JP2004079644A

JP2004079644A - 半導体素子

Info

Publication number: JP2004079644A
Application number: JP2002235314A
Authority: JP
Inventors: Shinjiro Hara; 原　真二郎
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 2002-08-13
Filing date: 2002-08-13
Publication date: 2004-03-11
Anticipated expiration: 2022-08-13
Also published as: JP4179825B2

Abstract

【課題】半導体素子のｐ型半導体層のホールキャリア濃度を確保しつつ特性・信頼性を向上する。
【解決手段】半導体素子のｐ型半導体層１０を、ホールキャリア濃度がｐ型半導体層全体のホールキャリア濃度よりも低くなる低キャリア濃度層１１と、Ｃが導入されたカーボンドープ層１２との積層構造にする。低キャリア濃度層１１のｐ型不純物に拡散定数が比較的大きなＺｎなどを用い、かつ、そのホールキャリア濃度を低く抑え、これによってｐ型半導体層１０全体として不足するホールキャリアを、拡散定数が小さいＣを導入したカーボンドープ層１２によって補う。これにより、ｐ型半導体層１０全体のホールキャリア濃度を確保することができるとともに、プロファイル劣化を低減することができ、半導体素子の特性・信頼性を向上させることができる。
【選択図】　　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体素子に関し、特に光通信システムにおいて広く用いられる半導体レーザ、半導体フォトディテクタなどの半導体素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、光通信システムで用いられる半導体レーザ、半導体フォトディテクタ、光アンプ、光合成器／分波器、光導波路などの半導体素子は、主に、ＩｎＰやＧａＡｓなどに代表される化合物半導体の基板上に作製されている。近年では、素子自体の小型化や他の部品との高集積化を図るため、これらの半導体素子を同一基板上に集積したいわゆる半導体光集積素子の開発が盛んに行われている。
【０００３】
このような半導体素子の作製には、例えば有機金属気相成長（Ｍｅｔａｌ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｖａｐｏｒ　Ｐｈａｓｅ　Ｅｐｉｔａｘｙ，ＭＯＶＰＥ）法などの結晶成長法が用いられる。半導体素子は、これを構成する化合物半導体の結晶成長、あるいは所定伝導型の不純物の導入を伴う結晶成長により、その素子構造が形成される。所定伝導型の不純物を導入するに際し、ｎ型不純物にはシリコン（Ｓｉ）やスズ（Ｓｎ）などが、ｐ型不純物には亜鉛（Ｚｎ）やベリリウム（Ｂｅ）などが、それぞれ広く用いられている。
【０００４】
また、特に近年では、従来用いられているｐ型不純物と比較してドーピング効率が高く、結晶中での拡散も小さいという利点から、カーボン（Ｃ）をｐ型不純物として用いたドーピング技術も開発されている。
【０００５】
例えば、Ｃを導入したＩｎＧａＡｓやＩｎＡｌＡｓでは、１０^１９〜１０^２０ｃｍ^−３の高いホールキャリア濃度が得られており、また、ＣのＧａＡｓ中における温度８００℃での拡散定数は２×１０^−１６ｃｍ^２／ｓ程度である。これに対し、Ｚｎ，ＢｅのＧａＡｓ中における温度８００℃での拡散定数はそれぞれ６×１０^−１４ｃｍ^２／ｓ，１×１０^−１５ｃｍ^２／ｓ程度であり、Ｃのそれに比べて著しく大きいことが示されている。これらの知見は、例えば、（１）Ａ．　Ｔａｎｄｏｎ　ｅｔ　ａｌ．，　Ｊ．　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｇｒｏｗｔｈ，　ｖｏｌ．　１９２，　ｐ．ｐ．４７−５５　（１９９８），（２）Ａ．　Ｏｕｇａｚｚａｄｅｎ　ｅｔ　ａｌ．，　Ｊ．　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｇｒｏｗｔｈ，　ｖｏｌ．　２２１，　ｐ．ｐ．　６６−６９　（２０００），（３）Ｂ．　Ｔ．　Ｃｕｎｎｉｎｇｈａｍ　ｅｔａｌ．，　Ａｐｐｌ．　Ｐｈｙｓ．　Ｌｅｔｔ．，　ｖｏｌ．　５５，　ｐ．ｐ．　６８７−６８９　（１９８９），などの文献において開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、例えば光通信用半導体レーザなどのｐ型クラッド層の材料として広く用いられているＩｎＰでは、通常、Ｃを導入してもｐ型の伝導型を示さず、ｐ型クラッド層をはじめとするｐ型半導体層を有する半導体素子の作製において、Ｃは有効なｐ型不純物として使用することができないという問題点があった。
【０００７】
また、従来のＺｎ，Ｂｅなどのｐ型不純物は、ホールキャリア濃度が１０^１９ｃｍ^−３台となるような高濃度のドーピングレベルでは、結晶内での拡散が著しく、デバイス特性を劣化させるという問題点があった。
【０００８】
このＺｎ，Ｂｅの場合、そのドーピングレベルを１０^１８ｃｍ^−３台に下げたとしても、この導入に続いて行われる半導体結晶成長などのプロセスで、同様に結晶内での不純物拡散が発生してしまう。その結果、設定値よりもドーピングレベルが低下したり、導入した不純物の結晶内でのプロファイルが設計通りにならなかったりするといった問題を引き起こしているのが現状である。
【０００９】
Ｚｎ，Ｂｅでこのような拡散の問題を生じさせないためには、１０^１７ｃｍ^−３台の低濃度でこれらの不純物を導入する必要がある。しかし、実際のデバイス作製上は、ドーピングレベルを低く抑えれば素子抵抗が増加するなどの特性劣化が生じ、この方法のみでは現実的な解決策とはなり得ない。
【００１０】
また、ｐ型半導体層に、Ｃの導入によりｐ型の伝導型を発現するようになるＩｎＡｌＡｓなどのＡｌを含んだ層を用いた場合には、この層が、例えばメサ構造に加工する場合など、素子作製プロセスにおいて露出するとその表面が酸化され、結晶性の劣化が生じ易い。これはその後のプロセスにおいても異常成長などの問題を引き起こすことがあり、素子の特性・信頼性の低下を招く。そのため、現状では、Ａｌを含んだ層のみによってｐ型半導体層を形成することは極力控えられている。
【００１１】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、ホールキャリア濃度を確保しつつ導入したｐ型不純物の拡散を抑制し、素子の特性・信頼性を向上させることのできる構造のｐ型半導体層を有する半導体素子を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明では上記課題を解決するために、図１に例示するような構成のｐ型半導体層を有する半導体素子が提供される。本発明の半導体素子は、ホールキャリア濃度がｐ型半導体層全体のホールキャリア濃度よりも低くなる半導体層である低キャリア濃度層と、カーボンが導入された半導体層であるカーボンドープ層と、が積層された構造を有するｐ型半導体層を有することを特徴とする。
【００１３】
このような半導体素子は、例えば図１に示すように、低キャリア濃度層１１とカーボンドープ層１２とが積層された構造のｐ型半導体層１０を有している。ここで、ｐ型半導体層１０全体として例えば２×１０^１８ｃｍ^−３程度のホールキャリア濃度が必要な場合、低キャリア濃度層１１のホールキャリア濃度は、ｐ型半導体層全体のホールキャリア濃度よりも低くなるよう、例えば１×１０^１７ｃｍ^−３程度に低く抑えられる。そして、これによってｐ型半導体層１０全体として不足するホールキャリアは、拡散定数が小さいＣをそのホールキャリア濃度が例えば１×１０^１９ｃｍ^−３程度の高濃度となるように導入されたカーボンドープ層１２によって補われる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図１は本発明の半導体素子が有するｐ型半導体層の構成例を示す図である。
【００１５】
ｐ型半導体層１０は、ＩｎＧａＡｓＰなどの化合物半導体に、ホールキャリア濃度がｐ型半導体層１０全体のホールキャリア濃度よりも低くなるようにｐ型不純物が導入された低キャリア濃度層１１と、ＩｎＧａＡｌＡｓなどの化合物半導体にＣがｐ型不純物として導入されたカーボンドープ層１２とが、順に積層された多層構造を有している。このｐ型半導体層１０は、カーボンドープ層１２が低キャリア濃度層１１間に挟まれるようにして積層されているが、ｐ型半導体層の上下両端は低キャリア濃度層であってもカーボンドープ層であっても構わない。
【００１６】
なお、この図１では、ｐ型半導体層１０を構成する複数の低キャリア濃度層１１およびカーボンドープ層１２のうち、このｐ型半導体層１０が他の層と接合される界面の付近に存在するものについて図示し、ｐ型半導体層１０内部の一部の領域についてはその図示を省略している。
【００１７】
低キャリア濃度層１１に導入されるｐ型不純物としては、従来広く用いられているＺｎ，Ｂｅなどを用いることができる。Ｚｎ，Ｂｅなどは結晶内での拡散定数が比較的大きいため、低キャリア濃度層１１は、これらのｐ型不純物を導入して得られるホールキャリア濃度が、１０^１７ｃｍ^−３台の低濃度となるようにそれぞれ形成されている。このように、低キャリア濃度層１１のホールキャリア濃度を１０^１７ｃｍ^−３台程度に低く抑えることで、Ｚｎなどの拡散定数の比較的大きなｐ型不純物の結晶内での拡散が低減されるようになる。
【００１８】
一方、カーボンドープ層１２は、結晶内での拡散定数が小さいＣを導入して得られ、そのホールキャリア濃度が１０^１９ｃｍ^−３台の高濃度となるようにそれぞれ形成されている。このカーボンドープ層１２には、用いる化合物半導体として、前述したＩｎＧａＡｌＡｓのほか、ＩｎＡｌＡｓなど、一定条件下でＣを高濃度に導入することのできるものが用いられる。
【００１９】
これらの低キャリア濃度層１１およびカーボンドープ層１２に導入されるｐ型不純物は、各層内に一様に導入されていても、部分的あるいは周期的にその濃度分布に偏りをもたせた変調構造を形成するように導入されていてもよい。
【００２０】
ここで、例えばｐ型半導体層１０全体の正味のホールキャリア濃度を約２×１０^１８ｃｍ^−３に設定し、低キャリア濃度層１１およびカーボンドープ層１２の合計膜厚（ｐ型半導体層１０の膜厚）を約２μｍに設定する。このとき、カーボンドープ層１２のホールキャリア濃度を約１×１０^１９ｃｍ^−３とすれば、カーボンドープ層１２はその膜厚の合計が４００ｎｍ程度であればよいことになる。
【００２１】
したがって、例えば、ホールキャリア濃度が約１×１０^１９ｃｍ^−３で膜厚が約５ｎｍであるカーボンドープ層１２の８０層の各層が、ホールキャリア濃度が約１×１０^１７ｃｍ^−３で膜厚が約２０ｎｍである低キャリア濃度層１１間に挟まれた構造とする。これにより、正味のホールキャリア濃度が約２×１０^１８ｃｍ^−３で、膜厚が約２μｍのｐ型半導体層１０を形成することができる。
【００２２】
このように、結晶内で拡散し易いＺｎなどのｐ型不純物を低濃度で含む層と拡散し難いＣを高濃度で含む層とを順に積層してｐ型半導体層１０を形成する。これにより、ｐ型半導体層１０全体で正味必要とされる１０^１８〜１０^１９ｃｍ^−３程度のホールキャリア濃度を確保することができるようになるとともに、Ｚｎなどのｐ型不純物の拡散が抑制される。したがって、従来、光通信用光デバイスで利用されるＩｎＧａＡｓＰなどのＩｎＰ系材料のＭＯＶＰＥ成長および素子作製プロセスにおいて、高濃度の不純物導入時に生じていたような不純物拡散の問題を回避することができるようになる。
【００２３】
半導体素子のｐ型半導体層は、当然、その半導体素子の種類によって必要となるホールキャリア濃度や膜厚が異なる。そのため、それに応じて低キャリア濃度層およびカーボンドープ層のホールキャリア濃度や膜厚を設定する。
【００２４】
図２はｐ型半導体層の他の構成例を示す図である。
ｐ型半導体層２０は、Ｚｎなどのｐ型不純物を導入して得られる低キャリア濃度層２１と、Ｃを導入して得られるカーボンドープ層２２とが積層された構造を有している。この図２には、ｐ型半導体層２０全体の正味の膜厚を約５００ｎｍに設定し、そのホールキャリア濃度を約１．５×１０^１８ｃｍ^−３に設定した場合の構成例を示している。
【００２５】
ただし、図２では、ｐ型半導体層２０を構成する複数の低キャリア濃度層２１およびカーボンドープ層２２のうち、このｐ型半導体層２０の他の層との接合界面となる面付近に存在するものについて図示し、ｐ型半導体層２０内部の一部の領域についてはその図示を省略している。
【００２６】
このようなｐ型半導体層２０では、例えば、ホールキャリア濃度が約１×１０^１９ｃｍ^−３で膜厚が約５ｎｍであるカーボンドープ層２２の１５層の各層が、ホールキャリア濃度が約１×１０^１７ｃｍ^−３で膜厚が約２７ｎｍである低キャリア濃度層２１間に挟まれた構造とする。これにより、正味のホールキャリア濃度が約１．５×１０^１８ｃｍ^−３で、膜厚が約５００ｎｍのｐ型半導体層２０を形成することができる。
【００２７】
また、図１および図２に例示したｐ型半導体層１０，２０においては、Ｚｎなどのｐ型不純物を導入して低キャリア濃度層１１，２１を形成している。ここで、本発明に係るｐ型半導体層においては、ホールキャリア濃度がｐ型半導体層全体のホールキャリア濃度よりも低くなる低キャリア濃度層として、ｐ型不純物を導入しないアンドープ層を用いることも可能である。
【００２８】
図３はアンドープ層を有するｐ型半導体層の構成例を示す図である。
ｐ型半導体層３０は、Ｚｎなどのｐ型不純物が導入されないアンドープ層３１と、Ｃを導入して得られるカーボンドープ層３２とが積層された構造を有している。この図３には、ｐ型半導体層３０全体の正味の膜厚を約２μｍに設定し、そのホールキャリア濃度を約２×１０^１８ｃｍ^−３に設定した場合の構成例を示している。
【００２９】
ただし、図３では、ｐ型半導体層３０を構成する複数のアンドープ層３１およびカーボンドープ層３２のうち、このｐ型半導体層３０の他の層との接合界面となる面付近に存在するものについて図示し、ｐ型半導体層３０内部の一部の領域についてはその図示を省略している。
【００３０】
このようなｐ型半導体層３０では、例えば、ホールキャリア濃度が約１×１０^１９ｃｍ^−３で膜厚が約２．５ｎｍであるカーボンドープ層３２の１６０層の各層が、膜厚が約１０ｎｍであるアンドープ層３１間に挟まれた構造とする。これにより、正味のホールキャリア濃度が約２×１０^１８ｃｍ^−３で、膜厚が約２μｍのｐ型半導体層３０を形成することができる。
【００３１】
なお、以上に例示したような構造を有する半導体素子のｐ型半導体層を形成するに当たっては、ｐ型半導体層を構成する各層の形成に用いる材料の組み合わせを考慮する。低キャリア濃度層（アンドープ層を含む。以下同じ。）とカーボンドープ層とをヘテロ接合する際に生じる両価電子帯のバンド不連続量により、ｐ型半導体層内でのホールキャリアの拡散の程度が異なり、素子特性が変化するためである。
【００３２】
図４はｐ型半導体層におけるエネルギーバンド構造の模式図である。
この図４には、本発明に係るｐ型半導体層においてカーボンドープ層が低キャリア濃度層間に挟まれた領域におけるエネルギーバンド構造を模式的に示している。
【００３３】
通常、異種材料間のヘテロ接合では、各々の材料固有のバンドギャップエネルギから伝導帯および価電子帯のバンド不連続量△Ｅｃ，△Ｅｖが一意に決定される。したがって、各層の材料を適当に選択することで、低キャリア濃度層領域とカーボンドープ層領域との間のエネルギーレベル差、すなわち価電子帯のバンド不連続量△Ｅｖを小さくすることができる。ただし、図４では、価電子帯のバンド不連続量△Ｅｖがほぼゼロである状態を図示している。
【００３４】
このように、価電子帯のバンド不連続量△Ｅｖを小さくすることにより、ｐ型半導体層内におけるホールキャリアの拡散が、エネルギー障壁によって阻害されてしまうのを防止することができる。ｐ型半導体層が形成される半導体素子の使用環境などを考慮すれば、価電子帯のバンド不連続量△Ｅｖが室温３００Ｋでの熱エネルギーｋ_ＢＴ（ｋ_Ｂ：ボルツマン定数，Ｔ：温度（Ｋ））である２６ｍｅＶ以下となるような材料の組み合わせを選択することが好ましい。
【００３５】
このような要件を満たす材料の組み合わせとしては、先に例示したような低キャリア濃度層に用いるＩｎＧａＡｓＰおよびカーボンドープ層に用いるＩｎＧａＡｌＡｓなど、以下の表１に示すような組み合わせが可能である。
【００３６】
【表１】

【００３７】
この表１において、左欄には組成比が示されており、各組成比の材料の組み合わせは、「低キャリア濃度層／カーボンドープ層」の順で記載されている。また、半導体レーザや光導波路などの光閉じ込め構造を有する半導体素子の作製においては、材料の屈折率が重要な物性定数となるため、これを右欄に併せて記載している。
【００３８】
この表１に挙げた材料の組み合わせにおいては、それぞれ、価電子帯のバンド不連続量△Ｅｖを０〜１ｍｅＶ程度にすることが可能である。
また、ｐ型半導体層の形成に当たっては、低キャリア濃度層間にそれぞれ周期的に多層配置するカーボンドープ層を、その周期が１００ｎｍ以下程度となるよう、近接させることが好ましい。ｐ型半導体層では、半導体素子の電界環境により、価電子帯のエネルギーレベルＥｖがカーボンドープ層領域で高くなり、低キャリア濃度層領域では低くなるようなエネルギーバンド構造の変形が生じ得る。このような場合、カーボンドープ層の周期が大きすぎると、半導体素子の動作時に、ｐ型半導体層全体にホールキャリアが拡散せず、カーボンドープ層にホールキャリアが局在してしまうようになる。カーボンドープ層の周期を１００ｎｍ以下程度にしておくことで、ホールキャリアの局在を防止することが可能になる。
【００３９】
また、ｐ型半導体層を構成するカーボンドープ層の化合物半導体には、その組成にＡｌが比較的高い割合で含まれていることが多い。しかし、ｐ型半導体層においては、Ａｌを含む層の使用は極力抑えることが望ましい。
【００４０】
例えば、Ａｌを多く含んだｐ型クラッド層を有する半導体レーザを作製する場合を想定する。この場合、半導体レーザを構成する各層の形成後、レーザとして動作させる領域を形成するため、エッチングによりストライプ状のメサ構造が形成される。その際、Ａｌを多く含んだｐ型クラッド層がメサ構造の側面に露出すると、酸化やコンタミネーションによってその結晶性が劣化してしまう。さらに、引き続き行われるメサ構造の埋め込み成長の際には、異常成長の発生などを引き起こし、素子の特性・信頼性の低下を招くおそれがある。
【００４１】
したがって、本発明に係るｐ型半導体層においては、Ａｌを含むカーボンドープ層の使用は抑えた方が半導体素子の特性・信頼性向上の効果は大きくなる。そのため、このようなＡｌを含むカーボンドープ層がｐ型半導体層全体の中に占める膜厚は、ｐ型半導体層全体の膜厚の約５０％以下とすることが好ましい。
【００４２】
以上説明したように、作製すべき半導体素子の種類や使用環境、バンド不連続性、用いる材料の組成などを考慮して、カーボンドープ層および低キャリア濃度層の各層のホールキャリア濃度、膜厚、層数を設定する。そして、本発明に係るｐ型半導体層を形成することにより、従来Ｚｎなどを高濃度に導入する際に生じていた不純物拡散によるプロファイルの劣化を低減することができ、特性・信頼性の高い半導体素子を作製することができるようになる。
【００４３】
以下、本発明に係るｐ型半導体層の半導体素子への適用例について述べる。
このｐ型半導体層は、例えば、半導体フォトディテクタや半導体レーザなどの半導体光デバイスに好適に用いることができる。これらの半導体光デバイスには、通常、ＩｎＰ系の化合物半導体が用いられ、例えばｐ型半導体層の価電子帯のバンド不連続量が０ｍｅＶに近い値となる表１に示したような材料を用いることができる。
【００４４】
なお、１．５５μｍあるいは１．３μｍ波長帯で発光するＩｎＧａＡｓＰのバルクの固相組成比と屈折率は、Ｉｎ_０．５８Ｇａ_０．４２Ａｓ_０．９０Ｐ_０．１０で約３．５７９，Ｉｎ_{０．７１７}Ｇａ_{０．２８３}Ａｓ_{０．６１１}Ｐ_{０．３８９}で約３．３８８である。したがって、このような屈折率を示す化合物半導体でコア層を構成する場合には、このコア層の屈折率より小さな値を示す表１のような材料を用いて、ｐ型クラッド層を形成することが可能である。
【００４５】
図５は半導体フォトディテクタの構成例を示す図である。
半導体フォトディテクタ４０は、高抵抗ＩｎＰ基板４１上に、ｎ型ＩｎＰ層４２、ｎ型ＩｎＧａＡｓ光吸収層４３、ｐ型クラッド層４４およびｐ型ＩｎＧａＡｓＰコンタクト層４５が順に積層された構造を有している。
【００４６】
この半導体フォトディテクタ４０のｐ型クラッド層４４は、図１から図３に例示した構造と同様の構造とすることが可能であり、ここでは、ｐ型クラッド層４４全体の正味のホールキャリア濃度が約１．５×１０^１８ｃｍ^−３で、膜厚約１．５μｍに形成されている。
【００４７】
また、ｎ型ＩｎＰ層４２は、ｎ型不純物による電子キャリア濃度が約２．０×１０^１８ｃｍ^−３で、膜厚約２．０μｍに形成されている。ｎ型ＩｎＧａＡｓ光吸収層４３は、ｎ型不純物による電子キャリア濃度が約２．０×１０^１６ｃｍ^−３で、膜厚約０．３μｍに形成されている。ｐ型ＩｎＧａＡｓＰコンタクト層４５は、ｐ型不純物によるホールキャリア濃度が約１．５×１０^１８ｃｍ^−３で、膜厚約０．０５μｍに形成されている。
【００４８】
このような構成の半導体フォトディテクタ４０を形成することにより、ｐ型クラッド層４４におけるホールキャリア濃度が確保されるとともに、その形成過程におけるプロファイルの劣化を低減することができる。したがって、高特性・高信頼性の半導体フォトディテクタ４０を実現することができる。
【００４９】
図６は半導体レーザの構成例を示す図である。
半導体レーザ５０は、ｎ型ＩｎＰ基板５１上に、ｎ型ＩｎＰバッファ層５２、第１のＩｎＧａＡｓＰ光閉じ込め層５３、ＩｎＧａＡｓＰ活性層５４、第２のＩｎＧａＡｓＰ光閉じ込め層５５およびｐ型クラッド層５６が順に積層された構造を有している。
【００５０】
この半導体レーザ５０のｐ型クラッド層５６は、図１から図３に例示した構造と同様の構造、すなわちカーボンドープ層と低キャリア濃度層との多層構造とする。ｐ型クラッド層５６は、ここでは、その全体の正味のホールキャリア濃度が約１．５×１０^１８ｃｍ^−３で、膜厚約０．５μｍに形成されている。
【００５１】
また、ｎ型ＩｎＰバッファ層５２は、ｎ型不純物による電子キャリア濃度が約１．５×１０^１８ｃｍ^−３で、膜厚約０．３μｍに形成されている。第１，第２ＩｎＧａＡｓＰ光閉じ込め層５３，５５は、アンドープで、膜厚約０．０５μｍに形成されている。ＩｎＧａＡｓＰ活性層５４は、例えば所定の発光波長となるようにバリア層と井戸層とを交互に積層した多重量子井戸構造で構成され、ここでは膜厚約０．１μｍに形成されている。
【００５２】
一例として、図６に示した半導体レーザ５０の作製方法の概略について述べる。
ｎ型ＩｎＰ基板５１上への結晶成長は、アルシン（ＡｓＨ_３）、ホスフィン（ＰＨ_３）、トリメチルインジウム（ＴＭＩ）、トリエチルガリウム（ＴＥＧ）およびトリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）を原料として用いたＭＯＶＰＥ法により行う。ｎ型不純物の原料にはモノシラン（ＳｉＨ_４）あるいはジシラン（Ｓｉ_２Ｈ_６）を用いる。また、ｐ型クラッド層５６の形成に用いるｐ型不純物としては、ＣおよびＺｎを用い、その原料にはそれぞれカーボンテトラブロマイド（ＣＢｒ_４）およびジエチルジンク（ＤＥＺ）を用いる。
【００５３】
ｐ型クラッド層５６を構成するカーボンドープ層以外の各層の成長は、成長温度４５０〜６３０℃程度の通常の温度範囲にて行う。カーボンドープ層の成長温度は３５０〜５７０℃程度とする。カーボンドープ層の成長温度が５７０℃を上回る場合には、ｐ型不純物として用いるＣＢｒ_４のエッチング効果により、成長する結晶層のエッチングがさらに著しく発生し得る。また、成長温度が３５０℃を下回る場合には、原料となる有機金属ガスの分解が起こりにくくなるため結晶の成長効率が低下してしまうことが起こり得る。
【００５４】
このような条件下での半導体レーザ５０の作製は、まず、ｎ型ＩｎＰ基板５１上に電子キャリア濃度が約１．５×１０^１８ｃｍ^−３のｎ型ＩｎＰバッファ層５２を膜厚約０．３μｍで形成する。そして、このｎ型ＩｎＰバッファ層５２上に、アンドープの第１のＩｎＧａＡｓＰ光閉じ込め層５３を膜厚約０．０５μｍで形成した後、ＩｎＧａＡｓＰ活性層５４を形成する。
【００５５】
ＩｎＧａＡｓＰ活性層５４は、バリア層と井戸層とを順に積層した多重量子井戸構造で構成し、ここではバリア層を７層、井戸層を６層配置し、ＩｎＧａＡｓＰ活性層５４全体の膜厚が約０．１μｍになるように形成する。ＩｎＧａＡｓＰ活性層５４のバリア層は室温での発光波長が１．３μｍ程度のＩｎＧａＡｓＰで形成し、井戸層は多重量子井戸構造全体の発光波長が１．５５μｍとなるＩｎＧａＡｓＰで形成する。
【００５６】
ＩｎＧａＡｓＰ活性層５４の形成後は、この上にアンドープの第２のＩｎＧａＡｓＰ光閉じ込め層５５を形成する。これにより、ＩｎＧａＡｓＰ活性層５４が、アンドープの第１，第２のＩｎＧａＡｓＰ光閉じ込め層５３，５５で挟まれた構造の半導体レーザ５０のコア層が形成される。
【００５７】
最後に、第２のＩｎＧａＡｓＰ光閉じ込め層５５上に、ｐ型クラッド層５６を形成する。ｐ型クラッド層５６は、例えば、図２に示した構造と同様に形成することができる。その場合、Ｚｎを一様に導入して得られたホールキャリア濃度が約１×１０^１７ｃｍ^−３のｐ型Ｉｎ_{０．９７３}Ｇａ_{０．０２７}Ａｓ_{０．０５８}Ｐ_{０．９４２}で膜厚約２７ｎｍである低キャリア濃度層と、Ｃを導入して得られたホールキャリア濃度が約１×１０^１９ｃｍ^−３のｐ型Ｉｎ_０．５２Ａｌ_０．４８Ａｓで膜厚約５ｎｍであるカーボンドープ層とを順に積層し、ｐ型クラッド層５６を形成する。
【００５８】
その後、図示しないが、実際にレーザとして動作させる領域を形成するため、エッチングによりストライプ状のメサ構造を形成し、さらに、そのメサ構造を埋め込み、所定の電極形成プロセスなどを経て、半導体レーザ５０の基本構造を完成する。
【００５９】
このような半導体レーザ５０によれば、ｐ型クラッド層５６におけるホールキャリア濃度が確保されるとともに、その形成過程におけるプロファイルの劣化を低減することができ、高特性・高信頼性の半導体レーザ５０を実現することができる。
【００６０】
なお、ここでは、半導体フォトディテクタ４０および半導体レーザ５０を例に説明したが、このほか、本発明に係るｐ型半導体層は、光アンプ、光合成器／分波器、光導波路など、種々の半導体素子に適用することが可能である。
【００６１】
（付記１）　ｐ型半導体層を有する半導体素子において、
ホールキャリア濃度が前記ｐ型半導体層全体のホールキャリア濃度よりも低くなる半導体層である低キャリア濃度層と、カーボンが導入された半導体層であるカーボンドープ層と、が積層された構造を有するｐ型半導体層を有することを特徴とする半導体素子。
【００６２】
（付記２）　前記低キャリア濃度層は、ｐ型不純物が導入されない半導体層であるアンドープ層であることを特徴とする付記１記載の半導体素子。
（付記３）　前記低キャリア濃度層と前記カーボンドープ層との価電子帯のバンド不連続量が、０ｍｅＶから２６ｍｅＶの範囲内であることを特徴とする付記１記載の半導体素子。
【００６３】
（付記４）　前記カーボンドープ層は、前記カーボンドープ層の前記ｐ型半導体層内における合計膜厚が前記ｐ型半導体層の膜厚に対する約５０％の膜厚よりも薄くなるように形成されることを特徴とする付記１記載の半導体素子。
【００６４】
（付記５）　前記低キャリア濃度層は、前記低キャリア濃度層のホールキャリア濃度が１０^１７ｃｍ^−３台を超えないように形成されることを特徴とする付記１記載の半導体素子。
【００６５】
（付記６）　前記低キャリア濃度層はＩｎＧａＡｓＰを用いて形成され、前記カーボンドープ層はＩｎＧａＡｌＡｓを用いて形成されることを特徴とする付記１記載の半導体素子。
【００６６】
（付記７）　前記低キャリア濃度層はＩｎＧａＡｓＰを用いて形成され、前記カーボンドープ層はＩｎＡｌＡｓを用いて形成されることを特徴とする付記１記載の半導体素子。
【００６７】
（付記８）　前記低キャリア濃度層はＩｎＰを用いて形成され、前記カーボンドープ層はＩｎＡｌＡｓを用いて形成されることを特徴とする付記１記載の半導体素子。
【００６８】
【発明の効果】
以上説明したように本発明では、半導体素子のｐ型半導体層を、ホールキャリア濃度がｐ型半導体層全体のホールキャリア濃度よりも低い低キャリア濃度層と、Ｃを導入したカーボンドープ層との積層構造にする。これにより、ｐ型半導体層全体のホールキャリア濃度を確保することができるとともに、半導体素子中での不純物拡散によるプロファイルの劣化を低減することができ、素子特性および信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の半導体素子が有するｐ型半導体層の構成例を示す図である。
【図２】ｐ型半導体層の他の構成例を示す図である。
【図３】アンドープ層を有するｐ型半導体層の構成例を示す図である。
【図４】ｐ型半導体層におけるエネルギーバンド構造の模式図である。
【図５】半導体フォトディテクタの構成例を示す図である。
【図６】半導体レーザの構成例を示す図である。
【符号の説明】
１０，２０，３０　ｐ型半導体層
１１，２１　低キャリア濃度層
１２，２２，３２　カーボンドープ層
３１　アンドープ層
４０　半導体フォトディテクタ
４１　高抵抗ＩｎＰ基板
４２　ｎ型ＩｎＰ層
４３　ｎ型ＩｎＧａＡｓ光吸収層
４４　ｐ型クラッド層
４５　ｐ型ＩｎＧａＡｓＰコンタクト層
５０　半導体レーザ
５１　ｎ型ＩｎＰ基板
５２　ｎ型ＩｎＰバッファ層
５３　第１のＩｎＧａＡｓＰ光閉じ込め層
５４　ＩｎＧａＡｓＰ活性層
５５　第２のＩｎＧａＡｓＰ光閉じ込め層
５６　ｐ型クラッド層

Claims

ｐ型半導体層を有する半導体素子において、
ホールキャリア濃度が前記ｐ型半導体層全体のホールキャリア濃度よりも低くなる半導体層である低キャリア濃度層と、カーボンが導入された半導体層であるカーボンドープ層と、が積層された構造を有するｐ型半導体層を有することを特徴とする半導体素子。
前記低キャリア濃度層は、ｐ型不純物が導入されない半導体層であるアンドープ層であることを特徴とする請求項１記載の半導体素子。
前記低キャリア濃度層と前記カーボンドープ層との価電子帯のバンド不連続量が、０ｍｅＶから２６ｍｅＶの範囲内であることを特徴とする請求項１記載の半導体素子。
前記カーボンドープ層は、前記カーボンドープ層の前記ｐ型半導体層内における合計膜厚が前記ｐ型半導体層の膜厚に対する約５０％の膜厚よりも薄くなるように形成されることを特徴とする請求項１記載の半導体素子。
前記低キャリア濃度層は、前記低キャリア濃度層のホールキャリア濃度が１０^１７ｃｍ^−３台を超えないように形成されることを特徴とする請求項１記載の半導体素子。