JP2000264677A - Glass composition, paste using the same, green sheet, electric insulator, bulkhead for pdp and pdp - Google Patents

Glass composition, paste using the same, green sheet, electric insulator, bulkhead for pdp and pdp

Info

Publication number
JP2000264677A
JP2000264677A JP11071175A JP7117599A JP2000264677A JP 2000264677 A JP2000264677 A JP 2000264677A JP 11071175 A JP11071175 A JP 11071175A JP 7117599 A JP7117599 A JP 7117599A JP 2000264677 A JP2000264677 A JP 2000264677A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mol
paste
glass
glass composition
pdp
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11071175A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiji Toyoda
誠司 豊田
Kunio Sugamura
邦夫 菅村
Yoshio Kuromitsu
祥郎 黒光
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP11071175A priority Critical patent/JP2000264677A/en
Publication of JP2000264677A publication Critical patent/JP2000264677A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/12Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/23Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C14/00Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
    • C03C14/004Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of particles or flakes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/062Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
    • C03C3/064Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/12Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/14Silica-free oxide glass compositions containing boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/06Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing halogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2214/00Nature of the non-vitreous component
    • C03C2214/12Polymers

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass composition suitable as a material for plasma display panels(PDP), to provide a paste using the same, to provide a green sheet, to provide an electric insulator, to provide a bulkhead for the PDP, and to provide the PDP. SOLUTION: This glass composition comprises 0-40 mol.% of SiO2, 10-60 mol.% of B2O3, 10-50 mol.% of one or more kinds of alkaline earth metal oxides selected from the group consisting of MgO, CaO, SrO and BaO, 5-50 mol.% of one or more kinds of oxides selected from the group consisting of Li2O, Na2O and K2O and 0-10 mol.% of one or more kinds of fluorides selected from the group consisting of BaF2, CaF2, SrF2, MgF2 and AlF3. A mixture comprises the glass composition and one or more ceramic fillers selected from the group consisting of zircon, alumina, titania, cordierite, mullite, β-eucryptite, spodumene, anorthite, celsian, forsterite, and aluminum titanate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、PDP(plas
ma displaypanel:プラズマデイスプレ
イパネル)用材料に好適なガラス組成物およびガラス組
成物とセラミックフィラ−との混合体、これを用いたペ
−スト、グリ−ンシ−ト、絶縁体および隔壁に関するも
のである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a PDP (plas
The present invention relates to a glass composition suitable for a material for a ma display panel, a mixture of the glass composition and a ceramic filler, a paste, a green sheet, an insulator and a partition using the glass composition. .

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種のガラス組成物としては、
低熱膨張係数を有し、さらにPbOを添加することで低
軟化点を示すホウ珪酸系ガラスであるホウ珪酸鉛ガラス
(特開平3−170346号公報)。低軟化温度を有
し、耐イオン放電衝撃性が高く、無鉛化であるB23
25−ZnO−Na2O−SiO2−Al23−ZrO
2系ガラスである無鉛ガラス(特開昭48−43007
号公報)。および得られるPDP隔壁の比誘電率が7〜
10であり、表示のクロスト−クを低減可能なP25
ZnO−Na2O−SnO−(Li2O−Na2O−K
2O)−(MgO−CaO−SrO−BaO)−Al2
3系ガラスである無鉛ガラス(特開平8−301631
号公報)が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a glass composition of this kind,
Lead borosilicate glass, which is a borosilicate glass having a low coefficient of thermal expansion and exhibiting a low softening point by adding PbO (Japanese Patent Laid-Open No. 3-170346). B 2 O 3 − with low softening temperature, high ionic discharge impact resistance, and lead-free
V 2 O 5 -ZnO-Na 2 O-SiO 2 -Al 2 O 3 -ZrO
Lead-free glass which is a 2 series glass (Japanese Patent Laid-Open No.
No.). And the relative permittivity of the obtained PDP partition wall is 7 to
10, P 2 O 5 − which can reduce the display crosstalk.
ZnO-Na 2 O-SnO- ( Li 2 O-Na 2 O-K
2 O) - (MgO-CaO -SrO-BaO) -Al 2 O
3 based lead-free glass is glass (JP 8-301631
Is known.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の特
開平3−170346号公報に示されたホウ珪酸鉛ガラ
スでは、PbOを含むため、ガラスの比重が大きく、P
DPにおけるガラス含有層(白色絶縁体層や透明誘電体
層、隔壁等)の重量が重くなり、パネルの軽量化に不向
きである。また環境汚染の原因となり得るし、隔壁とし
た場合、比誘電率が10〜12と高く電気信号が近隣の
配線に漏洩し、画像にクロスト−クが生じ易い問題点が
あった。上記従来の特開昭48−43007号公報に示
された耐イオン放電衝撃性低軟化温度無鉛ガラスでは、
25を含むため、茶色に着色され、反射率が低下する
不具合があった。また上記従来の特開平8−30163
1号公報に示された無鉛ガラスでは、P 25を含むた
め、耐水性が悪い問題点があった。また特開平8−30
1631号公報に示されたプラズマディスプレイでは、
ガラスの熱膨張係数がガラス基板に対して大きいので、
熱膨張係数をガラス基板と整合させるために、セラミッ
クフィラ−を多量に添加しなければならず、焼成後の構
造が多孔質になり、強度が低下し放電特性も低下する問
題点があった。本発明の目的は、PDPのガラス基板に
反りを発生させず、かつPDPの画像にクロスト−クを
発生させずに、反射率を向上できるガラス組成物および
ガラス・セラミック混合体、それを用いたペ−スト、グ
リ−ンシ−ト、絶縁体、PDP用隔壁およびPDPを提
供することである。本発明の別の目的は、強度および放
電特性を低下させずに、熱膨張係数を低くして熱膨張係
数をPDPガラス基板と整合させることができ、かつガ
ラス基板より軟化点を低くできるガラス組成物およびガ
ラス・セラミック混合体、それを用いたペ−スト、グリ
−ンシ−ト、絶縁体、PDP用隔壁およびPDPを提供
することである。
However, the above-mentioned conventional features
Lead borosilicate glass disclosed in JP-A-3-170346.
Since PbO contains PbO, the specific gravity of glass is large, and PbO
Glass-containing layer in DP (white insulator layer or transparent dielectric
Layers, partition walls, etc.), which is not suitable for weight reduction of panels.
It is. It can also cause environmental pollution,
In this case, the relative dielectric constant is as high as 10 to 12
Leakage to the wiring and the problem that crosstalk is likely to occur in the image
there were. As shown in the above-mentioned conventional Japanese Patent Application Laid-Open No. 48-43007.
Ionic discharge impact resistance low softening temperature lead-free glass
VTwoOFive, It is colored brown and the reflectance is low
There was a defect. In addition, the above-mentioned conventional Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-30163
In the lead-free glass disclosed in Japanese Patent Publication No. TwoOFiveIncluding
Therefore, there is a problem that water resistance is poor. Also, JP-A-8-30
In the plasma display disclosed in Japanese Patent No. 1631,
Since the thermal expansion coefficient of glass is larger than the glass substrate,
To match the coefficient of thermal expansion with the glass substrate,
A large amount of cupfiller must be added, and the structure after firing
The structure becomes porous, the strength decreases, and the discharge characteristics decrease.
There was a title. An object of the present invention is to provide a glass substrate for PDP.
No warpage and crosstalk on PDP images
Glass composition that can improve reflectance without causing
Glass-ceramic mixtures, pastes and powders using the same
Provide lean sheet, insulator, PDP partition and PDP
Is to provide. Another object of the invention is to provide strength and release.
Lower the thermal expansion coefficient without lowering the electrical characteristics
Number can be matched with the PDP glass substrate and
Glass composition and glass composition capable of lowering softening point than glass substrate
Las-ceramic mixture, paste and grease using it
-Provide sheet, insulator, PDP partition and PDP
It is to be.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】請求項1に係わる発明
は、ガラス成分として、SiO20〜40モル%と、B2
310〜60モル%と、MgO、CaO、SrO及び
BaOからなる群より選ばれた1種または2種以上のア
ルカリ土類酸化物10〜50モル%と、Li2O、Na2
O、及びK2Oからなる群より選ばれた1種または2種
以上の5〜50モル%と、BaF2、CaF2、Sr
2、MgF2およびAlF3からなる群より選ばれた1
種または2種以上のフッ化物0〜10モル%とを含むガ
ラス組成物からなる。この請求項1に記載されたガラス
組成物では、ガラス成分を上記範囲内で夫々混合する
と、焼成温度が低くなって、軟化点も低くなる。更にア
ルカリ酸化物を添加することにより、焼成温度、軟化点
をより低くすることができる(600℃以下)。PDP
における白色絶縁層や隔壁を形成する際、600℃以下
の焼成条件でガラスが軟化し、パネル用ガラス基板やフ
ィラ−等の粒子と融着する。また上記ガラス成分に密度
の大きいPb成分を含まないため、重量を軽減でき、パ
ネルの軽量化が可能となり、またP25を含まないため
耐水性も向上するし、環境を汚染することもない。請求
項2に係わる発明は、セラミックフィラ−物として、ジ
ルコン、アルミナ、チタニア、コ−ディエライト、ムラ
イト、β−ユ−クリプタイト、スポジュ−メン、アノ−
サイト、セルシアン、フォルステライト、チタン酸アル
ミニウムからなる群より選ばれた1種または2種以上の
セラミックフィラ−物と請求項1記載のガラス組成物と
を含むガラス組成物とセラミックフィラ−物との混合体
からなる。請求項2に係わる発明においては、請求項1
に記載したガラス組成物に、上記セラミックフィラ−を
添加・混合することにより、熱膨張係数を調整すること
により、ガラス基板との整合性が向上し、強度も高く、
反り発生もなく、反射率を向上せしめPDPの画像での
クロススト−クの発生を防止することが出来る。請求項
3に係わる発明は、請求項1記載のガラス組成物、もし
くは請求項2記載のガラス組成物とセラミックフィラ−
物との混合体と、高分子樹脂と、溶剤からなるペ−スト
である。請求項4に係わる発明は、請求項1記載のガラ
ス組成物、もしくは請求項2記載のガラス組成物とセラ
ミックフィラ−物との混合体と、高分子樹脂と、溶剤か
らなるグリ−ンシ−トである。請求項5に係わる発明
は、請求項1記載のガラス組成物、もしくは請求項2記
載のガラス組成物とセラミックフィラ−物との混合体を
焼成して形成された絶縁体であって、ガラスの軟化点が
低いので、絶縁体の焼成温度を低くすることが出来る。
またセラミックフィラ−の添加によって反射率の高い絶
縁体を得ることが出来る。請求項6に係わる発明は、請
求項1記載のガラス組成物、もしくは請求項2記載のガ
ラス組成物とセラミックフィラ−物との混合体を焼成し
て形成されたPDP用隔壁である。請求項7に係わる発
明は、請求項1記載のガラス組成物、もしくは請求項2
記載のガラス組成物とセラミックフィラ−物との混合体
を焼成して形成されたPDPである。
According to the first aspect of the present invention, 0 to 40 mol% of SiO 2 and B 2
10 to 60 mol% of O 3, 10 to 50 mol% of one or more alkaline earth oxides selected from the group consisting of MgO, CaO, SrO and BaO, Li 2 O, Na 2
O, and K 2 1 kind or a 5 to 50 mol% of two or more members selected from the group consisting of O, BaF 2, CaF 2, Sr
1 selected from the group consisting of F 2 , MgF 2 and AlF 3
It is composed of a glass composition containing 0 or 10 mol% of a kind or two or more kinds of fluorides. In the glass composition according to the first aspect, when the glass components are mixed within the above ranges, the firing temperature is lowered and the softening point is also lowered. Further, by adding an alkali oxide, the firing temperature and the softening point can be further lowered (600 ° C. or lower). PDP
When the white insulating layer and the partition wall are formed, the glass is softened under the firing conditions of 600 ° C. or lower, and is fused with particles such as a glass substrate for a panel and a filler. In addition, since the glass component does not contain a high-density Pb component, the weight can be reduced and the weight of the panel can be reduced. In addition, since the glass component does not contain P 2 O 5 , the water resistance can be improved and the environment can be polluted. Absent. The invention according to claim 2 is characterized in that, as the ceramic filler, zircon, alumina, titania, cordierite, mullite, β-eucryptite, spodumene, ano-
A glass composition comprising one or more ceramic fillers selected from the group consisting of sight, celsian, forsterite, and aluminum titanate, and the glass composition according to claim 1, and a ceramic filler. Consists of a mixture. In the invention according to claim 2, claim 1
By adding and mixing the above ceramic filler to the glass composition described in the above, by adjusting the thermal expansion coefficient, the consistency with the glass substrate is improved, the strength is high,
There is no warpage, the reflectance is improved, and the occurrence of crosstalk in the PDP image can be prevented. According to a third aspect of the present invention, there is provided a glass composition according to the first aspect, or a glass composition according to the second aspect and a ceramic filler.
A paste comprising a mixture of a polymer, a polymer resin, and a solvent. According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a green sheet comprising the glass composition according to the first aspect or a mixture of the glass composition according to the second aspect and a ceramic filler, a polymer resin, and a solvent. It is. The invention according to claim 5 is an insulator formed by firing the glass composition according to claim 1 or a mixture of the glass composition according to claim 2 and a ceramic filler. Since the softening point is low, the firing temperature of the insulator can be lowered.
An insulator having high reflectance can be obtained by adding a ceramic filler. The invention according to claim 6 is a partition wall for PDP formed by firing the glass composition according to claim 1 or a mixture of the glass composition according to claim 2 and a ceramic filler. The invention according to claim 7 is the glass composition according to claim 1 or claim 2.
A PDP formed by firing a mixture of the glass composition described above and a ceramic filler.

【0005】この請求項6に記載されたPDP用隔壁ま
たは請求項7に記載されたPDPでは、上記ガラス組成
物、もしくはガラス組成物とセラミックフィラ−との混
合物に有機バインダを含むセラミックグリ−ンシ−トを
焼成することにより、上記PDP用隔壁またはPDPに
なる。或いはガラス組成物、セラミックフィラ−および
有機バインダに有機溶媒を加えて、ペ−スト化しスクリ
−ン印刷したのち、乾燥後セラミックグリ−ン層を焼成
することにより、PDP用隔壁またはPDPが形成でき
る。この時の焼成温度はガラス基板の軟化点より100
℃以上低いため、ガラス基板に反り等は生じない。また
上記PDP用隔壁またはPDPの熱膨張係数はガラス基
板の熱膨張係数と概略同一になるため、ガラス基板の反
りを更に制御できる。上記隔壁またはPDPの比誘電率
が4〜7程度と比較的小さくなるので、電気信号が近隣
の配線に漏洩することはなく、画像にクロスト−クが発
生しない。更にガラス成分へのセラミックフィラ−成分
の添加量は比較的少量で済むので、焼成後の強度および
放電特性が低下することもない。
In the PDP according to the sixth aspect or the PDP according to the seventh aspect, a ceramic green screen containing an organic binder in the glass composition or a mixture of the glass composition and the ceramic filler. By firing the port, the partition wall or PDP is obtained. Alternatively, an organic solvent is added to a glass composition, a ceramic filler and an organic binder, paste-screened, dried, and then fired, and the ceramic green layer is fired to form a PDP partition or PDP. . The sintering temperature at this time is 100 degrees from the softening point of the glass substrate.
Since the temperature is lower than ℃, the glass substrate does not warp. In addition, since the thermal expansion coefficient of the partition wall for PDP or the PDP is substantially the same as the thermal expansion coefficient of the glass substrate, the warpage of the glass substrate can be further controlled. Since the relative permittivity of the partition or PDP is relatively small, about 4 to 7, electric signals do not leak to neighboring wirings, and no crosstalk occurs in an image. Further, since the amount of the ceramic filler component added to the glass component is relatively small, the strength after firing and the discharge characteristics do not decrease.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳し
く説明する。本発明のガラス組成物の例としては、アル
カリ土類金属(M)として、Mg、Ca、Sr、Baの
内の少なくとも1種類を、アルカリ金属(M′)とし
て、L、Na、Kの内の少なくとも1種類を選び、アル
カリ土類金属塩(例えば、CaCO3やCaSO4等)と
アルカリ土類フッ化物(例えば、MgF2やCaF2等)
とホウ酸(H3BO3)とSiO2とアルカリ金属塩(例
えば、Li2CO3やLi2SO4等)の粉末を、酸化物お
よびフッ化物換算で、MO:10〜50モル%,MF:
0〜10モル%,B23:10〜60モル%,Si
2:0〜40モル%,M′O:5〜50モル%の比で
秤量し、各粉末をボ−ルミル等を用いて0.5〜6時間
混合した後、その混合粉末を白金るつぼ等に投入し、9
00〜1200℃で1〜6時間保持した後、その急冷物
を粉砕し、200メッシュ以上のメッシュ数の篩いを用
いて分級を行うことによりガラス組成物を得る。上記ガ
ラス組成物において、SiO2を0〜40モル%の範囲
に限定したのは、40モル%を超えると、ガラスの軟化
点が上昇し、焼成温度600℃でも軟化・融着しないか
らであり、SiO2は10〜30モル%であることが更
に好ましい。B23を10〜60モル%の範囲に限定し
たのは、10モル%未満では、ガラスにならず軟化点も
高い不具合があり、60モル%を超えると、耐水性が悪
い不具合があるからであり、B23は20〜50モル%
であることが更に好ましい。またZnOを15〜45モ
ル%の範囲に限定したのは、15モル%未満では、軟化
点が高い不具合があり、45モル%を超えても軟化点が
高い不具合があり、ZnOは20〜40モル%であるこ
とが更に好ましい。またMgO、CaO、SrO、およ
びBaOからなる群より選ばれた1種または2種以上の
アルカリ土類酸化物を10〜50モル%の範囲に限定し
たのは、10モル%未満では、軟化点が高い不具合があ
り、50モル%を超えるとガラスにならない不具合があ
るからであり、この酸化物は20〜40モル%であるこ
とが更に好ましい。更にNa2O、K2O、Li2Oから
なる群より選ばれた1種または2種以上のアルカリ酸化
物の含有量を5〜50モル%と限定したのは、5モル%
以下では軟化点が高い不具合があり、50モル%を超え
ると、熱膨張係数が非常に高くなるので、その値を5〜
50モル%に定めた。またBaF2、CaF2、Sr
2、MgF2およびAlF3からなる群より選ばれた1
種または2種以上のフッ化物を0〜10モル%の範囲に
限定したのは、10モル%を超えると熱膨張係数が高く
なる不具合があるからであり、このフッ化物は0.5〜
10モル%であることが更に好ましい。また前述の混合
体において使用されるセラミックフィラ−の例として
は、200メッシュ以上のメッシュ数の篩いを用いて分
級したジルコン、アルミナ、チタニア、コ−ディエライ
ト、ムライト、β−ユ−クリプタイト、スポジュ−メ
ン、アノ−サイト、セルシアン、フォルステライト、チ
タン酸アルミニウムの内の少なくとも1種類を含む酸化
物からなる粉末と上記ガラス組成物とをボ−ルミル等を
用いて1〜24時間混合して得る。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. Examples of the glass composition of the present invention include at least one of Mg, Ca, Sr, and Ba as an alkaline earth metal (M) and L, Na, and K as an alkali metal (M '). And alkaline earth metal salts (eg, CaCO 3 and CaSO 4 ) and alkaline earth fluorides (eg, MgF 2 and CaF 2 )
Powder of boric acid (H 3 BO 3 ), SiO 2 and an alkali metal salt (for example, Li 2 CO 3 or Li 2 SO 4 ) in terms of oxide and fluoride, MO: 10 to 50 mol%, MF:
0 to 10 mol%, B 2 O 3: 10~60 mol%, Si
O 2: 0 to 40 mol%, M'O: weighed with 5 to 50 mol% of the specific, volume of each powder - After mixing 0.5 to 6 hours using a like mill, a platinum crucible and the mixed powder Etc., 9
After maintaining at 00 to 1200 ° C. for 1 to 6 hours, the quenched material is pulverized and classified using a sieve having a mesh number of 200 mesh or more to obtain a glass composition. In the above glass composition, the reason why SiO 2 is limited to the range of 0 to 40 mol% is that if it exceeds 40 mol%, the softening point of the glass increases, and the glass does not soften and fuse even at a firing temperature of 600 ° C. it is further preferred SiO 2 is 10 to 30 mol%. When B 2 O 3 is limited to the range of 10 to 60 mol%, if it is less than 10 mol%, there is a problem that it does not become glass and the softening point is high, and if it exceeds 60 mol%, there is a problem that water resistance is poor. From 20 to 50 mol% of B 2 O 3.
Is more preferable. The reason why ZnO is limited to the range of 15 to 45 mol% is that if it is less than 15 mol%, there is a problem that the softening point is high, and if it exceeds 45 mol%, there is a problem that the softening point is high. More preferably, it is mol%. The reason why one or two or more kinds of alkaline earth oxides selected from the group consisting of MgO, CaO, SrO and BaO are limited to the range of 10 to 50 mol% is that the softening point is less than 10 mol%. Is too high, and if it exceeds 50 mol%, there is a problem that it does not become glass, and it is more preferable that this oxide is 20 to 40 mol%. Further, the content of one or more alkali oxides selected from the group consisting of Na 2 O, K 2 O and Li 2 O is limited to 5 to 50 mol%,
Below, there is a problem that the softening point is high, and if it exceeds 50 mol%, the coefficient of thermal expansion becomes very high.
It was determined to be 50 mol%. BaF 2 , CaF 2 , Sr
1 selected from the group consisting of F 2 , MgF 2 and AlF 3
The reason why the kind or two or more kinds of fluorides are limited to the range of 0 to 10 mol% is that if the amount exceeds 10 mol%, there is a problem that the coefficient of thermal expansion becomes high.
More preferably, it is 10 mol%. Examples of the ceramic filler used in the above-mentioned mixture include zircon, alumina, titania, cordierite, mullite, β-eucryptite, and spodge classified using a sieve having a mesh number of 200 mesh or more. -Obtained by mixing a powder composed of an oxide containing at least one of men, anorthite, celsian, forsterite and aluminum titanate with the above glass composition using a ball mill or the like for 1 to 24 hours. .

【0007】本発明のペ−ストは、上述のガラス組成
物、またはガラス組成物とセラミックフィラ−物との混
合体に対して、エチルセルロ−スやアクリル樹脂等の高
分子樹脂とα−テルピオ−ルやブチルカルビト−ルアセ
テ−ト等の溶剤を添加し、三本ロ−ル等で充分混練を行
い得る。本発明の実施の形態では、上記せるペ−ストの
各成分の配合比は、ガラス組成物およびセラミックフィ
ラ−を30〜70重量%、有機バインダを15〜3重量
%、溶媒を55〜27重量%であることが好ましい。溶
媒は常温での揮発性が比較的小さい有機溶媒であること
が必要であり、タ−ピネオ−ル、ブチルカルビト−ルア
セテ−トまたはエ−テル等が挙げられる。ペ−ストをこ
のように構成することにより所定の粘度を有するペ−ス
トを得ることが出来る。ペ−ストをこのように配合する
ことにより、粘度が1000〜500,000cpsの
ペ−ストを得ることが出来、隔壁を形成した場合、基板
上に形成された隔壁のだれを抑制して隔壁を精度良く形
成する。なお、ペ−ストの粘度は、5,000〜50
0,000cpsが好ましく、10,000〜300,
000cpsが更に好ましい。
The paste of the present invention is characterized in that the above-mentioned glass composition or a mixture of the glass composition and the ceramic filler is mixed with a polymer resin such as ethyl cellulose or an acrylic resin and α-terpion. And a solvent such as butyl carbitol acetate is added, and the mixture can be sufficiently kneaded with a triple roll. In the embodiment of the present invention, the mixing ratio of each component of the paste described above is 30 to 70% by weight of the glass composition and the ceramic filler, 15 to 3% by weight of the organic binder, and 55 to 27% by weight of the solvent. %. The solvent must be an organic solvent having relatively low volatility at room temperature, and examples thereof include terpineol, butyl carbitol acetate, and ether. By configuring the paste in this manner, a paste having a predetermined viscosity can be obtained. By blending the paste in this manner, a paste having a viscosity of 1000 to 500,000 cps can be obtained, and when a partition is formed, dripping of the partition formed on the substrate is suppressed and the partition is formed. Form accurately. The paste has a viscosity of 5,000 to 50.
10,000 cps is preferred, and 10,000 to 300,
000 cps is more preferred.

【0008】本発明のグリ−ンシ−トは、一般に、上述
のガラス組成物、またはガラス組成物とセラミックフィ
ラ−物との混合体の粉末を用いたプレス成形法、または
上記粉末にペ−スト同様の有機バインダ、有機溶媒を加
え、これをドクタ−ブレ−ド法、押出成形法、射出成形
法等により成形することにより得ることが出来る。
The green sheet of the present invention is generally prepared by a press molding method using a powder of the above-mentioned glass composition or a mixture of the glass composition and a ceramic filler, It can be obtained by adding the same organic binder and organic solvent and molding the mixture by a doctor blade method, an extrusion molding method, an injection molding method or the like.

【0009】本発明の絶縁体は、通常上記ペ−ストを用
いたスクリ−ン印刷法により得られる成形体を焼結する
か、または上記グリ−ンシ−トを焼結することにより得
られる。
The insulator of the present invention is usually obtained by sintering a green body obtained by a screen printing method using the above paste or sintering the above green sheet.

【0010】本発明の実施の形態としてのPDP用隔壁
(セラミックリブ)は、上記ガラス組成物を焼成するこ
とにより形成される。このセラミックリブの第1の実施
の形態の形成方法を図1、2に基づいて説明する。先
ず、ガラス基板10の表面にセラミックペ−ストを塗布
して形成されたセラミックペ−スト膜11に対してくし
歯12bを有するブレ−ド12のエッジ12aをガラス
基板10表面に接触させた状態で、ブレ−ド12又はガ
ラス基板10を一定方向に移動することによりガラス基
板10表面にセラミッツクキャピラリリブ13を形成す
る。セラミックペ−ストは上記ガラス組成物とセラミッ
クフィラ−物と有機バインダ−と溶媒とを含み、またセ
ラミッツクキャピラリとは、ガラス粉末(ガラス成分)
とセラミックフィラ−粉末(セラミックフィラ−成分)
と有機バインダ(バインダ成分)と溶媒とを含むペ−ス
トを塗布した後の大部分の有機バインダと溶媒とが残存
している状態をいう。
A partition wall (ceramic rib) for a PDP as an embodiment of the present invention is formed by firing the above glass composition. A method of forming the ceramic rib according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. First, the edge 12a of the blade 12 having the comb teeth 12b is brought into contact with the surface of the glass substrate 10 with respect to the ceramic paste film 11 formed by applying the ceramic paste on the surface of the glass substrate 10. Then, the ceramic capillary rib 13 is formed on the surface of the glass substrate 10 by moving the blade 12 or the glass substrate 10 in a predetermined direction. The ceramic paste contains the above-mentioned glass composition, ceramic filler material, organic binder and solvent, and the ceramic capillary is a glass powder (glass component).
And ceramic filler powder (ceramic filler component)
A state in which most of the organic binder and the solvent remain after the paste containing the organic binder (the binder component) and the solvent is applied.

【0011】セラミックフィラ−粉末は、ガラス粉末の
容積に対して60容積%以下であることが好ましい。セ
ラミックフィラ−粉末が60容積%以上になるとリブ1
3が多孔質になり好ましくないからである。なお、ガラ
ス粉末及びセラミックフィラ−粉末の粒径は夫々0.1
〜30μmであることが好ましい。ガラス粉末及びセラ
ミックフィラ−粉末の粒径を0.1〜30μmの範囲に
限定したのは、0.1μm未満では凝集し易く、その取
り扱いが煩わしくなり、30μmを越えると後述するブ
レ−ド12の移動時に所望のリブ13が形成出来なくな
るからである。
The ceramic filler powder is preferably not more than 60% by volume based on the volume of the glass powder. When the ceramic filler powder exceeds 60% by volume, rib 1
This is because 3 becomes porous and is not preferred. The particle diameters of the glass powder and the ceramic filler powder are each 0.1.
It is preferably from 30 to 30 μm. The reason why the particle size of the glass powder and the ceramic filler powder is limited to the range of 0.1 to 30 μm is that when the particle size is less than 0.1 μm, the particles tend to agglomerate and the handling becomes troublesome. This is because a desired rib 13 cannot be formed during the movement.

【0012】ペ−ストの各成分の配合比は、ガラス粉末
及びセラミックフィラ−粉末を30〜70重量%、有機
バインダを3〜15重量%、溶媒を27〜55重量%で
あることが好ましい。溶媒は常温での揮発性が比較的小
さい有機溶媒であることが必要であり、タ−ピネオ−
ル、ブチルカルビト−ル、アセテ−ト又はエ−テル等が
挙げられる。ペ−ストをこのように構成することにより
所定の粘度を有するペ−ストを得ることができ、ガラス
基板10上に形成されたセラミックキャピラリリブ13
のだれを抑制して焼成することによりセラミックリブを
精度良く形成することができる。
The mixing ratio of each component of the paste is preferably 30 to 70% by weight of the glass powder and the ceramic filler powder, 3 to 15% by weight of the organic binder, and 27 to 55% by weight of the solvent. It is necessary that the solvent be an organic solvent having relatively low volatility at room temperature.
Butyl carbitol, acetate or ether. By configuring the paste in this manner, a paste having a predetermined viscosity can be obtained, and the ceramic capillary rib 13 formed on the glass substrate 10 can be obtained.
By firing while suppressing drooling, the ceramic ribs can be accurately formed.

【0013】ペ−ストのガラス基板10表面への塗布
は、スクリ−ン印刷法、デイップ法またはドクタブレ−
ド法等の既存の手段により行われる。図1示す様に、ペ
−スト膜11の形成されたガラス基板10表面に接触さ
せるブレ−ド12には、複数のくし歯12bが等間隔に
かつ同一方向に形成される。このブレ−ド12はペ−ス
トとの反応たペ−ストに溶解されることのない金属、セ
ラミック又はプラスチック等により作られ、特に、寸法
精度、耐久性の観点からセラミック若しくはFe、N
i、Co基の合金が好ましい。夫々のくし歯12bの間
の間隔は、このブレ−ド12により形成されるセラミッ
クキャピラリリブ13の断面形状に相応して形成され
る。
The paste is applied to the surface of the glass substrate 10 by a screen printing method, a dip method or a doctor blur method.
This is done by existing means such as the C-law. As shown in FIG. 1, a plurality of comb teeth 12b are formed at equal intervals and in the same direction on a blade 12 which comes into contact with the surface of a glass substrate 10 on which a paste film 11 is formed. The blade 12 is made of a metal, ceramic, plastic or the like which is not dissolved in the paste reacted with the paste. In particular, from the viewpoint of dimensional accuracy and durability, ceramic or Fe, N
i, Co-based alloys are preferred. The spacing between the respective comb teeth 12b is formed in accordance with the sectional shape of the ceramic capillary rib 13 formed by the blade 12.

【0014】このように構成されたブレ−ド12による
セラミックキャピラリリブ13の形成は、ブレ−ド12
のエッジ12aをペ−スト膜11を形成したガラス基板
10表面に接触させた状態で、ガラス基板10を固定し
て図1の実線矢印で示すようにブレ−ド12を一定方向
に移動するか、又はブレ−ド12を固定して図1の破線
矢印で示すようにガラス基板10を一定方向に移動させ
ることにより行われる。
The formation of the ceramic capillary rib 13 by the blade 12 constructed as described above is performed by the following method.
The glass substrate 10 is fixed while the edge 12a is in contact with the surface of the glass substrate 10 on which the paste film 11 is formed, and the blade 12 is moved in a certain direction as shown by a solid line arrow in FIG. Alternatively, the fixing is performed by fixing the blade 12 and moving the glass substrate 10 in a certain direction as shown by a broken line arrow in FIG.

【0015】この移動によりガラス基板10表面に塗布
されたペ−ストのブレ−ド12のくし歯12bに対応す
る箇所は、くし歯12bの間の隙間に移動するか若しく
は掃き取られ、こし歯12bの間の隙間に位置するペ−
ストのみが、ガラス基板10上に残存してガラス基板1
0表面にセラミックキャピラリリブ13が形成される。
くし歯の溝の深さがペ−スト膜11の厚さより大きい場
合にはブレ−ド12一定方向にガラス基板10上を移動
するときに掃き取られたペ−ストが溝に入り込みペ−ス
ト膜11の厚さ以上の高さを有するセラミックキャピラ
リリブ13を形成できる。
The portion corresponding to the comb teeth 12b of the paste blade 12 applied to the surface of the glass substrate 10 by this movement is moved to the gap between the comb teeth 12b or is swept away. Page located in the gap between 12b
Only the strike remains on the glass substrate 10 and the glass substrate 1
A ceramic capillary rib 13 is formed on the zero surface.
If the depth of the grooves of the comb teeth is larger than the thickness of the paste film 11, the paste swept out when the blade 12 moves on the glass substrate 10 in a certain direction enters the grooves and pastes. The ceramic capillary rib 13 having a height equal to or greater than the thickness of the film 11 can be formed.

【0016】このようにして形成されたセラミックキャ
ピラリリブ13は、その後乾燥されてセラミックグリ−
ンリブ(図示せず)になり、更に脱バインダのため加熱
され、引き続いて焼成することにより図2示すセラミッ
クリブ14になる。
The thus formed ceramic capillary rib 13 is then dried and dried.
And then heated for binder removal and subsequently fired to form the ceramic rib 14 shown in FIG.

【0017】図3及び図4に、本発明のセラミックリブ
(PDP隔壁)の第2の実施の形態を示す。図3及び図
4において図1及び図2と同一符号は同一部品を示す。
この実施の形態では、図3に示す様に、ガラス基板10
表面に上記ペ−ストを塗布して形成されたペ−スト膜1
1に対して、くし歯12bを有するブレ−ド12aをガ
ラス基板10表面から所定の高さ浮上した状態でブレ−
ド12又はガラス基板10を一定方向に移動することに
より、ガラス基板10表面にセラミックキャピラリ層2
1が形成され、このセラミックキャピラリ層21及びセ
ラミックキャピラリリブ23は乾燥されてセラミックグ
リ−ン層及びセラミックグリ−ンリブになり、更に脱バ
インダのため加熱され、引き続いて焼成されることによ
り、図4に示すガラス基板10上に形成された絶縁層2
2と、この絶縁層22上に形成されたセラミックリブ2
4となる。
FIGS. 3 and 4 show a ceramic rib (PDP partition) according to a second embodiment of the present invention. 3 and 4, the same reference numerals as those in FIGS. 1 and 2 indicate the same parts.
In this embodiment, as shown in FIG.
Paste film 1 formed by applying the above paste on the surface
1, the blade 12a having the comb teeth 12b is floated from the surface of the glass substrate 10 at a predetermined height.
By moving the glass 12 or the glass substrate 10 in a certain direction, the ceramic capillary layer 2 is formed on the surface of the glass substrate 10.
1 are formed, and the ceramic capillary layer 21 and the ceramic capillary rib 23 are dried to form a ceramic green layer and a ceramic green rib, and further heated for binder removal, and subsequently fired. Insulating layer 2 formed on a glass substrate 10 shown in FIG.
2 and a ceramic rib 2 formed on the insulating layer 22.
It becomes 4.

【0018】また、本発明の第3の実施の形態として、
次の方法がある(図5参照)。 (1)先ず、ガラス等の基板上に、前述のペ−ストを用
いたスクリ−ン印刷法によりベタ膜を成形し、 (2)印刷を行なった基板を、100〜200℃の温度
で、10〜30分間乾燥した後、300〜400℃の温
度で、0.5〜3時間仮焼結を行い、 (3)仮焼結を行った膜表面にラミネ−タ−を用いて、
感光性ドライフィルレジスト(DFR)を積層した後、
DFR上にフィルムマスクを置き、中心波長254nm
の紫外線を照射し、露光を行い、 (4)次いで、露光を行った基板に対し、濃度が0.1
〜5%のNa2CO3水溶液を噴霧し、未露光部を除去
し、現像を行い、 (5)現像を行なったDFRパタ−ン付き基板に対し、
アルミナ粉末等の砥石を用いてサンドブラストを行い、
DFRが形成されていない部分の印刷膜を除去する、 (6)最後に、温度500〜600℃で0.1〜2時間
焼成を行うことにより形成される。
Further, as a third embodiment of the present invention,
The following method is available (see FIG. 5). (1) First, a solid film is formed on a substrate such as glass by a screen printing method using the paste described above. (2) The printed substrate is heated at a temperature of 100 to 200 ° C. After drying for 10 to 30 minutes, pre-sintering is performed at a temperature of 300 to 400 ° C. for 0.5 to 3 hours. (3) Using a laminator on the surface of the pre-sintered film,
After laminating photosensitive dry fill resist (DFR),
Place a film mask on the DFR, center wavelength 254nm
(4) Then, a concentration of 0.1 was applied to the exposed substrate.
A 5% aqueous solution of Na 2 CO 3 is sprayed to remove unexposed portions, and development is performed. (5) The developed DFR-patterned substrate is
Sand blasting using a grinding stone such as alumina powder,
(6) Finally, baking is performed at a temperature of 500 to 600 ° C. for 0.1 to 2 hours to form a printed film in a portion where the DFR is not formed.

【0019】また、本発明のPDP(AC型プラズマデ
ィスプレイパネルにおける背面板形成の例)としては、 (1)先ず、ガラス等の基板上にAg等の導電ペ−スト
をスクリ−ン印刷法により、50〜200μm幅のパタ
−ンを形成し、温度100〜200℃で10〜30分間
乾燥した後、温度500〜600℃で0.1〜1時間焼
成し、 (2)アドレス電極を形成する。 アドレス電極を形成
した基板上に前述の方法で得られたガラスペ−ストを用
いて、スクリ−ン印刷法を行い、ベタ膜を成形する。 (3)印刷を行った基板を100〜150℃の温度で1
0〜30分間乾燥した後、500〜600℃の温度で
0.5〜3時間焼成を行い、白色絶縁層を形成する。 (4)白色絶縁層を形成した基板上に前述の方法により
得たガラスペ−ストを用いて、スクリ−ン印刷法を行
い、ベタ膜を成形する。 (5)印刷を行った基板を100〜200℃の温度で1
0〜30分間乾燥した後、300〜400℃の温度で
0.5〜3時間仮焼成を行う。 (6)仮焼成を行った膜表面にラミネ−タ−を用いて感
光性ドライフィルムレジスト(DFR)を積層した後、
DFR上にフィルムマスクを置き、中心波長254nm
の紫外線を照射し、露光を行う。 (7)露光を行った基板に対し、濃度が0.1〜5%の
Na23水溶液を噴霧し、未露光部を除去し、現像を行
う。 (8)現像を行ったDFRパタ−ン付き基板に対し、ア
ルミナ粉末等の砥粒を用いてサンドブラストを行い、D
FRが形成されていない部分の印刷膜を除去する。 (9)基板を温度500〜600℃の温度で0.1〜2
時間焼成を行い、隔壁を形成する。 (10)隔壁内に紫外光により赤色、または緑色、青色
を発光する蛍光体粉末からなるペ−ストを用いて、夫々
スクリ−ン印刷法により落とし込み印刷を行い形成す
る。
The PDP (an example of forming a back plate in an AC type plasma display panel) of the present invention is as follows: (1) First, a conductive paste such as Ag is screen-printed on a substrate such as glass. After forming a pattern having a width of 50 to 200 μm, drying at a temperature of 100 to 200 ° C. for 10 to 30 minutes, and baking at a temperature of 500 to 600 ° C. for 0.1 to 1 hour, (2) forming an address electrode . A screen printing method is performed on the substrate on which the address electrodes are formed using the glass paste obtained by the above-described method to form a solid film. (3) The printed substrate is heated at a temperature of 100 to 150 ° C. for 1 hour.
After drying for 0 to 30 minutes, baking is performed at a temperature of 500 to 600 ° C. for 0.5 to 3 hours to form a white insulating layer. (4) A screen printing method is performed on the substrate on which the white insulating layer is formed by using the glass paste obtained by the above-described method to form a solid film. (5) The printed substrate is heated at a temperature of 100 to 200 ° C. for 1 hour.
After drying for 0 to 30 minutes, calcination is performed at a temperature of 300 to 400 ° C for 0.5 to 3 hours. (6) After laminating a photosensitive dry film resist (DFR) on the surface of the calcined film using a laminator,
Place a film mask on the DFR, center wavelength 254nm
Is exposed to ultraviolet light. (7) The exposed substrate is sprayed with an aqueous solution of Na 2 O 3 having a concentration of 0.1 to 5% to remove unexposed portions and to perform development. (8) The developed DFR-patterned substrate is subjected to sand blasting using abrasive grains such as alumina powder to obtain D
A portion of the print film where no FR is formed is removed. (9) The substrate is heated at a temperature of 500-600 ° C. for 0.1-2.
Baking is performed for a time to form partition walls. (10) Using a paste made of a phosphor powder that emits red, green, or blue light by ultraviolet light in the partition walls, each is formed by drop-in printing by a screen printing method.

【0020】[0020]

【実施例】以下、本発明の実施例を比較例と共に詳しく
説明する。 [実施例1]SiO2を20モル%と、B23を30モ
ル%と、BaOを25モル%とLi2Oを20モル%と
MgF2を5モル%とを含むガラス粉末(ガラス組成
物)を70重量%用意し、セラミックフィラ−として平
均粒径5.0μmのβユ−クリプタイト粉末を20重量
%用意し、両者を十分に混合した。上記ガラス粉末の原
材料としては具体的には、B23としてH3BO3、Zn
Oはそのまま、BaOとしてBaCO3、Li2Oとして
はLi2CO3を、MgF2はそのままを夫々所定の成分
になるように混合し、大気中で1100℃にて30分間
溶解して白金皿に流し出し、固化した後に粉砕して(平
均粒径3〜5μm)得た。この混合粉末と有機バインダ
であるエチルセルロ−スと溶媒であるαテレピネオ−ル
とを重量比で50/5/45の割合で配合し、十分に混
練してペ−ストを得た。このようにして得られたペ−ス
トを実施例1とした。なお、以下の実施例2〜29およ
び比較例1〜8のガラス粉末も、上記と同様に、SiO
2に加え、B23としてH3BO3、ZnOはそのまま、
アルカリ土類酸化物であるBaO、SrO、CaO、M
gO、およびアルカリ酸化物であるNa2O、K2Oまた
はLi2OとしてBaCO3、SrCO3、CaCO3、
gCO3、NaCO3、K2CO3、またはLi2CO3、フ
ッ化物であるMgF2、CaF2、SrF2、MgF2また
はAlF3はそのままを夫々表1、2に示す成分組成に
なるように混合し、大気中で1100℃にて30分間溶
解して白金皿に流し出し、固化した後に粉砕して(平均
粒径3〜5μm)得た。
Hereinafter, examples of the present invention will be described in detail together with comparative examples. EXAMPLE 1 Glass powder (glass containing the a SiO 2 20 mol%, the B 2 O 3 and 30 mol% of BaO and 20 mol% 25 mol% and Li 2 O and the MgF 2 5 mole% 70% by weight) and 20% by weight of β-eucryptite powder having an average particle size of 5.0 μm as a ceramic filler, and both were sufficiently mixed. More specifically as a raw material of the glass powder, H 3 BO 3 as a B 2 O 3, Zn
O is mixed as it is, BaCO 3 as BaO, Li 2 CO 3 as Li 2 O, and MgF 2 as they are, respectively, so as to become predetermined components. And solidified and then pulverized (average particle size: 3 to 5 μm). The mixed powder, ethyl cellulose as an organic binder, and α-terpineol as a solvent were blended at a weight ratio of 50/5/45, and kneaded sufficiently to obtain a paste. The paste thus obtained was used as Example 1. In addition, the glass powders of the following Examples 2 to 29 and Comparative Examples 1 to 8 were also made of SiO 2 similarly to the above.
In addition to the 2, H 3 BO 3 as a B 2 O 3, ZnO intact,
BaO, SrO, CaO, M which are alkaline earth oxides
BaO 3 , SrCO 3 , CaCO 3, M as gO, and Na 2 O, K 2 O or Li 2 O which are alkali oxides
gCO 3, NaCO 3, K 2 CO 3 or Li 2 CO 3,, MgF 2 is fluoride, CaF 2, SrF 2, MgF 2 or AlF 3 is to be the composition shown directly to respective Tables 1 and 2 And melted in the air at 1100 ° C. for 30 minutes, poured out into a platinum dish, solidified and then pulverized (average particle size: 3 to 5 μm).

【0021】[実施例2]ガラス粉末が実施例1のMg
2に替えてSrF2を5モル%含むことを除いて、実施
例1と同様にしてペ−ストを形成した。このペ−ストを
実施例2とした。
Example 2 The glass powder was Mg of Example 1.
A paste was formed in the same manner as in Example 1 except that SrF 2 was contained in an amount of 5 mol% instead of F 2 . This paste was designated as Example 2.

【0022】[実施例3]ガラス粉末が実施例1のMg
2に替えてCaF2を5モル%含むことを除いて、実施
例1と同様にしてペ−ストを形成した。このペ−ストを
実施例3とした。
Example 3 The glass powder was Mg of Example 1.
A paste was formed in the same manner as in Example 1 except that CaF 2 was contained in an amount of 5 mol% instead of F 2 . This paste was designated as Example 3.

【0023】[実施例4]ガラス粉末が実施例1のMg
2に替えてAlF3を5モル%含むことを除いて、実施
例1と同様にしてペ−ストを形成した。このペ−ストを
実施例4とした。
Example 4 The glass powder was Mg of Example 1.
A paste was formed in the same manner as in Example 1, except that 5 mol% of AlF 3 was used instead of F 2 . This paste was used as Example 4.

【0024】[実施例5]ガラス粉末が、SiO2を1
5モル%と、B23を25モル%と、BaOを40モル
%と、Li2Oを15モル%とCaF2を5モル%とを含
むことを除いて、実施例1と同様にしてペ−ストを形成
した。このペ−ストを実施例5とした。
Example 5 A glass powder containing SiO 2
As in Example 1 except that 5 mol%, B 2 O 3 was 25 mol%, BaO was 40 mol%, Li 2 O was 15 mol% and CaF 2 was 5 mol%. To form a paste. This paste was designated as Example 5.

【0025】[実施例6]ガラス粉末が、SiO2を1
5モル%と、B23を45モル%と、BaOを30モル
%とCaF2を10モル%とを含むことを除いて、実施
例1と同様にしてペ−ストを形成した。このペ−ストを
実施例6とした。
[0025] [Example 6] glass powder, the SiO 2 1
And 5 mol%, B and the 2 O 3 45 mol%, 30 mol% of BaO and CaF 2 a except that it contains a 10 mol%, Bae in the same manner as in Example 1 - was formed strike. This paste was used as Example 6.

【0026】[実施例7]ガラス粉末が、SiO2を1
5モル%と、B23を15モル%と、BaOを15モル
%とNa2Oを45モル%とCaF2を10モル%とを含
むことを除いて、実施例1と同様にしてペ−ストを形成
した。このペ−ストを実施例7とした。
[0026] [Example 7] glass powder, the SiO 2 1
As in Example 1, except that 5 mol%, 15 mol% of B 2 O 3 , 15 mol% of BaO, 45 mol% of Na 2 O and 10 mol% of CaF 2 were contained. A paste was formed. This paste was used as Example 7.

【0027】[実施例8]ガラス粉末が、SiO2を2
5モル%と、B23を20モル%と、BaOを25モル
%と、K2Oを20モル%と、CaF2を10モル%とを
含むことを除いて、実施例1と同様にしてペ−ストを形
成した。このペ−ストを実施例8とした。
[0027] [Example 8] glass powder, a SiO 2 2
Same as Example 1 except that it contains 5 mol%, 20 mol% of B 2 O 3 , 25 mol% of BaO, 20 mol% of K 2 O, and 10 mol% of CaF 2. To form a paste. This paste was used as Example 8.

【0028】[実施例9]ガラス粉末が、SiO2を2
0モル%と、B23を30モル%と、BaOを25モル
%と、Li2Oを15モル%とCaF2を10モル%とを
含むことを除いて、実施例1と同様にしてペ−ストを形
成した。このペ−ストを実施例9とした。
[0028] Example 9 glass powder, a SiO 2 2
As in Example 1 except that 0 mol%, 30 mol% of B 2 O 3 , 25 mol% of BaO, 15 mol% of Li 2 O and 10 mol% of CaF 2 were contained. To form a paste. This paste was used as Example 9.

【0029】[実施例10]ガラス粉末が、SiO2
40モル%と、B23を15モル%と、SrOを25モ
ル%と、Li2Oを15モル%とCaF2を5モル%とを
含むことを除いて、実施例1と同様にしてペ−ストを形
成した。このペ−ストを実施例10とした。
Example 10 The glass powder was composed of 40 mol% of SiO 2 , 15 mol% of B 2 O 3 , 25 mol% of SrO, 15 mol% of Li 2 O and 5 mol of CaF 2. %, And a paste was formed in the same manner as in Example 1. This paste was used as Example 10.

【0030】[実施例11]ガラス粉末が、実施例9の
BaOに替えてをMgOを25モル%含むことを除い
て、実施例9と同様にしてペ−ストを形成した。このペ
−ストを実施例11とした。
Example 11 A paste was formed in the same manner as in Example 9 except that the glass powder contained 25 mol% of MgO instead of BaO of Example 9. This paste was used as Example 11.

【0031】[実施例12]SiO2を20モル%と、
23を30モル%と、BaOを10モル%とSrOを
10モル%と、CaOを10モル%と、Li2Oを1モ
ル%と、CaF2を10モル%とを含むガラス粉末を6
0重量%用意し、セラミックフィラ−粉末として平均粒
径4.5μmのアルミナ粉末を40重量%用意し、両者
を十分に混合した。上記以外は、実施例1と同様にして
ペ−ストを形成した。このペ−ストを実施例12とし
た。
Example 12 20 mol% of SiO 2
Glass powder containing B and a 2 O 3 30 mol%, and 10 mol% 10 mol% and SrO to BaO, and 10 mol% of CaO, and 1 mol% of Li 2 O, and the CaF 2 10 mol% 6
0% by weight was prepared, and 40% by weight of alumina powder having an average particle size of 4.5 μm was prepared as a ceramic filler powder, and both were sufficiently mixed. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1. This paste was used as Example 12.

【0032】[実施例13]SiO2を10モル%と、
23を55モル%と、BaOを5モル%とSrOを5
モル%と、MgOを10モル%と、Na2Oを10モル
%と、BaF2を5モル%とを含むガラス粉末を60重
量%用意したことを除いて、実施例12と同様にしてペ
−ストを形成した。このペ−ストを実施例13とした。
Example 13 The content of SiO 2 was 10 mol%,
B 2 and O 3 of 55 mol%, 5 mol% and SrO a BaO 5
Mole%, with the exception of the 10 mol% of MgO, and 10 mol% of Na 2 O, that has been prepared 60 wt% of glass powder containing an a BaF 2 5 mole%, in the same manner as in Example 12 Bae -Formed a strike. This paste was used as Example 13.

【0033】[実施例14]SiO2を20モル%と、
23を40モル%と、BaOを5モル%とSrOを5
モル%と、CaOを10モル%と、MgOを5モル%
と、K2Oを5モル%と、SrF2を10モル%とを含む
ガラス粉末を60重量%用意したことを除いて、実施例
12と同様にしてペ−ストを形成した。このペ−ストを
実施例14とした。
Example 14 The content of SiO 2 was 20 mol%,
B 2 and O 3 of 40 mol%, 5 mol% and SrO a BaO 5
Mol%, 10 mol% of CaO and 5 mol% of MgO
A paste was formed in the same manner as in Example 12, except that 60% by weight of a glass powder containing 5 mol% of K 2 O and 10 mol% of SrF 2 was prepared. This paste was used as Example 14.

【0034】[実施例15]SiO2を20モル%と、
23を30モル%と、BaOを10モル%とCaOを
10モル%と、MgOを10モル%と、Na2Oを10
モル%と、AlF3を10モル%とを含むガラス粉末を
60重量%用意したことを除いて、実施例12と同様に
してペ−ストを形成した。このペ−ストを実施例15と
した。
Example 15 20 mol% of SiO 2
B and 2 O 3 30 mol%, and 10 mol% 10 mol% and the CaO and BaO, and 10 mol% of MgO, the Na 2 O 10
A paste was formed in the same manner as in Example 12, except that 60% by weight of a glass powder containing 10 mol% of AlF 3 and 10 mol% of AlF 3 was prepared. This paste was used as Example 15.

【0035】[実施例16]SiO2を20モル%と、
23を30モル%と、CaOを15モル%と、MgO
を9モル%と、K2Oを20モル%と、BaF2を2モル
%と、CaF2を2モル%と、AlF3を2モル%とを含
むガラス粉末を60重量%用意したことを除いて、実施
例12と同様にしてペ−ストを形成した。このペ−スト
を実施例16とした。
Example 16 20 mol% of SiO 2
30 mol% of B 2 O 3 , 15 mol% of CaO and MgO
60 mol% of a glass powder containing 9 mol%, 20 mol% of K 2 O, 2 mol% of BaF 2 , 2 mol% of CaF 2 and 2 mol% of AlF 3. Except for this, a paste was formed in the same manner as in Example 12. This paste was used as Example 16.

【0036】[実施例17]SiO2を20モル%と、
23を30モル%と、SrOを5モル%と、CaOを
10モル%と、MgOを5モル%と、Li2Oを10モ
ル%と、SrF2を5モル%と、MgF2を5モル%とを
含むガラス粉末を60重量%用意したことを除いて、実
施例12と同様にしてペ−ストを形成した。このペ−ス
トを実施例17とした。
Example 17: 20 mol% of SiO 2
B and 2 O 3 30 mol%, and 5 mol% of SrO, and 10 mol% of CaO, and 5 mol% of MgO, and 10 mol% of Li 2 O, and the SrF 2 5 mole%, MgF 2 A paste was formed in the same manner as in Example 12, except that 60% by weight of a glass powder containing 5 mol% was prepared. This paste was used as Example 17.

【0037】[実施例18]SiO2を20モル%と、
23を30モル%と、CaOを30モル%と、Li2
Oを10モル%と、MgF2を5モル%と、AlF3を5
モル%とを含むガラス粉末を60重量%用意したことを
除いて、実施例12と同様にしてペ−ストを形成した。
このペ−ストを実施例18とした。
Example 18 20 mol% of SiO 2
30 mol% of B 2 O 3 , 30 mol% of CaO, Li 2
10 mol% of O, 5 mol% of MgF 2 and 5 mol of AlF 3
A paste was formed in the same manner as in Example 12, except that 60% by weight of a glass powder containing 5% by mole was prepared.
This paste was used as Example 18.

【0038】[実施例19]SiO2を20モル%と、
23を30モル%と、CaOを25モル%と、Na2
Oを16モル%と、BaF2を3モル%と、MgF2を3
モル%と、AlF3を3モル%とを含むガラス粉末を6
0重量%用意したことを除いて、実施例12と同様にし
てペ−ストを形成した。このペ−ストを実施例19とし
た。
Example 19 20 mol% of SiO 2
30 mol% of B 2 O 3 , 25 mol% of CaO and Na 2
O and 16 mol%, and a BaF 2 3 mol%, the MgF 2 3
Glass powder containing 6 mol% and 3 mol% of AlF 3.
A paste was formed in the same manner as in Example 12, except that 0% by weight was prepared. This paste was used as Example 19.

【0039】[実施例20]SiO2を30モル%と、
23を25モル%と、SrOを15モル%と、K2
を15モル%と、Li2Oを6モル%と、CaF2を3モ
ル%と、SrF2を3モル%と、MgF2を3モル%とを
含むガラス粉末を60重量%用意したことを除いて、実
施例12と同様にしてペ−ストを形成した。このペ−ス
トを実施例20とした。
Example 20 30 mol% of SiO 2
25 mol% of B 2 O 3 , 15 mol% of SrO and K 2 O
60 mol% of a glass powder containing 15 mol%, 6 mol% of Li 2 O, 3 mol% of CaF 2 , 3 mol% of SrF 2 and 3 mol% of MgF 2. Except for this, a paste was formed in the same manner as in Example 12. This paste was used as Example 20.

【0040】[実施例21]SiO2を24モル%と、
23を36モル%と、BaOを20モル%と、Li2
Oを5モル%と、Na2Oを5モル%と、CaF2を10
モル%とを含むガラス粉末を50重量%用意し、セラミ
ックフィラ−粉末として平均粒径3.2μmのチタニア
粉末を50重量%用意し、両者を十分に混合した。上記
以外は、実施例1と同様にしてペ−ストを形成した。こ
のペ−ストを実施例21とした。
Example 21 24 mol% of SiO 2
36 mol% of B 2 O 3 , 20 mol% of BaO and Li 2
O, 5 mol%, Na 2 O, 5 mol%, and CaF 2
And 50% by weight of a titania powder having an average particle size of 3.2 μm was prepared as a ceramic filler powder, and both were sufficiently mixed. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1. This paste was used as Example 21.

【0041】[実施例22]SiO2を24モル%と、
23を36モル%と、BaOを20モル%と、Li2
Oを5モル%と、Na2Oを5モル%と、CaF2を10
モル%とを含むガラス粉末を70重量%用意し、セラミ
ックフィラ−粉末として平均粒径1.2μmのジルコン
粉末を45重量%用意し、両者を十分に混合した。上記
以外は、実施例1と同様にしてペ−ストを形成した。こ
のペ−ストを実施例22とした。
[Example 22] 24% by mole of SiO 2
36 mol% of B 2 O 3 , 20 mol% of BaO and Li 2
O, 5 mol%, Na 2 O, 5 mol%, and CaF 2
Glass powder containing 70% by weight was prepared, and 45% by weight of zircon powder having an average particle diameter of 1.2 μm was prepared as a ceramic filler powder, and both were sufficiently mixed. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1. This paste was used as Example 22.

【0042】[実施例23]SiO2を24モル%と、
23を36モル%と、BaOを20モル%と、Li2
Oを5モル%と、Na2Oを5モル%と、CaF2を10
モル%とを含むガラス粉末を80重量%用意し、セラミ
ックフィラ−粉末として平均粒径4.3μmのムライト
粉末を35重量%用意し、両者を十分に混合した。上記
以外は、実施例1と同様にしてペ−ストを形成した。こ
のペ−ストを実施例23とした。
Example 23: 24 mol% of SiO 2
36 mol% of B 2 O 3 , 20 mol% of BaO and Li 2
O, 5 mol%, Na 2 O, 5 mol%, and CaF 2
80% by weight of a glass powder containing 0.1% by mole and 35% by weight of a mullite powder having an average particle diameter of 4.3 μm as a ceramic filler powder, and both were sufficiently mixed. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1. This paste was used as Example 23.

【0043】[実施例24]SiO2を24モル%と、
23を36モル%と、BaOを10モル%と、Li2
Oを20モル%と、CaF2を10モル%とを含むガラ
ス粉末を70重量%用意し、セラミックフィラ−粉末と
して平均粒径3.7μmのスポジュ−メン粉末を45重
量%用意し、両者を十分に混合した。上記以外は、実施
例1と同様にしてペ−ストを形成した。このペ−ストを
実施例24とした。
[Example 24] 24 mol% of SiO 2
36 mol% of B 2 O 3 , 10 mol% of BaO and Li 2
70% by weight of glass powder containing 20 mol% of O and 10 mol% of CaF 2 was prepared, and 45% by weight of spodumene powder having an average particle size of 3.7 μm was prepared as a ceramic filler powder. Mix well. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1. This paste was designated as Example 24.

【0044】[実施例25]SiO2を24モル%と、
23を46モル%と、BaOを20モル%と、CaF
2を10モル%とを含むガラス粉末を80重量%用意
し、セラミックフィラ−粉末として平均粒径6.7μm
のコ−ディエライト粉末を25重量%用意し、両者を十
分に混合した。上記以外は、実施例1と同様にしてペ−
ストを形成した。このペ−ストを実施例25とした。
Example 25 24 mol% of SiO 2
46 mol% of B 2 O 3 , 20 mol% of BaO and CaF
80% by weight of a glass powder containing 10 mol% of 2 and a ceramic filler powder having an average particle size of 6.7 μm
Was prepared in an amount of 25% by weight, and both were sufficiently mixed. Except for the above, the same procedure as in Example 1 was carried out.
A strike was formed. This paste was designated as Example 25.

【0045】[実施例26]SiO2を24モル%と、
23を36モル%と、BaOを25モル%と、K2
を5モル%と、CaF2を10モル%とを含むガラス粉
末を80重量%用意し、セラミックフィラ−粉末として
平均粒径4.9μmのフォルステライト粉末を30重量
%用意し、両者を十分に混合した。上記以外は、実施例
1と同様にしてペ−ストを形成した。このペ−ストを実
施例26とした。
Example 26 24 mol% of SiO 2
36 mol% of B 2 O 3 , 25 mol% of BaO and K 2 O
80% by weight of a glass powder containing 5 mol% of CaF 2 and 10 mol% of CaF 2 , and 30% by weight of a forsterite powder having an average particle size of 4.9 μm as a ceramic filler powder. Mixed. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1. This paste was designated as Example 26.

【0046】[実施例27]SiO2を25モル%と、
23を30モル%と、BaOを30モル%と、Na2
Oを5モル%と、CaF2を10モル%とを含むガラス
粉末を75重量%用意し、セラミックフィラ−粉末とし
て平均粒径2.9μaのアノ−サイト粉末を30重量%
用意し、両者を十分に混合した。上記以外は、実施例1
と同様にしてペ−ストを形成した。このペ−ストを実施
例27とした。
Example 27 25% by mole of SiO 2
30 mol% of B 2 O 3 , 30 mol% of BaO and Na 2
75% by weight of glass powder containing 5 mol% of O and 10 mol% of CaF 2 was prepared, and 30% by weight of anosite powder having an average particle size of 2.9 μa as a ceramic filler powder.
Prepared and mixed well. Other than the above, Example 1
A paste was formed in the same manner as described above. This paste was designated as Example 27.

【0047】[実施例28]SiO2を25モル%と、
23を30モル%と、BaOを20モル%と、K2
を5モル%と、Li2Oを10モル%と、CaF2を10
モル%とを含むガラス粉末を60重量%用意し、セラミ
ックフィラ−粉末として平均粒径4.3μmのセルシア
ン粉末を20重量%用意し、両者を十分に混合した。上
記以外は、実施例1と同様にしてペ−ストを形成した。
このペ−ストを実施例28とした。
Example 28 25 mol% of SiO 2
30 mol% of B 2 O 3 , 20 mol% of BaO and K 2 O
5 mol%, Li 2 O 10 mol%, and CaF 2 10 mol%.
% By weight of glass powder, and 20% by weight of celsian powder having an average particle diameter of 4.3 μm as a ceramic filler powder, and both were sufficiently mixed. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1.
This paste was designated as Example 28.

【0048】[実施例29]SiO2を25モル%と、
23を15モル%と、BaOを50モル%と、CaF
2を10モル%とを含むガラス粉末を70重量%用意
し、セラミックフィラ−粉末として平均粒径3.2μm
のチタン酸アルミニウム粉末を45重量%用意し、両者
を十分に混合した。上記以外は、実施例1と同様にして
ペ−ストを形成した。このペ−ストを実施例29とし
た。
Example 29 25 mol% of SiO 2
15 mol% of B 2 O 3 , 50 mol% of BaO and CaF
70% by weight of a glass powder containing 10 mol% of 2 as a ceramic filler powder having an average particle size of 3.2 μm
Of aluminum titanate powder was prepared at 45% by weight, and both were sufficiently mixed. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1. This paste was used as Example 29.

【0049】次いで、比較のために、いずれかの成分量
が本発明の範囲からずれている例を、比較例として以下
に説明する。 [比較例1]SiO2を20モル%と、B23を20モ
ル%と、CaOを45モル%と、CaF2を15モル%
とを含むガラス粉末を作製しようとしたが、ガラス化で
出来なかった。
Next, for comparison, an example in which the amount of any component is out of the range of the present invention will be described below as a comparative example. Comparative Example 1 20 mol% of SiO 2 , 20 mol% of B 2 O 3 , 45 mol% of CaO, and 15 mol% of CaF 2
An attempt was made to produce a glass powder containing

【0050】[比較例2]SiO2を35モル%と、B2
3を47モル%と、SrOを8モル%と、CaF2を1
0モル%とを含むガラス粉末を70重量%用意し、セラ
ミックフィラ−粉末として平均粒径4.3μmのジルコ
ン粉末を30重量%用意し、両者を十分に混合した。上
記以外は、実施例1と同様にしてペ−ストを形成した。
このペ−ストを比較例2とした。
Comparative Example 2 35 mol% of SiO 2 and B 2
47 mol% of O 3 , 8 mol% of SrO, and 1 mol of CaF 2
70% by weight of a glass powder containing 0% by mole and 30% by weight of a zircon powder having an average particle diameter of 4.3 μm as a ceramic filler powder were sufficiently mixed. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1.
This paste was used as Comparative Example 2.

【0051】[比較例3]SiO2を10モル%と、B2
3を40モル%と、MgOを5モル%と、Li2Oを2
5モル%と、CaF2を20モル%とを含むガラス粉末
を70重量%用意し、セラミックフィラ−粉末として平
均粒径4.3μmのβユ−クリプタイト粉末を10重量
%用意し、両者を十分に混合した。上記以外は、実施例
1と同様にしてペ−ストを形成した。このペ−ストを比
較例3とした。
Comparative Example 3 10 mol% of SiO 2 and B 2
40 mol% of O 3 , 5 mol% of MgO and 2 mol of Li 2 O
70% by weight of a glass powder containing 5 mol% and 20 mol% of CaF 2 was prepared, and 10% by weight of β-eucryptite powder having an average particle diameter of 4.3 μm was prepared as a ceramic filler powder. Was mixed. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1. This paste was used as Comparative Example 3.

【0052】[比較例4]SiO2を40モル%と、B2
3を30モル%と、BaOを20モル%と、Na2Oを
4モル%と、MgF2を6モル%とを含むガラス粉末を
70重量%用意し、セラミックフィラ−粉末として平均
粒径4.3μmのβスポジュ−メン粉末を20重量%用
意し、両者を十分に混合した。上記以外は、実施例1と
同様にしてペ−ストを形成した。このペ−ストを比較例
4とした。
Comparative Example 4 40 mol% of SiO 2 and B 2
A glass powder containing 30 mol% of O 3 , 20 mol% of BaO, 4 mol% of Na 2 O, and 6 mol% of MgF 2 was prepared in an amount of 70% by weight, and the average particle size was determined as a ceramic filler powder. 20% by weight of 4.3 μm β-spodumene powder was prepared, and both were sufficiently mixed. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1. This paste was used as Comparative Example 4.

【0053】[比較例5]SiO2を25モル%と、B2
3を10モル%と、BaOを40モル%と、K2Oを5
モル%と、SrF2を20モル%とを含むガラス粉末を
作製しようとしたが、ガラス化出来なかった。
Comparative Example 5 25 mol% of SiO 2 and B 2
O 3 is 10 mol%, BaO is 40 mol%, and K 2 O is 5 mol%.
An attempt was made to prepare a glass powder containing 20 mol% of SrF 2 and 20 mol% of SrF 2 , but it could not be vitrified.

【0054】[比較例6]SiO2を25モル%と、B2
3を50モル%と、BaOを5モル%と、Li2Oを8
モル%と、CaF2を12モル%とを含むガラス粉末を
70重量%用意し、セラミックフィラ−粉末として平均
粒径4.3μmのアルミナ粉末を20重量%用意し、両
者を十分に混合した。上記以外は、実施例1と同様にし
てペ−ストを形成した。このペ−ストを比較例6とし
た。
Comparative Example 6 25 mol% of SiO 2 and B 2
50 mol% of O 3 , 5 mol% of BaO and 8 mol of Li 2 O
70% by weight of a glass powder containing mol% and 12% by mol of CaF 2 was prepared, and 20% by weight of an alumina powder having an average particle diameter of 4.3 μm was prepared as a ceramic filler powder, and both were sufficiently mixed. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1. This paste was used as Comparative Example 6.

【0055】[比較例7]SiO2を10モル%と、B2
3を45モル%と、BaOを20モル%と、K2Oを5
モル%と、Na2Oを6モル%と、Li2Oを4モル%
と、AlF3を10モル%とを含むガラス粉末を70重
量%用意し、セラミックフィラ−粉末として平均粒径
4.3μmのジルコン粉末を10重量%用意し、両者を
十分に混合した。上記以外は、実施例1と同様にしてペ
−ストを形成した。このペ−ストを比較例7とした。
Comparative Example 7 10 mol% of SiO 2 and B 2
45 mol% of O 3 , 20 mol% of BaO and 5 mol of K 2 O
Mole%, and 6 mol% of Na 2 O, the Li 2 O 4 mol%
And 70% by weight of a glass powder containing AlF 3 and 10 mol% of AlF 3, and 10% by weight of a zircon powder having an average particle diameter of 4.3 μm as a ceramic filler powder, and both were sufficiently mixed. Except for the above, a paste was formed in the same manner as in Example 1. This paste was used as Comparative Example 7.

【0056】[比較例8]SiO2を25モル%と、B2
3を25モル%と、BaOを15モル%と、CaF2
35モル%とを含むガラス粉末を作製しようとしたが、
ガラス化出来なかった。
Comparative Example 8 25 mol% of SiO 2 and B 2
An attempt was made to produce a glass powder containing 25 mol% of O 3 , 15 mol% of BaO, and 35 mol% of CaF 2 .
Could not be vitrified.

【0057】[比較試験および評価]実施例1〜29お
よび比較例2〜4、6〜7のペ−ストを縦×横が夫々2
5mm×25mmのパタ−ンにガラス基板上に印刷し、
150℃で10分間乾燥後、種々の焼成温度で焼成し、
ガラス基板との密着性が良好で最も低い焼成温度を、そ
のガラス組成物およびセラミックフィラ−のペ−ストの
焼成温度とした。また5mm×5mm×20mmのキャ
ビティに上記ペ−ストを流し込み、上記焼成温度にて焼
成し、焼成後に形成されたガラス板の熱膨張係数(×1
-7/℃)および反射率(%)を夫々測定した。上記反
射率はガラス基板上にて焼成されたガラス/セラミック
膜の可視光(380〜800nm)の反射率を測定し
た。これらの結果を表1〜表3に示す。
[Comparative Tests and Evaluations] The pastes of Examples 1 to 29 and Comparative Examples 2 to 4 and 6 to 7 were each 2 inches in length and width.
Print on a glass substrate in a pattern of 5mm x 25mm,
After drying at 150 ° C. for 10 minutes, firing at various firing temperatures,
The firing temperature at which the adhesion to the glass substrate was good and the lowest was determined as the firing temperature of the paste of the glass composition and ceramic filler. The paste was poured into a cavity of 5 mm × 5 mm × 20 mm, fired at the firing temperature, and the thermal expansion coefficient of the glass plate formed after firing (× 1
0 −7 / ° C.) and reflectance (%) were measured. The reflectance was measured by measuring the reflectance of a glass / ceramic film fired on a glass substrate to visible light (380 to 800 nm). Tables 1 to 3 show these results.

【0058】[0058]

【表1】 [Table 1]

【0059】[0059]

【表2】 [Table 2]

【0060】[0060]

【表3】 [Table 3]

【0061】表1〜表3から明らかなように、実施例1
〜29では、焼成温度が600℃未満と低かったのに対
し、比較例2〜4、比較例6および7では、焼成温度が
600℃以上と高く、比較例1、5および8では、所定
のガラス成分にてガラス化が出来なかった。
As is clear from Tables 1 to 3, Example 1
In Comparative Examples 2 to 4, Comparative Examples 6 and 7, the firing temperature was as high as 600 ° C. or higher, whereas in Comparative Examples 1, 5, and 8, the firing temperature was lower than 600 ° C. Vitrification could not be performed with the glass component.

【0062】また実施例1〜29では、熱膨張係数が
(80〜89)×10-7/℃であったのに対し、比較例
2〜4、比較例6および7では、熱膨張係数が(91〜
105)×10-7/℃であった。実施例1〜29の熱膨
張係数はPDPのガラス基板(ソ−ダ石灰ガラス)の熱
膨張係数が(85×10-7/℃)と概略同一であった。
更に実施例1〜29では、反射率が74〜81%に対し
て、比較例2〜4、6〜7では、反射率が58〜69%
であった。
In Examples 1 to 29, the coefficient of thermal expansion was (80 to 89) × 10 −7 / ° C., whereas in Comparative Examples 2 to 4, and Comparative Examples 6 and 7, the coefficient of thermal expansion was (91-
105) × 10 −7 / ° C. The thermal expansion coefficients of Examples 1 to 29 were substantially the same as the thermal expansion coefficient of the glass substrate (soda-lime glass) of PDP (85 × 10 −7 / ° C.).
Further, in Examples 1 to 29, the reflectance is 74 to 81%, whereas in Comparative Examples 2 to 4 and 6 to 7, the reflectance is 58 to 69%.
Met.

【0063】[0063]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、ガ
ラス組成物のガラス成分として、SiO20〜40モル
%と、B2310〜60モル%と、BaO、SrO、C
aOおよびMgOからなる群より選ばれた1種または2
種以上の酸化物10〜50モル%と、BaF2、Ca
2、SrF2、MgF2およびAlF3からなる群より選
ばれた1種または2種以上のフッ化物0〜10モル%と
Na2O、K2O、Li2Oからなる群より選ばれた1種
または2種以上のアルカリ酸化物5〜50モル%とを含
むので、軟化点が低くなって、焼成温度も低くなる。ま
た上記ガラス成分に密度の大きいPb成分を含まないた
め、重量を軽減でき、環境を汚染せず、使用中における
放電特性の低下もない。 また上記ガラス組成物と;ジルコン、アルミナ、チタニ
ア、ムライト、βユ−クリプタイト、コ−ディエライ
ト、スポジュ−メン、アノ−サイト、セルシアン、フォ
ルステライトおよびチタン酸アルミニウム等からなる群
より選ばれた1種または2種以上のセラミックフィラ−
を含む混合体をペ−ストとし、このペ−ストを焼成して
絶縁体を形成すれば、ガラスの軟化点が低いので、焼成
温度が低い絶縁体を得ることができる。またセラミック
フィラ−の添加によって、白色の反射率の高い絶縁体を
得ることができる。また上記絶縁体をFPD用隔壁また
はFPD用絶縁体層に適用すれば、上記ガラス組成物の
焼成温度がガラス基板の軟化点より100℃以上低くな
り、上記隔壁または絶縁層の熱膨張係数がガラス基板の
熱膨張係数と概略同一になるので、ガラス基板に反り等
が生じることはない。電気信号が近隣の配線に漏洩する
ことはなく、画像にクロスト−クが発生しない。更にガ
ラス成分へのセラミックフィラ−成分の添加量は比較的
少量で済むので、焼成後の強度が高い。
As described above, according to the present invention, as the glass components of the glass composition, SiO 2 0 to 40 mol%, B 2 O 3 10 to 60 mol%, BaO, SrO, C
one or two selected from the group consisting of aO and MgO
10-50 mol% of oxides of at least one species, BaF 2 , Ca
One or more fluorides selected from the group consisting of F 2 , SrF 2 , MgF 2 and AlF 3 are selected from the group consisting of 0 to 10 mol% and Na 2 O, K 2 O, and Li 2 O. Since the composition contains 5 to 50 mol% of one or more alkali oxides, the softening point is lowered and the firing temperature is also lowered. Further, since the glass component does not contain a high-density Pb component, the weight can be reduced, the environment is not polluted, and the discharge characteristics do not deteriorate during use. And 1 selected from the group consisting of the above glass composition and zircon, alumina, titania, mullite, β-eucryptite, cordierite, spodumene, anorthite, celsian, forsterite, aluminum titanate and the like. Seed or two or more ceramic fillers
When a paste containing a mixture of the above is used and the paste is fired to form an insulator, an insulator having a low firing temperature can be obtained because the softening point of glass is low. Further, by adding a ceramic filler, a white insulator having a high reflectance can be obtained. Further, when the insulator is applied to a partition for FPD or an insulator layer for FPD, the firing temperature of the glass composition becomes lower than the softening point of the glass substrate by 100 ° C. or more, and the coefficient of thermal expansion of the partition or the insulating layer becomes glass. Since the thermal expansion coefficient is substantially the same as the substrate, the glass substrate does not warp or the like. The electric signal does not leak to the neighboring wiring, and no crosstalk occurs in the image. Further, since the amount of the ceramic filler component added to the glass component is relatively small, the strength after firing is high.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態のセラミックキャピラリ
リブの形成状態を示す概略斜視図。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a state of forming a ceramic capillary rib according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のA−A線断面におけるセラミックキャピ
ラリリブを乾燥、加熱及び焼成することにより得たセラ
ミックリブを示す断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a ceramic rib obtained by drying, heating, and firing the ceramic capillary rib in the cross section along the line AA in FIG. 1;

【図3】本発明の第2実施形態のセラミックキャピラリ
層付きリブの形成状態を示す図1に対応する概略斜視
図。
FIG. 3 is a schematic perspective view corresponding to FIG. 1 and showing a state of forming a rib with a ceramic capillary layer according to a second embodiment of the present invention.

【図4】図3のB−B線断面におけるセラミックキャピ
ラリ層付きリブを乾燥、加熱及び焼成することにより得
た絶縁層付セラミックリブを示す図2に対応する断面
図。
4 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 showing a ceramic rib with an insulating layer obtained by drying, heating, and firing the rib with the ceramic capillary layer in a cross section taken along line BB of FIG. 3;

【図5】本発明におけるPDP隔壁の形成を工程順に示
す概略断面図。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the formation of a PDP partition wall in the present invention in the order of steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,30 ガラス基板 11 セラミックペ−スト膜 12 ブレ−ド 12a ブレ−ド12のエッジ 12b くし歯 13,23,24 セラミックキャピラリリブ 14,25 セラミックリブ(隔壁) 21 セラミックキャピラリ層 22 絶縁層 41 パタ−ン形成層 42 感光性フィルム 43 マスク 44 隔壁 46 レジスト層 47 セル 48 グリ−ン隔壁 10, 30 Glass substrate 11 Ceramic paste film 12 Blade 12a Blade 12 edge 12b Comb teeth 13, 23, 24 Ceramic capillary rib 14, 25 Ceramic rib (partition) 21 Ceramic capillary layer 22 Insulating layer 41 Pattern Green forming layer 42 photosensitive film 43 mask 44 partition wall 46 resist layer 47 cell 48 green partition wall

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黒光 祥郎 埼玉県大宮市北袋町1丁目297番地 三菱 マテリアル株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 4G030 AA02 AA07 AA08 AA16 AA17 AA36 AA37 BA12 GA14 GA17 GA23 HA04 HA09 HA16 HA18 HA25 PA22 4G062 AA08 AA09 AA15 BB05 BB08 CC10 DA01 DA02 DA03 DA04 DA05 DB01 DC04 DC05 DC06 DD01 DE01 DF01 EA01 EA10 EB01 EC01 ED01 ED02 ED03 ED04 ED05 EE01 EE02 EE03 EE04 EE05 EF01 EF02 EF03 EF04 EF05 EG01 EG02 EG03 EG04 EG05 FA01 FA10 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 GE02 GE03 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM07 NN26 NN30 NN32 PP01 PP03 PP04 PP05 PP06 PP09 PP13 PP14 5C040 GD07 GF18 KA10 KA11 KA14 KA17 KB02 KB03 KB19 KB28 MA10 MA17 MA20 MA23  ──────────────────────────────────────────────────の Continuing from the front page (72) Inventor Shiro Kuromitsu 1-297 Kitabukuro-cho, Omiya-shi, Saitama F-term in Mitsubishi Materials Research Laboratory 4G030 AA02 AA07 AA08 AA16 AA17 AA36 AA37 BA12 GA14 GA17 GA23 HA04 HA09 HA16 HA18 HA25 PA22 4G062 AA08 AA09 AA15 BB05 BB08 CC10 DA01 DA02 DA03 DA04 DA05 DB01 DC04 DC05 DC06 DD01 DE01 DF01 EA01 EA10 EB01 EC01 ED01 ED02 ED03 FA ED04 ED05 EE01 EE02 EE03 EF04 EG04 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 GE02 GE03 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK13 PP03 NN03 PP03 GD07 GF18 KA10 KA11 KA14 KA17 KB02 KB03 KB19 KB28 MA10 MA17 MA20 MA23

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ガラス成分として、SiO20〜40モル
%と、B2310〜60モル%と、MgO、CaO、S
rO及びBaOからなる群より選ばれた1種または2種
以上のアルカリ土類酸化物10〜50モル%と、Li2
O、Na2O、及びK2Oからなる群より選ばれた1種ま
たは2種以上の5〜50モル%と、BaF2、CaF2
SrF2、MgF2およびAlF3からなる群より選ばれ
た1種または2種以上のフッ化物0〜10モル%とを含
むことを特徴とするガラス組成物。
1. A glass component comprising 0 to 40 mol% of SiO 2 , 10 to 60 mol% of B 2 O 3 , MgO, CaO, S
10-50 mol% of one or more alkaline earth oxides selected from the group consisting of rO and BaO, and Li 2
One or more selected from the group consisting of O, Na 2 O, and K 2 O, 5 to 50 mol%, and BaF 2 , CaF 2 ,
SrF 2, MgF 2 and one selected from the group consisting of AlF 3 or glass composition characterized by containing a 0 to 10 mol% of two or more of fluoride.
【請求項2】セラミックフィラ−物として、ジルコン、
アルミナ、チタニア、コ−ディエライト、ムライト、β
−ユ−クリプタイト、スポジュ−メン、アノ−サイト、
セルシアン、フォルステライト、チタン酸アルミニウム
からなる群より選ばれた1種または2種以上のセラミッ
クフィラ−物と請求項1記載のガラス組成物とを含むこ
とを特徴とするガラス組成物とセラミックフィラ−物と
の混合体。
2. A ceramic filler material comprising zircon,
Alumina, titania, cordierite, mullite, β
-Eucryptite, spodumene, anorthite,
A glass composition and a ceramic filler comprising at least one ceramic filler selected from the group consisting of celsian, forsterite, and aluminum titanate, and the glass composition according to claim 1. Mixture with things.
【請求項3】請求項1記載のガラス組成物、もしくは請
求項2記載のガラス組成物とセラミックフィラ−物との
混合体と、高分子樹脂と溶剤とからなることを特徴とす
るペ−スト。
3. A paste comprising the glass composition according to claim 1 or a mixture of the glass composition according to claim 2 and a ceramic filler, a polymer resin and a solvent. .
【請求項4】請求項1記載のガラス組成物、もしくは請
求項2記載のガラス組成物とセラミックフィラ−物との
混合体と、高分子樹脂と溶剤とからなることを特徴とす
るグリ−ンシ−ト。
4. A glass comprising a glass composition according to claim 1 or a mixture of the glass composition according to claim 2 and a ceramic filler, a polymer resin and a solvent. -G.
【請求項5】請求項1記載のガラス組成物、もしくは請
求項2記載のガラス組成物とセラミックフィラ−物との
混合体を焼成して形成されたことを特徴とする絶縁体。
5. An insulator formed by firing the glass composition according to claim 1 or a mixture of the glass composition according to claim 2 and a ceramic filler.
【請求項6】請求項1記載のガラス組成物、もしくは請
求項2記載のガラス組成物とセラミックフィラ−物との
混合体を焼成して形成されたことを特徴とするPDP用
隔壁。
6. A partition wall for a PDP formed by firing the glass composition according to claim 1 or a mixture of the glass composition according to claim 2 and a ceramic filler.
【請求項7】請求項1記載のガラス組成物、もしくは請
求項2記載のガラス組成物とセラミックフィラ−物から
なることを特徴とするPDP。
7. A PDP comprising the glass composition according to claim 1 or the glass composition according to claim 2 and a ceramic filler.
JP11071175A 1999-03-17 1999-03-17 Glass composition, paste using the same, green sheet, electric insulator, bulkhead for pdp and pdp Withdrawn JP2000264677A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11071175A JP2000264677A (en) 1999-03-17 1999-03-17 Glass composition, paste using the same, green sheet, electric insulator, bulkhead for pdp and pdp

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11071175A JP2000264677A (en) 1999-03-17 1999-03-17 Glass composition, paste using the same, green sheet, electric insulator, bulkhead for pdp and pdp

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000264677A true JP2000264677A (en) 2000-09-26

Family

ID=13453077

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11071175A Withdrawn JP2000264677A (en) 1999-03-17 1999-03-17 Glass composition, paste using the same, green sheet, electric insulator, bulkhead for pdp and pdp

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000264677A (en)

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100438916B1 (en) * 2001-12-04 2004-07-03 엘지전자 주식회사 Barrier rib material of Plasma Display Panel and Method of Fabricating Barrier Rib
KR100444520B1 (en) * 2002-02-01 2004-08-16 엘지전자 주식회사 Barrier Rib Material of Plasma Display Panel and Method of Fabricating Barrier Rib
JP2006265033A (en) * 2005-03-24 2006-10-05 Tdk Corp Low-temperature fired substrate material and multilayer wiring board using the same
KR100752057B1 (en) * 2005-02-16 2007-08-27 대주전자재료 주식회사 Glass composition for forming barrier ribs of plasma display panel and formation of barrier ribs using same
KR100761254B1 (en) * 2001-03-07 2007-09-28 엘지전자 주식회사 Top plate structure of plasma display panel device and fabricating method thereof
KR100782552B1 (en) 2006-07-07 2007-12-07 대주전자재료 주식회사 Alkali free photosensitive glass powder and paste composition
US7307032B2 (en) * 2004-06-28 2007-12-11 Tdk Corporation Low-temperature co-fired ceramics material and multilayer wiring board using the same
KR100790682B1 (en) 2006-09-14 2008-01-02 삼성전기주식회사 Glass compositions for low temperature sintering, glass frit, dielectric compositions and multilayer ceramic capacitor using the same
KR100851522B1 (en) 2006-12-28 2008-08-11 대주전자재료 주식회사 Pb-FREE BARRIER RIB GLASS COMPOSITION USING ETCHING METHOD FOR PLASMA DISPLAY PANEL
JP2010097790A (en) * 2008-10-16 2010-04-30 Panasonic Corp Plasma display panel
JP2010111551A (en) * 2008-11-08 2010-05-20 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for manufacturing aluminum titanate-based ceramic
JP2011509232A (en) * 2008-01-11 2011-03-24 ツィンファ ユニバーシティ Low temperature co-fired ceramic powder and special raw materials and their use
JP2017193721A (en) * 2012-09-28 2017-10-26 積水化学工業株式会社 Inorganic fine particle dispersion paste composition, inorganic fine particle dispersion sheet, and method for producing inorganic fine particle dispersion sheet
JP2018058716A (en) * 2016-10-04 2018-04-12 日本電気硝子株式会社 Borosilicate glass, composite powder material, and composite powder material paste
US10163579B2 (en) * 2016-07-29 2018-12-25 Kongju National University Industry-University Cooperation Foundation Glass materials for large scale dye-sensitized solar cell sealing and pastes comprising the same
WO2020047662A1 (en) * 2018-09-05 2020-03-12 Ir Scientific Inc. Glass composition
CN112500172A (en) * 2020-05-11 2021-03-16 深圳前海发维新材料科技有限公司 Glass composite material and production method and application thereof
WO2021179071A1 (en) * 2020-03-09 2021-09-16 Ir Scientific Inc. Glass composition
WO2024050660A1 (en) * 2022-09-05 2024-03-14 中国科学院深圳先进技术研究院 Glass/ceramic composite material for low-temperature co-fired ceramic, preparation method therefor and use thereof

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100761254B1 (en) * 2001-03-07 2007-09-28 엘지전자 주식회사 Top plate structure of plasma display panel device and fabricating method thereof
KR100438916B1 (en) * 2001-12-04 2004-07-03 엘지전자 주식회사 Barrier rib material of Plasma Display Panel and Method of Fabricating Barrier Rib
KR100444520B1 (en) * 2002-02-01 2004-08-16 엘지전자 주식회사 Barrier Rib Material of Plasma Display Panel and Method of Fabricating Barrier Rib
US7307032B2 (en) * 2004-06-28 2007-12-11 Tdk Corporation Low-temperature co-fired ceramics material and multilayer wiring board using the same
KR100752057B1 (en) * 2005-02-16 2007-08-27 대주전자재료 주식회사 Glass composition for forming barrier ribs of plasma display panel and formation of barrier ribs using same
JP4655715B2 (en) * 2005-03-24 2011-03-23 Tdk株式会社 Low temperature fired substrate material and multilayer wiring board using the same
JP2006265033A (en) * 2005-03-24 2006-10-05 Tdk Corp Low-temperature fired substrate material and multilayer wiring board using the same
KR100782552B1 (en) 2006-07-07 2007-12-07 대주전자재료 주식회사 Alkali free photosensitive glass powder and paste composition
KR100790682B1 (en) 2006-09-14 2008-01-02 삼성전기주식회사 Glass compositions for low temperature sintering, glass frit, dielectric compositions and multilayer ceramic capacitor using the same
KR100851522B1 (en) 2006-12-28 2008-08-11 대주전자재료 주식회사 Pb-FREE BARRIER RIB GLASS COMPOSITION USING ETCHING METHOD FOR PLASMA DISPLAY PANEL
JP2011509232A (en) * 2008-01-11 2011-03-24 ツィンファ ユニバーシティ Low temperature co-fired ceramic powder and special raw materials and their use
JP2010097790A (en) * 2008-10-16 2010-04-30 Panasonic Corp Plasma display panel
JP2010111551A (en) * 2008-11-08 2010-05-20 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for manufacturing aluminum titanate-based ceramic
JP2017193721A (en) * 2012-09-28 2017-10-26 積水化学工業株式会社 Inorganic fine particle dispersion paste composition, inorganic fine particle dispersion sheet, and method for producing inorganic fine particle dispersion sheet
US10163579B2 (en) * 2016-07-29 2018-12-25 Kongju National University Industry-University Cooperation Foundation Glass materials for large scale dye-sensitized solar cell sealing and pastes comprising the same
JP2018058716A (en) * 2016-10-04 2018-04-12 日本電気硝子株式会社 Borosilicate glass, composite powder material, and composite powder material paste
WO2018066295A1 (en) * 2016-10-04 2018-04-12 日本電気硝子株式会社 Borosilicate glass, composite powder material, and composite powder material paste
WO2020047662A1 (en) * 2018-09-05 2020-03-12 Ir Scientific Inc. Glass composition
CN113165951A (en) * 2018-09-05 2021-07-23 艾尔科学股份有限公司 Glass composition
US20210259933A1 (en) * 2018-09-05 2021-08-26 Ir Scientific Inc. Glass composition
WO2021179071A1 (en) * 2020-03-09 2021-09-16 Ir Scientific Inc. Glass composition
CN112500172A (en) * 2020-05-11 2021-03-16 深圳前海发维新材料科技有限公司 Glass composite material and production method and application thereof
CN112500172B (en) * 2020-05-11 2021-10-01 深圳前海发维新材料科技有限公司 Application of glass composite material with high softening point, low thermal expansion coefficient, high wear resistance and low thermal conductivity in engine gas turbine
WO2024050660A1 (en) * 2022-09-05 2024-03-14 中国科学院深圳先进技术研究院 Glass/ceramic composite material for low-temperature co-fired ceramic, preparation method therefor and use thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3827987B2 (en) Lead-free glass frit
JP2000264677A (en) Glass composition, paste using the same, green sheet, electric insulator, bulkhead for pdp and pdp
JP2001139345A (en) Leadless low melting point glass and glass frit
JP2005041734A (en) Glass for dielectric formation and dielectric formation material for plasma display panel
KR20080073660A (en) Lead-free acid-resistant glass composition and glass paste comprised of the same
JP4061792B2 (en) Lead-free low melting glass and glass frit
JP4478818B2 (en) Low melting point glass composition
JP3941321B2 (en) Glass composition and mixture thereof, and paste, green sheet, insulator, dielectric, thick film and FPD using the same
JP4799043B2 (en) Low melting point glass composition
JP2001163635A (en) Lead-free low melting point glass for formation of barrier rib and glass ceramic composition
JP2001302279A (en) Lead-free and low-melting point glass and glass frit
JP2000095544A (en) Glass composition, paste using the same, insulator, partition wall for fpd and insulating layer
JP2000226231A (en) Leadless low-melting glass composition
KR20090040405A (en) Dielectric material for plasma display panel
JP2003192376A (en) Low-melting glass, glass ceramic composition and plasma display panel back substrate
JP2001130926A (en) Glass composition for forming partition wall of plasma display panel
JP2000226232A (en) Leadless low-melting glass composition
JP2000053443A (en) Lead-free glass composition and composition for forming plasma display panel partition
KR20090083328A (en) Partition wall forming material for plasma display panels and glass composition for partition wall forming material
JP2002362942A (en) Glass frit and method of coating aluminum electrode
JP2001180972A (en) Lead free glass with low melting point
JP2000128567A (en) Material for plasma display panel
JP2002128541A (en) Glass composition and its mixture and its paste, green sheet, insulator, dielectric substance, thick film and fpd
JP2005022962A (en) Glass composition, mixture, paste, green sheet and plasma display panel
JP2002160940A (en) Glass for forming partition

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20060606