JP2004091233A5 - - Google Patents
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- 第1原料として金属ハロゲン化物、第2原料としてチオアミド化合物を用い、前記金属ハロゲン化物および前記チオアミド化合物を気化させ、375〜425℃に加熱した成膜部で反応させることにより、基材上に金属硫化物の薄膜を形成することを特徴とする金属硫化物薄膜の製造方法。
- 金属ハロゲン化物およびチオアミド化合物を気化させ、成膜部で加熱して反応させることにより、チオアミド化合物からトリアジン化合物を生成すると同時に、基材上に金属硫化物の薄膜を形成することを特徴とする金属硫化物薄膜の製造方法。
- 375〜425℃に加熱した成膜部で反応させることにより、金属硫化物の薄膜を形成することを特徴とする請求項2に記載の金属硫化物薄膜の製造方法。
- 前記チオアミド化合物がチオアセトアミドであり、加熱下において前記チオアセトアミドからトリメチルトリアジンが生成し、その過程で単体の硫黄が同時に生成することを特徴とする請求項2または3に記載の金属硫化物薄膜の製造方法。
- 前記金属ハロゲン化物がハロゲン化鉄であり、前記金属硫化物がパイライトFeS 2 である請求項1〜5のいずれか1に記載の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれか1に記載の方法により製造されたことを特徴とする金属硫化物薄膜。
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