位:℃)、膨張係数(単位:10-7/℃)および比誘電率を以下に述べるようにして測定した。結果を表に示す。なお、比誘電率は例3、4、A2、7、8およびA5について測定した。
軟化点:示差熱分析計を用いて測定した。
膨張係数:ガラス粉末を成形後、表に示す焼成温度(単位:℃)で10分間焼成して得た焼成体を直径5mm、長さ2cmの円柱状に加工し、熱膨張計で50〜350℃の平均線膨張係数を測定した。
比誘電率:前記焼成体を50mm×50mm×厚さ3mmに加工し、その表面に電極を蒸着して周波数1MHzでの比誘電率を測定した。
【0048】
また、これらガラス粉末とエチルセルロースを質量比で100:5となるように計りとって混合し、得られた混合物2gを直径12mmの円柱状の型に入れて成形し円柱状試料とした。この円柱状試料を、ガラス粉末の軟化点で30分間焼成し、円盤状の焼成体を得た。この焼成体の色を表に示す。焼成体の色が茶色または黒色のものは焼成体中の炭素含有不純物の量が多いものと考えられる。したがって、例A2、A3、A5、A6、A7の焼成体の炭素含有不純物の量は多いと考えられる。
【0049】
さらに、これらガラス粉末100gを有機ビヒクル25gと混練し、ガラスペーストを作製した。前記有機ビヒクルは、ジエチレングリコールモノブチルエーテルモノアセテートまたはα−テルピネオールにエチルセルロースを質量百分率表示で7〜18%溶解したものである。
【0050】
次に、大きさ10cm×10cm、厚さ2.8mmのガラス基板を用意し、このガラス基板の表面に、膜厚が200nmで幅が0.5mmのITO透明電極を、各ITO透明電極の中心線間距離が1.0mmとなるように平行に多数形成した。前記ガラス基板は、質量百分率で表わした組成が、SiO2:58%、Al23:7%、Na2O:4%、K2O:6.5%、MgO:2%、CaO:5%、SrO:7%、BaO:7.5%、ZrO2:3%、ガラス転移点が626℃、膨張係数が83×10-7/℃、であるガラスからなる。なお、前記ITO透明電極はガラス基板の片面に形成されている。
【0051】
ITO透明電極が形成されている30mm×30mmの部分に前記ガラスペーストを均一にスクリーン印刷後、120℃で10分間乾燥した。このガラス基板を昇温速度10℃/分で、表に示す焼成温度になるまで加熱し、さらにその温度に30分間保持して、焼成した。透明電極を被覆するガラス層の厚さは30μmであった。
【0052】
前記焼成後のガラス基板について、波長550nmの光の透過率(単位:%)および濁度(単位:%)を以下に述べるようにして測定した。結果を表に示す。
透過率:(株)日立製作所製の自記分光光度計U−3500(積分球型)を用いて波長550nmの光の透過率を測定した。サンプルのない状態を100%とした。
濁度:(株)スガ試験器製のヘーズメータ(ハロゲン球を用いたC光源)を使用した。ハロゲン球からの光をレンズを通して平行光線とし、サンプルに入射させ、積分球により全光線透過率Ttと拡散透過率Tdを測定した。濁度は、
濁度(%)=(Td/Tt)×100
により算出した。
【0053】
例1、2と例A1、例3、4、5と例A2、例6と例A3、例7と例A4、例8と例A5、例9と例A6、例10と例A7、を比較すると、CuOを0.1〜0.9%の範囲で含有することにより、透過率が高くなり、また濁度が低下していることがわかる。
【0054】
また、例3、4、A2、7、8およびA5について銀発色現象を次のようにして調べた。
先に使用したガラス基板と同じガラスからなる大きさ50mm×75mm、厚さ2.8mmのガラス基板上の45mm×45mmの部分にスクリーン印刷用銀ペーストを均一にスクリーン印刷後、120℃で10分間乾燥した。このガラス基板を昇温速度10℃/分で580℃まで加熱し、さらにその温度に15分間保持して、焼成し、厚さ5μmの銀焼成体を形成した。
【0055】
ガラス基板上に形成された銀焼成体の全面を覆うようにガラスペーストをスクリーン印刷し、乾燥、焼成して厚さ30μmのガラス層を形成した。前記乾燥および焼成の条件は先に述べたガラスペーストの場合と同じとした。
【0056】
ガラス基板上に銀焼成体、さらにその上にガラス層が形成されたサンプルについて、前記ガラス層側に光を入射するようにして、波長550nmの光の反射率R550(単位:%)と波長430nmの光の反射率R430(単位:%)とを前記自記分光光度計によって測定した。R550−R430(単位:%)を表の銀発色の欄に示す。波長として430nmを選択したのは、銀発色原因となる銀コロイドの吸収ピークに相当するからであり、一方、波長として550nmを選択したのは、銀コロイドの吸収ピークから充分離れているからである。
550−R430が20%以上のものは銀発色現象が顕著であり好ましくない。より好ましくは15%以下、特に好ましくは5%以下である。
【0057】
【表1】

Figure 0004282885
【0058】
【表2】
Figure 0004282885
【0059】
【発明の効果】
本発明のガラスを用いることにより、ガラス基板上の透明電極を被覆するガラス層の透明性を高くできる。また、前記ガラス層中の炭素含有不純物残存量が減少しPDPにおける輝度低下が起りにくくなる。さらに、ガラス基板上の銀電極を被覆するガラス層の銀発色現象を抑制できる。また、電極を被覆するガラス層の比誘電率を小さくできる。
【0060】
本発明のPDPにおいては、その前面基板の透過率が高く、画質が優れている。また、輝度低下が起りにくい。さらに、前面基板の銀電極を被覆するガラス層の銀発色現象を抑制でき、この点でも画質が向上する。また、消費電力も低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のプラズマディスプレイ装置を示す断面図。
【符号の説明】
1a:ガラス基板
1b:ガラス基板
2:透明電極
3:ガラス層
4:蛍光体層
5:アドレス用電極
6:隔壁
7:放電空間
10:前面基板
20:背面基板[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a low-melting glass suitable for insulatingly coating a transparent electrode such as ITO (indium oxide doped with tin) or tin oxide, and a plasma display device.
[0002]
[Prior art]
In recent years, thin flat panel color display devices have attracted attention. In such a display device, an electrode must be formed in each pixel in order to control the display state in the pixel forming the image. In order to prevent deterioration in image quality, a transparent electrode is used as the electrode. As the transparent electrode, an ITO or tin oxide thin film formed on a glass substrate is often used. As used herein, tin oxide includes tin oxide doped with fluorine, antimony, or the like.
[0003]
The transparent electrode formed on the surface of the glass substrate used as the display surface of the display device is processed into a thin line shape in order to realize a fine image. And in order to control each pixel independently, it is necessary to ensure the insulation between such finely processed transparent electrodes. However, when moisture is present on the surface of the glass substrate or when an alkali component is present in the glass substrate, a slight current may flow through the surface of the glass substrate. In order to prevent such a current, it is effective to form an insulating layer between the transparent electrodes. Further, in order to prevent deterioration of the image quality due to the insulating layer formed between the transparent electrodes, the insulating layer is preferably transparent.
[0004]
Various insulating materials for forming such an insulating layer are known. Among them, glass materials that are transparent and highly reliable insulating materials are widely used.
In a plasma display device (hereinafter referred to as PDP), which has recently been expected as a large flat color display device, cells are typically defined by a front substrate, a rear substrate and a partition wall used as a display surface. An image is formed by generating a plasma discharge in the cell. A transparent electrode is formed on the surface of the front substrate. In order to protect the transparent electrode from plasma, it is essential to cover the transparent electrode with glass having excellent plasma durability.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
The glass used for such electrode coating is usually used as a glass powder. That is, if necessary, a filler or the like is added to the glass powder to form a paste, and the glass paste thus obtained is applied to a glass substrate on which the transparent electrode is formed and baked to cover the transparent electrode. To do.
[0006]
In addition to electrical insulation, such an electrode coating glass has a softening point of, for example, 650 ° C. or less, a linear expansion coefficient of, for example, about 80 × 10 −7 / ° C., and is obtained by firing. The transparency of the electrode-coated glass layer is required, and various glasses have been proposed. For example, JP-A-11-180726 discloses PbO + Bi 2 O 3 : 52 to 68%, B 2 O 3 : 14 to 28%, SiO 2 : 0 to 5%, ZnO: 6 to 23 in terms of mass percentage. %, Al 2 O 3 : 0 to 8%, CeO 2 : 0 to 5%, SnO 2 : 0 to 5%.
[0007]
However, in recent years, there has been a demand for further improvement in image quality in the PDP, and accordingly, the transparency of the electrode-coated glass layer is required to be further increased.
An object of this invention is to provide the low melting glass for electrode coating and plasma display apparatus for solving this subject.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The present invention is expressed in mass percentage based on the following oxides, and is substantially PbO 25-85%, B 2 O 3 10-60%, SiO 2 2-40%, Al 2 O 3 0-25%, Bi 2 O 3 0-35%, MgO 0-40%, CaO 0-40%, SrO 0-40%, BaO 0-40%, ZnO 0-4%, Li 2 O 0-20%, Na 2 O 0 ~20%, K 2 O 0~20% , CuO 0.2~0.9%, made a MgO + CaO + SrO + BaO 0 to 40% low-melting glass for covering electrodes, which do not contain any Mo and Sb, the provide.
[0009]
The present invention also provides a plasma display device having a front substrate, wherein a transparent electrode on a glass substrate constituting the front substrate is coated with the low-melting glass for electrode coating.
[0010]
The present inventor presumed that one of the causes of the decrease in the transparency of the electrode-coated glass layer in the PDP was the remaining carbon-containing impurities described below in the electrode-coated glass layer, leading to the present invention.
The low melting point glass for electrode coating is usually used in the form of powder. The low melting point glass powder for electrode coating is made into a glass paste using an organic vehicle or the like for imparting printability, and this glass paste is applied onto an electrode formed on a glass substrate and fired to coat the electrode. .
[0011]
The electrode-coated glass layer obtained by firing is often colored brown or black even when it does not contain a coloring component such as a transition metal. This phenomenon is considered to be a phenomenon in which carbon-containing impurities contained in the organic vehicle or the like remain in the electrode-coated glass layer, and the carbon-containing impurities color the electrode-coated glass layer. Note that the brown coloration typically reduces the transmittance of light having a wavelength of 400 nm.
This carbon-containing impurity reacts with water or the like present in the electrode-coated glass layer and is released from the electrode-coated glass layer as carbon dioxide gas when plasma is generated in the PDP, thereby reducing the brightness of the PDP. I think that.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The low melting point glass for electrode coating of the present invention (hereinafter simply referred to as the glass of the present invention) is usually used in the form of powder. The glass powder of the present invention is made into a glass paste using an organic vehicle or the like for imparting printability, and this is applied onto an electrode formed on a glass substrate and fired to coat the electrode. Here, the organic vehicle is obtained by dissolving a binder such as ethyl cellulose in an organic solvent such as α-terpineol. The glass of the present invention is typically lead glass or lead borate glass.
In the PDP, the glass of the present invention is suitably used for coating the transparent electrode of the front substrate.
[0013]
The average particle size of the powder is preferably 0.5 μm or more. When the thickness is less than 0.5 μm, there is a risk that the number of bubbles in the electrode-coated glass layer obtained by firing increases and the transparency is lowered, and there is a possibility that the time required for making the powder is remarkably increased. More preferably, it is 0.7 μm or more.
[0014]
The maximum particle size of the powder is preferably 35 μm or less. The thickness of the electrode-coated glass layer in the PDP is usually 40 μm or less. However, if the maximum particle size exceeds 35 μm, the surface of the electrode-coated glass layer may be uneven and the PDP image may be distorted. The maximum particle size is more preferably 20 μm or less.
[0015]
The softening point of the glass of the present invention is preferably 450 to 650 ° C. The reason is described below.
As the glass substrate, one having a glass transition point of 550 to 620 ° C. is usually used. In this case, in order to avoid deformation of the glass substrate, the baking of the glass paste is performed at 620 ° C. or lower. In order to perform baking at 620 ° C. or lower, the softening point of the glass of the present invention is preferably 650 ° C. or lower. In addition, the softening point is 650 ° C. or less in order to prevent deterioration of the electrical characteristics of the electrode during firing by the glass of the present invention softening and flowing in the early stage of firing and completely covering the electrode. Is preferred. More preferably, it is 640 degrees C or less, Most preferably, it is 630 degrees C or less.
[0016]
On the other hand, on the front substrate of the PDP, when the electrical resistance is too high with only a transparent electrode such as ITO or tin oxide, a metal layer such as Ag, Al, or a three-layer structure Cr—Cu—Cr is formed on these transparent electrodes (hereinafter, This metal layer may be referred to as a metal electrode). When these metal electrodes are covered with glass having a softening point of less than 450 ° C., the metal electrode may be eroded or the erosion of the transparent electrode through the metal electrode may be accelerated. In particular, when firing is performed at 520 ° C. or higher, when the metal electrode is covered with glass having a softening point of less than 450 ° C., the erosion of the transparent electrode becomes significant. Further, in this case, when the metal electrode is covered with glass having a softening point of 450 ° C. or higher and lower than 520 ° C., the erosion of the transparent electrode is eliminated, but bubbles in the electrode-coated glass layer increase during firing, and the transmittance of the electrode-coated glass layer is increased. Decrease.
[0017]
The softening point of the glass of the present invention is more preferably 500 ° C. or higher. More preferably, it is 520 degreeC or more, Most preferably, it is 550 degreeC or more, Most preferably, it is 580 degreeC or more.
[0018]
If the softening point is 450 ° C. or higher, the organic vehicle in the glass paste is completely volatilized before the softening flow of the glass starts, and a large amount of carbon-containing impurities in the organic vehicle remains in the electrode-coated glass layer. Further, it is expected to prevent a decrease in transmittance of the electrode-coated glass layer. Actually, a mixed powder obtained by mixing ethyl cellulose used as a binder, which is a component of an organic vehicle, and glass powder having a softening point of 600 ° C. and an average particle diameter of 3 μm in a mortar, When the temperature was raised at 10 ° C. and the relationship between the weight reduction rate and the temperature was examined, the weight reduction rate was zero at 450 ° C.
[0019]
Furthermore, if a softening point is 520 degreeC or more, an electrode covering glass layer can be made into a single layer structure. On the other hand, if the softening point is less than 520 ° C., it becomes difficult to form a single layer structure due to the erosion phenomenon of the transparent electrode, and the upper layer is made of glass having a softening point of less than 520 ° C., and the softening point is, for example, 520 ° C. or more. There is a possibility that a non-single layer structure having a glass having a high softening point as a lower layer must be formed. The lower layer here is a layer in direct contact with the transparent electrode.
[0020]
As the glass substrate, those having an average linear expansion coefficient at 50 to 350 ° C. of 80 × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C. are usually used. Therefore, in order to match the expansion characteristics with such a glass substrate and prevent the glass substrate from being warped or reduced in strength, the average linear expansion coefficient of the glass of the present invention is 60 × 10 −7 to 90 × 10 −7. / ° C. is preferable, and 70 × 10 −7 to 85 × 10 −7 / ° C. is more preferable. In addition, the average linear expansion coefficient in 50-350 degreeC is only called an expansion coefficient below.
[0021]
The specific resistance in the range from room temperature to 400 ° C. of the glass of the present invention, more typically the specific resistance in the range from room temperature to 300 ° C., is the specific resistance in the temperature range of the glass used for the glass substrate. It is preferably 0.1 times or more. If this condition is not satisfied, there is a risk of insufficient electrical insulation.
The specific resistance at 150 ° C. of the glass used for the glass substrate is typically about 10 11 Ω · cm. Therefore, the specific resistance of the glass of the present invention at 150 ° C. is preferably 10 10 Ω · cm or more, and more preferably 10 11 Ω · cm or more.
[0022]
The relative dielectric constant of the glass of the present invention is preferably 18 or less. If it exceeds 18, the capacitance of the cell of the PDP becomes too large, and the power consumption of the PDP may increase. More preferably, it is 12 or less, Especially preferably, it is 10.5 or less, Most preferably, it is 10 or less.
[0023]
The glass of the present invention is preferably not crystallized during firing. From this viewpoint, the crystallization temperature T c of the glass of the present invention is preferably higher than the firing temperature. More preferably, it is higher by 80 ° C. than the firing temperature. The crystallization temperature here is a crystallization peak temperature obtained by differential thermal analysis (DTA), and when no crystallization peak is observed, T c = ∞.
[0024]
The Tc is preferably 700 ° C. or higher. If it is less than 700 degreeC, there exists a possibility that glass may crystallize and the transparency may fall in the baking by 500-620 degreeC performed normally. More preferably, it is 750 degreeC or more.
[0025]
Glass of the present invention does not contain any Mo and Sb, Cu is contained as an essential component. When the Cu content (hereinafter referred to as CuO content) converted to CuO in terms of mass percentage is less than 0.2%, the transmittance of the electrode-coated glass layer is lowered. Preferably it is 0.3% or more. If it exceeds 0.9%, coloring due to Cu becomes too dark. Preferably it is 0.8% or less, More preferably, it is 0.7% or less. In the following, the content is expressed as a percentage by mass.
[0026 ]
[0027 ]
[0028]
[0029 ]
[0030 ]
[0031]
It will now be described the set formed of the glass of the present invention. Incidentally, it omitted noted For previously Cu O.
PbO is essential because it has the effect of lowering the softening point and increasing the expansion coefficient. If it is less than 25%, the effect is too small. Preferably it is 30% or more. If it exceeds 85%, the relative dielectric constant becomes too large, or the yellow coloring becomes too dark. Preferably it is 83.8% or less, More preferably, it is 75% or less.
[0032]
B 2 O 3 is essential. In order to stabilize the glass, or to increase the glass fluidity at the time of firing and to reduce the residual bubbles in the electrode-coated glass layer to increase the transmittance, it may be contained up to 60%. If it exceeds 60%, the softening point may be too high, or the glass may cause phase separation. Preferably it is 55% or less. B 2 O 3 is contained in an amount of 10% or more, more preferably 11% or more, and most preferably 23% or more. The size of the remaining bubbles is typically 30 μm.
[0033]
SiO 2 is essential. In order to stabilize the glass or suppress the silver coloring phenomenon, it may be contained up to 40%. The silver coloring phenomenon here means that when a silver-containing bus electrode formed on the glass substrate of the PDP front substrate is coated with glass, silver diffuses into the glass and the glass is colored brown, and the image quality of the PDP deteriorates. It is a phenomenon. SiO 2 is considered to have an effect of suppressing the diffusion of the silver. If the SiO 2 content exceeds 40%, the glass fluidity at the time of firing is lowered, the residual bubbles in the electrode-coated glass layer are increased, and the transmittance may be lowered. The SiO 2 content is more preferably 35% or less, still more preferably 15% or less, and most preferably 12% or less.
[0034]
When it is desired to particularly suppress the silver coloring phenomenon, the SiO 2 content is preferably 5% or more. More preferably, it is 6.6% or more. In this case, the PbO content is preferably 83.8% or less and the B 2 O 3 content is preferably 11% or more.
[0035]
Al 2 O 3 is not essential, but may be contained up to 25% in order to stabilize the glass. If it exceeds 25%, the glass may be devitrified. More preferably, it is 15% or less, and particularly preferably 10% or less.
[0036]
Bi 2 O 3 is not essential, but may be contained up to 35% in order to lower the softening point. If it exceeds 35%, the glass may be colored yellow, or the relative dielectric constant may be too large. More preferably, it is 30% or less, and particularly preferably 5% or less.
[0037]
MgO, CaO, SrO and BaO are not essential, but may be contained up to 40% in order to increase the water resistance of the glass or to suppress the phase separation of the glass. In addition, it is preferable to contain MgO when it is particularly desired to lower the relative dielectric constant of the glass. If the content of each of these components exceeds 40%, crystallization during firing becomes remarkable, and the transmittance may be lowered. More preferably, it is 35% or less, and particularly preferably 30% or less.
[0038]
Note that MgO is most preferably 5% or less. If it exceeds 5%, the glass fluidity at the time of firing is lowered, the residual bubbles in the electrode-coated glass layer are increased, and the transmittance may be lowered.
The total content of MgO, CaO, SrO and BaO is preferably 40% or less. More preferably, it is 35% or less.
[0039]
ZnO is not essential, but is up to 4% in order to lower the softening point.
[0040]
Li 2 O, Na 2 O and K 2 O are not essential, but may be contained up to 20% in order to lower the softening point. If it exceeds 20%, the water resistance of the glass may decrease, or the expansion coefficient may become too large. More preferably, each is 5% or less.
The total content of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O is preferably 20% or less. More preferably, it is 5% or less.
The glass of the present invention is preferably substantially composed of the above components, but other components may be contained up to 10% within a range not to impair the object of the present invention.
[0041]
In the front substrate of the plasma display device of the present invention (hereinafter referred to as the PDP of the present invention), a transparent electrode is formed on the glass substrate, and the surface of the glass substrate on which the transparent electrode is formed is the surface of the present invention. It is covered with glass.
The thickness of the glass substrate used for the front substrate is usually 2.8 mm, (hereinafter referred to as T 550.) Transmittance of light with a wavelength of 550nm of the glass substrate itself is typically 90%. The turbidity is typically 0.4%.
[0042]
Further, the transparent electrode has, for example, a band shape having a width of 0.5 mm, and is formed so that the respective band electrodes are parallel to each other. The distance between the strip electrode center lines is, for example, 0.83 to 1.0 mm. In this case, the ratio of the transparent electrode to the surface of the glass substrate is 50 to 60%.
[0043]
For the front substrate of the PDP of the present invention, T 550 is preferably 77% or more. If it is less than 77%, the image quality of the PDP may be lowered. More preferably, it is 79% or more, and particularly preferably 80% or more. The turbidity is preferably 21% or less. If it exceeds 21%, the image quality of the PDP may deteriorate. More preferably, it is 20% or more, and particularly preferably 15% or less.
[0044]
If the PDP of the present invention is of an AC system, for example, it is manufactured as follows.
As shown in FIG. 1, after forming the patterned transparent electrode 2 and bus line (not shown) on the surface of the glass substrate 1a, the glass layer 3 is formed by applying and baking the glass powder of the present invention. Finally, a magnesium oxide layer (not shown) is formed as a protective film to form the front substrate 10. On the other hand, after the patterned address electrodes 5 are formed on the glass substrate 1b, the barrier ribs 6 are formed in stripes, and the phosphor layer 4 is printed and fired to form the back substrate 20.
[0045]
A sealant (not shown) is applied to the peripheral edges of the front substrate 10 and the rear substrate 20 with a dispenser, assembled so that the transparent electrode 2 and the address electrode 5 face each other, and then fired to obtain a plasma display device. Then, the inside of the plasma display device is exhausted, and a discharge gas such as Ne or He—Xe is sealed in the discharge space 7.
Although the above example is an AC type, the present invention can also be applied to a DC type.
[0046]
【Example】
The raw materials were prepared and mixed so as to have a composition represented by mass percentage in the columns from PbO to Sb 2 O 3 in the table, and then melted for 1 hour using a platinum crucible in an electric furnace at 1300 ° C. And then pulverized with a ball mill to obtain glass powder. Examples 1 to 3 and 6 to 10 are examples, and examples A1 to A7 are comparative examples.
[0047]
With respect to these glass powders, the softening point (unit: ° C.), the expansion coefficient (unit: 10 −7 / ° C.) and the relative dielectric constant were measured as described below. The results are shown in the table. The relative dielectric constant was measured for Examples 3, 4, A2, 7, 8, and A5.
Softening point: Measured using a differential thermal analyzer.
Expansion coefficient: After forming the glass powder, the fired body obtained by firing for 10 minutes at the firing temperature (unit: ° C.) shown in the table is processed into a cylindrical shape having a diameter of 5 mm and a length of 2 cm, and 50 to 350 with a thermal dilatometer. The average coefficient of linear expansion at 0 ° C. was measured.
Relative permittivity: The fired body was processed to 50 mm × 50 mm × thickness 3 mm, an electrode was deposited on the surface, and the relative permittivity at a frequency of 1 MHz was measured.
[0048]
Further, these glass powder and ethyl cellulose were weighed and mixed so as to have a mass ratio of 100: 5, and 2 g of the obtained mixture was put into a cylindrical mold having a diameter of 12 mm to form a cylindrical sample. This cylindrical sample was baked for 30 minutes at the softening point of the glass powder to obtain a disk-shaped fired body. The color of this fired body is shown in the table. When the color of the fired body is brown or black, the amount of carbon-containing impurities in the fired body is considered to be large. Therefore, it is considered that the amount of carbon-containing impurities in the fired bodies of Examples A2, A3, A5, A6, and A7 is large.
[0049]
Furthermore, 100 g of these glass powders were kneaded with 25 g of an organic vehicle to produce a glass paste. The organic vehicle is obtained by dissolving 7 to 18% of ethyl cellulose in diethylene glycol monobutyl ether monoacetate or α-terpineol in terms of mass percentage.
[0050]
Next, a glass substrate having a size of 10 cm × 10 cm and a thickness of 2.8 mm is prepared, and an ITO transparent electrode having a thickness of 200 nm and a width of 0.5 mm is formed on the surface of the glass substrate. A large number of lines were formed in parallel so that the distance between the lines was 1.0 mm. The glass substrate has a composition expressed by mass percentage of SiO 2 : 58%, Al 2 O 3 : 7%, Na 2 O: 4%, K 2 O: 6.5%, MgO: 2%, CaO: 5%, SrO: 7%, BaO: 7.5%, ZrO 2 : 3%, made of glass having a glass transition point of 626 ° C. and an expansion coefficient of 83 × 10 −7 / ° C. The ITO transparent electrode is formed on one side of the glass substrate.
[0051]
The glass paste was uniformly screen-printed on a 30 mm × 30 mm portion where the ITO transparent electrode was formed, and then dried at 120 ° C. for 10 minutes. This glass substrate was heated at a heating rate of 10 ° C./min until the firing temperature shown in the table was reached, and further maintained at that temperature for 30 minutes for firing. The thickness of the glass layer covering the transparent electrode was 30 μm.
[0052]
About the glass substrate after the said baking, the transmittance | permeability (unit:%) and turbidity (unit:%) of light with a wavelength of 550 nm were measured as described below. The results are shown in the table.
Transmittance: The transmittance of light having a wavelength of 550 nm was measured using a self-recording spectrophotometer U-3500 (integrating sphere type) manufactured by Hitachi, Ltd. The state with no sample was taken as 100%.
Turbidity: A haze meter (C light source using a halogen bulb) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. was used. The light from the halogen sphere was converted into parallel rays through the lens, made incident on the sample, and the total light transmittance T t and the diffuse transmittance T d were measured with an integrating sphere. Turbidity is
Turbidity (%) = (T d / T t ) × 100
Calculated by
[0053]
Example 1, 2 and Example A1, Examples 3, 4, 5 and Example A2, Example 6 and Example A3, Example 7 and Example A4, Example 8 and Example A5, Example 9 and Example A6, Example 10 and Example A7 Then, it turns out that the transmittance | permeability becomes high and turbidity falls by containing CuO in 0.1 to 0.9% of range.
[0054]
Further, Examples 3, 4, A2, 7, 8, and A5 were examined for silver coloring phenomenon as follows.
Screen printing silver paste is uniformly applied to a 45 mm × 45 mm portion on a glass substrate having a size of 50 mm × 75 mm and a thickness of 2.8 mm made of the same glass as the previously used glass substrate, and then at 120 ° C. for 10 minutes. Dried. This glass substrate was heated to 580 ° C. at a temperature rising rate of 10 ° C./min, and further kept at that temperature for 15 minutes and fired to form a 5 μm thick silver fired body.
[0055]
A glass paste was screen printed so as to cover the entire surface of the silver fired body formed on the glass substrate, dried and fired to form a glass layer having a thickness of 30 μm. The drying and firing conditions were the same as those for the glass paste described above.
[0056]
For a sample in which a silver fired body is formed on a glass substrate, and a glass layer is further formed on the glass substrate, the light reflectance R 550 (unit:%) and the wavelength are set so that light is incident on the glass layer side. The reflectance R 430 (unit:%) of light at 430 nm was measured by the self-recording spectrophotometer. R 550 -R 430 (unit:%) is shown in the silver color column of the table. The reason why the wavelength of 430 nm is selected is that it corresponds to the absorption peak of the silver colloid that causes silver coloring, whereas the wavelength of 550 nm is selected because it is sufficiently far from the absorption peak of the silver colloid. .
When R 550 -R 430 is 20% or more, the silver coloring phenomenon is remarkable, which is not preferable. More preferably, it is 15% or less, and particularly preferably 5% or less.
[0057]
[Table 1]
Figure 0004282885
[0058]
[Table 2]
Figure 0004282885
[0059]
【The invention's effect】
By using the glass of the present invention, the transparency of the glass layer covering the transparent electrode on the glass substrate can be increased. In addition, the residual amount of carbon-containing impurities in the glass layer is reduced, so that the luminance in the PDP is hardly lowered. Furthermore, the silver coloring phenomenon of the glass layer which coat | covers the silver electrode on a glass substrate can be suppressed. In addition, the dielectric constant of the glass layer covering the electrode can be reduced.
[0060]
In the PDP of the present invention, the transmittance of the front substrate is high and the image quality is excellent. In addition, the luminance is unlikely to decrease. Furthermore, the silver coloring phenomenon of the glass layer covering the silver electrode of the front substrate can be suppressed, and the image quality is also improved in this respect. In addition, power consumption can be reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a plasma display device of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a: Glass substrate 1b: Glass substrate 2: Transparent electrode 3: Glass layer 4: Phosphor layer 5: Address electrode 6: Partition 7: Discharge space 10: Front substrate 20: Rear substrate

Claims (6)

下記酸化物基準の質量百分率表示で、実質的に、
PbO 25〜85%、
23 10〜60%、
SiO2 2〜40%、
Al23 0〜25%、
Bi23 0〜35%、
MgO 0〜40%、
CaO 0〜40%、
SrO 0〜40%、
BaO 0〜40%、
ZnO 0〜4%、
Li2O 0〜20%、
Na2O 0〜20%、
2O 0〜20%、
CuO 0.2〜0.9%、
からなり、MgO+CaO+SrO+BaOが0〜40%であり、MoおよびSbのいずれも含有しない電極被覆用低融点ガラス。
In mass percentage display based on the following oxides,
PbO 25-85%,
B 2 O 3 10-60%,
SiO 2 2~40%,
Al 2 O 3 0-25%,
Bi 2 O 3 0-35%,
MgO 0-40%,
CaO 0-40%,
SrO 0-40%,
BaO 0-40%,
ZnO 0-4%,
Li 2 O 0-20%,
Na 2 O 0-20%,
K 2 O 0-20%,
CuO 0.2-0.9%,
A low-melting glass for electrode coating, comprising MgO + CaO + SrO + BaO in an amount of 0 to 40% and containing neither Mo nor Sb.
PbOが83.8%以下、SiO2が5%以上かつB23が11%以上である請求項1に記載の電極被覆用低融点ガラス。PbO is 83.8% or less, SiO 2 is 5% or more and B 2 O 3 is 11% or more in the low-melting glass for covering electrodes according to claim 1. 軟化点が450〜650℃の範囲にある請求項1または2に記載の電極被覆用低融点ガラス。The low melting point glass for electrode coating according to claim 1 or 2 , wherein the softening point is in the range of 450 to 650 ° C. 50〜350℃における平均線膨張係数が60×10-7〜90×10-7/℃の範囲にある請求項1、2または3に記載の電極被覆用低融点ガラス。The low melting point glass for electrode coating according to claim 1 , 2 or 3 , wherein an average linear expansion coefficient at 50 to 350 ° C is in a range of 60 × 10 -7 to 90 × 10 -7 / ° C. 比誘電率が12以下である請求項1〜のいずれかに記載の電極被覆用低融点ガラス。The dielectric constant is 12 or less, The low melting point glass for electrode coating according to any one of claims 1 to 4 . 前面基板を有するプラズマディスプレイ装置であって、該前面基板を構成するガラス基板上の透明電極が請求項1〜のいずれかに記載の電極被覆用低融点ガラスにより被覆されているプラズマディスプレイ装置。A plasma display device having a front substrate, wherein a transparent electrode on a glass substrate constituting the front substrate is coated with the low-melting glass for electrode coating according to any one of claims 1 to 5 .
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