JP2003020251A - Glass frit for formation of barrier wall, back glass substrate for plasma display panel and plasma display panel - Google Patents

Glass frit for formation of barrier wall, back glass substrate for plasma display panel and plasma display panel

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JP2003020251A
JP2003020251A JP2001205311A JP2001205311A JP2003020251A JP 2003020251 A JP2003020251 A JP 2003020251A JP 2001205311 A JP2001205311 A JP 2001205311A JP 2001205311 A JP2001205311 A JP 2001205311A JP 2003020251 A JP2003020251 A JP 2003020251A
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Japan
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glass
powder
glass frit
display panel
plasma display
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JP2001205311A
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Japanese (ja)
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Kazuhiko Yamanaka
一彦 山中
Shuji Taguchi
修二 田口
Tsuneo Manabe
恒夫 真鍋
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Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass frit from which barrier walls having low dielectric constant for a plasma display panel(PDP) can be obtained and to provide a PDP having the above barrier walls. SOLUTION: The glass frit for the formation of barrier walls contains glass powder, and a calcined body obtained by calcining the glass frit has <=13 relative dielectric constant ε at 20 deg.C and 1 MHz and >=70 MPa three-point bending strength. Or the glass frit for formation of barrier walls contains glass powder and aluminum borate powder. In the PDP having discharge cells divided by barrier walls and disposed between two glass substrates facing each other, the barrier walls of the PDP are obtained by calcining the above glass frit for the formation of barrier walls.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(PDP)、蛍光表示管(VFD)等の隔壁
形成に用いられるガラスフリット、PDP用背面ガラス
基板およびPDPに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass frit used for forming partition walls of plasma display panels (PDPs), fluorescent display tubes (VFDs), rear glass substrates for PDPs, and PDPs.

【0002】[0002]

【従来の技術】PDPにおいては、典型的には、表示面
として使用される前面ガラス基板、背面ガラス基板およ
び隔壁により放電セルが区画形成されており、該放電セ
ルに封入されたHe−Xe混合ガス、Ne−Xe混合ガ
ス等のプラズマ放電で発生する紫外線によって蛍光体が
発光し、画像が形成される。
2. Description of the Related Art In a PDP, a discharge cell is typically defined by a front glass substrate used as a display surface, a rear glass substrate, and barrier ribs, and a He--Xe mixture sealed in the discharge cell is formed. An ultraviolet ray generated by plasma discharge of gas, Ne-Xe mixed gas, or the like causes the phosphor to emit light, thereby forming an image.

【0003】前面ガラス基板の表面には通常、透明電極
および該透明電極を被覆する誘電体層が形成されてお
り、該誘電体層はMgO膜で被覆され、保護されてい
る。背面ガラス基板の表面には通常、アドレス電極およ
び該アドレス電極を被覆する絶縁被覆層が形成されてお
り、該絶縁被覆層の上には隔壁が形成されている。
A transparent electrode and a dielectric layer for covering the transparent electrode are usually formed on the surface of the front glass substrate, and the dielectric layer is covered with a MgO film for protection. An address electrode and an insulating coating layer that covers the address electrode are usually formed on the surface of the rear glass substrate, and a partition is formed on the insulating coating layer.

【0004】隔壁は画面全域に等間隔で格子状に形成さ
れ、その格子間隔は典型的には200〜300μmであ
る。また、隔壁の幅、高さは、典型的にはそれぞれ80
μm、150μmである。
The partition walls are formed in a grid pattern at equal intervals over the entire screen, and the grid interval is typically 200 to 300 μm. The width and height of the partition wall are typically 80
μm and 150 μm.

【0005】隔壁は、隔壁形成用ガラスフリット、すな
わち、軟化点Tが500〜620℃以下のガラス粉末
(以下低融点ガラス粉末という。)および色調調整のた
めの耐熱顔料を必須成分として含有し、その他に、隔壁
形状保持等のために必要に応じてセラミックフィラー等
を含有するガラスフリットを焼成して形成される。
The partition walls contain a glass frit for forming partition walls, that is, a glass powder having a softening point T S of 500 to 620 ° C. or less (hereinafter referred to as a low melting point glass powder) and a heat resistant pigment for color tone adjustment as essential components. Besides, it is formed by firing a glass frit containing a ceramic filler or the like as necessary to maintain the shape of the partition wall.

【0006】通常、低融点ガラス粉末としてはPbO−
SiO−B系ガラスの粉末が、耐熱顔料として
はチタニア等の白色顔料またはCr−Cu複合酸化物等
の黒色顔料が、セラミックフィラーとしてはアルミナ、
ジルコン、ジルコニア等の粉末が、それぞれ使用され
る。また、前記PbO−SiO−B系ガラスの
モル%表示の代表的な組成は、B 15%、Si
40%、PbO35%、Al 5%、Ti
5%、である。
Usually, PbO-is used as the low melting point glass powder.
SiO 2 —B 2 O 3 -based glass powder, white pigment such as titania or black pigment such as Cr—Cu complex oxide as a heat resistant pigment, alumina as a ceramic filler,
Powders such as zircon and zirconia are used, respectively. The molar% typical composition of the display of the PbO-SiO 2 -B 2 O 3 based glass, B 2 O 3 15%, Si
O 2 40%, PbO 35%, Al 2 O 3 5%, Ti
O 2 5%.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】PDPは大型の薄型フ
ラットディスプレイとして優れたものであるが、消費電
力が大きいという問題がある。その原因の一つとして隔
壁の誘電率が高いことが挙げられている。因みに従来の
隔壁の20℃、1MHzにおける比誘電率εは約16で
あった。
Although the PDP is excellent as a large-sized thin flat display, it has a problem of high power consumption. One of the causes is that the partition wall has a high dielectric constant. Incidentally, the relative permittivity ε of the conventional partition wall at 20 ° C. and 1 MHz was about 16.

【0008】隔壁のεを低下させるためにPbO−Si
−B系低融点ガラス粉末のεを低下させよう
とすると、そのB含有量を増加させる必要があ
る。しかし、B含有量を増加させると化学的耐久
性が低下し、PDP隔壁として使用することが困難にな
る問題があった。
In order to reduce the ε of the partition wall, PbO-Si
In order to reduce ε of the O 2 —B 2 O 3 -based low melting point glass powder, it is necessary to increase the B 2 O 3 content. However, increasing the B 2 O 3 content lowers the chemical durability and makes it difficult to use as a PDP partition wall.

【0009】本発明は、εの小さな隔壁を有するPDP
用背面ガラス基板およびPDPの提供、およびそのよう
な隔壁を形成できる隔壁形成用ガラスフリットの提供を
目的とする。
The present invention is a PDP having a partition wall with a small ε.
The purpose of the present invention is to provide a rear glass substrate and a PDP for glass, and a glass frit for forming partition walls capable of forming such partition walls.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス粉末を
含有するガラスフリットであって、該ガラスフリットを
焼成して得られる焼成体の20℃、1MHzにおける比
誘電率εが13以下であり、3点曲げ強度が70MPa
以上であることを特徴とする隔壁形成用ガラスフリット
を提供する(ガラスフリットA)。また、ガラス粉末お
よびホウ酸アルミニウム粉末を含有するガラスフリット
であって、ホウ酸アルミニウム粉末の質量百分率表示の
含有量が0.5〜30%である隔壁形成用ガラスフリッ
トを提供する(ガラスフリットB)。
The present invention relates to a glass frit containing glass powder, wherein a fired body obtained by firing the glass frit has a relative dielectric constant ε at 20 ° C. and 1 MHz of 13 or less. 3-point bending strength is 70 MPa
A glass frit for forming partition walls, which is characterized by the above, is provided (glass frit A). Further, there is provided a glass frit containing a glass powder and an aluminum borate powder, wherein the content of the aluminum borate powder in terms of mass percentage is 0.5 to 30% for forming partition walls (glass frit B). ).

【0011】また、ガラス基板の表面にアドレス電極お
よび該アドレス電極を被覆する絶縁被覆層が形成されて
おり、該絶縁被覆層の上に隔壁が形成されているプラズ
マディスプレイパネル用背面ガラス基板であって、前記
隔壁が前記壁形成用ガラスフリットを用いて形成された
ものであるプラズマディスプレイパネル用背面ガラス基
板を提供する。
Further, the rear glass substrate for a plasma display panel has an address electrode and an insulating coating layer covering the address electrode formed on the surface of the glass substrate, and a partition wall formed on the insulating coating layer. Thus, there is provided a rear glass substrate for a plasma display panel, wherein the partition wall is formed by using the wall-forming glass frit.

【0012】また、隔壁によって区切られた放電セルが
2枚の対向するガラス基板の間に形成されているプラズ
マディスプレイパネルにおいて、該隔壁が前記隔壁形成
用ガラスフリットを焼成したものであるプラズマディス
プレイパネルを提供する。
Further, in a plasma display panel in which discharge cells partitioned by barrier ribs are formed between two glass substrates facing each other, the barrier ribs are obtained by firing the glass frit for forming barrier ribs. I will provide a.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明でいうガラスフリットは、
ガラス粉末を必須成分とする無機物粉末である。前記ガ
ラスフリットAにおいてはガラス粉末のみからなっても
よいし、後述するホウ酸アルミニウム粉末、耐熱顔料、
無機物フィラー等の必須ではない成分を含有してもよ
い。前記ガラスフリットBにおいてはガラス粉末の他に
ホウ酸アルミニウム粉末が必須であり、これらの他に耐
熱顔料、無機物フィラー等の必須ではない成分を含有し
てもよい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The glass frit referred to in the present invention is
It is an inorganic powder containing glass powder as an essential component. The glass frit A may consist of only glass powder, or aluminum borate powder, heat-resistant pigment, which will be described later,
You may contain a non-essential component, such as an inorganic filler. In the glass frit B, aluminum borate powder is essential in addition to glass powder, and in addition to these, non-essential components such as heat resistant pigments and inorganic fillers may be contained.

【0014】本発明のガラスフリット(以下単に本発明
のガラスフリットという。)の第1の態様は前記ガラス
フリットAであり第2の態様は前記ガラスフリットBで
あり、いずれも通常はガラスペーストまたはグリーンシ
ートにして使用される。前記ガラスペーストは、本発明
のガラスフリットをエチルセルロース等の樹脂およびα
−テルピネオール、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテルアセテート等の溶剤からなるビヒクルと混練した
ものであって、その質量百分率表示の含有量は、典型的
には、本発明のガラスフリットが70〜90%、ビヒク
ルが10〜30%である。
The first aspect of the glass frit of the present invention (hereinafter simply referred to as the glass frit of the present invention) is the glass frit A and the second aspect is the glass frit B, both of which are usually glass paste or Used as a green sheet. The glass paste is obtained by adding the glass frit of the present invention to a resin such as ethyl cellulose and α
-It is kneaded with a vehicle composed of a solvent such as terpineol and diethylene glycol monobutyl ether acetate, and the content in terms of mass percentage is typically 70 to 90% for the glass frit of the present invention and 10 for the vehicle. 30%.

【0015】また、前記グリーンシートは、本発明のガ
ラスフリットをアクリル等の樹脂、ジブチルフタレー
ト、ジメチルフタレート等の可塑剤およびトルエン、α
−テルピネオール、プロピレングリコールモノブチルエ
ーテル等の溶剤と混合してスラリーとし、該スラリーを
ポリエチレンテレフタレート(PET)等の支持フィル
ムにダイコート等の方法で塗布し、乾燥して溶剤を除去
後、前記支持フィルムから剥がして作製される。
In the green sheet, the glass frit of the present invention is obtained by using a resin such as acrylic resin, a plasticizer such as dibutyl phthalate or dimethyl phthalate, and toluene or α.
-Slurry is prepared by mixing with a solvent such as terpineol or propylene glycol monobutyl ether, and the slurry is applied to a supporting film such as polyethylene terephthalate (PET) by a method such as die coating and dried to remove the solvent, and then the supporting film is removed. It is made by peeling it off.

【0016】前記グリーンシート中の質量百分率表示の
含有量は、典型的には、本発明のガラスフリットが60
〜80%、樹脂が19〜39%、可塑剤が1〜4%であ
る。なお、前記支持フィルムの厚さは典型的には20〜
100μmであり、通常、離型剤等により表面処理され
ている。
The content of the green sheet in terms of mass percentage is typically 60 for the glass frit of the present invention.
-80%, resin 19-39%, plasticizer 1-4%. The thickness of the support film is typically 20 to
It is 100 μm and is usually surface-treated with a release agent or the like.

【0017】本発明のPDPは、本発明のガラスフリッ
トを焼成したものである隔壁によって区切られた放電セ
ルが2枚の対向するガラス基板の間に形成されているP
DPであり、その製造はたとえば次のようにして行われ
る。前記対向する2枚のガラス基板のうち、前面ガラス
基板はガラス基板の上に透明電極、該透明電極を被覆す
る誘電体層、および該誘電体層を被覆するMgO膜を形
成して製造される。
The PDP of the present invention is a PDP in which discharge cells divided by partition walls, which are obtained by firing the glass frit of the present invention, are formed between two opposing glass substrates.
DP, which is manufactured as follows, for example. Of the two glass substrates facing each other, the front glass substrate is manufactured by forming a transparent electrode, a dielectric layer covering the transparent electrode, and an MgO film covering the dielectric layer on the glass substrate. .

【0018】背面ガラス基板は、ガラス基板の上にアド
レス電極および該アドレス電極を被覆する絶縁被覆層を
形成し、該絶縁被覆層の上に本発明のガラスフリットを
用いて隔壁を形成して製造される。なお、該背面ガラス
基板は本発明のPDP用背面ガラス基板である。
The rear glass substrate is manufactured by forming an address electrode and an insulating coating layer covering the address electrode on the glass substrate, and forming a partition wall on the insulating coating layer using the glass frit of the present invention. To be done. The back glass substrate is the back glass substrate for PDP of the present invention.

【0019】前面ガラス基板および背面ガラス基板に用
いられるガラス基板は通常、ソーダライムシリカガラス
などのSiO−Al−RO−R’O(R
はアルカリ金属酸化物、R’Oはアルカリ土類金属酸化
物)系ガラスからなる。該ガラス基板のガラス転移点、
50〜350℃の平均線膨張係数αはそれぞれ、典型的
には550〜620℃、80×10−7〜90×10
−7/℃である。該ガラス基板の厚さは通常1〜3mm
である。
The glass substrates used for the front glass substrate and the rear glass substrate are usually SiO 2 --Al 2 O 3 --R 2 O--R'O (R 2 O) such as soda lime silica glass.
Is an alkali metal oxide and R'O is an alkaline earth metal oxide) type glass. The glass transition point of the glass substrate,
The average linear expansion coefficient α of 50 to 350 ° C. is typically 550 to 620 ° C. and 80 × 10 −7 to 90 × 10, respectively.
-7 / ° C. The thickness of the glass substrate is usually 1 to 3 mm
Is.

【0020】前記アドレス電極は通常、ストライプ状で
あり、銀等の金属粉末と感光性樹脂等からなる感光性金
属ペーストを印刷し、フォトマスクを介して露光し、現
像した後、焼成して作製される。該アドレス電極の厚さ
は典型的には3〜10μmである。また、前記アドレス
電極の幅は典型的には20〜100μm、間隔は典型的
には100〜400μm程度である。
The address electrodes are usually in the form of stripes, and are prepared by printing a photosensitive metal paste composed of a metal powder such as silver and a photosensitive resin, exposing through a photomask, developing, and baking. To be done. The thickness of the address electrode is typically 3 to 10 μm. The width of the address electrodes is typically 20 to 100 μm, and the interval is typically 100 to 400 μm.

【0021】前記絶縁被覆層は通常、軟化点Tが62
0℃以下のガラス粉末を含有する絶縁被覆層用ガラスフ
リットをガラスペーストにして塗布し、またはグリーン
シートにして貼り付け、典型的には530〜620℃で
焼成して形成される。絶縁被覆層の厚さは典型的には5
〜30μmである。
The insulating coating layer usually has a softening point T S of 62.
A glass frit for an insulating coating layer containing a glass powder at 0 ° C. or lower is applied as a glass paste or is attached as a green sheet, and is typically fired at 530 to 620 ° C. to be formed. The thickness of the insulating cover layer is typically 5
˜30 μm.

【0022】前記隔壁はたとえば、本発明のガラスフリ
ットをガラスペーストにしてスクリーン印刷法、転写法
等によって塗布し、または本発明のガラスフリットをグ
リーンシートにして貼り付ける。次にサンドブラスト
法、エッチング法等によって所望の隔壁パターンに加工
し、焼成して隔壁が形成される。
The partition wall is formed, for example, by applying the glass frit of the present invention as a glass paste by a screen printing method, a transfer method, or the like, or by applying the glass frit of the present invention as a green sheet. Next, the barrier ribs are processed into a desired barrier rib pattern by a sandblast method, an etching method, or the like, and fired to form barrier ribs.

【0023】サンドブラストによって隔壁の形状を形成
する場合、まず、前記絶縁被覆層の上に前記ガラスペー
ストをべた状に塗布し、または前記絶縁被覆層の上に前
記グリーンシートを貼り付ける。次に、前記塗布された
ガラスペーストまたは前記貼り付けられたグリーンシー
トの上にドライフィルムレジストを貼り付け、隔壁パタ
ーンの露光マスクをセットして露光し、炭酸ナトリウム
水溶液等の現像液で現像し、典型的にはライン幅80μ
m、ピッチ300μmのストライプ状の隔壁パターンを
形成する。
When the partition wall is formed by sandblasting, first, the glass paste is applied to the insulating coating layer in a solid state, or the green sheet is attached to the insulating coating layer. Next, a dry film resist is attached on the applied glass paste or the attached green sheet, an exposure mask of a partition pattern is set and exposed, and developed with a developing solution such as a sodium carbonate aqueous solution, Line width is typically 80μ
A stripe-shaped partition wall pattern with m and a pitch of 300 μm is formed.

【0024】次に、サンドブラストによって不要部分を
除去後、残存しているドライフィルムレジストを水酸化
ナトリウム水溶液等を用いて除去して、未焼成隔壁を得
る。この未焼成隔壁は典型的には530〜620℃で焼
成され、隔壁とされる。このようにして製造された前面
ガラス基板および背面ガラス基板をパネル化して本発明
のPDPが製造される。
Next, after removing unnecessary portions by sandblasting, the remaining dry film resist is removed using an aqueous solution of sodium hydroxide or the like to obtain unfired partition walls. This unfired partition is typically fired at 530 to 620 ° C. to form a partition. The front glass substrate and the rear glass substrate manufactured in this manner are formed into a panel to manufacture the PDP of the present invention.

【0025】本発明のガラスフリットにおいてガラス粉
末は必須である。該ガラス粉末は、Tが500〜62
0℃であり、αが65×10−7〜85×10−7/℃
であることが好ましい。この範囲外では隔壁形成に用い
ることが困難になるおそれがある。また、εは13以下
であることが好ましい。13超ではPDPの消費電力が
大きくなるおそれがある。より好ましくは12未満であ
る。また、εは典型的には7以上である。
Glass powder is essential in the glass frit of the present invention. The glass powder has a T S of 500 to 62.
0 ° C. and α is 65 × 10 −7 to 85 × 10 −7 / ° C.
Is preferred. Outside this range, it may be difficult to use it for forming partition walls. Further, ε is preferably 13 or less. If it exceeds 13, the power consumption of the PDP may increase. More preferably, it is less than 12. Further, ε is typically 7 or more.

【0026】また、ガラス粉末は、Tが500〜62
0℃であり、εが13以下であり、αが65×10−7
〜85×10−7/℃であることが好ましく、より好ま
しくはεは12未満である。
The glass powder has a T S of 500 to 62.
0 ° C., ε is 13 or less, and α is 65 × 10 −7
It is preferably −85 × 10 −7 / ° C., and more preferably ε is less than 12.

【0027】また、ガラス粉末はBを含有するこ
とが好ましい。Bを含有しないとεが大きくなる
おそれがある。ガラス粉末がBを含有する場合、
その含有量は5モル%以上であることが好ましい。より
好ましくは10モル%以上である。また、その含有量は
80モル%以下であることが好ましい。80モル%超で
は化学的耐久性が低下する。より好ましくは45モル%
以下、特に好ましくは40モル%以下である。
Further, the glass powder preferably contains B 2 O 3 . If B 2 O 3 is not contained, ε may increase. When the glass powder contains B 2 O 3 ,
The content is preferably 5 mol% or more. More preferably, it is 10 mol% or more. The content is preferably 80 mol% or less. If it exceeds 80 mol%, the chemical durability is lowered. More preferably 45 mol%
Hereafter, it is particularly preferably 40 mol% or less.

【0028】また、ガラス粉末は、下記酸化物基準のモ
ル%表示で本質的に、 B 5〜80%、 SiO 0〜45%、 ZnO 0〜50%、 PbO+Bi 0〜50%、 MgO+CaO+SrO+BaO 0〜50%、 LiO+NaO+KO 0〜30%、 Al+TiO+ZrO 0〜13%、 からなることが好ましい。この好ましいガラス粉末の組
成について、先に説明したBを除き以下に説明す
る。
The glass powder is essentially expressed in mol% based on the following oxides: B 2 O 3 5 to 80%, SiO 2 0 to 45%, ZnO 0 to 50%, PbO + Bi 2 O 3 0 to 50%, MgO + CaO + SrO + BaO 0~50%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~30%, Al 2 O 3 + TiO 2 + ZrO 2 0~13%, preferably made of. The composition of this preferable glass powder will be described below except for B 2 O 3 described above.

【0029】SiOは必須ではないがガラスを安定化
し、またはεを低下させるために45%まで含有してよ
い。45%超ではTが高くなりすぎる。好ましくは3
5%以下、より好ましくは30%以下である。SiO
を含有する場合、その含有量は1%以上であることが好
ましい。より好ましくは3%以上、特に好ましくは5%
以上、最も好ましくは10%以上である。
SiO 2 is not essential but may be contained up to 45% in order to stabilize the glass or reduce ε. If it exceeds 45%, T S tends to be too high. Preferably 3
It is 5% or less, more preferably 30% or less. SiO 2
When it contains, the content is preferably 1% or more. More preferably 3% or more, particularly preferably 5%
As described above, it is most preferably 10% or more.

【0030】ZnOは必須ではないが、Tを低下さ
せ、または化学的耐久性を向上させるために50%まで
含有してよい。50%超ではガラス化が困難になる。好
ましくは45%以下、より好ましくは40%以下であ
る。ZnOを含有する場合、その含有量は1%以上であ
ることが好ましい。より好ましくは3%以上、特に好ま
しくは5%以上である。
ZnO is not essential, but may be contained up to 50% in order to reduce T S or improve chemical durability. If it exceeds 50%, vitrification tends to be difficult. It is preferably 45% or less, more preferably 40% or less. When ZnO is contained, its content is preferably 1% or more. It is more preferably 3% or more, and particularly preferably 5% or more.

【0031】PbOおよびBiはいずれも必須で
はないが、Tを低下させるために合計で50%まで含
有してよい。これらの含有量の合計PbO+Bi
が50%超ではεが高くなりすぎる。好ましくは40%
以下、より好ましくは30%以下である。
Neither PbO nor Bi 2 O 3 is essential, but it may be contained up to 50% in total in order to reduce T S. Total of these contents PbO + Bi 2 O 3
Is more than 50%, ε becomes too high. Preferably 40%
Or less, more preferably 30% or less.

【0032】MgO、CaO、SrOおよびBaOはい
ずれも必須ではないが、ガラスを安定化させるために合
計で50%まで含有してよい。これら4成分の含有量の
合計MgO+CaO+SrO+BaOが50%超ではガ
ラス化が困難になる。好ましくは30%以下、より好ま
しくは10%以下である。MgO、CaO、SrOまた
はBaOのいずれか1種以上を含有する場合、MgO+
CaO+SrO+BaOは2%以上であることが好まし
く、4%以上であることがより好ましい。
MgO, CaO, SrO and BaO are not essential, but may be contained up to 50% in total for stabilizing the glass. If the total content of these four components, MgO + CaO + SrO + BaO, exceeds 50%, vitrification becomes difficult. It is preferably 30% or less, more preferably 10% or less. When it contains any one or more of MgO, CaO, SrO and BaO, MgO +
CaO + SrO + BaO is preferably 2% or more, more preferably 4% or more.

【0033】LiO、NaOおよびKOはいずれ
も必須ではないが、Tを低下させ流動性を増加させる
ために、合計で30%まで含有してよい。これら3成分
の含有量の合計LiO+NaO+KOが30%超
では化学的耐久性が低下する、または電気絶縁性が低下
する。好ましくは25%以下、より好ましくは15%以
下である。
Li 2 O, Na 2 O and K 2 O are not essential, but may be contained up to 30% in total in order to lower T S and increase fluidity. If the total content of these three components, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O, exceeds 30%, the chemical durability is lowered, or the electrical insulation is lowered. It is preferably 25% or less, more preferably 15% or less.

【0034】Al、TiOおよびZrOはい
ずれも必須ではないが、化学的耐久性を高くするために
合計で13%まで含有してよい。これら3成分の含有量
の合計Al+TiO+ZrOが13%超では
が高くなりすぎる。好ましくは10%以下、より好
ましくは5%以下である。Al、TiOまたは
ZrOのいずれか1種以上を含有する場合、Al
+TiO+ZrO は0.5%以上であることが好
ましく、1%以上であることがより好ましい。
AlTwoOThree, TiOTwoAnd ZrOTwoYes
Displacement is not essential, but in order to increase chemical durability
It may contain up to 13% in total. Content of these 3 components
Of total AlTwoOThree+ TiOTwo+ ZrOTwoIs over 13%
TSIs too high. Preferably 10% or less, more preferably
It is preferably 5% or less. AlTwoOThree, TiOTwoOr
ZrOTwoWhen any one or more ofTwoO
Three+ TiOTwo+ ZrO TwoIs preferably 0.5% or more
It is more preferably 1% or more.

【0035】前記好ましいガラス粉末は本質的に上記成
分からなるが、これ以外の成分を合計で5%まで含有し
てよい。このような成分として、La、CeO
等の希土類酸化物、SnO、CuO、P、Ti
、MnO、Fe、CoO、NiO、Ge
、Y、MoO、Rh、AgO、I
、TeO、WO、ReO、V、P
dO等が例示される。
The preferred glass powder essentially consists of the above.
The total content of the other components is 5%.
You may As such an ingredient, LaTwoOThree, CeOTwo
Rare earth oxides such as SnOTwo, CuO, PTwoO5, Ti
OTwo, MnO, FeTwoOThree, CoO, NiO, Ge
OTwo, YTwoOThree, MoOThree, RhTwoOThree, AgTwoO, I
n TwoOThree, TeOTwo, WOThree, ReOTwo, VTwoO5, P
An example is dO.

【0036】ガラスフリットAを焼成して得られる焼成
体のεは13以下であり、3点曲げ強度Wは70MPa
以上である。εが13超では、該焼成体を隔壁として有
するPDPの消費電力が大きくなる。好ましくは12以
下、より好ましくは11.5以下である。Wが70MP
a未満では前記パネル化の際に隔壁が破損するおそれが
ある。好ましくは80MPa以上である。
The ε of the fired body obtained by firing the glass frit A is 13 or less, and the three-point bending strength W is 70 MPa.
That is all. If ε exceeds 13, the power consumption of the PDP having the fired body as the partition wall increases. It is preferably 12 or less, more preferably 11.5 or less. W is 70MP
If it is less than a, the partition wall may be damaged when the panel is formed. It is preferably 80 MPa or more.

【0037】Wの測定はたとえば次のようにして行う。
すなわち、ガラスフリットをペースト化し、得られたガ
ラスペーストを400〜450℃に加熱して前記樹脂を
燃焼させ再度粉末状にする。次に、該粉末状のものを適
当な形状にプレス成形後焼成し、得られた焼成体をJI
S規格#170のダイヤモンド砥粒が電着された丸棒加
工機を用いて研磨し、直径3.5mm、長さ25mmの
サンプルを得る。該サンプルについて、スパン15m
m、クロスヘッドスピード0.5mm/分の条件で3点
曲げ強度試験を行い3点曲げ強度を測定した。この試験
を典型的には5回繰り返し、得られた3点曲げ強度の平
均値を算出し、これをWとする。
The W is measured, for example, as follows.
That is, the glass frit is made into a paste, and the obtained glass paste is heated to 400 to 450 ° C. to burn the resin and make it powdery again. Next, the powdery material is press-molded into an appropriate shape and then fired, and the fired body obtained is subjected to JI.
Polishing is performed by using a round bar processing machine on which S-standard # 170 diamond abrasive grains are electrodeposited to obtain a sample having a diameter of 3.5 mm and a length of 25 mm. 15m span for the sample
m, and a crosshead speed of 0.5 mm / min, a three-point bending strength test was performed to measure the three-point bending strength. This test is typically repeated 5 times, and the average value of the obtained 3-point bending strengths is calculated, which is designated as W.

【0038】次に、ガラスフリットAの成分について質
量百分率表示で説明する。ガラス粉末は先にも述べたと
おり必須であり、その含有量は55%以上であることが
好ましい。55%未満では焼結性が不充分になるおそれ
がある。より好ましくは70%以上である。また、ホウ
酸アルミニウム粉末等のガラス粉末以外の成分を含有す
る場合、ガラス粉末の含有量は99.5%以下であるこ
とが好ましい。99.5%超では前記ガラス粉末以外の
成分の含有量が小さく該成分を含有する効果が小さくな
るおそれがある。より好ましくは98%以下、特に好ま
しくは90%以下である。
Next, the components of the glass frit A will be described in terms of mass percentage. As described above, the glass powder is indispensable, and its content is preferably 55% or more. If it is less than 55%, the sinterability may be insufficient. It is more preferably 70% or more. In addition, when a component other than glass powder such as aluminum borate powder is contained, the content of glass powder is preferably 99.5% or less. If it exceeds 99.5%, the contents of the components other than the glass powder are small, and the effect of containing the components may be small. It is more preferably 98% or less, and particularly preferably 90% or less.

【0039】ホウ酸アルミニウム粉末は必須ではない
が、Wを大きくするために30%まで含有してもよい。
30%超ではガラス粉末の含有量が小さくなりすぎ焼結
性が低下するおそれがある。より好ましくは10%以下
である。ホウ酸アルミニウム粉末を含有する場合その含
有量は0.5%以上であることが好ましい。0.5%未
満ではWが大きくならないおそれがある。より好ましく
は3%以上である。
Aluminum borate powder is not essential, but may be contained up to 30% in order to increase W.
If it exceeds 30%, the content of the glass powder tends to be too small and the sinterability may decrease. It is more preferably 10% or less. When the aluminum borate powder is contained, its content is preferably 0.5% or more. If it is less than 0.5%, W may not increase. More preferably, it is 3% or more.

【0040】ホウ酸アルミニウム粉末はウィスカ状の粉
末であってもよいしそうでなくともよい。前記ウィスカ
状の粉末は、繊維径が0.1〜10μm、繊維長が0.
5〜100μm、繊維径/繊維長が0.001〜0.1
であり、典型的には、繊維径は0.1〜1.0μm、繊
維長は1〜30μmである。ホウ酸アルミニウム粉末が
ウィスカ状でない粉末、すなわち前記繊維径/繊維長が
0.1超である粉末である場合には、その平均粒径は1
〜8μmであることが好ましい。
The aluminum borate powder may or may not be a whisker-like powder. The whisker-like powder has a fiber diameter of 0.1 to 10 μm and a fiber length of 0.1.
5-100 μm, fiber diameter / fiber length 0.001-0.1
And typically has a fiber diameter of 0.1 to 1.0 μm and a fiber length of 1 to 30 μm. If the aluminum borate powder is a non-whisker-like powder, that is, a powder having a fiber diameter / fiber length of more than 0.1, its average particle diameter is 1
It is preferably ˜8 μm.

【0041】耐熱顔料は必須ではないが色調調整のため
に20%まで含有してもよく、チタニア等の白色顔料、
Fe−Mn複酸化物系、Fe−Co−Cr複酸化物系、
Fe−Mn−Al複酸化物系、Cu−Cr複酸化物系等
の黒色顔料が例示される。20%超では焼結性が低下す
るおそれがある。好ましくは10%以下、より好ましく
は5%以下である。耐熱顔料を含有する場合その含有量
は0.5%以上であることが好ましい。0.5%未満で
は着色の効果が小さいおそれがある。
The heat-resistant pigment is not essential, but may be contained up to 20% for the purpose of adjusting the color tone, and a white pigment such as titania,
Fe-Mn mixed oxide system, Fe-Co-Cr mixed oxide system,
Examples of black pigments include Fe-Mn-Al mixed oxides and Cu-Cr mixed oxides. If it exceeds 20%, the sinterability may decrease. It is preferably 10% or less, more preferably 5% or less. When the heat-resistant pigment is contained, its content is preferably 0.5% or more. If it is less than 0.5%, the effect of coloring may be small.

【0042】無機物フィラーは必須ではないが前記ガラ
スフリットを焼成して得られる焼成体の形状を維持する
ために、または該焼成体の強度を高めるために30%ま
で含有してもよい。30%超では焼結性が低下する。好
ましくは10%以下である。なお、本発明でいう無機物
フィラーは融点またはガラス転移点が700℃以上であ
ってホウ酸アルミニウムを除く無機物、典型的には酸化
物の粉末であり、α−アルミナ、ムライト、ジルコン、
コーディエライト、ジルコニア、チタン酸アルミニウ
ム、β−スポデュメン、α−石英、溶融石英、β−石英
固溶体、β−ユークリプタイト等の粉末が例示される。
The inorganic filler is not essential, but may be contained up to 30% in order to maintain the shape of the fired body obtained by firing the glass frit or to increase the strength of the fired body. If it exceeds 30%, the sinterability will decrease. It is preferably 10% or less. The inorganic filler in the present invention has a melting point or a glass transition point of 700 ° C. or higher and is an inorganic substance excluding aluminum borate, typically an oxide powder, and α-alumina, mullite, zircon,
Examples of the powder include cordierite, zirconia, aluminum titanate, β-spodumene, α-quartz, fused quartz, β-quartz solid solution, and β-eucryptite.

【0043】次に、ガラスフリットBの成分について質
量百分率表示で説明する。ガラス粉末は先にも述べたと
おり必須であり、その含有量は55%以上であることが
好ましい。55%未満では焼結性が不充分になるおそれ
がある。より好ましくは70%以上である。また、9
9.5%超ではWが小さくなる。好ましくは98%以
下、より好ましくは90%以下である。
Next, the components of the glass frit B will be described in terms of mass percentage. As described above, the glass powder is indispensable, and its content is preferably 55% or more. If it is less than 55%, the sinterability may be insufficient. It is more preferably 70% or more. Also, 9
If it exceeds 9.5%, W tends to be small. It is preferably 98% or less, more preferably 90% or less.

【0044】ホウ酸アルミニウム粉末はWを大きくする
成分であり必須である。0.5%未満ではWが小さくな
る。より好ましくは3%以上である。30%超では焼結
性が低下する。より好ましくは10%以下である。ホウ
酸アルミニウム粉末は先にガラスフリットAについて述
べたと同様にウィスカ状の粉末であってもよいしそうで
なくともよい。
Aluminum borate powder is a component for increasing W and is essential. If it is less than 0.5%, W tends to be small. More preferably, it is 3% or more. If it exceeds 30%, the sinterability will decrease. It is more preferably 10% or less. The aluminum borate powder may or may not be a whisker-like powder as described above for glass frit A.

【0045】耐熱顔料は必須ではないが、先にガラスフ
リットAについて述べたと同様に色調調整のために20
%まで含有してもよい。20%超では焼結性が低下する
おそれがある。好ましくは10%以下、より好ましくは
5%以下である。耐熱顔料を含有する場合その含有量は
0.5%以上であることが好ましい。0.5%未満では
着色の効果が小さいおそれがある。
The heat-resistant pigment is not essential, but as described above for the glass frit A, it is necessary to adjust the color tone by 20.
You may contain up to%. If it exceeds 20%, the sinterability may decrease. It is preferably 10% or less, more preferably 5% or less. When the heat-resistant pigment is contained, its content is preferably 0.5% or more. If it is less than 0.5%, the effect of coloring may be small.

【0046】無機物フィラーは必須ではないが、先にガ
ラスフリットAについて述べたと同様に前記ガラスフリ
ットを焼成して得られる焼成体の形状を維持するため
に、または該焼成体の強度を高めるために30%まで含
有してもよい。30%超では焼結性が低下する。好まし
くは10%以下である。
The inorganic filler is not essential, but in order to maintain the shape of the fired body obtained by firing the glass frit or to increase the strength of the fired body, as described above for the glass frit A. You may contain up to 30%. If it exceeds 30%, the sinterability will decrease. It is preferably 10% or less.

【0047】本発明のガラスフリットは、質量百分率表
示で本質的に、55〜99.5%のガラス粉末、0.5
〜30%のホウ酸アルミニウム粉末、0〜20%の耐熱
顔料、0〜30%の無機物フィラーからなることが好ま
しい。ここでいう「本質的に・・・からなる」とは、こ
れら4成分以外の成分を本発明の目的を損なわない範囲
で含有してもよいことを意味する。なお、前記4成分以
外の成分の含有量の合計は好ましくは10%以下であ
る。
The glass frits of the present invention are essentially 55 to 99.5% glass powder, 0.5 by weight percent, 0.5.
It is preferable to consist of -30% aluminum borate powder, 0-20% heat resistant pigment, and 0-30% inorganic filler. The term “consisting essentially of” as used herein means that components other than these four components may be contained within a range that does not impair the object of the present invention. The total content of components other than the above four components is preferably 10% or less.

【0048】[0048]

【実施例】モル%表示の組成が、SiO 40%、B
15%、PbO 35%、Al 5%、
TiO 5%、となるように原料を調合、混合して白
金るつぼに入れ、1200℃に30分間保持して溶融ガ
ラスとした。次いで溶融ガラスをステンレス鋼製ローラ
に流し込んでフレーク化し、該フレーク状のガラスをア
ルミナ製ボールミルで30時間粉砕してガラス粉末とし
た。なお、このガラス粉末のTは560℃、εは1
2.5、αは73×10−7/℃であった。
EXAMPLE The composition expressed in mol% is SiO 2 40%, B
2 O 3 15%, PbO 35%, Al 2 O 3 5%,
Raw materials were prepared and mixed so that TiO 2 was 5%, put into a platinum crucible, and kept at 1200 ° C. for 30 minutes to obtain molten glass. Next, the molten glass was cast into a stainless steel roller to form flakes, and the flaky glass was crushed for 30 hours with an alumina ball mill to obtain glass powder. The glass powder had a T S of 560 ° C. and an ε of 1
2.5 and α were 73 × 10 −7 / ° C.

【0049】次に、このガラス粉末と、ウィスカー状ホ
ウ酸アルミニウム粉末、ウィスカー状でない粒子状のホ
ウ酸アルミニウム粉末、無機物フィラーである溶融石英
粉末とを表1に質量百分率表示で示す組成となるように
調合、混合しガラスフリットとした。例1、2は実施
例、例3、4は比較例である。なお、ウィスカー状ホウ
酸アルミニウム粉末として四国化成工業株式会社製のア
ルボレックスY(繊維径:0.5〜1μm、繊維長:1
0〜30μm、繊維径/繊維長:0.01〜0.1)
を、粒子状ホウ酸アルミニウム粉末として同社製のアル
ボライトPF03(平均粒径:3.0μm)を用いた。
Next, the glass powder, the whisker-like aluminum borate powder, the non-whisker-like particulate aluminum borate powder, and the fused silica powder as the inorganic filler are made to have the compositions shown in Table 1 in terms of mass percentage. Were mixed and mixed into a glass frit. Examples 1 and 2 are examples, and Examples 3 and 4 are comparative examples. In addition, as a whisker-like aluminum borate powder, Arborex Y (fiber diameter: 0.5 to 1 μm, fiber length: 1 manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.)
0 to 30 μm, fiber diameter / fiber length: 0.01 to 0.1)
As a particulate aluminum borate powder, Arbolite PF03 (average particle diameter: 3.0 μm) manufactured by the same company was used.

【0050】次に、前記ガラスフリット100gを、2
gのエチルセルロースと22gのα−テルピネオールと
からなるビヒクルと混練してガラスペーストとした。こ
のガラスペーストを、厚さ2.8mm、大きさ50mm
×50mmのソーダライムシリカガラス基板にブレード
コートし、120℃で120分間乾燥し膜厚160μm
の乾燥膜を得た。
Next, 100 g of the glass frit is added to 2
A glass paste was prepared by kneading with a vehicle composed of g of ethyl cellulose and 22 g of α-terpineol. This glass paste has a thickness of 2.8 mm and a size of 50 mm.
Blade coating on a soda lime silica glass substrate of × 50 mm and drying at 120 ° C. for 120 minutes to give a film thickness of 160 μm
A dry film of

【0051】該乾燥膜の上にドライフィルムレジストを
ラミネート後、隔壁パターンの露光マスクをセットして
露光した。その後、濃度5g/Lの炭酸ナトリウム水溶
液で現像して、ライン幅(隔壁幅)80μm、スペース
幅(格子間隔)220μmの隔壁パターンを前記乾燥膜
の上に形成した。
After laminating a dry film resist on the dried film, an exposure mask having a partition pattern was set and exposed. Then, it was developed with a sodium carbonate aqueous solution having a concentration of 5 g / L to form a partition pattern having a line width (partition width) of 80 μm and a space width (lattice interval) of 220 μm on the dry film.

【0052】次にサンドブラストを行い不要部分を切削
して未焼成隔壁を得た。該未焼成隔壁の上に残っている
ドライフィルムを濃度10g/Lの水酸化ナトリウム水
溶液によって除去後、580℃で焼成した。得られた隔
壁の断面を走査型電子顕微鏡で観察し、焼結性を評価し
た。結果を表に示す。
Next, sandblasting was performed to cut unnecessary portions to obtain unfired partition walls. The dry film remaining on the unfired partition walls was removed with an aqueous sodium hydroxide solution having a concentration of 10 g / L, and then fired at 580 ° C. The cross section of the obtained partition wall was observed with a scanning electron microscope to evaluate the sinterability. The results are shown in the table.

【0053】また、一方の面の全面に銀電極が形成され
た大きさが50mm×75mmのソーダライムシリカガ
ラス基板に前記ガラスペーストをブレードコートし、1
20℃で120分間乾燥後、580℃に15分間保持し
て焼成し、厚さが100μmの焼成体を得た。この焼成
体の表面に直径38mmの円形アルミニウム電極を蒸着
して、20℃、1MHzでの比誘電率εを測定した。結
果を表に示す。
Further, the glass paste was blade-coated on a soda lime silica glass substrate having a size of 50 mm × 75 mm in which a silver electrode was formed on the entire surface on one side, and 1
After drying at 20 ° C. for 120 minutes, it was baked at 580 ° C. for 15 minutes to obtain a fired body having a thickness of 100 μm. A circular aluminum electrode having a diameter of 38 mm was vapor-deposited on the surface of this fired body, and the relative dielectric constant ε at 20 ° C. and 1 MHz was measured. The results are shown in the table.

【0054】また、前記ガラスペーストを400〜45
0℃に加熱してエチルセルロースを燃焼させ、先に述べ
たようにして3点曲げ強度(単位:MPa)を測定し
た。なお、測定はそれぞれ5回行った(W1〜W5)。
結果を表に示す。Wは、W1〜W5の平均値である。
The glass paste is added in the range of 400-45.
Ethyl cellulose was burned by heating to 0 ° C., and the three-point bending strength (unit: MPa) was measured as described above. In addition, each measurement was performed 5 times (W1-W5).
The results are shown in the table. W is an average value of W1 to W5.

【0055】[0055]

【表1】 [Table 1]

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明によれば、εが小さく、強度にお
いても優れる隔壁、および、そのような隔壁を有するP
DP用背面ガラス基板およびPDPが得られる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, partition walls having a small ε and excellent strength, and P having such partition walls are provided.
A back glass substrate for DP and a PDP can be obtained.

フロントページの続き Fターム(参考) 4G062 AA08 AA09 BB04 BB05 BB08 CC10 DA01 DA02 DA03 DA04 DA05 DB01 DB02 DB03 DB04 DC03 DC04 DC05 DC06 DC07 DD01 DD02 DE01 DE02 DE03 DE04 DE05 DF01 DF02 DF03 DF04 DF05 EA01 EA02 EA03 EA04 EA10 EB01 EB02 EB03 EB04 EC01 EC02 EC03 EC04 ED01 ED02 ED03 ED04 ED05 EE01 EE02 EE03 EE04 EE05 EF01 EF02 EF03 EF04 EF05 EG01 EG02 EG03 EG04 EG05 FA01 FA10 FB01 FB02 FB03 FB04 FC01 FC02 FC03 FC04 FD01 FD02 FE01 FE02 FE03 FF01 FF02 FG01 FH01 FJ01 FJ02 FK01 FK02 FK03 FL01 FL02 FL03 GA01 GA02 GA03 GA04 GA10 GB01 GC01 GD01 GD02 GE01 HH01 HH03 HH04 HH05 HH06 HH07 HH08 HH09 HH10 HH11 HH12 HH13 HH14 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK02 KK03 KK04 KK05 KK06 KK07 KK08 KK10 MM08 NN33 NN40 PP01 PP02 PP03 PP04 PP09 PP11 PP13 5C040 GF18 KA08 KA09 KB03 KB11 KB19 KB28 KB29 MA12 Continued front page    F term (reference) 4G062 AA08 AA09 BB04 BB05 BB08                       CC10 DA01 DA02 DA03 DA04                       DA05 DB01 DB02 DB03 DB04                       DC03 DC04 DC05 DC06 DC07                       DD01 DD02 DE01 DE02 DE03                       DE04 DE05 DF01 DF02 DF03                       DF04 DF05 EA01 EA02 EA03                       EA04 EA10 EB01 EB02 EB03                       EB04 EC01 EC02 EC03 EC04                       ED01 ED02 ED03 ED04 ED05                       EE01 EE02 EE03 EE04 EE05                       EF01 EF02 EF03 EF04 EF05                       EG01 EG02 EG03 EG04 EG05                       FA01 FA10 FB01 FB02 FB03                       FB04 FC01 FC02 FC03 FC04                       FD01 FD02 FE01 FE02 FE03                       FF01 FF02 FG01 FH01 FJ01                       FJ02 FK01 FK02 FK03 FL01                       FL02 FL03 GA01 GA02 GA03                       GA04 GA10 GB01 GC01 GD01                       GD02 GE01 HH01 HH03 HH04                       HH05 HH06 HH07 HH08 HH09                       HH10 HH11 HH12 HH13 HH14                       HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03                       JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK02                       KK03 KK04 KK05 KK06 KK07                       KK08 KK10 MM08 NN33 NN40                       PP01 PP02 PP03 PP04 PP09                       PP11 PP13                 5C040 GF18 KA08 KA09 KB03 KB11                       KB19 KB28 KB29 MA12

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ガラス粉末を含有するガラスフリットであ
って、該ガラスフリットを焼成して得られる焼成体の2
0℃、1MHzにおける比誘電率εが13以下であり、
3点曲げ強度が70MPa以上であることを特徴とする
隔壁形成用ガラスフリット。
1. A glass frit containing glass powder, which is a fired body obtained by firing the glass frit.
The relative dielectric constant ε at 0 ° C. and 1 MHz is 13 or less,
A glass frit for forming partition walls, which has a three-point bending strength of 70 MPa or more.
【請求項2】ホウ酸アルミニウム粉末を含有する請求項
1に記載の隔壁形成用ガラスフリット。
2. The glass frit for forming partition walls according to claim 1, which contains aluminum borate powder.
【請求項3】ガラス粉末およびホウ酸アルミニウム粉末
を含有するガラスフリットであって、ホウ酸アルミニウ
ム粉末の質量百分率表示の含有量が0.5〜30%であ
る隔壁形成用ガラスフリット。
3. A glass frit containing a glass powder and an aluminum borate powder, wherein the content of the aluminum borate powder in terms of mass percentage is 0.5 to 30%.
【請求項4】質量百分率表示で本質的に、55〜99.
5%のガラス粉末、0.5〜30%のホウ酸アルミニウ
ム粉末、0〜20%の耐熱顔料、0〜30%の無機物フ
ィラーからなる請求項2または3に記載の隔壁形成用ガ
ラスフリット。
4. Essentially 55-99.
The glass frit for forming partition walls according to claim 2 or 3, comprising 5% glass powder, 0.5 to 30% aluminum borate powder, 0 to 20% heat resistant pigment, and 0 to 30% inorganic filler.
【請求項5】ガラス粉末が、軟化点が500〜620℃
であり、20℃、1MHzにおける比誘電率εが13以
下であり、50〜350℃における平均線膨張係数が6
5×10−7〜85×10−7/℃であるガラスの粉末
である請求項1、2、3または4に記載の隔壁形成用ガ
ラスフリット。
5. A glass powder having a softening point of 500 to 620 ° C.
The relative dielectric constant ε at 20 ° C. and 1 MHz is 13 or less, and the average linear expansion coefficient at 50 to 350 ° C. is 6.
The glass frit for forming partition walls according to claim 1, which is a glass powder having a density of 5 × 10 −7 to 85 × 10 −7 / ° C. 5.
【請求項6】ガラス粉末が、下記酸化物基準のモル%表
示で本質的に、 B 5〜80%、 SiO 0〜45%、 ZnO 0〜50%、 PbO+Bi 0〜50%、 MgO+CaO+SrO+BaO 0〜50%、 LiO+NaO+KO 0〜30%、 Al+TiO+ZrO 0〜13%、 からなる請求項1〜5のいずれかに記載の隔壁形成用ガ
ラスフリット。
6. The glass powder essentially comprises B 2 O 3 5 to 80%, SiO 2 0 to 45%, ZnO 0 to 50%, PbO + Bi 2 O 3 0 to 0, expressed in mol% based on the following oxides. 50%, MgO + CaO + SrO + BaO 0~50%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~30%, Al 2 O 3 + TiO 2 + ZrO 2 0~13%, barrier ribs formed according to claim 1 consisting of Glass frit.
【請求項7】ガラス粉末がBを含有し、その含有
量が40モル%以下である請求項1〜6のいずれかに記
載の隔壁形成用ガラスフリット。
7. The glass frit for forming partition walls according to claim 1, wherein the glass powder contains B 2 O 3, and the content thereof is 40 mol% or less.
【請求項8】ガラス基板の表面にアドレス電極および該
アドレス電極を被覆する絶縁被覆層が形成されており、
該絶縁被覆層の上に隔壁が形成されているプラズマディ
スプレイパネル用背面ガラス基板であって、前記隔壁が
請求項1〜7のいずれかに記載の隔壁形成用ガラスフリ
ットを用いて形成されたものであるプラズマディスプレ
イパネル用背面ガラス基板。
8. An address electrode and an insulating coating layer for coating the address electrode are formed on the surface of a glass substrate,
A rear glass substrate for a plasma display panel, wherein a partition is formed on the insulating coating layer, wherein the partition is formed by using the partition-forming glass frit according to any one of claims 1 to 7. Is a rear glass substrate for a plasma display panel.
【請求項9】隔壁によって区切られた放電セルが2枚の
対向するガラス基板の間に形成されているプラズマディ
スプレイパネルにおいて、該隔壁が請求項1〜7のいず
れかに記載の隔壁形成用ガラスフリットを焼成したもの
であるプラズマディスプレイパネル。
9. A glass for forming a barrier rib according to claim 1, wherein the barrier rib is a plasma display panel in which discharge cells separated by a barrier rib are formed between two glass substrates facing each other. A plasma display panel made by burning frit.
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