JP2004086470A - メダル研磨装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】入口側に設けられた洗浄液含浸機構26により湿潤させた上面研磨布13と下面研磨布14との間にメダルを通過させることにより、メダルの両面を研磨する。各研磨布13,14の裏面側にヒーター装置25を配置し、研磨布の湿潤状態を適温で保つ。これにより洗浄効果を高めることができるとともに、メダルを乾燥状態で取り出すことができ、乾燥装置のためのスペースが不要となる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、スロットマシン等の遊技機で使用されるメダルを研磨洗浄するメダル研磨装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
スロットマシン等の遊技機で使用されるメダルは、人手に触れるので汚れ易い。このため遊技者が不快感を感じたり、装置内におけるメダルの循環が妨げられたりしないように、遊技機や計数装置から回収されたときに研磨洗浄する必要がある。メダルの研磨洗浄には水よりも湯を用いる方が好ましく、例えば特開平6−243324号公報に示されるように、湯槽にメダルを浸漬して洗浄した後、メダルを乾燥させる装置が知られている。
【0003】
しかしこのような従来のメダル研磨装置では、メダルを浸漬する湯槽のほかにメダルの乾燥装置のためのスペースが必要となり、装置が大型化して設置面積が大きくなるうえに、製作費用も高くなるという問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記した従来の問題点を解決し、メダルを短時間できれいに洗浄できるうえ、メダルを乾燥させるためのスペースを必要とせず、装置の小型化を図ることができるメダル研磨洗浄装置を提供するためになされたものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するためになされた本発明は、湿潤させた研磨布を相対向させて配置し、これらの研磨布間にメダルを通過させることによりメダルの両面を研磨するメダル研磨装置において、各研磨布の裏面側に研磨布の湿潤状態を適温で保つヒーター装置を配置したことを特徴とするものである。なお、ヒーター装置の近傍に、発生する蒸気を処理する蒸気処理装置を設けることが好ましい。
【0006】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の好ましい実施の形態を詳細に説明する。
本発明のメダル研磨装置は遊技機より回収されてくるメダルや計数装置から回収されるメダルを研磨洗浄するための装置であり、図4に示されるように、メダル搬送手段2と研磨洗浄手段3とからなる。
【0007】
メダル搬送手段2はベルト駆動機構4と該ベルト駆動機構4に取り付けられて連繋される多数のコ字形のメダル搬送部材5とよりなる。ベルト駆動機構4は図4に示されるようにベース1aと上面を傾斜させた支持側板1bとからなるフレーム1に取り付けられるもので、モータ6と、該モータ6の出力軸6aに固定される駆動プーリ7と、該駆動プーリ7と歯付きベルト7aを介して連繋される従動プーリ8と、該従動プーリ8と同軸に設けられる従動プーリ9を含めて左右の支持側板1bの各4隅に枢着される4対の従動プーリ9と、該各従動プーリ9対に巻き掛けられる歯付きベルト10、10とからなる。
【0008】
メダル搬送部材5は、図2に示されるように対向する両側辺を歯付きベルト10、10にボルト止めして歯付きベルト10、10間に張架したもので、連繋されたメダル搬送部材5の中央にはメダル保持枠部11が形成されている。またメダル搬送部材5はメダルの厚みより薄い薄板からなるものである。メダル搬送部材5のメダル保持枠部11は、進行方向側には一枚のメダルが余裕をもって格納できる寸法としているが、進行方向と直交する横方向には複数枚のメダルが余裕をもって格納できる寸法としている。
【0009】
研磨洗浄手段3は、メダル搬送部材5を表裏から挟み込むように設けられた上面研磨布13と下面研磨布14を備えている。これらの上面研磨布13と下面研磨布14は、メダルの厚み以下の厚さのメダル搬送部材5を挟み込むように配置され、相互に直接接触することはない。上面研磨布13と下面研磨布14は厚手で芯が強い材質のもので、メダル搬送部材5に保持されて搬送されるメダルの表裏全体に均一な接触圧を加えることができる。また、上面研磨布13と下面研磨布14は、両側縁を抑え板15、15により押圧されている。
【0010】
なお、図4に示される16は上面研磨布13と下面研磨布14の間歇送り出し機構である。間歇送り出し機構16は、上面研磨布13や下面研磨布14がメダルの研磨洗浄により汚損されたとき一定量送り出されて新しい研磨洗浄面に置き換えるためのものである。間歇送り出し機構16は、後側支持板1bの上下に払出し軸17a、17bと巻取り軸18a、18bとを設けたもので、払出し軸17a、17bには未使用のロール状の研磨布が装着され、巻取り軸18a、18bに使用済みの研磨布が巻き取られるようになっている。巻取り軸18a、18bは駆動モータと歯付きベルトを介して連繋されて回転駆動される。間歇送り出し機構16はタイマーにより間歇駆動される。
【0011】
19は上面研磨布13と下面研磨布14のガイド機構であり、該ガイド機構19は図1に示されるように研磨洗浄手段3の前後端にメダル搬送部材5を表裏から挟み込むよう配置させた小径ガイドローラ19a、19aと前記した抑え板15、15を支持する押圧部材20の両端に枢着されるガイドローラ20a、20aと、該ガイドローラ20a、20aより内側に配置された研磨布送出量検出機構22、22とからなる。21は使用済み研磨布ロールに当接して弛みを防止する押えローラであり、該押えローラ21は支持板1bにばねを介してスライド自在に取り付けられ、ロール径の変動に対応できるようになっている。前記研磨布送出量検出機構22、22は研磨布を巻き掛けるピッチローラ23、23と、ピッチローラ23、23に設けられた4個のピッチ板23a、23aとピッチ板23a、23aをカウントするフォトセンサ24からなり、送出される研磨布により回転されるピッチローラ23、23のピッチ板23a、23aをフォトセンサ24によりカウントすることにより研磨布の送り出し量を規制する。
【0012】
上面研磨布13と下面研磨布14の入口側には、研磨布と同幅のノズル26aを備えた洗浄液含浸機構26が設けられている。ノズル26aには図示しない洗浄液供給パイプを接続し、メダルの表裏両面および上面研磨布13、下面研磨布14を洗浄液で含浸湿潤させる。洗浄液は、界面活性剤を含有させた水性のものが使用される。この洗浄液含浸機構26によって、上面研磨布13と下面研磨布14との入口部分は湿潤状態に保たれる。
【0013】
更に本発明では、上面研磨布13と下面研磨布14の裏面側に研磨布の湿潤状態を適温で保つヒーター装置25を配置してある。ヒーター装置25は図1に示されるように、上面研磨布13の上方に近接配置させた平板状ヒーター25aと、下面研磨布14の下方に近接配置させた平板状ヒーター25bとよりなるものである。これらのヒーター装置25は研磨洗浄手段3のほぼ全長にわたり設けられており、洗浄液含浸機構26により洗浄液が含浸された上面・下面研磨布13、14の湿潤状態を適温で保つことにより、洗浄効果を高める。適温とは、40℃から70℃であり、この間が最も洗浄性能を高めることができる。
【0014】
このようにメダルは入口側では洗浄液により濡れた状態となるが、濡れたメダルはヒーター装置25により出口側に向かうに従い水分が減少している上面・下面研磨布13、14により洗浄液を吸い取られ、乾燥状態で排出される。このため、研磨洗浄後のメダルは直ちに遊技機に配給できることとなる。なお、湿潤された上面・下面研磨布13、14がヒーター装置25により加熱されると洗浄液中の水分が水蒸気となるので、ヒーター装置25の近傍に、発生する蒸気を排気処理するダクト等の蒸気処理装置を設けておくことが好ましい。
【0015】
30は研磨洗浄が完了したメダルを排出する排出機構であり、該排出機構30は図1に示されるように研磨洗浄手段3の終端に続かせたメダル搬送部材5の裏側に上部開口を臨ませた排出シュート31からなるもので、排出シュート31の上部開口はメダル保持枠部11より若干大きいものとして、研磨洗浄手段3のメダル保持枠部11をメダルが速やかに排出されるようにしている。
【0016】
図6、図7に示されるように、本発明のメダル研磨装置により研磨されたメダルは、メダル揚送装置40のリフト機構42により設置島上部の貯留タンク43に揚送される。そして貯留タンク43に設けられたメダル補給機構44を介してメダル配給車Mへメダルを供給したうえ、各遊技機に配送される。
【0017】
このように構成された本発明のメダル研磨装置は、メダル保持枠部11内にメダルを格納し、入口側を洗浄液含浸機構26により湿潤された上面研磨布13と下面研磨布14との間を進行させながら表裏両面を研磨洗浄する。このように洗浄液が含浸された上面研磨布13と下面研磨布14を通過させることにより、メダルは汚れや手脂、タバコのヤニを分解されたうえ拭い取られることとなる。しかもヒーター装置25によって上面研磨布13と下面研磨布14は加熱されているので、研磨布の湿潤状態を適温で保つことができ、優れた洗浄効果を得ることができる。しかもメダルも加熱されるうえ、上面研磨布13と下面研磨布14は出口側に向かうほど加熱されて乾燥されているので、研磨洗浄が完了したメダルは水分を十分に除去され、乾燥された状態で排出機構30から排出されることとなる。従って従来のように、乾燥装置を設置する必要がない。
【0018】
【発明の効果】
以上の説明により明らかなように、本発明のメダル研磨装置によれば、各研磨布の裏面側に研磨布の湿潤状態を適温で保つヒーター装置を配置したことによって、メダルを短時間できれいに洗浄できるうえ、従来のようにメダルを乾燥させるためのスペースを必要とせず、装置の小型化を図ることができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の好ましい実施の形態の要部を示す正面図である。
【図2】図1の平面図である。
【図3】メダル保持枠部の拡大断面図である。
【図4】メダル研磨装置の正面図である。
【図5】メダル研磨装置の側面図である。
【図6】使用状態を示す正面図である。
【図7】図6の側面図である。
【符号の説明】
1 フレーム
1a ベース
1b 支持側板
2 メダル搬送手段
3 研磨洗浄手段
4 ベルト駆動機構
5 メダル搬送部材
6 モータ
6a 出力軸
7 駆動プーリ
7a 歯付きベルト
8 従動プーリ
9 従動プーリ
10 歯付きベルト
11 メダル保持枠部
13 上面研磨布
14 下面研磨布
15 抑え板
16 間歇送り出し機構
17a払出し軸
17b払出し軸
18a巻取り軸
18b巻取り軸
19 ガイド機構
19a小径ガイドローラ
20 押圧部材
20aガイドローラ
21 押えローラ
22 研磨布送出量検出機構
23 ピッチローラ
23aピッチ板
24 フォトセンサ
25 ヒーター装置
25a平板状ヒーター
25b平板状ヒーター
26 洗浄液含浸機構
26aノズル
30 排出機構
31 排出シュート
40 メダル揚送装置
42 リフト機構
43 貯留タンク
44 メダル補給機構
Claims (2)
- 湿潤させた研磨布を相対向させて配置し、これらの研磨布間にメダルを通過させることによりメダルの両面を研磨するメダル研磨装置において、各研磨布の裏面側に研磨布の湿潤状態を適温で保つヒーター装置を配置したことを特徴とするメダル研磨装置。
- ヒーター装置の近傍に、発生する蒸気を処理する蒸気処理装置を設けた請求項1記載のメダル研磨装置。
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JP2002245418A JP3767815B2 (ja) | 2002-08-26 | 2002-08-26 | メダル研磨装置 |
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JP2006054468A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US7397533B2 (en) * | 2004-12-07 | 2008-07-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
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