JP2004086470A - メダル研磨装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】メダルを短時間できれいに洗浄できるうえ、メダルを乾燥させるためのスペースを必要とせず、装置の小型化を図ることができるメダル研磨洗浄装置を提供する。
【解決手段】入口側に設けられた洗浄液含浸機構２６により湿潤させた上面研磨布１３と下面研磨布１４との間にメダルを通過させることにより、メダルの両面を研磨する。各研磨布１３，１４の裏面側にヒーター装置２５を配置し、研磨布の湿潤状態を適温で保つ。これにより洗浄効果を高めることができるとともに、メダルを乾燥状態で取り出すことができ、乾燥装置のためのスペースが不要となる。
【選択図】 図１
【解決手段】入口側に設けられた洗浄液含浸機構２６により湿潤させた上面研磨布１３と下面研磨布１４との間にメダルを通過させることにより、メダルの両面を研磨する。各研磨布１３，１４の裏面側にヒーター装置２５を配置し、研磨布の湿潤状態を適温で保つ。これにより洗浄効果を高めることができるとともに、メダルを乾燥状態で取り出すことができ、乾燥装置のためのスペースが不要となる。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スロットマシン等の遊技機で使用されるメダルを研磨洗浄するメダル研磨装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
スロットマシン等の遊技機で使用されるメダルは、人手に触れるので汚れ易い。このため遊技者が不快感を感じたり、装置内におけるメダルの循環が妨げられたりしないように、遊技機や計数装置から回収されたときに研磨洗浄する必要がある。メダルの研磨洗浄には水よりも湯を用いる方が好ましく、例えば特開平６−２４３３２４号公報に示されるように、湯槽にメダルを浸漬して洗浄した後、メダルを乾燥させる装置が知られている。
【０００３】
しかしこのような従来のメダル研磨装置では、メダルを浸漬する湯槽のほかにメダルの乾燥装置のためのスペースが必要となり、装置が大型化して設置面積が大きくなるうえに、製作費用も高くなるという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記した従来の問題点を解決し、メダルを短時間できれいに洗浄できるうえ、メダルを乾燥させるためのスペースを必要とせず、装置の小型化を図ることができるメダル研磨洗浄装置を提供するためになされたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するためになされた本発明は、湿潤させた研磨布を相対向させて配置し、これらの研磨布間にメダルを通過させることによりメダルの両面を研磨するメダル研磨装置において、各研磨布の裏面側に研磨布の湿潤状態を適温で保つヒーター装置を配置したことを特徴とするものである。なお、ヒーター装置の近傍に、発生する蒸気を処理する蒸気処理装置を設けることが好ましい。
【０００６】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の好ましい実施の形態を詳細に説明する。
本発明のメダル研磨装置は遊技機より回収されてくるメダルや計数装置から回収されるメダルを研磨洗浄するための装置であり、図４に示されるように、メダル搬送手段２と研磨洗浄手段３とからなる。
【０００７】
メダル搬送手段２はベルト駆動機構４と該ベルト駆動機構４に取り付けられて連繋される多数のコ字形のメダル搬送部材５とよりなる。ベルト駆動機構４は図４に示されるようにベース１ａと上面を傾斜させた支持側板１ｂとからなるフレーム１に取り付けられるもので、モータ６と、該モータ６の出力軸６ａに固定される駆動プーリ７と、該駆動プーリ７と歯付きベルト７ａを介して連繋される従動プーリ８と、該従動プーリ８と同軸に設けられる従動プーリ９を含めて左右の支持側板１ｂの各４隅に枢着される４対の従動プーリ９と、該各従動プーリ９対に巻き掛けられる歯付きベルト１０、１０とからなる。
【０００８】
メダル搬送部材５は、図２に示されるように対向する両側辺を歯付きベルト１０、１０にボルト止めして歯付きベルト１０、１０間に張架したもので、連繋されたメダル搬送部材５の中央にはメダル保持枠部１１が形成されている。またメダル搬送部材５はメダルの厚みより薄い薄板からなるものである。メダル搬送部材５のメダル保持枠部１１は、進行方向側には一枚のメダルが余裕をもって格納できる寸法としているが、進行方向と直交する横方向には複数枚のメダルが余裕をもって格納できる寸法としている。
【０００９】
研磨洗浄手段３は、メダル搬送部材５を表裏から挟み込むように設けられた上面研磨布１３と下面研磨布１４を備えている。これらの上面研磨布１３と下面研磨布１４は、メダルの厚み以下の厚さのメダル搬送部材５を挟み込むように配置され、相互に直接接触することはない。上面研磨布１３と下面研磨布１４は厚手で芯が強い材質のもので、メダル搬送部材５に保持されて搬送されるメダルの表裏全体に均一な接触圧を加えることができる。また、上面研磨布１３と下面研磨布１４は、両側縁を抑え板１５、１５により押圧されている。
【００１０】
なお、図４に示される１６は上面研磨布１３と下面研磨布１４の間歇送り出し機構である。間歇送り出し機構１６は、上面研磨布１３や下面研磨布１４がメダルの研磨洗浄により汚損されたとき一定量送り出されて新しい研磨洗浄面に置き換えるためのものである。間歇送り出し機構１６は、後側支持板１ｂの上下に払出し軸１７ａ、１７ｂと巻取り軸１８ａ、１８ｂとを設けたもので、払出し軸１７ａ、１７ｂには未使用のロール状の研磨布が装着され、巻取り軸１８ａ、１８ｂに使用済みの研磨布が巻き取られるようになっている。巻取り軸１８ａ、１８ｂは駆動モータと歯付きベルトを介して連繋されて回転駆動される。間歇送り出し機構１６はタイマーにより間歇駆動される。
【００１１】
１９は上面研磨布１３と下面研磨布１４のガイド機構であり、該ガイド機構１９は図１に示されるように研磨洗浄手段３の前後端にメダル搬送部材５を表裏から挟み込むよう配置させた小径ガイドローラ１９ａ、１９ａと前記した抑え板１５、１５を支持する押圧部材２０の両端に枢着されるガイドローラ２０ａ、２０ａと、該ガイドローラ２０ａ、２０ａより内側に配置された研磨布送出量検出機構２２、２２とからなる。２１は使用済み研磨布ロールに当接して弛みを防止する押えローラであり、該押えローラ２１は支持板１ｂにばねを介してスライド自在に取り付けられ、ロール径の変動に対応できるようになっている。前記研磨布送出量検出機構２２、２２は研磨布を巻き掛けるピッチローラ２３、２３と、ピッチローラ２３、２３に設けられた４個のピッチ板２３ａ、２３ａとピッチ板２３ａ、２３ａをカウントするフォトセンサ２４からなり、送出される研磨布により回転されるピッチローラ２３、２３のピッチ板２３ａ、２３ａをフォトセンサ２４によりカウントすることにより研磨布の送り出し量を規制する。
【００１２】
上面研磨布１３と下面研磨布１４の入口側には、研磨布と同幅のノズル２６ａを備えた洗浄液含浸機構２６が設けられている。ノズル２６ａには図示しない洗浄液供給パイプを接続し、メダルの表裏両面および上面研磨布１３、下面研磨布１４を洗浄液で含浸湿潤させる。洗浄液は、界面活性剤を含有させた水性のものが使用される。この洗浄液含浸機構２６によって、上面研磨布１３と下面研磨布１４との入口部分は湿潤状態に保たれる。
【００１３】
更に本発明では、上面研磨布１３と下面研磨布１４の裏面側に研磨布の湿潤状態を適温で保つヒーター装置２５を配置してある。ヒーター装置２５は図１に示されるように、上面研磨布１３の上方に近接配置させた平板状ヒーター２５ａと、下面研磨布１４の下方に近接配置させた平板状ヒーター２５ｂとよりなるものである。これらのヒーター装置２５は研磨洗浄手段３のほぼ全長にわたり設けられており、洗浄液含浸機構２６により洗浄液が含浸された上面・下面研磨布１３、１４の湿潤状態を適温で保つことにより、洗浄効果を高める。適温とは、４０℃から７０℃であり、この間が最も洗浄性能を高めることができる。
【００１４】
このようにメダルは入口側では洗浄液により濡れた状態となるが、濡れたメダルはヒーター装置２５により出口側に向かうに従い水分が減少している上面・下面研磨布１３、１４により洗浄液を吸い取られ、乾燥状態で排出される。このため、研磨洗浄後のメダルは直ちに遊技機に配給できることとなる。なお、湿潤された上面・下面研磨布１３、１４がヒーター装置２５により加熱されると洗浄液中の水分が水蒸気となるので、ヒーター装置２５の近傍に、発生する蒸気を排気処理するダクト等の蒸気処理装置を設けておくことが好ましい。
【００１５】
３０は研磨洗浄が完了したメダルを排出する排出機構であり、該排出機構３０は図１に示されるように研磨洗浄手段３の終端に続かせたメダル搬送部材５の裏側に上部開口を臨ませた排出シュート３１からなるもので、排出シュート３１の上部開口はメダル保持枠部１１より若干大きいものとして、研磨洗浄手段３のメダル保持枠部１１をメダルが速やかに排出されるようにしている。
【００１６】
図６、図７に示されるように、本発明のメダル研磨装置により研磨されたメダルは、メダル揚送装置４０のリフト機構４２により設置島上部の貯留タンク４３に揚送される。そして貯留タンク４３に設けられたメダル補給機構４４を介してメダル配給車Ｍへメダルを供給したうえ、各遊技機に配送される。
【００１７】
このように構成された本発明のメダル研磨装置は、メダル保持枠部１１内にメダルを格納し、入口側を洗浄液含浸機構２６により湿潤された上面研磨布１３と下面研磨布１４との間を進行させながら表裏両面を研磨洗浄する。このように洗浄液が含浸された上面研磨布１３と下面研磨布１４を通過させることにより、メダルは汚れや手脂、タバコのヤニを分解されたうえ拭い取られることとなる。しかもヒーター装置２５によって上面研磨布１３と下面研磨布１４は加熱されているので、研磨布の湿潤状態を適温で保つことができ、優れた洗浄効果を得ることができる。しかもメダルも加熱されるうえ、上面研磨布１３と下面研磨布１４は出口側に向かうほど加熱されて乾燥されているので、研磨洗浄が完了したメダルは水分を十分に除去され、乾燥された状態で排出機構３０から排出されることとなる。従って従来のように、乾燥装置を設置する必要がない。
【００１８】
【発明の効果】
以上の説明により明らかなように、本発明のメダル研磨装置によれば、各研磨布の裏面側に研磨布の湿潤状態を適温で保つヒーター装置を配置したことによって、メダルを短時間できれいに洗浄できるうえ、従来のようにメダルを乾燥させるためのスペースを必要とせず、装置の小型化を図ることができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の好ましい実施の形態の要部を示す正面図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】メダル保持枠部の拡大断面図である。
【図４】メダル研磨装置の正面図である。
【図５】メダル研磨装置の側面図である。
【図６】使用状態を示す正面図である。
【図７】図６の側面図である。
【符号の説明】
１ フレーム
１ａ ベース
１ｂ 支持側板
２ メダル搬送手段
３ 研磨洗浄手段
４ ベルト駆動機構
５ メダル搬送部材
６ モータ
６ａ 出力軸
７ 駆動プーリ
７ａ 歯付きベルト
８ 従動プーリ
９ 従動プーリ
１０ 歯付きベルト
１１ メダル保持枠部
１３ 上面研磨布
１４ 下面研磨布
１５ 抑え板
１６ 間歇送り出し機構
１７ａ払出し軸
１７ｂ払出し軸
１８ａ巻取り軸
１８ｂ巻取り軸
１９ ガイド機構
１９ａ小径ガイドローラ
２０ 押圧部材
２０ａガイドローラ
２１ 押えローラ
２２ 研磨布送出量検出機構
２３ ピッチローラ
２３ａピッチ板
２４ フォトセンサ
２５ ヒーター装置
２５ａ平板状ヒーター
２５ｂ平板状ヒーター
２６ 洗浄液含浸機構
２６ａノズル
３０ 排出機構
３１ 排出シュート
４０ メダル揚送装置
４２ リフト機構
４３ 貯留タンク
４４ メダル補給機構
【発明の属する技術分野】
本発明は、スロットマシン等の遊技機で使用されるメダルを研磨洗浄するメダル研磨装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
スロットマシン等の遊技機で使用されるメダルは、人手に触れるので汚れ易い。このため遊技者が不快感を感じたり、装置内におけるメダルの循環が妨げられたりしないように、遊技機や計数装置から回収されたときに研磨洗浄する必要がある。メダルの研磨洗浄には水よりも湯を用いる方が好ましく、例えば特開平６−２４３３２４号公報に示されるように、湯槽にメダルを浸漬して洗浄した後、メダルを乾燥させる装置が知られている。
【０００３】
しかしこのような従来のメダル研磨装置では、メダルを浸漬する湯槽のほかにメダルの乾燥装置のためのスペースが必要となり、装置が大型化して設置面積が大きくなるうえに、製作費用も高くなるという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記した従来の問題点を解決し、メダルを短時間できれいに洗浄できるうえ、メダルを乾燥させるためのスペースを必要とせず、装置の小型化を図ることができるメダル研磨洗浄装置を提供するためになされたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するためになされた本発明は、湿潤させた研磨布を相対向させて配置し、これらの研磨布間にメダルを通過させることによりメダルの両面を研磨するメダル研磨装置において、各研磨布の裏面側に研磨布の湿潤状態を適温で保つヒーター装置を配置したことを特徴とするものである。なお、ヒーター装置の近傍に、発生する蒸気を処理する蒸気処理装置を設けることが好ましい。
【０００６】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の好ましい実施の形態を詳細に説明する。
本発明のメダル研磨装置は遊技機より回収されてくるメダルや計数装置から回収されるメダルを研磨洗浄するための装置であり、図４に示されるように、メダル搬送手段２と研磨洗浄手段３とからなる。
【０００７】
メダル搬送手段２はベルト駆動機構４と該ベルト駆動機構４に取り付けられて連繋される多数のコ字形のメダル搬送部材５とよりなる。ベルト駆動機構４は図４に示されるようにベース１ａと上面を傾斜させた支持側板１ｂとからなるフレーム１に取り付けられるもので、モータ６と、該モータ６の出力軸６ａに固定される駆動プーリ７と、該駆動プーリ７と歯付きベルト７ａを介して連繋される従動プーリ８と、該従動プーリ８と同軸に設けられる従動プーリ９を含めて左右の支持側板１ｂの各４隅に枢着される４対の従動プーリ９と、該各従動プーリ９対に巻き掛けられる歯付きベルト１０、１０とからなる。
【０００８】
メダル搬送部材５は、図２に示されるように対向する両側辺を歯付きベルト１０、１０にボルト止めして歯付きベルト１０、１０間に張架したもので、連繋されたメダル搬送部材５の中央にはメダル保持枠部１１が形成されている。またメダル搬送部材５はメダルの厚みより薄い薄板からなるものである。メダル搬送部材５のメダル保持枠部１１は、進行方向側には一枚のメダルが余裕をもって格納できる寸法としているが、進行方向と直交する横方向には複数枚のメダルが余裕をもって格納できる寸法としている。
【０００９】
研磨洗浄手段３は、メダル搬送部材５を表裏から挟み込むように設けられた上面研磨布１３と下面研磨布１４を備えている。これらの上面研磨布１３と下面研磨布１４は、メダルの厚み以下の厚さのメダル搬送部材５を挟み込むように配置され、相互に直接接触することはない。上面研磨布１３と下面研磨布１４は厚手で芯が強い材質のもので、メダル搬送部材５に保持されて搬送されるメダルの表裏全体に均一な接触圧を加えることができる。また、上面研磨布１３と下面研磨布１４は、両側縁を抑え板１５、１５により押圧されている。
【００１０】
なお、図４に示される１６は上面研磨布１３と下面研磨布１４の間歇送り出し機構である。間歇送り出し機構１６は、上面研磨布１３や下面研磨布１４がメダルの研磨洗浄により汚損されたとき一定量送り出されて新しい研磨洗浄面に置き換えるためのものである。間歇送り出し機構１６は、後側支持板１ｂの上下に払出し軸１７ａ、１７ｂと巻取り軸１８ａ、１８ｂとを設けたもので、払出し軸１７ａ、１７ｂには未使用のロール状の研磨布が装着され、巻取り軸１８ａ、１８ｂに使用済みの研磨布が巻き取られるようになっている。巻取り軸１８ａ、１８ｂは駆動モータと歯付きベルトを介して連繋されて回転駆動される。間歇送り出し機構１６はタイマーにより間歇駆動される。
【００１１】
１９は上面研磨布１３と下面研磨布１４のガイド機構であり、該ガイド機構１９は図１に示されるように研磨洗浄手段３の前後端にメダル搬送部材５を表裏から挟み込むよう配置させた小径ガイドローラ１９ａ、１９ａと前記した抑え板１５、１５を支持する押圧部材２０の両端に枢着されるガイドローラ２０ａ、２０ａと、該ガイドローラ２０ａ、２０ａより内側に配置された研磨布送出量検出機構２２、２２とからなる。２１は使用済み研磨布ロールに当接して弛みを防止する押えローラであり、該押えローラ２１は支持板１ｂにばねを介してスライド自在に取り付けられ、ロール径の変動に対応できるようになっている。前記研磨布送出量検出機構２２、２２は研磨布を巻き掛けるピッチローラ２３、２３と、ピッチローラ２３、２３に設けられた４個のピッチ板２３ａ、２３ａとピッチ板２３ａ、２３ａをカウントするフォトセンサ２４からなり、送出される研磨布により回転されるピッチローラ２３、２３のピッチ板２３ａ、２３ａをフォトセンサ２４によりカウントすることにより研磨布の送り出し量を規制する。
【００１２】
上面研磨布１３と下面研磨布１４の入口側には、研磨布と同幅のノズル２６ａを備えた洗浄液含浸機構２６が設けられている。ノズル２６ａには図示しない洗浄液供給パイプを接続し、メダルの表裏両面および上面研磨布１３、下面研磨布１４を洗浄液で含浸湿潤させる。洗浄液は、界面活性剤を含有させた水性のものが使用される。この洗浄液含浸機構２６によって、上面研磨布１３と下面研磨布１４との入口部分は湿潤状態に保たれる。
【００１３】
更に本発明では、上面研磨布１３と下面研磨布１４の裏面側に研磨布の湿潤状態を適温で保つヒーター装置２５を配置してある。ヒーター装置２５は図１に示されるように、上面研磨布１３の上方に近接配置させた平板状ヒーター２５ａと、下面研磨布１４の下方に近接配置させた平板状ヒーター２５ｂとよりなるものである。これらのヒーター装置２５は研磨洗浄手段３のほぼ全長にわたり設けられており、洗浄液含浸機構２６により洗浄液が含浸された上面・下面研磨布１３、１４の湿潤状態を適温で保つことにより、洗浄効果を高める。適温とは、４０℃から７０℃であり、この間が最も洗浄性能を高めることができる。
【００１４】
このようにメダルは入口側では洗浄液により濡れた状態となるが、濡れたメダルはヒーター装置２５により出口側に向かうに従い水分が減少している上面・下面研磨布１３、１４により洗浄液を吸い取られ、乾燥状態で排出される。このため、研磨洗浄後のメダルは直ちに遊技機に配給できることとなる。なお、湿潤された上面・下面研磨布１３、１４がヒーター装置２５により加熱されると洗浄液中の水分が水蒸気となるので、ヒーター装置２５の近傍に、発生する蒸気を排気処理するダクト等の蒸気処理装置を設けておくことが好ましい。
【００１５】
３０は研磨洗浄が完了したメダルを排出する排出機構であり、該排出機構３０は図１に示されるように研磨洗浄手段３の終端に続かせたメダル搬送部材５の裏側に上部開口を臨ませた排出シュート３１からなるもので、排出シュート３１の上部開口はメダル保持枠部１１より若干大きいものとして、研磨洗浄手段３のメダル保持枠部１１をメダルが速やかに排出されるようにしている。
【００１６】
図６、図７に示されるように、本発明のメダル研磨装置により研磨されたメダルは、メダル揚送装置４０のリフト機構４２により設置島上部の貯留タンク４３に揚送される。そして貯留タンク４３に設けられたメダル補給機構４４を介してメダル配給車Ｍへメダルを供給したうえ、各遊技機に配送される。
【００１７】
このように構成された本発明のメダル研磨装置は、メダル保持枠部１１内にメダルを格納し、入口側を洗浄液含浸機構２６により湿潤された上面研磨布１３と下面研磨布１４との間を進行させながら表裏両面を研磨洗浄する。このように洗浄液が含浸された上面研磨布１３と下面研磨布１４を通過させることにより、メダルは汚れや手脂、タバコのヤニを分解されたうえ拭い取られることとなる。しかもヒーター装置２５によって上面研磨布１３と下面研磨布１４は加熱されているので、研磨布の湿潤状態を適温で保つことができ、優れた洗浄効果を得ることができる。しかもメダルも加熱されるうえ、上面研磨布１３と下面研磨布１４は出口側に向かうほど加熱されて乾燥されているので、研磨洗浄が完了したメダルは水分を十分に除去され、乾燥された状態で排出機構３０から排出されることとなる。従って従来のように、乾燥装置を設置する必要がない。
【００１８】
【発明の効果】
以上の説明により明らかなように、本発明のメダル研磨装置によれば、各研磨布の裏面側に研磨布の湿潤状態を適温で保つヒーター装置を配置したことによって、メダルを短時間できれいに洗浄できるうえ、従来のようにメダルを乾燥させるためのスペースを必要とせず、装置の小型化を図ることができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の好ましい実施の形態の要部を示す正面図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】メダル保持枠部の拡大断面図である。
【図４】メダル研磨装置の正面図である。
【図５】メダル研磨装置の側面図である。
【図６】使用状態を示す正面図である。
【図７】図６の側面図である。
【符号の説明】
１ フレーム
１ａ ベース
１ｂ 支持側板
２ メダル搬送手段
３ 研磨洗浄手段
４ ベルト駆動機構
５ メダル搬送部材
６ モータ
６ａ 出力軸
７ 駆動プーリ
７ａ 歯付きベルト
８ 従動プーリ
９ 従動プーリ
１０ 歯付きベルト
１１ メダル保持枠部
１３ 上面研磨布
１４ 下面研磨布
１５ 抑え板
１６ 間歇送り出し機構
１７ａ払出し軸
１７ｂ払出し軸
１８ａ巻取り軸
１８ｂ巻取り軸
１９ ガイド機構
１９ａ小径ガイドローラ
２０ 押圧部材
２０ａガイドローラ
２１ 押えローラ
２２ 研磨布送出量検出機構
２３ ピッチローラ
２３ａピッチ板
２４ フォトセンサ
２５ ヒーター装置
２５ａ平板状ヒーター
２５ｂ平板状ヒーター
２６ 洗浄液含浸機構
２６ａノズル
３０ 排出機構
３１ 排出シュート
４０ メダル揚送装置
４２ リフト機構
４３ 貯留タンク
４４ メダル補給機構
Claims (2)
- 湿潤させた研磨布を相対向させて配置し、これらの研磨布間にメダルを通過させることによりメダルの両面を研磨するメダル研磨装置において、各研磨布の裏面側に研磨布の湿潤状態を適温で保つヒーター装置を配置したことを特徴とするメダル研磨装置。
- ヒーター装置の近傍に、発生する蒸気を処理する蒸気処理装置を設けた請求項１記載のメダル研磨装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002245418A JP3767815B2 (ja) | 2002-08-26 | 2002-08-26 | メダル研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002245418A JP3767815B2 (ja) | 2002-08-26 | 2002-08-26 | メダル研磨装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004086470A true JP2004086470A (ja) | 2004-03-18 |
| JP3767815B2 JP3767815B2 (ja) | 2006-04-19 |
Family
ID=32053609
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002245418A Expired - Fee Related JP3767815B2 (ja) | 2002-08-26 | 2002-08-26 | メダル研磨装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3767815B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006054468A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| US7397533B2 (en) * | 2004-12-07 | 2008-07-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
2002
- 2002-08-26 JP JP2002245418A patent/JP3767815B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006054468A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| US7397533B2 (en) * | 2004-12-07 | 2008-07-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3767815B2 (ja) | 2006-04-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050926 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060124 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060126 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120210 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120210 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150210 Year of fee payment: 9 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |