JP2004091233A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2004091233A5
JP2004091233A5 JP2002252450A JP2002252450A JP2004091233A5 JP 2004091233 A5 JP2004091233 A5 JP 2004091233A5 JP 2002252450 A JP2002252450 A JP 2002252450A JP 2002252450 A JP2002252450 A JP 2002252450A JP 2004091233 A5 JP2004091233 A5 JP 2004091233A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
metal
sulfide thin
metal sulfide
producing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002252450A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4189799B2 (ja
JP2004091233A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2002252450A external-priority patent/JP4189799B2/ja
Priority to JP2002252450A priority Critical patent/JP4189799B2/ja
Priority to DE10394037T priority patent/DE10394037B4/de
Priority to PCT/JP2003/010814 priority patent/WO2004020688A1/ja
Priority to AU2003261740A priority patent/AU2003261740A1/en
Priority to US10/525,443 priority patent/US8337952B2/en
Publication of JP2004091233A publication Critical patent/JP2004091233A/ja
Publication of JP2004091233A5 publication Critical patent/JP2004091233A5/ja
Publication of JP4189799B2 publication Critical patent/JP4189799B2/ja
Application granted granted Critical
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Claims (7)

  1. 第1原料として金属ハロゲン化物、第2原料としてチオアミド化合物を用い、前記金属ハロゲン化物および前記チオアミド化合物を気化させ、375〜425℃に加熱した成膜部で反応させることにより、基材上に金属硫化物の薄膜を形成することを特徴とする金属硫化物薄膜の製造方法。
  2. 金属ハロゲン化物およびチオアミド化合物を気化させ、成膜部で加熱して反応させることにより、チオアミド化合物からトリアジン化合物を生成すると同時に、基材上に金属硫化物の薄膜を形成することを特徴とする金属硫化物薄膜の製造方法。
  3. 375〜425℃に加熱した成膜部で反応させることにより、金属硫化物の薄膜を形成することを特徴とする請求項2に記載の金属硫化物薄膜の製造方法。
  4. 前記チオアミド化合物がチオアセトアミドであり、加熱下において前記チオアセトアミドからトリメチルトリアジンが生成し、その過程で単体の硫黄が同時に生成することを特徴とする請求項2または3に記載の金属硫化物薄膜の製造方法。
  5. 下式:
    Figure 2004091233
    の反応を起こさせることにより、硫化鉄の薄膜を形成することを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の硫化鉄薄膜の製造方法。
  6. 前記金属ハロゲン化物がハロゲン化鉄であり、前記金属硫化物がパイライトFeS 2 である請求項1〜5のいずれか1に記載の製造方法。
  7. 請求項1〜6のいずれか1に記載の方法により製造されたことを特徴とする金属硫化物薄膜。
JP2002252450A 2002-08-30 2002-08-30 金属硫化物薄膜およびその製造方法 Expired - Fee Related JP4189799B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002252450A JP4189799B2 (ja) 2002-08-30 2002-08-30 金属硫化物薄膜およびその製造方法
US10/525,443 US8337952B2 (en) 2002-08-30 2003-08-27 Metal sulfide thin film and method for production thereof
PCT/JP2003/010814 WO2004020688A1 (ja) 2002-08-30 2003-08-27 金属硫化物薄膜およびその製造方法
AU2003261740A AU2003261740A1 (en) 2002-08-30 2003-08-27 Metal sulfide thin film and method for production thereof
DE10394037T DE10394037B4 (de) 2002-08-30 2003-08-27 Verfahren zur Herstellung einer Metallsulfidschicht

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002252450A JP4189799B2 (ja) 2002-08-30 2002-08-30 金属硫化物薄膜およびその製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2004091233A JP2004091233A (ja) 2004-03-25
JP2004091233A5 true JP2004091233A5 (ja) 2005-10-20
JP4189799B2 JP4189799B2 (ja) 2008-12-03

Family

ID=31972746

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002252450A Expired - Fee Related JP4189799B2 (ja) 2002-08-30 2002-08-30 金属硫化物薄膜およびその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8337952B2 (ja)
JP (1) JP4189799B2 (ja)
AU (1) AU2003261740A1 (ja)
DE (1) DE10394037B4 (ja)
WO (1) WO2004020688A1 (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2007074545A1 (ja) * 2005-12-27 2009-06-04 株式会社ユーテック Cvd装置およびその薄膜形成方法
US8551363B2 (en) 2008-02-06 2013-10-08 National University Corporation Kumamoto University Method of producing group II-VI compound semiconductor, method of producing group II-VI compound semiconductor phosphor, and hexagonal group II-VI compound semiconductor
US20100159135A1 (en) * 2008-12-19 2010-06-24 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Process for in situ generation of hydrogen sulfide or hydrogen selenide gas using a solid precursor
CN102424429B (zh) * 2011-08-25 2013-06-26 重庆大学 用天然硫铁矿制备硫化铁薄膜的方法
US10355148B2 (en) * 2014-02-10 2019-07-16 The University Of Toledo Iron pyrite nanocrystal film as a copper-free back contact for polycrystalline CdTe thin film solar cells
CN103872186B (zh) * 2014-03-19 2016-05-11 浙江大学 FeS2薄膜的制备方法
CN103824902B (zh) * 2014-03-19 2016-05-11 浙江大学 一种FeS2薄膜及其制备方法
CN105548274A (zh) * 2015-12-09 2016-05-04 天津大学 原位合成具有二级孔洞结构的氧化镉纳米气敏元件
CN113265612B (zh) * 2021-05-10 2023-03-21 海信视像科技股份有限公司 低温渗硫方法以及渗硫剂

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08199333A (ja) 1995-01-27 1996-08-06 Honda Motor Co Ltd 硫化鉄薄膜の製造方法
JPH08218161A (ja) 1995-02-09 1996-08-27 Honda Motor Co Ltd 硫化鉄薄膜の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004091233A5 (ja)
TWI732114B (zh) 三唑矽烷化合物、該化合物之合成方法及其利用
CA2570216A1 (en) Nickel powder and production method therefor
JP2008505224A5 (ja)
JP5017954B2 (ja) 遷移金属錯体の製造方法
JP2003321479A (ja) 光分解性シランカップリング剤
JP2019524612A5 (ja) 窒化ホウ素ナノ材料の製造方法
JP2017527674A5 (ja)
JP4463809B2 (ja) 有機電界効果トランジスタ
JP2005538088A5 (ja)
WO2003033767A3 (fr) Precurseur de revetement et procede pour revetir un substrat d'une couche refractaire
JP5777792B1 (ja) 金レジネートの新規製造法
EA200970767A1 (ru) Термическое осаждение химически активных слоев оксид металла/алюминий и изготовленные из них дисперсно-упрочненные алюминиды
JP5738467B1 (ja) 金レジネートの新規製造法
JP5298636B2 (ja) ペンタフルオロスルファニル基を有する複素環オリゴマー化合物
JP2016098217A (ja) 有機金化合物の新規製造方法
TW200525008A (en) π Multi-module inverter control systemconjugated organic material Polycyclic fused type, intermediate therefor, process for producing π conjugated organic material polycyclic fused type, and process for producing intermediate therefor
Khalaj Synthesis of carbamothioate derivatives via a copper catalyzed thiocarboxamidation of aryl iodides
CN102171382A (zh) 2-苄基-4-(2,4-二氯苯基)-5-甲基咪唑化合物
JP2007500724A5 (ja)
JP2007503406A5 (ja)
JP2008535794A5 (ja)
JP2016113416A (ja) 金レジネートの新規製造法
JP2016108259A (ja) 有機金化合物結晶の新規製造方法
JP5765371B2 (ja) ペンタフルオロスルファニル基を有する複素環オリゴマー化合物