JP2004087832A - ステージ装置、露光装置、及びステージ駆動方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】流体ベアリングとの接触による定盤の破損を防止することができるステージ装置、露光装置、及びステージ駆動方法を提供する。
【解決手段】移動ステージ6には、ウエハステージ定盤に対して4つの流体ベアリング67A〜67Dで浮上支持されており、各流体ベアリング67A〜67Dには、それぞれに流体を供給する配管7A〜7Dが接続され、特に、各配管7A〜7Dには、それぞれ流量計90A〜90Dを設置している。
【選択図】 図3
【解決手段】移動ステージ6には、ウエハステージ定盤に対して4つの流体ベアリング67A〜67Dで浮上支持されており、各流体ベアリング67A〜67Dには、それぞれに流体を供給する配管7A〜7Dが接続され、特に、各配管7A〜7Dには、それぞれ流量計90A〜90Dを設置している。
【選択図】 図3
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ステージ装置、露光装置、及びステージ駆動方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体デバイスの製造工程の1つであるリソグラフィ工程においては、マスク又はレチクル(以下、レチクルと称する)に形成された回路パターンをレジスト(感光剤)が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の基板上に転写する種々の露光装置が用いられている。例えば、半導体デバイス用の露光装置としては、近年における集積回路の高集積化に伴うパターンの最小線幅(デバイスルール)微細化に応じて、レチクルのパターンを投影光学系を用いてウエハ上に縮小転写する縮小投影露光装置が主として用いられている。
【0003】
この縮小投影露光装置としては、レチクルのパターンをウエハ上の複数のショット領域(露光領域)に順次転写するステップ・アンド・リピート方式の静止露光型の縮小投影露光装置(いわゆるステッパ)や、このステッパを改良したもので、特開平8−166043号公報等に開示されるようなレチクルとウエハとを一次元方向に同期移動してレチクルパターンをウエハ上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の露光装置(いわゆるスキャニング・ステッパ)が知られている。
【0004】
これらの縮小投影露光装置においては、例えば、ウエハは、ウエハステージに保持されて所定方向に駆動されるが、このウエハステージの駆動には、高精度が要求されるために、ガイドに対するウエハステージの支持部材としては、非接触で駆動し、振動等の外乱を受けないエアベアリング(流体ベアリング)が多く用いられている。
【0005】
図14に、従来技術によるエアベアリングの構成例を示す。
図14に示すように、エアベアリングは、定盤等のガイド面1に対して流体(エア)を放出する放出面2を備えたベアリング本体3と、該ベアリング本体3をステージである移動部材4に接続する支柱5とから構成される。ベアリング本体3には、継手6を介してエアを供給する配管7が接続されており、配管7より供給されたエアは、不図示であるがベアリング本体3内に形成されたオリフィスや溝からガイド面1に向けて放出され、ガイド面1と放出面2とのギャップSを所定の値に維持させつつ、ベアリング本体3を浮上させる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の技術には、以下のような問題が存在する。
ステージの稼働中に、配管7の破損や継手6のゆるみによるエア漏れ等の外的要因や、ベアリング本体3内での異物の詰まりやエアを供給する供給装置の故障等の内的要因により、ベアリング本体3に供給されるエアの流量が所定の流量値よりも減少した場合、ギャップSが狭まり、例えば定盤のガイド面1とベアリング本体3の放出面2とが接触してしまうという問題があった。
【0007】
例えば、エアの流量が所望の流量よりも減少すると、ガイド面1(定盤)と放出面2とが接触し、ベアリング本体3が破損してしまう場合がある。この場合には、ベアリング本体3を交換しなければならず、更に、交換後にギャップSの調整を再度行わなければならないなど、ステージ装置が稼働可能となるまでに多くの復旧時間を必要とした。
また、例えば、配管7が継手6から離脱する等の要因により、エアの供給がほぼ完全に停止すると、ガイド面1に対してベアリング本体3が衝打してしまう場合がある。この場合には、ベアリング本体3がガイド面1を大きく破損させてしまうので、ガイド面1を修復させるために数日もの修復期間を必要とした。
【0008】
更に、通常、1つのステージには複数のエアベアリングを使用しているが、その中の1つのエアベアリングの流量に異常が発生すると、該エアベアリングの放出面と、ガイド面とが接触しなかった場合でも、ステージの動作バランスが崩れ、露光装置としてはスキャン精度に悪影響が発生する。万一、上記の状態を認識することなく露光装置を稼働させて大量の液晶パネルを露光してしまった場合、大量の不良品が発生してしまう可能性があった。そして、これらの異常は、実際にガイド面1とベアリング本体3とが接触してステージが停止するまで発見することが困難であるという問題があった。
【0009】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、流体ベアリングとの接触による定盤の破損を防止することができるステージ装置、露光装置、及びステージ駆動方法を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図1乃至図13に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明のステージ装置は、定盤上を移動するステージ(6)と、該ステージ(6)と定盤(22)との間に設けられ、供給された流体を用いてステージ(6)を定盤(22)に対して浮上させる流体ベアリング(67)と、を有するステージ装置(WST)であって、流体ベアリング(67)と定盤(22)との接触破損を防止する防止手段を備えることを特徴としている。
従って、本発明のステージ装置では、防止手段を備えているので、流体ベアリング(67)が定盤(22)に接触し、定盤(22)が接触破損することを防止することができる。
【0011】
また、本発明のステージ装置は、前記防止手段は、流体ベアリング(67)の動作状態を検出する検出手段を備えることを特徴としており、特に、検出手段(90)は、前記流体の供給流量を検出する、又は検出手段(140)は、流体ベアリング(67)と定盤(22)との間隔(ギャップ)の距離を検出することを特徴としている。
従って、流体ベアリング(67)に供給される流体の流量に変化が生じることに起因して、流体ベアリング(67)と定盤(22)とが接触するおそれがある場合は、直接検出手段(90)により流体の供給流量が検出され、又は、検出手段(140)により流体ベアリング(67)と定盤(22)との間隔(ギャップ)の距離が直接検出される。そのため、流体ベアリング(67)と定盤(22)との接触の危険性を事前に検知することができる。
【0012】
また、本発明のステージ装置は、検出手段(90、140)の検出結果に基づいて、ステージ(6)の移動を停止させる停止手段(44)を備えることを特徴としている。
従って、検出手段(90)からエラー信号を受信した停止手段(44)は、各ステージ制御モータを全停止させて、ステージ装置(WST)を緊急停止させるので、流体ベアリング(67)が定盤(22)に接触し、定盤(22)が接触破損することを防止することができる。
【0013】
また、本発明のステージ装置は、検出手段(90、140)の検出結果に基づいて、流体ベアリング(67)を定盤(22)から離間させる駆動機構(100、110)を有することを特徴としている。
従って、停止手段(44)が緊急停止の信号を発信してもステージ(6)が停止せずに空走してしまった場合でも、異常が検知された流体ベアリング(67)は、定盤(22)から離間するので、ステージ(6)の空走中に流体ベアリング(67)が定盤(22)に接触することを防止することができる。
【0014】
また、本発明のステージ装置は、前記防止手段は、定盤(22)の表面部に対向し、該表面部を形成する部材よりも軟らかい材質で形成され、流体ベアリング(67)を含む、ステージ(6)を構成する構成部材(67、130)に設置された保護部材(121、131)であることを特徴としている。
従って、保護部材(121、131)と定盤(22)とが接触した場合でも、定盤(22)の損傷を防止することができる。そのため、構成部材(67、130)が損傷した場合は、代用品と交換可能であり、更に、交換不可能な定盤(22)を損傷することがないので、ステージ装置(WST)の復旧時間を大幅に短縮することが可能となる。
【0015】
また、本発明の露光装置は、上記に記載されたステージ装置(WST)を搭載することを特徴とするものである。
従って、本発明の露光装置では、ステージ(6)の稼働中に生じた異常を早期に発見することにより、ステージ(6)の動作バランスの崩れも早期に発見できるので、露光装置(10)のスキャン精度に悪影響が発生するのを防止することが可能となる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のステージ装置、露光装置、及びステージ駆動方法の第1の実施形態を、図1乃至図4を参照して説明する。ここでは、露光装置として、レチクルとウエハとを一次元方向(ここではY軸方向とする)に同期移動しつつ、レチクルに形成された半導体デバイスの回路パターンをウエハ上に転写する、ステップ・アンド・スキャン方式、又はステップ・アンド・スティッチ方式からなる走査露光方式の露光装置を使用する場合の例を用いて説明する。
また、この露光装置においては、本発明のステージ装置をウエハステージに適用するものとする。なお、これらの図において、従来例として示した図14と同一の構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
【0017】
図1には、本発明の一実施形態に係る露光装置10の全体構成が概略的に示されている。
露光装置10は、露光用照明光(以下、「照明光」と略述する)ILによりマスクとしてのレチクルR上の矩形状(あるいは円弧状)の照明領域を均一な照度で照明する不図示の照明系と、レチクルRを保持するマスクステージとしてのレチクルステージRSTと、レチクルRから射出される照明光をウエハ(基板)W上に投射する投影光学系PLと、ウエハWを保持する基板ステージとしてのウエハステージ(ステージ装置)WSTと、投影光学系PL、レチクルステージRST及びウエハステージWSTが搭載されたボディとしての本体コラム14と、本体コラム14の振動を抑制あるいは除去する防振システム等を備えている。
【0018】
前記照明光ILとしては、例えば超高圧水銀ランプからの紫外域の輝線(g線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)や、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)及びF2レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV光)などが用いられる。
【0019】
本体コラム14は、床面FDに水平に載置された装置の基準となる矩形板状のベースプレートBPと、このベースプレートBP上面の三角形頂点部分の近傍にそれぞれ配置された防振ユニット16A〜16C(但し、図1においては紙面奥側の防振ユニット16Cは図示せず)及びこれらの防振ユニット16A〜16Cを介してほぼ水平に支持された鏡筒定盤18と、鏡筒定盤18に装着されたファーストインバと呼ばれる投影光学系PLの支持部材24(以下、「ファーストインバ24」と呼ぶ)と、鏡筒定盤18上に立設されたセカンドインバと呼ばれるレチクルステージ定盤25の支持部材26(以下、「セカンドインバ26」と呼ぶ)とを備えている。
【0020】
防振ユニット16A〜16Cは、ベースプレートBPの上部に直列に配置されたアクチュエータ部28と内圧が調整可能なエアマウント30とをそれぞれ含んで構成されている。防振ユニット16A〜16Cの各アクチュエータ部28には、ボイスコイルモータがそれぞれ少なくとも1つ含まれている。この場合、防振ユニット16A〜16Cの全体としてアクチュエータ部に、鉛直方向(即ち、図1のZ方向)駆動用のボイスコイルモータが少なくとも3個、X方向駆動用のボイスコイルモータ及びY方向駆動用のボイスコイルモータが合計で少なくとも3個(但し、X方向駆動用のボイスコイルモータ及びY方向駆動用のボイスコイルモータが各1つ含まれる)含まれている。また、エアマウント30は、防振ユニット16A〜16Cのそれぞれに含まれているが、エアマウント30は鏡筒定盤18を下方から支持するものが少なくとも3つあれば足りる。即ち、防振ユニット16A〜16Cのいずれか1つの代わりに単なる柱を設けても構わない。
【0021】
鏡筒定盤18には、図1では図示が省略されているが、該鏡筒定盤18を含む本体コラム14のZ軸方向の振動を検出する振動センサ(例えば半導体加速度センサ等の加速度計)が少なくとも3つ、X方向、Y方向の振動を検出する振動センサ(例えば半導体加速度センサ等の加速度計)が合計で少なくとも3つ(但し、X方向振動検出用センサ及びY方向振動検出用センサを各1つ含む)取り付けられている。そして、これらの少なくとも6つの振動センサ(以下、便宜上「振動センサ群32」と呼ぶ)の出力が後述する主制御装置50(図4参照)に供給され、該主制御装置50によって本体コラム14の6自由度方向の運動が求められ、防振ユニット16A〜16Cが制御されるようになっている。即ち、本実施形態では、振動センサ群32と防振ユニット16A〜16Cと、主制御装置50とによって本体コラム14の振動を制振するためのアクテイブ防振システムが構成されている。
【0022】
セカンドインバ26は、側面視略台形状で底面及び上面が八角形の多面体の全体形状を有し、各側面に台形状の開口が形成され、底面が完全に開口したフレームである。このセカンドインバ26の上面はレチクルステージ定盤25を支持する支持プレートとされており、該支持プレートには、照明光ILの通路を成す矩形の開口部(不図示)が形成され、この開口部を含む領域の上面にレチクルステージ定盤25が載置されている。レチクルステージ定盤25にも開口部に対向して所定の開口が形成されている。
【0023】
レチクルステージRSTは、上記レチクルステージ定盤25上に配置されている。レチクルステージRSTは、レチクルRをレチクルステージ定盤25上でY軸方向に大きなストロークで直線駆動するとともに、X軸方向及びθZ方向(Z軸回りの回転方向)に関しても微小駆動が可能な構成となっている。
【0024】
レチクルステージRSTは、レチクルステージ定盤25上にY軸方向に沿って設けられた不図示のYガイドに沿って移動するレチクル粗動ステージ11と、このレチクル粗動ステージ11上を一対のXボイスコイルモータ36A、36B(図1では図示せず、図4参照)と一対のYボイスコイルモータ36C、36D(図1では図示せず、図4参照)とによってX、Y、θZ方向に微少駆動されるレチクル微動ステージ12とを含んで構成されている。レチクルRは、レチクル微動ステージ12に、例えば真空吸着等によって固定されている。
【0025】
レチクル粗動ステージ11は、不図示のエアベアリングによってYガイドに対して非接触で支持されており、Yリニアモータ34A、34B(図1では図示せず、図4参照)によってY軸方向に所定ストロークで駆動される構成になっている。本実施形態では、Yリニアモータ34A、34B、Xボイスコイルモータ36A、36B及びYボイスコイルモータ36C、36DによってレチクルステージRSTの駆動系37(図4参照)が構成されている。
【0026】
Yリニアモータ34A、34Bのそれぞれは、レチクルステージ定盤25上に複数のエアベアリングによって浮上支持されY軸方向に延びる固定子と、該固定子に対応して設けられレチクル粗動ステージ11に固定された可動子とから構成されている。従って、本実施形態では、レチクルステージRSTが走査方向(Y軸方向)に移動する際には、一対のYリニアモータ34A、34Bの可動子と固定子とが相対的に逆方向に移動する。即ち、レチクルステージRSTと固定子とが相対的に逆方向に移動する。レチクルステージRSTと固定子とレチクルステージ定盤25との3者間の摩擦が零である場合には、運動量保存の法則が成立し、レチクルステージRSTの移動に伴う固定子の移動量は、レチクルステージRST全体と固定子との重量比で決定される。このため、レチクルステージRSTの走査方向の加減速時の反力は固定子の移動によって吸収されるので、上記反力によってレチクルステージ定盤25が振動するのを効果的に防止することができる。また、レチクルステージRSTと固定子とが相対的に逆方向に移動して、レチクルステージRST、レチクルステージ定盤25等を含む系の全体の重心位置が所定の位置に維持されるので、重心位置の移動による偏荷重が発生しないようになっている。かかる詳細は、例えば、特開平8−63231号公報に記載されている。
【0027】
レチクル微動ステージ12の一部には、その位置や移動量を計測するための位置計測装置であるレチクルレーザ干渉計システム38からの測長ビームを反射する移動鏡40が取り付けられている。レチクルレーザ干渉計システム38は、鏡筒定盤18の上面に固定されている。レチクルレーザ干渉計システム38に対応した固定鏡42は、投影光学系PLの鏡筒の側面に設けられている。そして、レチクルレーザ干渉計システム38によってレチクルステージRST(具体的にはレチクル微動ステージ12)のX,Y,θZ方向の位置計測が投影光学系PLを基準として行われる。
【0028】
上記のレチクルレーザ干渉計システム38によって計測されるレチクルステージRST(即ち、レチクルR)の位置情報(又は速度情報)は、ステージ制御装置44(図1では図示せず、図4参照)及びこれを介して主制御装置50に供給される(図4参照)。ステージ制御装置44は、基本的にはレチクルレーザ干渉計システム38から出力される位置情報(或いは速度情報)が主制御装置50からの指令値(目標位置、目標速度)と一致するように上記のYリニアモータ34A、34B及びボイスコイルモータ36A〜36Dを制御する。
【0029】
前記鏡筒定盤18の中央部には円形開口が形成されており、この円形開口内に上端にフランジが設けられた円筒状部材から成るファーストインバ24が挿入され、このファーストインバ24の内部に投影光学系PLがその光軸方向をZ軸方向として上方から挿入されている。ファーストインバ24の素材としては、低熱膨張の材質、例えばインバー(Inver;ニッケル36%、マンガン0.25%、及び微量の炭素と他の元素を含む鉄からなる低膨張の合金)が用いられている。
【0030】
投影光学系PLの鏡筒部の外周部には、該鏡筒部に一体化された鋳物等から成るフランジFLGが設けられている。フランジFLGは、投影光学系PLをファーストインバ24に対して点と面とV溝とを介して3点で支持するいわゆるキネマティック支持マウントを構成している。このようなキネマティック支持構造を採用すると、投影光学系PLのファーストインバ24に対する組み付けが容易で、しかも組み付け後のファーストインバ24及び投影光学系PLの振動、温度変化、姿勢変化等に起因する応力を最も効果的に軽減できるという利点がある。
【0031】
前記投影光学系PLとしては、ここでは、物体面(レチクルR)側と像面(ウエハW)側の両方がテレセントリックで円形の投影視野を有し、石英や螢石を光学硝材とした屈折光学素子(レンズ素子)のみから成り投影倍率βが1/4(又は1/5)の屈折光学系が使用されている。このため、レチクルRに照明光ILが照射されると、レチクルR上の回路パターン領域のうちの照明光ILによって照明された部分からの結像光束が投影光学系PLに入射し、その回路パターンの部分倒立像が投影光学系PLの像面側の円形視野の中央にスリット状に制限されて結像される。これにより、投影された回路パターンの部分倒立像は、投影光学系PLの結像面に配置されたウエハW上の複数のショット領域のうちの1つのショット領域表面のレジスト層に縮小転写される。
【0032】
図2は、ウエハステージWSTの外観斜視図である。このウエハステージWSTは、ウエハステージ定盤22と、移動ステージ(ステージ)6と、この移動ステージ6を走査方向であるY軸方向に駆動するリニアモータとしてのYモータ(駆動手段)61と、移動ステージ6をステップ移動方向であるX軸方向に駆動するリニアモータとしてのXモータ62とを主体として構成されている。
【0033】
ウエハステージ定盤22は、ベースプレートBPの上方に、防振ユニット(第2駆動装置)29を介してほぼ水平に支持されている。防振ユニット29は、上記防振ユニット16A〜16Cと同様に、アクチュエータ部と内圧が調整可能なエアマウントとをそれぞれ含んだアクテイブ防振システムを構成しており、三角形の頂点をなす三カ所に配置されている(なお、図1、図2では紙面奥側の防振ユニットについては図示せず)。そして、図示していないものの、ウエハステージ定盤22には、定盤22のZ軸方向の振動を検出する振動センサ(例えば半導体加速度センサ等の加速度計)が少なくとも3つ、X方向、Y方向の振動を検出する振動センサ(例えば半導体加速度センサ等の加速度計)が合計で少なくとも3つ(但し、X方向振動検出用センサ及びY方向振動検出用センサを各1つ含む)取り付けられている。そして、これらの少なくとも6つの振動センサ(以下、便宜上「振動センサ群33」と呼ぶ)の出力が後述する主制御装置50(図4参照)に供給され、該主制御装置50によってウエハステージ定盤22の6自由度方向の運動が求められ、防振ユニット29が移動面(平面)22aとほぼ直交するZ方向に駆動されることでベースプレートBPを介してウエハステージ定盤22に伝わる微振動がマイクロGレベルで絶縁されるように制御される。なお、ウエハステージ定盤22の投影光学系PLに対する相対位置は、位置センサ77(図4参照)で検出され主制御装置50に出力される構成になっている。
【0034】
Yモータ61は、Xガイド65の端部にそれぞれ設けられた可動子(他方の部材)68と、ベースプレートBPの上方に反力遮断用フレーム72(図2では不図示、図1参照)を介してほぼ水平に支持され可動子68との間の電磁気的相互作用により可動子68をY方向に相対移動させる固定子(一方の部材)69とから構成されている。反力遮断用フレーム72は、Yモータ61による移動ステージ6の駆動に伴って生じる反力を受けるものであり、フレーム72に支持されることにより、可動子68と固定子69とは振動的に独立して設けられることになる。可動子68の中、+X側に位置する可動子68は、Y軸方向に沿って延設されたYガイド71に沿って移動自在なYキャリッジ70の+X側端部に設けられている。
【0035】
Xモータ62は、X軸方向に沿って延設された固定子63と、移動ステージ6が固定され固定子63との間の電磁気的相互作用により固定子63に対してX方向に相対移動する可動子としてのXキャリッジ64とから構成されている。固定子63は、X軸方向に沿って延設されたXガイド65の上部に設けられている。そして、Xキャリッジ64には、Xガイド65を挟んで移動部材66がXキャリッジ64と一体的に、且つXガイド65に対して移動自在に設けられている。また、移動部材66は、底面側にエアベアリング67が配設されて、定盤22に対して浮上支持されている。
【0036】
図3は、移動ステージ6部を上面から見た概略図である。
移動ステージ6は、ウエハステージ定盤22に対して4つのエアベアリング67A〜67Dで浮上支持されている。各エアベアリングの構成は、図14に示した従来技術と同一であるが、各エアベアリング67A〜67Dには、それぞれにエアを供給する配管7A〜7Dが接続されており、特に、本実施形態では、各配管7A〜7Dに、それぞれ流量計90A〜90Dを設置していることを特徴としている。
【0037】
各流量計90A〜90Dは、各エアベアリング67A〜67Dのベアリング本体に供給されるエアの流量を随時観測するものであり、特に、設定した所望の流量値に対して許容される流量値の限界値である、上限のしきい値と下限のしきい値とを検出する機能を有する。該上限及び下限の各しきい値は、設定自在なのは勿論である。また、各流量計90A〜90Dは、不図示であるが、ウエハステージWSTもしくはそれ以外の露光装置を構成する部材の不動部分に固定される。
【0038】
一方、移動ステージ6上面のX方向一側の端部には、移動鏡79XがY方向に延設され、Y方向の一側の端部には、移動鏡79YがX方向に延設されている(図1では代表的に符号79と図示)。これらの移動鏡79X、79Yに位置検出装置であるウエハレーザ干渉計システム80(図1参照)を構成する各レーザ干渉計からの測長ビームがそれぞれ照射されている。なお、これらの測長ビームに対応する各レーザ干渉計の少なくとも一方は、測長軸を2本有する2軸干渉計が用いられている。
【0039】
ウエハレーザ干渉計システム80を構成する各レーザ干渉計に対応する各固定鏡は、投影光学系PLの鏡筒の下端部に固定されている。ウエハレーザ干渉計システム80は、鏡筒定盤18上面に配置されている。なお、前述の如く、ウエハステージWST上には、移動鏡として移動鏡79X、79Yが設けられ、これに対応して固定鏡もX方向位置計測用の固定鏡とY方向位置計測用の固定鏡とがそれぞれ設けられ、レーザ干渉計もX方向位置計測用のものとY方向位置計測用のものとが設けられているが、図1ではこれらが代表的に移動鏡79、固定鏡81、ウエハレーザ干渉計システム80として示されている。
【0040】
上記のウエハレーザ干渉計システム80によってウエハステージWSTのX,Y,θZ(Z周りの回転)方向の位置計測が投影光学系PLを基準として行われる。そして、ウエハレーザ干渉計システム80によって計測されるウエハステージWSTの位置情報(又は速度情報)はステージ制御装置44及びこれを介して主制御装置50に送られる。ステージ制御装置44は、基本的にはウエハレーザ干渉計システム80から出力される位置情報(或いは速度情報)が主制御装置50から与えられる指令値(目標位置、目標速度)と一致するように上記のYモータ61及びXモータ62を制御する。
【0041】
図4には、本実施形態に係る露光装置10の制御系の主要な構成がブロック図にて示されている。この制御系は、マイクロコンピュータ(あるいはワークステーション)から成る制御系としての主制御装置50を中心として構成されている。この図に示すように、振動センサ群32、33、位置センサ77の計測結果は、主制御装置50に出力される。主制御装置50は、入力した計測結果に基づいて防振ユニット16A〜16C、29の駆動をそれぞれ制御する。ステージ制御装置44は、主制御装置50の制御下で、レチクルレーザ干渉計システム38、ウエハレーザ干渉計システム80、及び流量計67A〜67Dの計測結果に基づいて、Yリニアモータ34A、34B、Xボイスコイルモータ36A、36B、Yボイスコイルモータ36C、36D、Yモータ61、Xモータ62の駆動を制御する。
【0042】
次に、上記の構成の露光装置のうち、まずウエハステージWSTの動作について説明する。
例えば、Yモータ61が作動して可動子68が固定子69に対して相対移動することにより、移動ステージ6がY方向に移動するが、この移動による反力は反力遮断用フレーム72により機械的にベースプレートBP(大地)に伝達されるため、投影光学系PLやウエハステージWSTに振動等の悪影響が及ぶことを防止できる。なお、反力遮断用フレーム72に代えてY方向に移動可能な第2ステージで固定子69を支持することもできる。この場合、移動ステージ6が移動すると、第2ステージは、運動量保存則により移動ステージ6と第2ステージとの重量比に従って移動ステージ6と逆方向に移動する。このため、移動ステージ6の反力が投影光学系PLやウエハステージWSTに振動等の悪影響を及ぼすことはない。
【0043】
移動ステージ6の移動に際しては、主制御装置50からの指示に応じてステージ制御装置44がレーザ干渉計システム80等の計測値に基づいて、移動ステージ6の移動に伴う重心の変化による影響をキャンセルするカウンターフォースを防振ユニット29に対してフィードフォワードで与え、この力を発生するようにエアマウントおよびアクチュエータ部を駆動して、ウエハステージ定盤22の位置を所定の位置に制御する。また、移動ステージ6とウエハステージ定盤22との摩擦が零でない等の理由で、ウエハステージ定盤22の6自由度方向の微少な振動が残留した場合にも、振動センサ群33や位置センサ77の計測値に基づいて上記残留振動を除去すべく、エアマウントおよびアクチュエータ部をフィードバック制御する。
【0044】
一方、移動ステージ6の稼働中に、各エアベアリング67A〜67Dに供給されるエアの流量に変化が生じた場合、具体的には、配管7の破損や継手6のゆるみによるエア漏れ等の外的要因や、ベアリング本体3内での異物の詰まりやエアを供給する供給装置の故障等の内的要因により、各流量計90A〜90Dのいずれかの流量計において、上限のしきい値を超える流量が検出されるか、もしくは下限のしきい値を下回る流量が検出された場合、この異常を検出した流量計90は、エラー信号をステージ制御装置44に送信し、ステージ制御装置44は、各ステージ制御モータを全停止させて、ウエハステージWSTを緊急停止させる。これにより、エアの流量が下限のしきい値よりも低下した場合、定盤の移動面22aとエアベアリング67のエアの放出面2とのギャップSが狭まることに起因してエアベアリング67が定盤22に接触することを事前に防止することができる。また、エアの流量が上限しきい値よりも増加した場合でも、エアの供給装置の故障や配管詰まり等の異常を早期に発見することによって、エアベアリング67が定盤22に接触するのを事前に防止することができる。
ここで、ステージ制御装置44で緊急停止させる場合には、先に述べたように、停止コマンドを送って減速停止させたり、通常の駆動回路から緊急停止用の回路に切り換えて減速停止の制御をするようにしてもよい。
【0045】
なお、流量計90に設定する上限のしきい値及び下限のしきい値は、所望のギャップSを実現する流量、即ち、移動ステージ6の稼働時の定常流量を移動ステージ6の稼働前のギャップS調整時に確認し、その定常流量に基づき、定常流量に近い値にそれぞれ設定することが望ましい。例えば、定常流量が8L/min.(normal)程度である場合は、上限のしきい値を10L/min.(normal)程度に、また、下限のしきい値を6L/min.(normal)程度にそれぞれ設定することによって、異常を早期に検知することが可能となる。
【0046】
次に、露光装置10における露光動作について説明する。
前提として、ウエハW上のショット領域を適正露光量(目標露光量)で走査露光するための各種の露光条件が予め設定される。また、不図示のレチクル顕微鏡及び不図示のオフアクシス・アライメントセンサ等を用いたレチクルアライメント、ベースライン計測等の準備作業が行われ、その後、アライメントセンサを用いたウエハWのファインアライメント(EGA(エンハンスト・グローバル・アライメント)等)が終了し、ウエハW上の複数のショット領域の配列座標が求められる。
【0047】
このようにして、ウエハWの露光のための準備動作が終了すると、ステージ制御装置44では、主制御装置50からの指示に応じてアライメント結果に基づいてウエハレーザ干渉計システム80の計測値をモニタしつつYモータ61及びXモータ62を制御してウエハWの第1ショットの露光のための走査開始位置に移動ステージ6を移動する。
【0048】
そして、ステージ制御装置44では、主制御装置50からの指示に応じてレチクルステージRSTとウエハステージWSTとのY方向の走査を開始し、両ステージRST、WSTがそれぞれの目標走査速度に達すると、照明光ILによってレチクルRのパターン領域が照明され始め、走査露光が開始される。
【0049】
ステージ制御装置44では、特に上記の走査露光時にレチクルステージRSTのY軸方向の移動速度とウエハステージWSTのY軸方向の移動速度とが投影光学系PLの投影倍率(等倍、1/5倍或いは1/4倍)に応じた速度比に維持されるようにレチクルステージRST及びウエハステージWST(移動ステージ6)を同期制御する。
【0050】
そして、レチクルRのパターン領域の異なる領域が照明光ILで逐次照明され、パターン領域全面に対する照明が完了することにより、ウエハW上の第1ショットの走査露光が終了する。これにより、レチクルRのパターンが投影光学系PLを介して第1ショットに縮小転写される。
【0051】
このようにして、第1ショットの走査露光が終了すると、ステージ制御装置44により主制御装置50の指示に応じて移動ステージ6がX、Y軸方向にステップ移動され、第2ショットの露光のため走査開始位置に移動される。このステッピングの際に、ステージ制御装置44ではウエハレーザ干渉計システム80の計測値に基づいて移動ステージ6のX、Y、θZ方向の位置変位をリアルタイムに計測する。この計測結果に基づき、ステージ制御装置44ではXY位置変位が所定の状態になるように移動ステージ6の位置を制御する。
【0052】
そして、主制御装置50の指示に基づきステージ制御装置44では第2ショットに対して上記と同様の走査露光を行う。このようにして、ウエハW上のショットの走査露光と次ショット露光のためのステッピング動作とが繰り返し行われ、ウエハW上の露光対象ショットの全てにレチクルRのパターンが順次転写される。即ち、以上のように、ステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われる。
【0053】
このように、本実施形態では、移動ステージ6の浮上支持部材として使用している各エアベアリング67A〜67Dの配管7A〜7Dに、それぞれ流量計90A〜90Dを配設しているので、各流量計90A〜90Dのいずれかの流量計によって、移動ステージ6の稼働中に生じた異常を早期に発見することにより、エアベアリング67が定盤22に接触するのを事前に防止することができる。
更に、移動ステージ6の動作バランスの崩れも早期に発見できるので、露光装置のスキャン精度に悪影響が発生するのを防止することが可能となる。
【0054】
図5は、本発明の第2の実施形態を示す図である。
この図において、図14に示す従来技術の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第2の実施の形態と上記の第1の実施の形態とが異なる点は、エアベアリング67に、移動部材4に対してベアリング本体3を垂直方向に昇降可能とするアクチュエータ100を備えている点にある。
【0055】
図5に示すように、アクチュエータ100は、エアベアリング67の支柱5において、移動部材4側の固定部と、ベアリング本体3を可動自在に支持するアライメント用ボール8との中間位置に設置されている。アクチュエータ100としては、例えば、応答性が高く、微動作が可能なピエゾ素子を用いた積層型のピエゾアクチュエータが採用される。アクチュエータ100は、各エアベアリング67A〜67Dにそれぞれ設置されており、移動ステージ6が稼働する通常時には伸びた状態に維持するように設定されている。また、図6に示すように、各アクチュエータ100A〜100Dは、それぞれステージ制御装置44に接続されている。なお、移動ステージ6に備えられた他の構成は、上記第1の実施形態と同様である。
【0056】
移動ステージ6の稼働中に、各エアベアリング67A〜67Dのいずれかに供給されるエアの流量に異常が生じた場合、流量計90A〜90Dの中で異常を検出した流量計は、エラー信号をステージ制御装置44に送信し、ステージ制御装置44は、各ステージ駆動用モータを全停止させて、ウエハステージWSTを緊急停止させる。更に、異常を検出した流量計(例えば、流量計90A)が接続されているエアベアリング67Aに備えられたアクチュエータ100Aは、瞬時に縮動作を行い、エアベアリング67Aのエア放出面2を、定盤の移動面22aから更に離間させる。
【0057】
第1の実施形態と同様に、移動ステージ6の稼働時にエアの流量が下限のしきい値よりも低下した場合は、移動ステージ6が緊急停止して、エアベアリング67が定盤22に接触することを事前に防止させる。更に、本実施形態では、万一ステージ制御装置44が緊急停止の信号を発信しても移動ステージ6が停止せずに空走してしまった場合、異常が検知されたエアベアリング67Aのエア放出面2は、移動面22aから更に離間するので、移動ステージ6の空走中にエアベアリング67が定盤22に接触することを防止することが可能となる。各エアベアリング67A〜67Dの中で異常が発生したエアベアリング67Aのアクチュエータ100Aのみを縮動作させるので、正常に作動している各エアベアリング67B〜67Dにより、移動ステージ6の浮上支持は、安定して確保されている。なお、エアの流量が上限しきい値よりも増加した場合は、第1の実施形態と同様に、エアの供給装置の故障や配管詰まり等の異常を早期に発見することによって、エアベアリング67が定盤22に接触するのを事前に防止される。
【0058】
図7は、本発明の第3の実施形態を示す図である。
この図において、図14に示す従来技術の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第3の実施の形態と上記の第2の実施の形態とが異なる点は、アクチュエータ100に代えて、エアベアリング67のベアリング本体3中に電磁石(電磁コイル)110を備えている点にある。
【0059】
図7に示すように、電磁石110は、エアベアリング67のベアリング本体3の内部に埋設されている。上記各実施形態では、定盤22の材質は、特に限定していないが、本実施形態では、定盤22全体、もしくは定盤22の移動面22aは、鉄(Fe)等の磁性体で形成されている。電磁石110は、各エアベアリング67A〜67Dにそれぞれ設置されている。また、図8に示すように、各電磁石110A〜110Dは、それぞれステージ制御装置44に接続されており、移動ステージ6が稼働する通常時には、移動面22aに対して磁界を発生させ、エアの放出による浮力を補助する予圧を与えるように設定されている。なお、移動ステージ6に備えられた他の構成は、上記第1の実施形態と同様である。
【0060】
移動ステージ6の稼働中に、各エアベアリング67A〜67Dのいずれかに供給されるエアの流量に異常が生じた場合、流量計90A〜90Dの中で異常を検出した流量計は、エラー信号をステージ制御装置44に送信し、ステージ制御装置44は、各ステージ駆動用モータを全停止させて、ウエハステージWSTを緊急停止させる。更に、異常を検出した流量計(例えば、流量計90A)が接続されているエアベアリング67Aに備えられた電磁石110Aは、瞬時に移動面22aに対して反発する方向に更に磁界を発生させて、エアの流量減少に伴うギャップSの縮小を補助するように、エアベアリング67Aのエア放出面2を、定盤の移動面22aから離間させる。
【0061】
第1の実施形態と同様に、移動ステージ6の稼働時にエアの流量が下限のしきい値よりも低下した場合は、移動ステージ6が緊急停止して、エアベアリング67が定盤22に接触することを事前に防止させる。更に、本実施形態では、万一ステージ制御装置44が緊急停止の信号を発信しても移動ステージ6が停止せずに空走してしまった場合、異常が検知されたエアベアリング67Aのエア放出面2は、移動面22aから離間し、エアの流量が減少してもギャップSが維持されるので、移動ステージ6の空走中にエアベアリング67が定盤22に接触することを防止することが可能となる。
なお、エアの流量が上限しきい値よりも増加した場合は、第1の実施形態と同様に、エアの供給装置の故障や配管詰まり等の異常を早期に発見することによって、エアベアリング67が定盤22に接触するのを事前に防止される。
【0062】
図9は、本発明の第4の実施形態を示す図である。
この図において、図14に示す従来技術の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第4の実施の形態と上記の各実施の形態とが異なる点は、ベアリング本体のエア放出部は、該エア放出部と対向する定盤の材質よりも軟らかい材質で形成された保護部材からなる点にある。
【0063】
図9に示すように、ベアリング本体120は、定盤22の移動面22aに対向するエアの放出部である保護部材121と、該保護部材121を固定する背面部材122とから構成されている。保護部材121は、エアを移動面22aに対して均一に放出するために多孔質状の部材で形成されてなり、更に、多孔質部材全体、もしくは移動面22aに対向する多孔質部材の放出面121aのみのいずれかに固体潤滑剤を含有することを特徴としている。具体的には、例えば、定盤の材質を、モース硬度が約7のインディアン・ブラック石とすると、保護部材121は、インディアン・ブラック石よりも軟らかい、モース硬度が約3程度の銅(Cu)−ニッケル(Ni)基合金からなる焼結合金等で形成される。特に、保護部材121は、モース硬度が1〜5の範囲を満たすことが望ましい。更に、前記焼結合金には、固体潤滑剤として黒鉛等が混合される。保護部材121は、ステンレススチール等で形成される背面部材122に、拡散結合によって溶着させることによって固定されており、各エアベアリング67A〜67Dのそれぞれに形成されている。なお、移動ステージ6に備えられた他の構成は、上記第2又は第3の実施形態と同様である。
【0064】
本実施形態では、エアベアリング67のエアの放出部に、移動面22aの材質よりも軟らかい材質の保護部材121を備えているので、エアベアリング67と定盤22とが接触した場合、エアベアリング67が損傷し、定盤22の損傷を防止することができる。即ち、エアベアリング67が損傷した場合は、代用品と交換可能であり、更に、交換不可能な定盤22を損傷することがないので、万一、エアベアリング67と定盤22とが接触しても、ステージ装置の復旧時間を大幅に短縮することが可能となる。また、保護部材121は、固体潤滑剤を含有するので、エアベアリング67と定盤22との接触摩擦を減少させることができ、更に効率良く定盤22の損傷を防止することが可能となる。
【0065】
従って、本実施形態と第1の実施形態とを組み合わせることにより、移動ステージ6の稼働時においてエアの流量に異常が生じ、移動ステージ6が緊急停止した後、万一、エアベアリング67が定盤22に接触した場合でも、定盤22の損傷を防止することができる。更に、本実施形態と第2又は第3の実施形態とを組み合わせることにより、移動ステージ6の稼働時においてエアの流量に異常が生じ、移動ステージ6が停止せずに空走を開始した後、万一、異常が検知されたエアベアリング67のエア放出面2が移動面22aから離間しなかったり、又は離間前に瞬間的にエアベアリング67と定盤22が接触したりした場合でも、定盤22の損傷を防止することができる。
【0066】
図10は、本発明の第5の実施形態に係り、定盤22上の移動ステージ6を示す側面図である。
この図において、図14に示す従来技術、及び図1乃至図4に示す第1の実施の形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第5の実施の形態と上記の各実施の形態とが異なる点は、第4の実施の形態で採用した保護部材をエアベアリング67以外に設置した点にある。
【0067】
図10に示すように、移動部材66と移動面22aとの間には、移動部材66を支持する2つのエアベアリング67A、67Bとを備え、更に、各エアベアリング67A、67Bとの間に、保護具130が備えられている。保護具130は、移動面22aに対向する表面に位置して設けられる保護部材131と、該保護部材131を支持する支持プレート132と、該固定プレート132を移動部材66に固定する連結部材133とから構成されている。なお、図10では不図示であるが、図中の移動ステージ6の反対側における移動部材66と移動面22aとの間、即ち、各エアベアリング67C、67Dの設置部にも上記の保護具が設けられているのは勿論である。
【0068】
保護部材131は、第4の実施形態と同様に、多孔質状の部材で形成されてなり、更に、多孔質部材全体、もしくは移動面22aに対向する多孔質部材の表面131aのみのいずれかに固体潤滑剤を含有することを特徴としている。本実施形態においても、保護部材131は、モース硬度が1〜5の範囲を満たすことが望ましい。また、固体潤滑剤としても、黒鉛等が混合される。保護部材131は、ステンレススチール等で形成される支持プレート132に、拡散結合によって溶着させることによって固定されている。保護部材131の材質は、上記第4の実施形態と同様の作用・効果を奏させるために多孔質上の部材としたが、本実施形態は、これに限定するものではなく、移動面22a(定盤22)の材質よりも軟らかい材質、即ち、上記のモース硬度の条件を満たすものであれば好適に使用することができる。なお、移動ステージ6に備えられた他の構成は、上記第1〜第3の実施形態と同様である。
【0069】
本実施形態では、保護部材131の表面131aと移動面22aとのギャップSPは、エアベアリング67と移動面22aとのギャップSよりも小さく設定されている。従って、本実施形態と上記の実施形態とを組み合わせることにより、移動ステージ6の稼働時においてエアの流量に異常が生じ、移動ステージ6が緊急停止した後、万一、ギャップSが狭まり、エアベアリング67が定盤22に接触しそうになった場合でも、エアベアリング67よりも先に保護具130が定盤22に接触するので、定盤22の損傷を防止することができる。
また、保護具130が損傷した場合は、代用品と交換可能であり、更に、交換不可能な定盤22を損傷するがないので、保護具130と定盤22とが接触しても、ステージ装置の復旧時間を大幅に短縮することが可能となる。また、保護部材131は、固体潤滑剤を含有するので、保護具130と定盤22との接触摩擦を減少させることができ、更に効率良く定盤22の損傷を防止することが可能となる。
【0070】
続いて、図11を用いて本発明の第6の実施形態について説明する。
この図において、図14に示す従来技術の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第6の実施の形態と上記の各実施の形態とが異なる点は、上記の実施形態において、エアベアリング67へのエアの供給流量の異常を検出する検出手段として流量計90を採用したが、本実施形態では、変位センサを採用した点にある。変位センサとしては、光学式などの非接触式センサやカンチレバー式のような接触式センサを用いることができる。
【0071】
図11に示すように、ベアリング本体3の側面部には変位センサ140が設置されており、常時移動面22aとの距離を計測している。変位センサ140は、各エアベアリング67A〜67Dにそれぞれ設置されており、各変位センサ140A〜140Dは、図12に示すように、それぞれステージ制御装置44に接続されている。
【0072】
移動ステージ6の稼働中に、各エアベアリング67A〜67Dに供給されるエアの流量に変化が生じた場合、各変位センサ140A〜140Dのいずれかの変位センサは、移動面22aとの距離に異常を検知する、即ち、予め設定した変位の許容範囲の上限値と下限値を超えた値を検出する。この異常を検出した変位センサ140は、エラー信号をステージ制御装置44に送信し、ステージ制御装置44は、各ステージ制御モータを全停止させて、ウエハステージWSTを緊急停止させる。
【0073】
これにより、上記の各実施形態と同様に、エアベアリング67へのエアの供給流量の異常を検出する検出手段として流量計90を採用した場合と同様の作用・効果を奏することが可能となる。
【0074】
なお、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更も加え得ることは勿論である。
上記の実施の形態では、移動ステージ6の支持部材として採用されるエアベアリングについて説明したが、本発明は、これに限定されるものではない。例えば、Xガイド65やYキャリッジ70(図2参照)等に設置されているエアベアリングにも適用可能である。また、移動ステージ6へのエアベアリング67の設置数を4つとしたが、設置数についても、これに限定されないのは勿論である。
【0075】
また、上記実施の形態では、本発明のステージ装置を露光装置10のウエハステージWSTに適用する構成としたが、これに限られず、レチクルステージRSTにも適用可能である。さらに、上記実施の形態では、本発明のステージ装置を露光装置におけるウエハステージに適用した構成としたが、露光装置以外にも転写マスクの描画装置、マスクパターンの位置座標測定装置等の精密測定機器にも適用可能である。
【0076】
なお、本実施の形態の基板としては、半導体デバイス用の半導体ウエハWのみならず、液晶ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版(合成石英、シリコンウエハ)等が適用される。
【0077】
露光装置10としては、レチクルRとウエハWとを同期移動してレチクルRのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(スキャニング・ステッパ;USP5,473,410)の他に、レチクルRとウエハWとを静止した状態でレチクルRのパターンを露光し、ウエハWを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)にも適用することができる。また、本発明はウエハW上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【0078】
露光装置10の種類としては、ウエハWに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【0079】
また、不図示の露光用光源として、超高圧水銀ランプから発生する輝線(g線(436nm)、h線(404nm)、i線(365nm))、KrFエキシマレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(193nm)、F2レーザ(157nm)、Ar2レーザ(126nm)のみならず、電子線やイオンビームなどの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト(LaB6)、タンタル(Ta)を用いることができる。また、YAGレーザや半導体レーザ等の高調波などを用いてもよい。
【0080】
例えば、DFB半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域又は可視域の単一波長レーザを、例えばエルビウム(又はエルビウムとイットリビウムの両方)がドープされたファイバーアンプで増幅し、かつ非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を露光光として用いてもよい。なお、単一波長レーザの発振波長を1.544〜1.553μmの範囲内とすると、193〜194nmの範囲内の8倍高調波、即ちArFエキシマレーザとほぼ同一波長となる紫外光が得られ、発振波長を1.57〜1.58μmの範囲内とすると、157〜158nmの範囲内の10倍高調波、即ちF2レーザとほぼ同一波長となる紫外光が得られる。
【0081】
また、レーザプラズマ光源、又はSORから発生する波長5〜50nm程度の軟X線領域、例えば波長13.4nm、又は11.5nmのEUV(Extreme Ultra Violet)光を露光光として用いてもよく、EUV露光装置では反射型レチクルが用いられ、かつ投影光学系が複数枚(例えば3〜6枚程度)の反射光学素子(ミラー)のみからなる縮小系となっている。
【0082】
投影光学系PLの倍率は、縮小系のみならず等倍系および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系PLとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、F2レーザやX線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし(レチクルRも反射型タイプのものを用いる)、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。
【0083】
各ステージWST、RSTの一方として本発明のステージ装置を適用した場合、他方のステージ装置の駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニット(永久磁石)と、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージWST、RSTを駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージWST、RSTに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージWST、RSTの移動面側(ベース)に設ければよい。
【0084】
以上のように、本願実施形態の露光装置10は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【0085】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図13に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ202、シリコン材料からウエハを製造するステップ203、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに露光する露光処理ステップ204、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)205、検査ステップ206等を経て製造される。
【0086】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、移動ステージの浮上支持部材として使用している流体ベアリングの配管に、流量計を配設しているので、該流量計によって、移動ステージの稼働中に生じた異常を早期に発見することにより、流体ベアリングが定盤に接触して、定盤の破損をするのを事前に防止するという効果を奏する。更に、移動ステージの動作バランスの崩れも早期に発見できるので、露光装置のスキャン精度に悪影響が発生するのを防止するという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す図であって、露光装置の全体構成を概略的に示す図である。
【図2】同露光装置を構成するウエハステージの外観斜視図である。
【図3】第1〜第5の実施形態に係る流量計の配置を示す移動ステージの上面図である。
【図4】第1の実施形態における制御ブロック図である。
【図5】第2の実施形態における流体ベアリングの断面図である。
【図6】第2の実施形態における制御ブロック図である。
【図7】第3の実施形態における流体ベアリングの断面図である。
【図8】第3の実施形態における制御ブロック図である。
【図9】第4の実施形態における流体ベアリングの断面図である。
【図10】第5の実施形態における保護具を説明する移動ステージ6の側面図である。
【図11】第6の実施形態における流体ベアリングの断面図である。
【図12】第6の実施形態における制御ブロック図である。
【図13】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【図14】従来技術による流体ベアリングの構成例を示す断面図である。
【符号の説明】
WST ウエハステージ(ステージ装置)
6 移動ステージ(ステージ)
10 露光装置
22 定盤
44 ステージ制御装置(停止手段)
67 エアベアリング(流体ベアリング)
90A〜90D 流量計(検出手段)
100 アクチュエータ(駆動機構)
110 電磁石(駆動機構)
121、131 保護部材
140 変位センサ(検出手段)
【発明の属する技術分野】
本発明は、ステージ装置、露光装置、及びステージ駆動方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体デバイスの製造工程の1つであるリソグラフィ工程においては、マスク又はレチクル(以下、レチクルと称する)に形成された回路パターンをレジスト(感光剤)が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の基板上に転写する種々の露光装置が用いられている。例えば、半導体デバイス用の露光装置としては、近年における集積回路の高集積化に伴うパターンの最小線幅(デバイスルール)微細化に応じて、レチクルのパターンを投影光学系を用いてウエハ上に縮小転写する縮小投影露光装置が主として用いられている。
【0003】
この縮小投影露光装置としては、レチクルのパターンをウエハ上の複数のショット領域(露光領域)に順次転写するステップ・アンド・リピート方式の静止露光型の縮小投影露光装置(いわゆるステッパ)や、このステッパを改良したもので、特開平8−166043号公報等に開示されるようなレチクルとウエハとを一次元方向に同期移動してレチクルパターンをウエハ上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の露光装置(いわゆるスキャニング・ステッパ)が知られている。
【0004】
これらの縮小投影露光装置においては、例えば、ウエハは、ウエハステージに保持されて所定方向に駆動されるが、このウエハステージの駆動には、高精度が要求されるために、ガイドに対するウエハステージの支持部材としては、非接触で駆動し、振動等の外乱を受けないエアベアリング(流体ベアリング)が多く用いられている。
【0005】
図14に、従来技術によるエアベアリングの構成例を示す。
図14に示すように、エアベアリングは、定盤等のガイド面1に対して流体(エア)を放出する放出面2を備えたベアリング本体3と、該ベアリング本体3をステージである移動部材4に接続する支柱5とから構成される。ベアリング本体3には、継手6を介してエアを供給する配管7が接続されており、配管7より供給されたエアは、不図示であるがベアリング本体3内に形成されたオリフィスや溝からガイド面1に向けて放出され、ガイド面1と放出面2とのギャップSを所定の値に維持させつつ、ベアリング本体3を浮上させる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の技術には、以下のような問題が存在する。
ステージの稼働中に、配管7の破損や継手6のゆるみによるエア漏れ等の外的要因や、ベアリング本体3内での異物の詰まりやエアを供給する供給装置の故障等の内的要因により、ベアリング本体3に供給されるエアの流量が所定の流量値よりも減少した場合、ギャップSが狭まり、例えば定盤のガイド面1とベアリング本体3の放出面2とが接触してしまうという問題があった。
【0007】
例えば、エアの流量が所望の流量よりも減少すると、ガイド面1(定盤)と放出面2とが接触し、ベアリング本体3が破損してしまう場合がある。この場合には、ベアリング本体3を交換しなければならず、更に、交換後にギャップSの調整を再度行わなければならないなど、ステージ装置が稼働可能となるまでに多くの復旧時間を必要とした。
また、例えば、配管7が継手6から離脱する等の要因により、エアの供給がほぼ完全に停止すると、ガイド面1に対してベアリング本体3が衝打してしまう場合がある。この場合には、ベアリング本体3がガイド面1を大きく破損させてしまうので、ガイド面1を修復させるために数日もの修復期間を必要とした。
【0008】
更に、通常、1つのステージには複数のエアベアリングを使用しているが、その中の1つのエアベアリングの流量に異常が発生すると、該エアベアリングの放出面と、ガイド面とが接触しなかった場合でも、ステージの動作バランスが崩れ、露光装置としてはスキャン精度に悪影響が発生する。万一、上記の状態を認識することなく露光装置を稼働させて大量の液晶パネルを露光してしまった場合、大量の不良品が発生してしまう可能性があった。そして、これらの異常は、実際にガイド面1とベアリング本体3とが接触してステージが停止するまで発見することが困難であるという問題があった。
【0009】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、流体ベアリングとの接触による定盤の破損を防止することができるステージ装置、露光装置、及びステージ駆動方法を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図1乃至図13に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明のステージ装置は、定盤上を移動するステージ(6)と、該ステージ(6)と定盤(22)との間に設けられ、供給された流体を用いてステージ(6)を定盤(22)に対して浮上させる流体ベアリング(67)と、を有するステージ装置(WST)であって、流体ベアリング(67)と定盤(22)との接触破損を防止する防止手段を備えることを特徴としている。
従って、本発明のステージ装置では、防止手段を備えているので、流体ベアリング(67)が定盤(22)に接触し、定盤(22)が接触破損することを防止することができる。
【0011】
また、本発明のステージ装置は、前記防止手段は、流体ベアリング(67)の動作状態を検出する検出手段を備えることを特徴としており、特に、検出手段(90)は、前記流体の供給流量を検出する、又は検出手段(140)は、流体ベアリング(67)と定盤(22)との間隔(ギャップ)の距離を検出することを特徴としている。
従って、流体ベアリング(67)に供給される流体の流量に変化が生じることに起因して、流体ベアリング(67)と定盤(22)とが接触するおそれがある場合は、直接検出手段(90)により流体の供給流量が検出され、又は、検出手段(140)により流体ベアリング(67)と定盤(22)との間隔(ギャップ)の距離が直接検出される。そのため、流体ベアリング(67)と定盤(22)との接触の危険性を事前に検知することができる。
【0012】
また、本発明のステージ装置は、検出手段(90、140)の検出結果に基づいて、ステージ(6)の移動を停止させる停止手段(44)を備えることを特徴としている。
従って、検出手段(90)からエラー信号を受信した停止手段(44)は、各ステージ制御モータを全停止させて、ステージ装置(WST)を緊急停止させるので、流体ベアリング(67)が定盤(22)に接触し、定盤(22)が接触破損することを防止することができる。
【0013】
また、本発明のステージ装置は、検出手段(90、140)の検出結果に基づいて、流体ベアリング(67)を定盤(22)から離間させる駆動機構(100、110)を有することを特徴としている。
従って、停止手段(44)が緊急停止の信号を発信してもステージ(6)が停止せずに空走してしまった場合でも、異常が検知された流体ベアリング(67)は、定盤(22)から離間するので、ステージ(6)の空走中に流体ベアリング(67)が定盤(22)に接触することを防止することができる。
【0014】
また、本発明のステージ装置は、前記防止手段は、定盤(22)の表面部に対向し、該表面部を形成する部材よりも軟らかい材質で形成され、流体ベアリング(67)を含む、ステージ(6)を構成する構成部材(67、130)に設置された保護部材(121、131)であることを特徴としている。
従って、保護部材(121、131)と定盤(22)とが接触した場合でも、定盤(22)の損傷を防止することができる。そのため、構成部材(67、130)が損傷した場合は、代用品と交換可能であり、更に、交換不可能な定盤(22)を損傷することがないので、ステージ装置(WST)の復旧時間を大幅に短縮することが可能となる。
【0015】
また、本発明の露光装置は、上記に記載されたステージ装置(WST)を搭載することを特徴とするものである。
従って、本発明の露光装置では、ステージ(6)の稼働中に生じた異常を早期に発見することにより、ステージ(6)の動作バランスの崩れも早期に発見できるので、露光装置(10)のスキャン精度に悪影響が発生するのを防止することが可能となる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のステージ装置、露光装置、及びステージ駆動方法の第1の実施形態を、図1乃至図4を参照して説明する。ここでは、露光装置として、レチクルとウエハとを一次元方向(ここではY軸方向とする)に同期移動しつつ、レチクルに形成された半導体デバイスの回路パターンをウエハ上に転写する、ステップ・アンド・スキャン方式、又はステップ・アンド・スティッチ方式からなる走査露光方式の露光装置を使用する場合の例を用いて説明する。
また、この露光装置においては、本発明のステージ装置をウエハステージに適用するものとする。なお、これらの図において、従来例として示した図14と同一の構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
【0017】
図1には、本発明の一実施形態に係る露光装置10の全体構成が概略的に示されている。
露光装置10は、露光用照明光(以下、「照明光」と略述する)ILによりマスクとしてのレチクルR上の矩形状(あるいは円弧状)の照明領域を均一な照度で照明する不図示の照明系と、レチクルRを保持するマスクステージとしてのレチクルステージRSTと、レチクルRから射出される照明光をウエハ(基板)W上に投射する投影光学系PLと、ウエハWを保持する基板ステージとしてのウエハステージ(ステージ装置)WSTと、投影光学系PL、レチクルステージRST及びウエハステージWSTが搭載されたボディとしての本体コラム14と、本体コラム14の振動を抑制あるいは除去する防振システム等を備えている。
【0018】
前記照明光ILとしては、例えば超高圧水銀ランプからの紫外域の輝線(g線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)や、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)及びF2レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV光)などが用いられる。
【0019】
本体コラム14は、床面FDに水平に載置された装置の基準となる矩形板状のベースプレートBPと、このベースプレートBP上面の三角形頂点部分の近傍にそれぞれ配置された防振ユニット16A〜16C(但し、図1においては紙面奥側の防振ユニット16Cは図示せず)及びこれらの防振ユニット16A〜16Cを介してほぼ水平に支持された鏡筒定盤18と、鏡筒定盤18に装着されたファーストインバと呼ばれる投影光学系PLの支持部材24(以下、「ファーストインバ24」と呼ぶ)と、鏡筒定盤18上に立設されたセカンドインバと呼ばれるレチクルステージ定盤25の支持部材26(以下、「セカンドインバ26」と呼ぶ)とを備えている。
【0020】
防振ユニット16A〜16Cは、ベースプレートBPの上部に直列に配置されたアクチュエータ部28と内圧が調整可能なエアマウント30とをそれぞれ含んで構成されている。防振ユニット16A〜16Cの各アクチュエータ部28には、ボイスコイルモータがそれぞれ少なくとも1つ含まれている。この場合、防振ユニット16A〜16Cの全体としてアクチュエータ部に、鉛直方向(即ち、図1のZ方向)駆動用のボイスコイルモータが少なくとも3個、X方向駆動用のボイスコイルモータ及びY方向駆動用のボイスコイルモータが合計で少なくとも3個(但し、X方向駆動用のボイスコイルモータ及びY方向駆動用のボイスコイルモータが各1つ含まれる)含まれている。また、エアマウント30は、防振ユニット16A〜16Cのそれぞれに含まれているが、エアマウント30は鏡筒定盤18を下方から支持するものが少なくとも3つあれば足りる。即ち、防振ユニット16A〜16Cのいずれか1つの代わりに単なる柱を設けても構わない。
【0021】
鏡筒定盤18には、図1では図示が省略されているが、該鏡筒定盤18を含む本体コラム14のZ軸方向の振動を検出する振動センサ(例えば半導体加速度センサ等の加速度計)が少なくとも3つ、X方向、Y方向の振動を検出する振動センサ(例えば半導体加速度センサ等の加速度計)が合計で少なくとも3つ(但し、X方向振動検出用センサ及びY方向振動検出用センサを各1つ含む)取り付けられている。そして、これらの少なくとも6つの振動センサ(以下、便宜上「振動センサ群32」と呼ぶ)の出力が後述する主制御装置50(図4参照)に供給され、該主制御装置50によって本体コラム14の6自由度方向の運動が求められ、防振ユニット16A〜16Cが制御されるようになっている。即ち、本実施形態では、振動センサ群32と防振ユニット16A〜16Cと、主制御装置50とによって本体コラム14の振動を制振するためのアクテイブ防振システムが構成されている。
【0022】
セカンドインバ26は、側面視略台形状で底面及び上面が八角形の多面体の全体形状を有し、各側面に台形状の開口が形成され、底面が完全に開口したフレームである。このセカンドインバ26の上面はレチクルステージ定盤25を支持する支持プレートとされており、該支持プレートには、照明光ILの通路を成す矩形の開口部(不図示)が形成され、この開口部を含む領域の上面にレチクルステージ定盤25が載置されている。レチクルステージ定盤25にも開口部に対向して所定の開口が形成されている。
【0023】
レチクルステージRSTは、上記レチクルステージ定盤25上に配置されている。レチクルステージRSTは、レチクルRをレチクルステージ定盤25上でY軸方向に大きなストロークで直線駆動するとともに、X軸方向及びθZ方向(Z軸回りの回転方向)に関しても微小駆動が可能な構成となっている。
【0024】
レチクルステージRSTは、レチクルステージ定盤25上にY軸方向に沿って設けられた不図示のYガイドに沿って移動するレチクル粗動ステージ11と、このレチクル粗動ステージ11上を一対のXボイスコイルモータ36A、36B(図1では図示せず、図4参照)と一対のYボイスコイルモータ36C、36D(図1では図示せず、図4参照)とによってX、Y、θZ方向に微少駆動されるレチクル微動ステージ12とを含んで構成されている。レチクルRは、レチクル微動ステージ12に、例えば真空吸着等によって固定されている。
【0025】
レチクル粗動ステージ11は、不図示のエアベアリングによってYガイドに対して非接触で支持されており、Yリニアモータ34A、34B(図1では図示せず、図4参照)によってY軸方向に所定ストロークで駆動される構成になっている。本実施形態では、Yリニアモータ34A、34B、Xボイスコイルモータ36A、36B及びYボイスコイルモータ36C、36DによってレチクルステージRSTの駆動系37(図4参照)が構成されている。
【0026】
Yリニアモータ34A、34Bのそれぞれは、レチクルステージ定盤25上に複数のエアベアリングによって浮上支持されY軸方向に延びる固定子と、該固定子に対応して設けられレチクル粗動ステージ11に固定された可動子とから構成されている。従って、本実施形態では、レチクルステージRSTが走査方向(Y軸方向)に移動する際には、一対のYリニアモータ34A、34Bの可動子と固定子とが相対的に逆方向に移動する。即ち、レチクルステージRSTと固定子とが相対的に逆方向に移動する。レチクルステージRSTと固定子とレチクルステージ定盤25との3者間の摩擦が零である場合には、運動量保存の法則が成立し、レチクルステージRSTの移動に伴う固定子の移動量は、レチクルステージRST全体と固定子との重量比で決定される。このため、レチクルステージRSTの走査方向の加減速時の反力は固定子の移動によって吸収されるので、上記反力によってレチクルステージ定盤25が振動するのを効果的に防止することができる。また、レチクルステージRSTと固定子とが相対的に逆方向に移動して、レチクルステージRST、レチクルステージ定盤25等を含む系の全体の重心位置が所定の位置に維持されるので、重心位置の移動による偏荷重が発生しないようになっている。かかる詳細は、例えば、特開平8−63231号公報に記載されている。
【0027】
レチクル微動ステージ12の一部には、その位置や移動量を計測するための位置計測装置であるレチクルレーザ干渉計システム38からの測長ビームを反射する移動鏡40が取り付けられている。レチクルレーザ干渉計システム38は、鏡筒定盤18の上面に固定されている。レチクルレーザ干渉計システム38に対応した固定鏡42は、投影光学系PLの鏡筒の側面に設けられている。そして、レチクルレーザ干渉計システム38によってレチクルステージRST(具体的にはレチクル微動ステージ12)のX,Y,θZ方向の位置計測が投影光学系PLを基準として行われる。
【0028】
上記のレチクルレーザ干渉計システム38によって計測されるレチクルステージRST(即ち、レチクルR)の位置情報(又は速度情報)は、ステージ制御装置44(図1では図示せず、図4参照)及びこれを介して主制御装置50に供給される(図4参照)。ステージ制御装置44は、基本的にはレチクルレーザ干渉計システム38から出力される位置情報(或いは速度情報)が主制御装置50からの指令値(目標位置、目標速度)と一致するように上記のYリニアモータ34A、34B及びボイスコイルモータ36A〜36Dを制御する。
【0029】
前記鏡筒定盤18の中央部には円形開口が形成されており、この円形開口内に上端にフランジが設けられた円筒状部材から成るファーストインバ24が挿入され、このファーストインバ24の内部に投影光学系PLがその光軸方向をZ軸方向として上方から挿入されている。ファーストインバ24の素材としては、低熱膨張の材質、例えばインバー(Inver;ニッケル36%、マンガン0.25%、及び微量の炭素と他の元素を含む鉄からなる低膨張の合金)が用いられている。
【0030】
投影光学系PLの鏡筒部の外周部には、該鏡筒部に一体化された鋳物等から成るフランジFLGが設けられている。フランジFLGは、投影光学系PLをファーストインバ24に対して点と面とV溝とを介して3点で支持するいわゆるキネマティック支持マウントを構成している。このようなキネマティック支持構造を採用すると、投影光学系PLのファーストインバ24に対する組み付けが容易で、しかも組み付け後のファーストインバ24及び投影光学系PLの振動、温度変化、姿勢変化等に起因する応力を最も効果的に軽減できるという利点がある。
【0031】
前記投影光学系PLとしては、ここでは、物体面(レチクルR)側と像面(ウエハW)側の両方がテレセントリックで円形の投影視野を有し、石英や螢石を光学硝材とした屈折光学素子(レンズ素子)のみから成り投影倍率βが1/4(又は1/5)の屈折光学系が使用されている。このため、レチクルRに照明光ILが照射されると、レチクルR上の回路パターン領域のうちの照明光ILによって照明された部分からの結像光束が投影光学系PLに入射し、その回路パターンの部分倒立像が投影光学系PLの像面側の円形視野の中央にスリット状に制限されて結像される。これにより、投影された回路パターンの部分倒立像は、投影光学系PLの結像面に配置されたウエハW上の複数のショット領域のうちの1つのショット領域表面のレジスト層に縮小転写される。
【0032】
図2は、ウエハステージWSTの外観斜視図である。このウエハステージWSTは、ウエハステージ定盤22と、移動ステージ(ステージ)6と、この移動ステージ6を走査方向であるY軸方向に駆動するリニアモータとしてのYモータ(駆動手段)61と、移動ステージ6をステップ移動方向であるX軸方向に駆動するリニアモータとしてのXモータ62とを主体として構成されている。
【0033】
ウエハステージ定盤22は、ベースプレートBPの上方に、防振ユニット(第2駆動装置)29を介してほぼ水平に支持されている。防振ユニット29は、上記防振ユニット16A〜16Cと同様に、アクチュエータ部と内圧が調整可能なエアマウントとをそれぞれ含んだアクテイブ防振システムを構成しており、三角形の頂点をなす三カ所に配置されている(なお、図1、図2では紙面奥側の防振ユニットについては図示せず)。そして、図示していないものの、ウエハステージ定盤22には、定盤22のZ軸方向の振動を検出する振動センサ(例えば半導体加速度センサ等の加速度計)が少なくとも3つ、X方向、Y方向の振動を検出する振動センサ(例えば半導体加速度センサ等の加速度計)が合計で少なくとも3つ(但し、X方向振動検出用センサ及びY方向振動検出用センサを各1つ含む)取り付けられている。そして、これらの少なくとも6つの振動センサ(以下、便宜上「振動センサ群33」と呼ぶ)の出力が後述する主制御装置50(図4参照)に供給され、該主制御装置50によってウエハステージ定盤22の6自由度方向の運動が求められ、防振ユニット29が移動面(平面)22aとほぼ直交するZ方向に駆動されることでベースプレートBPを介してウエハステージ定盤22に伝わる微振動がマイクロGレベルで絶縁されるように制御される。なお、ウエハステージ定盤22の投影光学系PLに対する相対位置は、位置センサ77(図4参照)で検出され主制御装置50に出力される構成になっている。
【0034】
Yモータ61は、Xガイド65の端部にそれぞれ設けられた可動子(他方の部材)68と、ベースプレートBPの上方に反力遮断用フレーム72(図2では不図示、図1参照)を介してほぼ水平に支持され可動子68との間の電磁気的相互作用により可動子68をY方向に相対移動させる固定子(一方の部材)69とから構成されている。反力遮断用フレーム72は、Yモータ61による移動ステージ6の駆動に伴って生じる反力を受けるものであり、フレーム72に支持されることにより、可動子68と固定子69とは振動的に独立して設けられることになる。可動子68の中、+X側に位置する可動子68は、Y軸方向に沿って延設されたYガイド71に沿って移動自在なYキャリッジ70の+X側端部に設けられている。
【0035】
Xモータ62は、X軸方向に沿って延設された固定子63と、移動ステージ6が固定され固定子63との間の電磁気的相互作用により固定子63に対してX方向に相対移動する可動子としてのXキャリッジ64とから構成されている。固定子63は、X軸方向に沿って延設されたXガイド65の上部に設けられている。そして、Xキャリッジ64には、Xガイド65を挟んで移動部材66がXキャリッジ64と一体的に、且つXガイド65に対して移動自在に設けられている。また、移動部材66は、底面側にエアベアリング67が配設されて、定盤22に対して浮上支持されている。
【0036】
図3は、移動ステージ6部を上面から見た概略図である。
移動ステージ6は、ウエハステージ定盤22に対して4つのエアベアリング67A〜67Dで浮上支持されている。各エアベアリングの構成は、図14に示した従来技術と同一であるが、各エアベアリング67A〜67Dには、それぞれにエアを供給する配管7A〜7Dが接続されており、特に、本実施形態では、各配管7A〜7Dに、それぞれ流量計90A〜90Dを設置していることを特徴としている。
【0037】
各流量計90A〜90Dは、各エアベアリング67A〜67Dのベアリング本体に供給されるエアの流量を随時観測するものであり、特に、設定した所望の流量値に対して許容される流量値の限界値である、上限のしきい値と下限のしきい値とを検出する機能を有する。該上限及び下限の各しきい値は、設定自在なのは勿論である。また、各流量計90A〜90Dは、不図示であるが、ウエハステージWSTもしくはそれ以外の露光装置を構成する部材の不動部分に固定される。
【0038】
一方、移動ステージ6上面のX方向一側の端部には、移動鏡79XがY方向に延設され、Y方向の一側の端部には、移動鏡79YがX方向に延設されている(図1では代表的に符号79と図示)。これらの移動鏡79X、79Yに位置検出装置であるウエハレーザ干渉計システム80(図1参照)を構成する各レーザ干渉計からの測長ビームがそれぞれ照射されている。なお、これらの測長ビームに対応する各レーザ干渉計の少なくとも一方は、測長軸を2本有する2軸干渉計が用いられている。
【0039】
ウエハレーザ干渉計システム80を構成する各レーザ干渉計に対応する各固定鏡は、投影光学系PLの鏡筒の下端部に固定されている。ウエハレーザ干渉計システム80は、鏡筒定盤18上面に配置されている。なお、前述の如く、ウエハステージWST上には、移動鏡として移動鏡79X、79Yが設けられ、これに対応して固定鏡もX方向位置計測用の固定鏡とY方向位置計測用の固定鏡とがそれぞれ設けられ、レーザ干渉計もX方向位置計測用のものとY方向位置計測用のものとが設けられているが、図1ではこれらが代表的に移動鏡79、固定鏡81、ウエハレーザ干渉計システム80として示されている。
【0040】
上記のウエハレーザ干渉計システム80によってウエハステージWSTのX,Y,θZ(Z周りの回転)方向の位置計測が投影光学系PLを基準として行われる。そして、ウエハレーザ干渉計システム80によって計測されるウエハステージWSTの位置情報(又は速度情報)はステージ制御装置44及びこれを介して主制御装置50に送られる。ステージ制御装置44は、基本的にはウエハレーザ干渉計システム80から出力される位置情報(或いは速度情報)が主制御装置50から与えられる指令値(目標位置、目標速度)と一致するように上記のYモータ61及びXモータ62を制御する。
【0041】
図4には、本実施形態に係る露光装置10の制御系の主要な構成がブロック図にて示されている。この制御系は、マイクロコンピュータ(あるいはワークステーション)から成る制御系としての主制御装置50を中心として構成されている。この図に示すように、振動センサ群32、33、位置センサ77の計測結果は、主制御装置50に出力される。主制御装置50は、入力した計測結果に基づいて防振ユニット16A〜16C、29の駆動をそれぞれ制御する。ステージ制御装置44は、主制御装置50の制御下で、レチクルレーザ干渉計システム38、ウエハレーザ干渉計システム80、及び流量計67A〜67Dの計測結果に基づいて、Yリニアモータ34A、34B、Xボイスコイルモータ36A、36B、Yボイスコイルモータ36C、36D、Yモータ61、Xモータ62の駆動を制御する。
【0042】
次に、上記の構成の露光装置のうち、まずウエハステージWSTの動作について説明する。
例えば、Yモータ61が作動して可動子68が固定子69に対して相対移動することにより、移動ステージ6がY方向に移動するが、この移動による反力は反力遮断用フレーム72により機械的にベースプレートBP(大地)に伝達されるため、投影光学系PLやウエハステージWSTに振動等の悪影響が及ぶことを防止できる。なお、反力遮断用フレーム72に代えてY方向に移動可能な第2ステージで固定子69を支持することもできる。この場合、移動ステージ6が移動すると、第2ステージは、運動量保存則により移動ステージ6と第2ステージとの重量比に従って移動ステージ6と逆方向に移動する。このため、移動ステージ6の反力が投影光学系PLやウエハステージWSTに振動等の悪影響を及ぼすことはない。
【0043】
移動ステージ6の移動に際しては、主制御装置50からの指示に応じてステージ制御装置44がレーザ干渉計システム80等の計測値に基づいて、移動ステージ6の移動に伴う重心の変化による影響をキャンセルするカウンターフォースを防振ユニット29に対してフィードフォワードで与え、この力を発生するようにエアマウントおよびアクチュエータ部を駆動して、ウエハステージ定盤22の位置を所定の位置に制御する。また、移動ステージ6とウエハステージ定盤22との摩擦が零でない等の理由で、ウエハステージ定盤22の6自由度方向の微少な振動が残留した場合にも、振動センサ群33や位置センサ77の計測値に基づいて上記残留振動を除去すべく、エアマウントおよびアクチュエータ部をフィードバック制御する。
【0044】
一方、移動ステージ6の稼働中に、各エアベアリング67A〜67Dに供給されるエアの流量に変化が生じた場合、具体的には、配管7の破損や継手6のゆるみによるエア漏れ等の外的要因や、ベアリング本体3内での異物の詰まりやエアを供給する供給装置の故障等の内的要因により、各流量計90A〜90Dのいずれかの流量計において、上限のしきい値を超える流量が検出されるか、もしくは下限のしきい値を下回る流量が検出された場合、この異常を検出した流量計90は、エラー信号をステージ制御装置44に送信し、ステージ制御装置44は、各ステージ制御モータを全停止させて、ウエハステージWSTを緊急停止させる。これにより、エアの流量が下限のしきい値よりも低下した場合、定盤の移動面22aとエアベアリング67のエアの放出面2とのギャップSが狭まることに起因してエアベアリング67が定盤22に接触することを事前に防止することができる。また、エアの流量が上限しきい値よりも増加した場合でも、エアの供給装置の故障や配管詰まり等の異常を早期に発見することによって、エアベアリング67が定盤22に接触するのを事前に防止することができる。
ここで、ステージ制御装置44で緊急停止させる場合には、先に述べたように、停止コマンドを送って減速停止させたり、通常の駆動回路から緊急停止用の回路に切り換えて減速停止の制御をするようにしてもよい。
【0045】
なお、流量計90に設定する上限のしきい値及び下限のしきい値は、所望のギャップSを実現する流量、即ち、移動ステージ6の稼働時の定常流量を移動ステージ6の稼働前のギャップS調整時に確認し、その定常流量に基づき、定常流量に近い値にそれぞれ設定することが望ましい。例えば、定常流量が8L/min.(normal)程度である場合は、上限のしきい値を10L/min.(normal)程度に、また、下限のしきい値を6L/min.(normal)程度にそれぞれ設定することによって、異常を早期に検知することが可能となる。
【0046】
次に、露光装置10における露光動作について説明する。
前提として、ウエハW上のショット領域を適正露光量(目標露光量)で走査露光するための各種の露光条件が予め設定される。また、不図示のレチクル顕微鏡及び不図示のオフアクシス・アライメントセンサ等を用いたレチクルアライメント、ベースライン計測等の準備作業が行われ、その後、アライメントセンサを用いたウエハWのファインアライメント(EGA(エンハンスト・グローバル・アライメント)等)が終了し、ウエハW上の複数のショット領域の配列座標が求められる。
【0047】
このようにして、ウエハWの露光のための準備動作が終了すると、ステージ制御装置44では、主制御装置50からの指示に応じてアライメント結果に基づいてウエハレーザ干渉計システム80の計測値をモニタしつつYモータ61及びXモータ62を制御してウエハWの第1ショットの露光のための走査開始位置に移動ステージ6を移動する。
【0048】
そして、ステージ制御装置44では、主制御装置50からの指示に応じてレチクルステージRSTとウエハステージWSTとのY方向の走査を開始し、両ステージRST、WSTがそれぞれの目標走査速度に達すると、照明光ILによってレチクルRのパターン領域が照明され始め、走査露光が開始される。
【0049】
ステージ制御装置44では、特に上記の走査露光時にレチクルステージRSTのY軸方向の移動速度とウエハステージWSTのY軸方向の移動速度とが投影光学系PLの投影倍率(等倍、1/5倍或いは1/4倍)に応じた速度比に維持されるようにレチクルステージRST及びウエハステージWST(移動ステージ6)を同期制御する。
【0050】
そして、レチクルRのパターン領域の異なる領域が照明光ILで逐次照明され、パターン領域全面に対する照明が完了することにより、ウエハW上の第1ショットの走査露光が終了する。これにより、レチクルRのパターンが投影光学系PLを介して第1ショットに縮小転写される。
【0051】
このようにして、第1ショットの走査露光が終了すると、ステージ制御装置44により主制御装置50の指示に応じて移動ステージ6がX、Y軸方向にステップ移動され、第2ショットの露光のため走査開始位置に移動される。このステッピングの際に、ステージ制御装置44ではウエハレーザ干渉計システム80の計測値に基づいて移動ステージ6のX、Y、θZ方向の位置変位をリアルタイムに計測する。この計測結果に基づき、ステージ制御装置44ではXY位置変位が所定の状態になるように移動ステージ6の位置を制御する。
【0052】
そして、主制御装置50の指示に基づきステージ制御装置44では第2ショットに対して上記と同様の走査露光を行う。このようにして、ウエハW上のショットの走査露光と次ショット露光のためのステッピング動作とが繰り返し行われ、ウエハW上の露光対象ショットの全てにレチクルRのパターンが順次転写される。即ち、以上のように、ステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われる。
【0053】
このように、本実施形態では、移動ステージ6の浮上支持部材として使用している各エアベアリング67A〜67Dの配管7A〜7Dに、それぞれ流量計90A〜90Dを配設しているので、各流量計90A〜90Dのいずれかの流量計によって、移動ステージ6の稼働中に生じた異常を早期に発見することにより、エアベアリング67が定盤22に接触するのを事前に防止することができる。
更に、移動ステージ6の動作バランスの崩れも早期に発見できるので、露光装置のスキャン精度に悪影響が発生するのを防止することが可能となる。
【0054】
図5は、本発明の第2の実施形態を示す図である。
この図において、図14に示す従来技術の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第2の実施の形態と上記の第1の実施の形態とが異なる点は、エアベアリング67に、移動部材4に対してベアリング本体3を垂直方向に昇降可能とするアクチュエータ100を備えている点にある。
【0055】
図5に示すように、アクチュエータ100は、エアベアリング67の支柱5において、移動部材4側の固定部と、ベアリング本体3を可動自在に支持するアライメント用ボール8との中間位置に設置されている。アクチュエータ100としては、例えば、応答性が高く、微動作が可能なピエゾ素子を用いた積層型のピエゾアクチュエータが採用される。アクチュエータ100は、各エアベアリング67A〜67Dにそれぞれ設置されており、移動ステージ6が稼働する通常時には伸びた状態に維持するように設定されている。また、図6に示すように、各アクチュエータ100A〜100Dは、それぞれステージ制御装置44に接続されている。なお、移動ステージ6に備えられた他の構成は、上記第1の実施形態と同様である。
【0056】
移動ステージ6の稼働中に、各エアベアリング67A〜67Dのいずれかに供給されるエアの流量に異常が生じた場合、流量計90A〜90Dの中で異常を検出した流量計は、エラー信号をステージ制御装置44に送信し、ステージ制御装置44は、各ステージ駆動用モータを全停止させて、ウエハステージWSTを緊急停止させる。更に、異常を検出した流量計(例えば、流量計90A)が接続されているエアベアリング67Aに備えられたアクチュエータ100Aは、瞬時に縮動作を行い、エアベアリング67Aのエア放出面2を、定盤の移動面22aから更に離間させる。
【0057】
第1の実施形態と同様に、移動ステージ6の稼働時にエアの流量が下限のしきい値よりも低下した場合は、移動ステージ6が緊急停止して、エアベアリング67が定盤22に接触することを事前に防止させる。更に、本実施形態では、万一ステージ制御装置44が緊急停止の信号を発信しても移動ステージ6が停止せずに空走してしまった場合、異常が検知されたエアベアリング67Aのエア放出面2は、移動面22aから更に離間するので、移動ステージ6の空走中にエアベアリング67が定盤22に接触することを防止することが可能となる。各エアベアリング67A〜67Dの中で異常が発生したエアベアリング67Aのアクチュエータ100Aのみを縮動作させるので、正常に作動している各エアベアリング67B〜67Dにより、移動ステージ6の浮上支持は、安定して確保されている。なお、エアの流量が上限しきい値よりも増加した場合は、第1の実施形態と同様に、エアの供給装置の故障や配管詰まり等の異常を早期に発見することによって、エアベアリング67が定盤22に接触するのを事前に防止される。
【0058】
図7は、本発明の第3の実施形態を示す図である。
この図において、図14に示す従来技術の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第3の実施の形態と上記の第2の実施の形態とが異なる点は、アクチュエータ100に代えて、エアベアリング67のベアリング本体3中に電磁石(電磁コイル)110を備えている点にある。
【0059】
図7に示すように、電磁石110は、エアベアリング67のベアリング本体3の内部に埋設されている。上記各実施形態では、定盤22の材質は、特に限定していないが、本実施形態では、定盤22全体、もしくは定盤22の移動面22aは、鉄(Fe)等の磁性体で形成されている。電磁石110は、各エアベアリング67A〜67Dにそれぞれ設置されている。また、図8に示すように、各電磁石110A〜110Dは、それぞれステージ制御装置44に接続されており、移動ステージ6が稼働する通常時には、移動面22aに対して磁界を発生させ、エアの放出による浮力を補助する予圧を与えるように設定されている。なお、移動ステージ6に備えられた他の構成は、上記第1の実施形態と同様である。
【0060】
移動ステージ6の稼働中に、各エアベアリング67A〜67Dのいずれかに供給されるエアの流量に異常が生じた場合、流量計90A〜90Dの中で異常を検出した流量計は、エラー信号をステージ制御装置44に送信し、ステージ制御装置44は、各ステージ駆動用モータを全停止させて、ウエハステージWSTを緊急停止させる。更に、異常を検出した流量計(例えば、流量計90A)が接続されているエアベアリング67Aに備えられた電磁石110Aは、瞬時に移動面22aに対して反発する方向に更に磁界を発生させて、エアの流量減少に伴うギャップSの縮小を補助するように、エアベアリング67Aのエア放出面2を、定盤の移動面22aから離間させる。
【0061】
第1の実施形態と同様に、移動ステージ6の稼働時にエアの流量が下限のしきい値よりも低下した場合は、移動ステージ6が緊急停止して、エアベアリング67が定盤22に接触することを事前に防止させる。更に、本実施形態では、万一ステージ制御装置44が緊急停止の信号を発信しても移動ステージ6が停止せずに空走してしまった場合、異常が検知されたエアベアリング67Aのエア放出面2は、移動面22aから離間し、エアの流量が減少してもギャップSが維持されるので、移動ステージ6の空走中にエアベアリング67が定盤22に接触することを防止することが可能となる。
なお、エアの流量が上限しきい値よりも増加した場合は、第1の実施形態と同様に、エアの供給装置の故障や配管詰まり等の異常を早期に発見することによって、エアベアリング67が定盤22に接触するのを事前に防止される。
【0062】
図9は、本発明の第4の実施形態を示す図である。
この図において、図14に示す従来技術の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第4の実施の形態と上記の各実施の形態とが異なる点は、ベアリング本体のエア放出部は、該エア放出部と対向する定盤の材質よりも軟らかい材質で形成された保護部材からなる点にある。
【0063】
図9に示すように、ベアリング本体120は、定盤22の移動面22aに対向するエアの放出部である保護部材121と、該保護部材121を固定する背面部材122とから構成されている。保護部材121は、エアを移動面22aに対して均一に放出するために多孔質状の部材で形成されてなり、更に、多孔質部材全体、もしくは移動面22aに対向する多孔質部材の放出面121aのみのいずれかに固体潤滑剤を含有することを特徴としている。具体的には、例えば、定盤の材質を、モース硬度が約7のインディアン・ブラック石とすると、保護部材121は、インディアン・ブラック石よりも軟らかい、モース硬度が約3程度の銅(Cu)−ニッケル(Ni)基合金からなる焼結合金等で形成される。特に、保護部材121は、モース硬度が1〜5の範囲を満たすことが望ましい。更に、前記焼結合金には、固体潤滑剤として黒鉛等が混合される。保護部材121は、ステンレススチール等で形成される背面部材122に、拡散結合によって溶着させることによって固定されており、各エアベアリング67A〜67Dのそれぞれに形成されている。なお、移動ステージ6に備えられた他の構成は、上記第2又は第3の実施形態と同様である。
【0064】
本実施形態では、エアベアリング67のエアの放出部に、移動面22aの材質よりも軟らかい材質の保護部材121を備えているので、エアベアリング67と定盤22とが接触した場合、エアベアリング67が損傷し、定盤22の損傷を防止することができる。即ち、エアベアリング67が損傷した場合は、代用品と交換可能であり、更に、交換不可能な定盤22を損傷することがないので、万一、エアベアリング67と定盤22とが接触しても、ステージ装置の復旧時間を大幅に短縮することが可能となる。また、保護部材121は、固体潤滑剤を含有するので、エアベアリング67と定盤22との接触摩擦を減少させることができ、更に効率良く定盤22の損傷を防止することが可能となる。
【0065】
従って、本実施形態と第1の実施形態とを組み合わせることにより、移動ステージ6の稼働時においてエアの流量に異常が生じ、移動ステージ6が緊急停止した後、万一、エアベアリング67が定盤22に接触した場合でも、定盤22の損傷を防止することができる。更に、本実施形態と第2又は第3の実施形態とを組み合わせることにより、移動ステージ6の稼働時においてエアの流量に異常が生じ、移動ステージ6が停止せずに空走を開始した後、万一、異常が検知されたエアベアリング67のエア放出面2が移動面22aから離間しなかったり、又は離間前に瞬間的にエアベアリング67と定盤22が接触したりした場合でも、定盤22の損傷を防止することができる。
【0066】
図10は、本発明の第5の実施形態に係り、定盤22上の移動ステージ6を示す側面図である。
この図において、図14に示す従来技術、及び図1乃至図4に示す第1の実施の形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第5の実施の形態と上記の各実施の形態とが異なる点は、第4の実施の形態で採用した保護部材をエアベアリング67以外に設置した点にある。
【0067】
図10に示すように、移動部材66と移動面22aとの間には、移動部材66を支持する2つのエアベアリング67A、67Bとを備え、更に、各エアベアリング67A、67Bとの間に、保護具130が備えられている。保護具130は、移動面22aに対向する表面に位置して設けられる保護部材131と、該保護部材131を支持する支持プレート132と、該固定プレート132を移動部材66に固定する連結部材133とから構成されている。なお、図10では不図示であるが、図中の移動ステージ6の反対側における移動部材66と移動面22aとの間、即ち、各エアベアリング67C、67Dの設置部にも上記の保護具が設けられているのは勿論である。
【0068】
保護部材131は、第4の実施形態と同様に、多孔質状の部材で形成されてなり、更に、多孔質部材全体、もしくは移動面22aに対向する多孔質部材の表面131aのみのいずれかに固体潤滑剤を含有することを特徴としている。本実施形態においても、保護部材131は、モース硬度が1〜5の範囲を満たすことが望ましい。また、固体潤滑剤としても、黒鉛等が混合される。保護部材131は、ステンレススチール等で形成される支持プレート132に、拡散結合によって溶着させることによって固定されている。保護部材131の材質は、上記第4の実施形態と同様の作用・効果を奏させるために多孔質上の部材としたが、本実施形態は、これに限定するものではなく、移動面22a(定盤22)の材質よりも軟らかい材質、即ち、上記のモース硬度の条件を満たすものであれば好適に使用することができる。なお、移動ステージ6に備えられた他の構成は、上記第1〜第3の実施形態と同様である。
【0069】
本実施形態では、保護部材131の表面131aと移動面22aとのギャップSPは、エアベアリング67と移動面22aとのギャップSよりも小さく設定されている。従って、本実施形態と上記の実施形態とを組み合わせることにより、移動ステージ6の稼働時においてエアの流量に異常が生じ、移動ステージ6が緊急停止した後、万一、ギャップSが狭まり、エアベアリング67が定盤22に接触しそうになった場合でも、エアベアリング67よりも先に保護具130が定盤22に接触するので、定盤22の損傷を防止することができる。
また、保護具130が損傷した場合は、代用品と交換可能であり、更に、交換不可能な定盤22を損傷するがないので、保護具130と定盤22とが接触しても、ステージ装置の復旧時間を大幅に短縮することが可能となる。また、保護部材131は、固体潤滑剤を含有するので、保護具130と定盤22との接触摩擦を減少させることができ、更に効率良く定盤22の損傷を防止することが可能となる。
【0070】
続いて、図11を用いて本発明の第6の実施形態について説明する。
この図において、図14に示す従来技術の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第6の実施の形態と上記の各実施の形態とが異なる点は、上記の実施形態において、エアベアリング67へのエアの供給流量の異常を検出する検出手段として流量計90を採用したが、本実施形態では、変位センサを採用した点にある。変位センサとしては、光学式などの非接触式センサやカンチレバー式のような接触式センサを用いることができる。
【0071】
図11に示すように、ベアリング本体3の側面部には変位センサ140が設置されており、常時移動面22aとの距離を計測している。変位センサ140は、各エアベアリング67A〜67Dにそれぞれ設置されており、各変位センサ140A〜140Dは、図12に示すように、それぞれステージ制御装置44に接続されている。
【0072】
移動ステージ6の稼働中に、各エアベアリング67A〜67Dに供給されるエアの流量に変化が生じた場合、各変位センサ140A〜140Dのいずれかの変位センサは、移動面22aとの距離に異常を検知する、即ち、予め設定した変位の許容範囲の上限値と下限値を超えた値を検出する。この異常を検出した変位センサ140は、エラー信号をステージ制御装置44に送信し、ステージ制御装置44は、各ステージ制御モータを全停止させて、ウエハステージWSTを緊急停止させる。
【0073】
これにより、上記の各実施形態と同様に、エアベアリング67へのエアの供給流量の異常を検出する検出手段として流量計90を採用した場合と同様の作用・効果を奏することが可能となる。
【0074】
なお、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更も加え得ることは勿論である。
上記の実施の形態では、移動ステージ6の支持部材として採用されるエアベアリングについて説明したが、本発明は、これに限定されるものではない。例えば、Xガイド65やYキャリッジ70(図2参照)等に設置されているエアベアリングにも適用可能である。また、移動ステージ6へのエアベアリング67の設置数を4つとしたが、設置数についても、これに限定されないのは勿論である。
【0075】
また、上記実施の形態では、本発明のステージ装置を露光装置10のウエハステージWSTに適用する構成としたが、これに限られず、レチクルステージRSTにも適用可能である。さらに、上記実施の形態では、本発明のステージ装置を露光装置におけるウエハステージに適用した構成としたが、露光装置以外にも転写マスクの描画装置、マスクパターンの位置座標測定装置等の精密測定機器にも適用可能である。
【0076】
なお、本実施の形態の基板としては、半導体デバイス用の半導体ウエハWのみならず、液晶ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版(合成石英、シリコンウエハ)等が適用される。
【0077】
露光装置10としては、レチクルRとウエハWとを同期移動してレチクルRのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(スキャニング・ステッパ;USP5,473,410)の他に、レチクルRとウエハWとを静止した状態でレチクルRのパターンを露光し、ウエハWを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)にも適用することができる。また、本発明はウエハW上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【0078】
露光装置10の種類としては、ウエハWに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【0079】
また、不図示の露光用光源として、超高圧水銀ランプから発生する輝線(g線(436nm)、h線(404nm)、i線(365nm))、KrFエキシマレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(193nm)、F2レーザ(157nm)、Ar2レーザ(126nm)のみならず、電子線やイオンビームなどの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト(LaB6)、タンタル(Ta)を用いることができる。また、YAGレーザや半導体レーザ等の高調波などを用いてもよい。
【0080】
例えば、DFB半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域又は可視域の単一波長レーザを、例えばエルビウム(又はエルビウムとイットリビウムの両方)がドープされたファイバーアンプで増幅し、かつ非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を露光光として用いてもよい。なお、単一波長レーザの発振波長を1.544〜1.553μmの範囲内とすると、193〜194nmの範囲内の8倍高調波、即ちArFエキシマレーザとほぼ同一波長となる紫外光が得られ、発振波長を1.57〜1.58μmの範囲内とすると、157〜158nmの範囲内の10倍高調波、即ちF2レーザとほぼ同一波長となる紫外光が得られる。
【0081】
また、レーザプラズマ光源、又はSORから発生する波長5〜50nm程度の軟X線領域、例えば波長13.4nm、又は11.5nmのEUV(Extreme Ultra Violet)光を露光光として用いてもよく、EUV露光装置では反射型レチクルが用いられ、かつ投影光学系が複数枚(例えば3〜6枚程度)の反射光学素子(ミラー)のみからなる縮小系となっている。
【0082】
投影光学系PLの倍率は、縮小系のみならず等倍系および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系PLとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、F2レーザやX線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし(レチクルRも反射型タイプのものを用いる)、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。
【0083】
各ステージWST、RSTの一方として本発明のステージ装置を適用した場合、他方のステージ装置の駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニット(永久磁石)と、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージWST、RSTを駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージWST、RSTに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージWST、RSTの移動面側(ベース)に設ければよい。
【0084】
以上のように、本願実施形態の露光装置10は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【0085】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図13に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ202、シリコン材料からウエハを製造するステップ203、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに露光する露光処理ステップ204、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)205、検査ステップ206等を経て製造される。
【0086】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、移動ステージの浮上支持部材として使用している流体ベアリングの配管に、流量計を配設しているので、該流量計によって、移動ステージの稼働中に生じた異常を早期に発見することにより、流体ベアリングが定盤に接触して、定盤の破損をするのを事前に防止するという効果を奏する。更に、移動ステージの動作バランスの崩れも早期に発見できるので、露光装置のスキャン精度に悪影響が発生するのを防止するという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す図であって、露光装置の全体構成を概略的に示す図である。
【図2】同露光装置を構成するウエハステージの外観斜視図である。
【図3】第1〜第5の実施形態に係る流量計の配置を示す移動ステージの上面図である。
【図4】第1の実施形態における制御ブロック図である。
【図5】第2の実施形態における流体ベアリングの断面図である。
【図6】第2の実施形態における制御ブロック図である。
【図7】第3の実施形態における流体ベアリングの断面図である。
【図8】第3の実施形態における制御ブロック図である。
【図9】第4の実施形態における流体ベアリングの断面図である。
【図10】第5の実施形態における保護具を説明する移動ステージ6の側面図である。
【図11】第6の実施形態における流体ベアリングの断面図である。
【図12】第6の実施形態における制御ブロック図である。
【図13】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【図14】従来技術による流体ベアリングの構成例を示す断面図である。
【符号の説明】
WST ウエハステージ(ステージ装置)
6 移動ステージ(ステージ)
10 露光装置
22 定盤
44 ステージ制御装置(停止手段)
67 エアベアリング(流体ベアリング)
90A〜90D 流量計(検出手段)
100 アクチュエータ(駆動機構)
110 電磁石(駆動機構)
121、131 保護部材
140 変位センサ(検出手段)
Claims (14)
- 定盤上を移動するステージと、
該ステージと前記定盤との間に設けられ、供給された流体を用いて前記ステージを前記定盤に対して浮上させる流体ベアリングと、
を有するステージ装置であって、
前記流体ベアリングと前記定盤との接触破損を防止する防止手段を備えることを特徴とするステージ装置。 - 前記防止手段は、前記流体ベアリングの動作状態を検出する検出手段を備えることを特徴とする請求項1記載のステージ装置。
- 前記検出手段は、前記流体の供給流量を検出することを特徴とする請求項2記載のステージ装置。
- 前記検出手段は、前記流体ベアリングと前記定盤との間隔の距離を検出することを特徴とする請求項2又は3に記載のステージ装置。
- 前記検出手段の検出結果に基づいて、前記ステージの移動を停止させる停止手段を備えることを特徴とする請求項2から4のいずれか一項に記載のステージ装置。
- 前記検出手段の検出結果に基づいて、前記流体ベアリングを前記定盤から離間させる駆動機構を有することを特徴とする請求項2から5のいずれか一項に記載のステージ装置。
- 前記防止手段は、前記定盤の表面部に対向し、該表面部を形成する部材よりも軟らかい材質で形成され、前記流体ベアリングを含む、前記ステージを構成する構成部材に設置された保護部材であることを特徴とする請求項1記載のステージ装置。
- 前記保護部材は、モース硬度が1〜5の範囲を満たすことを特徴とする請求項7に記載のステージ装置。
- 前記保護部材は、固体潤滑剤を含有することを特徴とする請求項7又は8に記載のステージ装置。
- 請求項1から9のいずれか一項に記載のステージ装置を搭載することを特徴とする露光装置。
- 定盤とステージとの間に流体を供給して、前記ステージを前記定盤に対して浮上移動させるステージ駆動方法であって、
前記ステージと前記定盤との接触破損を防止する防止ステップを含むことを特徴とするステージ駆動方法。 - 前記防止ステップは、前記流体の供給流量を計測する動作を含むことを特徴とする請求項11記載のステージ駆動方法。
- 前記防止ステップは、前記供給流量を計測した結果に基づいて、前記ステージの移動を停止させる動作を含むことを特徴とする請求項11又は12に記載のステージ駆動方法。
- 前記防止ステップは、前記供給流量を計測した結果に基づいて、前記流体ベアリングを前記定盤から離間させる動作を含むことを特徴とする請求項11から13のいずれか一項に記載のステージ駆動方法。
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