JP2004079479A - パターン形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板上のパターン形成材料から精度よくパターンを形成する。
【解決手段】パターン形成装置は、パターン形成材料が一様に付与された基板9を保持するステージ、および、形成されるパターンの断面形状に対応して略波形に湾曲した薄板状の先端部431を有するブレード43を備え、ブレード43が基板9に対して相対的に移動する。ブレード43の移動により、基板9上のパターン形成材料の一部がブレード43の上側に導かれ、基板9上に残されたパターン形成材料によりパターンが形成される。ブレード43の先端部431の上側凹部432には、ブレード43の上側に導かれたパターン形成材料をブレード43から分離する傾斜面471が設けられる。これにより、ブレード43を基板9上にて円滑に移動させつつパターンを精度よく形成することができる。
【選択図】 図2
【解決手段】パターン形成装置は、パターン形成材料が一様に付与された基板9を保持するステージ、および、形成されるパターンの断面形状に対応して略波形に湾曲した薄板状の先端部431を有するブレード43を備え、ブレード43が基板9に対して相対的に移動する。ブレード43の移動により、基板9上のパターン形成材料の一部がブレード43の上側に導かれ、基板9上に残されたパターン形成材料によりパターンが形成される。ブレード43の先端部431の上側凹部432には、ブレード43の上側に導かれたパターン形成材料をブレード43から分離する傾斜面471が設けられる。これにより、ブレード43を基板9上にて円滑に移動させつつパターンを精度よく形成することができる。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上にパターンを形成する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、プラズマ表示装置や有機EL表示装置等に用いられるパネルに隔壁や電極のパターンを形成する方法として、サンドブラスト法(フォトリソグラフィ法とも呼ばれる。)、スクリーン印刷法、リフトオフ法等が知られている。しかしながら、これらの方法は煩雑であり、生産コストを増加させる要因となっている。そこで、特開平11−283497号公報では、パターン形成材料が一様に塗布された基板上にて、くし歯形状を有するとともに基板に対して垂直な姿勢の板状のブレードを相対的に移動することにより隔壁パターンを形成する手法が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記手法では、くし歯形状を有するブレードにより掻き分けられたパターン形成材料がブレードの相対移動方向の前方に蓄積するにつれてブレードの滑らかな移動が妨げられたり、整形前のパターン形成材料が有する平坦性が乱されてしまう等の問題があった。また、ブレードの移動を滑らかに行うためには粘度の低いパターン形成材料を使用することが好ましいが、この場合、硬化処理(例えば、乾燥処理や焼成処理等)が施されるまでに形成されたパターンの形状が重力等の影響により変形してしまうおそれがある。さらに、パターン形成材料がブレード(特にブレードの後側の面)に付着した場合には、パターンの形状に異常が生じたり、ブレードの移動が妨げられる等の問題があった。
【0004】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、基板上に適切なパターンを形成することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、基板上に付与されたパターン形成材料からパターンを形成するパターン形成装置であって、基板を保持する保持部と、略波形に湾曲した薄板状の先端を有するブレードと、前記ブレードを前記先端側から基板の主面に沿って相対的に移動することにより基板上のパターン形成材料の一部を除去する移動機構と、前記ブレードにより除去されたパターン形成材料を前記ブレードから分離する分離部とを備える。
【0006】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のパターン形成装置であって、前記ブレードの先端面が、基板の主面の法線方向から相対移動方向の前側へと傾斜している。
【0007】
請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載のパターン形成装置であって、前記ブレードの相対移動方向に垂直な方向に亘って前記ブレード上に取り付けられた補強部材をさらに備える。
【0008】
請求項4に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載のパターン形成装置であって、除去されたパターン形成材料を回収する回収部をさらに備える。
【0009】
請求項5に記載の発明は、請求項4に記載のパターン形成装置であって、前記回収部が、前記分離部近傍から除去されたパターン形成材料を吸引する吸引機構を有する。
【0010】
請求項6に記載の発明は、請求項1ないし5のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記分離部が、前記ブレードの前記先端において基板とは反対側の凹部に導かれるパターン形成材料を前記凹部外へと導く傾斜面を有する。
【0011】
請求項7に記載の発明は、請求項1ないし6のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記ブレードによる除去後に基板上に残されたパターン形成材料を順次硬化する硬化部をさらに備える。
【0012】
請求項8に記載の発明は、請求項7に記載のパターン形成装置であって、前記硬化部が、基板上に残されたパターン形成材料に向けて光を出射する。
【0013】
請求項9に記載の発明は、請求項1ないし8のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記保持部が、パターン形成材料が付与された主面を水平方向よりも下側に向けて基板を保持する。
【0014】
請求項10に記載の発明は、請求項9に記載のパターン形成装置であって、保持される基板の主面を上方を向く状態から水平方向よりも下側を向く状態へと前記保持部の姿勢を変更する回動機構をさらに備える。
【0015】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の第1の実施の形態に係るパターン形成装置1の概略構成を示す図である。パターン形成装置1は、プラズマ表示装置のガラス基板(以下、「基板」という。)9上にスリットコータやロールコータ等により一様の膜厚(例えば、120〜200μm)にて塗布されたパターン形成材料91(例えば、光開始剤が1〜30%、アクリル系モノマー等のバインダが5〜50%、複数種類の低軟化点ガラスフリットが40〜90%、その他、溶剤や添加剤が混合されたもの)から隔壁パターンを形成する装置であり、隔壁パターンが形成された基板9は他の工程を介してプラズマ表示装置の組立部品であるパネル(通常、リアパネル)となる。
【0016】
パターン形成装置1では、基台11上にステージ移動機構2が設けられ、基板9を吸引吸着により保持するステージ3がステージ移動機構2により図1中に示すX方向に移動可能とされる。基台11にはステージ3を跨ぐようにしてフレーム12が固定され、フレーム12にはパターン形成ヘッド部4が取り付けられる。なお、基板9は吸引吸着以外の他の手法(例えば、チャックピンにより把持される等)によりステージ3に保持されてもよい。
【0017】
ステージ移動機構2は、モータ21にボールねじ22が接続され、さらに、ステージ3に固定されたナット23がボールねじ22に取り付けられた構造となっている。ボールねじ22の上方にはガイドレール24が固定され、モータ21が回転すると、ナット23とともにステージ3がガイドレール24に沿ってX方向に滑らかに移動する。
【0018】
パターン形成ヘッド部4は、薄板状の先端を有するブレード43、および、ブレード43を着脱可能に支持する支持部材42を有し、フレーム12に固定されたベース41の下部に支持部材42が取り付けられる。パターン形成ヘッド部4は、さらに、ブレード43の上面に位置する吸引ノズル44、および、基板9に向けて紫外線を出射する光照射部45を有する。吸引ノズル44は吸引管441を介してポンプ442へと接続され、ポンプ442が吸引動作を行うことにより、吸引ノズル44の吸引口近傍の不要なパターン形成材料が吸引される。また、光照射部45は光ファイバ451を介して紫外線を発生する光源ユニット452に接続され、基板9に向かって光を出射する。
【0019】
ステージ移動機構2のモータ21、ポンプ442、および光源ユニット452は制御部6に接続され、これらの構成が制御部6により制御されることにより、パターン形成装置1による隔壁パターンを形成する動作が行われる。
【0020】
図2はブレード43の先端部431の近傍を示す斜視図である。なお、図2では基板9上のパターン形成材料91の図示を省略している。図2に示すように、ブレード43の先端部431は略波形に湾曲した薄板状となっている。すなわち、先端部431を基板9とは反対側から観察した場合、先端部431は相対移動方向(X方向)に伸びる複数の凹部((+Z)方向に向かって開口する凹部であり、以下、「上側凹部」という。)432をY方向に配列して有し、先端部431を基板9側から観察した場合には、上側凹部432の間が相対移動方向(X方向)に伸びる凹部((−Z)方向に向かって開口する凹部であり、以下、「下側凹部」という。)433となっている。
【0021】
また、先端部431の(+X)側の端面(すなわち、パターン形成ヘッド部4の基板9に対する相対移動方向に関して前側の端面であり、以下、「先端面」という。)434は基板9の主面の法線方向から相対移動方向の前側へと傾斜している(換言すれば、先端面434の法線が相対移動方向((+X)方向)から下側へと傾斜している。)。
【0022】
ブレード43の上面には、補強部材46が基板9に対する相対移動方向に垂直な方向(かつ、ブレード43の上面に沿う方向、すなわち、Y方向)に亘って取り付けられ、補強部材46によりブレード43がZ方向へと撓むことが抑制される。各上側凹部432において補強部材46の下方には、樹脂により形成された分離部47が設けられ、分離部47の前面471は、基板9の主面の法線方向から相対移動方向後側へと傾斜した(すなわち、相対移動方向に対して上側を向く)曲面となっている(以下、前面471を「傾斜面471」という。)。なお、傾斜面471は平面であってもよい。
【0023】
補強部材46の上方には吸引ノズル44が配置され、吸引ノズル44は相対移動方向側に開口する吸引口443を有する。吸引口443は相対移動方向に垂直な方向にブレード43に沿って(すなわち、Y方向に)伸びる長い開口となっている。
【0024】
後述するように基板9上のパターン形成材料91の一部は上側凹部432に沿って切り取られて先端面434から分離部47へと送られ、分離部47から吸引口443へと吸引される。すなわち、上側凹部432および分離部47の傾斜面471により、不要なパターン形成材料を吸引口443へと導く排出路が形成される。吸引ノズル44の後方または(±Y)側には図1に示す吸引管441が接続されており、不要なパターン形成材料は吸引管441およびポンプ442を介して所定の回収場所へと回収される。
【0025】
図3は、ブレード43の先端部431の断面を示す斜視図であり、基板9上のパターン形成材料91および吸引ノズル44の図示を省略している。なお、図3では、先端部431をYZ平面に平行な面にて切断した断面を平行斜線を付して示している。図3に示すように、ブレード43の相対移動方向後方には各下側凹部433に対応して光のスポットを基板9上に形成する光照射部45が設けられる。
【0026】
下側凹部433および上側凹部432の断面形状は略台形状となっており、下側凹部433の上底(上側の辺)の長さ(すなわち、下側凹部433の底面の幅)が60μm、下底の長さ(すなわち、下側凹部433の開口側の幅)が90μm、高さ(すなわち、下側凹部433の深さ)が150μmとされ、上側凹部432の下底の長さ(すなわち、上側凹部432の基板9側の底面の幅)が300μmとされる。なお、先端部431の板厚は5μm程度であり、X方向に関するブレード43の長さは3mm程度とされる。
【0027】
次に、パターン形成装置1が基板9上のパターン形成材料91から隔壁パターンを形成する動作について説明を行う。まず、図1に示すようにパターン形成材料91が付与された基板9がパターン形成装置1に搬入されてステージ3に吸引吸着される。そして、制御部6が光源ユニット452を制御して光照射部45から紫外線の出射が開始され、ポンプ442の吸引動作が開始されて吸引ノズル44による吸引が開始される。続いて、ステージ移動機構2のモータ21が駆動制御され、基板9の表面がブレード43の下面に接触しながら(−X)方向に移動するようにステージ3が連続的に移動する。これにより、図4に示すようにブレード43が基板9上のパターン形成材料91中へと導かれて隔壁パターンの形成が行われる。
【0028】
図5(a)および(b)はブレード43により基板9上のパターン形成材料91から隔壁パターンが形成される様子を説明するための図である。ブレード43によりパターン形成材料91の一部が除去されて隔壁パターンが形成されることから、隔壁パターンの形成は、パターン形成材料91の整形と捉えられてもよい。図5(a)はブレード43によりパターン形成材料91から隔壁パターンが形成される直前の様子を(+X)側から示している。ブレード43は基板9上を主面に沿って相対的に移動するため、ブレード43が図5(a)に示すパターン形成材料91の位置を通過することにより、図5(b)に示すように、下側凹部433に対応する形状に隔壁パターン(符号91を付している。)が形成される。
【0029】
より詳細には、まず、図4に示すように、ブレード43が先端部431側からパターン形成材料91内へと進入し、先端部431において、パターン形成材料91が下側凹部433に対応する部分と上側凹部432に対応する部分(正確には、先端部431の上面側全体に対応する部分)とに分離される。このとき、先端面434と下側凹部433の底面とのなす角(先端面434の上側の角)が鋭角であるため、ブレード43のパターン形成材料91内への進入を円滑に行うことが可能となる。
【0030】
また、下側凹部433側に導かれたパターン形成材料91は、上面および側面が下側凹部433の断面形状(すなわち、図3に示す断面形状)に対応する形状に成形され、上面および側面の形状精度の高い隔壁パターンが形成される。なお、先端面434を基板9の法線方向から相対移動方向の前側へと傾斜させることにより、隔壁パターンの上部側が下部側よりも先に形成されるため、隔壁パターンの上部側の形状をより精度よく形成することも実現される。
【0031】
図4に示すように、ブレード43によるパターン形成後すぐに基板9上に残された(すなわち、隔壁パターンとされた)パターン形成材料91に向かって光照射部45から紫外線が照射され、順次硬化が行われる。これにより、パターン形成後のパターン形成材料91の形状が適切に保持される。その結果、隔壁パターンの基板9に接する部分の長さ(W)に対する高さ(H)の比(いわゆる、アスペクト比(H/W))が高く、かつ、安定した形状の(すなわち、十分に硬い)パターンが形成される。なお、紫外線照射による硬化は、形成された隔壁パターンが、重力や表面張力等により変形しない状態とされるのであれば、完全に硬化していない状態(いわゆる、半硬化状態)であってもよい。
【0032】
一方、上側凹部432側に分離されたパターン形成材料91の一部(すなわち、除去されたパターン形成材料であり、以下、「除去物」という。)は、ブレード43の相対移動に従って、上側凹部432の底面から図4に示すように分離部47の傾斜面471へと導かれる。そして、傾斜面471に沿って(すなわち、前述の排出路に沿って)滑らかに移動してブレード43から分離され、上側凹部432外の吸引口443近傍へと導かれる。これにより、パターン形成材料91からブレード43に作用する力を抑えることができ、ブレード43の基板9に対する相対移動を円滑に行うことができる。さらに、除去物は吸引ノズル44により吸引されることから、除去物が隔壁パターンの形成やブレード43の移動に悪影響を与えることも抑制される。
【0033】
隔壁パターンの形成が基板9の移動と共に連続的に行われ、基板9上のパターン形成材料91の終点がブレード43を通過すると、ステージ3の移動制御、吸引動作および紫外線の出射が停止される。その後、基板9はパターン形成装置1外へと搬出され、形成された隔壁パターンは他の工程において焼成されてパターン形成材料中の樹脂分が除去されるとともに、低軟化点ガラスフリットが融着して隔壁が形成される。なお、使用されるパターン形成材料に応じて、焼成の前に乾燥工程等が適宜行われる。
【0034】
以上のように、パターン形成装置1では、基板9上に付与されたパターン形成材料91に対して、上側凹部432および下側凹部433を一体的に有する略波形とされた薄板状の先端部431を有するブレード43が、基板9の主面に沿って相対的に移動することにより形状精度の高い隔壁パターンが形成される。また、除去物は分離部47によりブレード43から分離されることにより、ブレード43の基板9に対する相対移動を円滑に行うことが実現される。
【0035】
なお、パターン形成ヘッド部4としてY方向の幅が基板9よりも小さいものを用い、パターン形成ヘッド部4を基板9に対してX方向へと移動させる毎にY方向へと間欠的に移動させることにより、基板9の全面に隔壁パターンが形成されてもよい。
【0036】
図6は本発明の第2の実施の形態に係るパターン形成装置1aの概略構成を示す図である。パターン形成装置1aは、パターン形成ヘッド部4aにナット23aが固定され、ヘッド部移動機構2aによりパターン形成ヘッド部4aがX方向に移動可能とされる。パターン形成ヘッド部4aは、吸引ノズル44に代えて除去物を回収する回収部48が設けられ、さらに、上下が反転されているという点を除いて第1の実施の形態に係るパターン形成ヘッド部4と同様となっている。基台11にはヘッド部移動機構2aを跨ぐフレーム12aが固定され、ステージ3がフレーム12aにより支持される。また、制御部6に接続されたモータ31がフレーム12aに設けられ、モータ31によりステージ3がY軸方向に平行な中心軸を中心に回動する。他の構成は第1の実施の形態と同様であり、同符号を付している。
【0037】
パターン形成装置1aが隔壁パターンを形成する際には、まず、パターン形成材料91が付与された基板9が外部の基板搬送機構によりパターン形成装置1aに搬入され、吸引吸着によりステージ3に保持される。続いて、制御部6がモータ31を制御することにより、モータ31がステージ3を回動させ、図7に示すように、パターン形成材料91が付与された主面を下側(すなわち、(−Z)方向)に向けて基板9がステージ3に保持される。そして、光照射部45からの紫外線の出射が開始され、ヘッド部移動機構2aによりパターン形成ヘッド部4aが(−X)方向に移動する。
【0038】
図8はブレード43により隔壁パターンが形成される様子を示す拡大図である。図8に示すように、ブレード43が基板9に当接しつつ滑るように移動することにより、パターン形成材料91は第1の実施の形態と同様にブレード43の先端部431において適切に分離される。
【0039】
図9(a)および(b)は隔壁パターンが形成される様子を説明するための図であり、図9(a)はブレード43によりパターン形成材料91から隔壁パターンが形成される直前の様子を(−X)側から示している。
【0040】
図8および図9(a)に示すように、ブレード43は基板9上を主面に沿って相対的に移動することにより、先端部431側からパターン形成材料91内へと滑らかに移動する。そして、下側凹部(すなわち、基板9側に向かって開口する凹部)433へと導かれたパターン形成材料91は下側凹部433に対応する形状を有する隔壁パターンとなる。
【0041】
一方、基板9とは反対側の上側凹部432側に導かれたパターン形成材料(すなわち、除去物)は、分離部47の傾斜面471に沿いつつ重力によりブレード43から適切に分離される。除去物はブレード43の下方に設けられた回収部48へと落下して回収され、ブレード43の基板9に対する相対移動が円滑に行われるとともに、除去物が隔壁パターンの形成やブレード43の移動に与える影響を抑制することが実現される。
【0042】
また、ブレード43の後方から導出される形成後の隔壁パターンは速やかに光照射部45により紫外線が照射されることにより、隔壁パターンの形状が重力等の影響により崩れてしまうことが防止され、図9(b)に示すように、形状精度の高い隔壁パターン(符号91を付している。)が形成される。
【0043】
以上のように、パターン形成装置1aでは、ステージ3がパターン形成材料91が付与された主面を下側に向けて基板9を保持しつつ、ブレード43を基板9の主面に沿って相対的に移動することにより、除去されたパターン形成材料がブレード43から重力を利用して適切に分離され、ブレード43を円滑に移動することができる。その結果、パターン形成材料91から形状精度のよい隔壁パターンを形成することができる。
【0044】
なお、パターン形成の際に基板9はパターン形成材料91が付与された主面が真下に向けられる必要はない。例えば、パターン形成装置1a全体が傾斜した姿勢で設置されてもよい。この場合、モータ31により、基板9の主面が上方を向く状態から水平方向よりも下側を向く状態へとステージ3の姿勢が変更されることとなる。すなわち、基板9の主面が水平方向よりも下側を向く状態とされることにより、除去物を基板9から重力を利用して容易に分離することが実現される。また、モータ31が省略され、予め水平方向よりも下側に向いて固定されたステージ3に基板9が保持されてもよい。
【0045】
図10はパターン形成装置1(パターン形成装置1aであってもよい。)がパターン形成システム8内に配置される様子を示す図である。パターン形成システム8では、まず、基板搬入部81に載置されている基板9が搬送機構80aにより次の装置82へと搬送される。装置82としては、スリットコータやロールコータ等が配置され、基板9上にパターン形成材料が一様に付与される。
【0046】
次に、基板9は搬送機構80bによりパターン形成装置1へと送られ、既述のパターン形成材料からのパターン形成が行われ、基板9上に精度の高い隔壁パターンが形成される。パターン形成が完了した基板9は搬送機構80cにより基板搬出部84へと搬送される。さらに、基板9は基板搬出部84から別途設置された乾燥装置や焼成装置等へと搬送される。
【0047】
なお、技術的に可能な範囲内で装置82とパターン形成装置1(または、パターン形成装置1a)とが一体化されてもよい。例えば、パターン形成材料を一様に塗布するスリットとブレード43とを1つの装置に設けて、基板9を相対的に移動させながらパターン形成材料の塗布とパターン形成とが並行して行われてもよい。
【0048】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【0049】
上記実施の形態では、パターン形成材料91の表面が下側凹部433の底面よりも高い位置にある(すなわち、パターン形成材料91の厚みが下側凹部433の深さよりも大きい)場合について説明を行ったが、図11に示すようにパターン形成材料91の表面が下側凹部433の底面よりも低い位置(すなわち、先端部431の高さがパターン形成材料91の高さよりも高い。)とされてもよい。この場合、形成される隔壁パターンの側面のみが下側凹部433に対応する形状となるようにパターン形成が行われる。また、隔壁パターンの高さはパターン形成材料91の膜厚により決定されることから、除去されるパターン形成材料91の量を上記実施の形態の場合よりも減少させることができ、コストの削減を図ることができる。
【0050】
パターン形成装置は、必ずしも基板9上に一様に塗布されたパターン形成材料91から隔壁パターンを形成する必要はなく、基板9上に予め暫定的に形成されたパターンから形状精度の高い隔壁パターンが形成(すなわち、パターンが整形)されてもよい。例えば、パターン形成材料を多数の微小開口から吐出するノズルとブレード43とを1つの装置に設けて、パターンの形成と整形とが並行して行われてもよい。
【0051】
また、ブレード43の先端が鋭利な刃物のように実質的に先端面434を有さず、ブレード43をパターン形成材料91内に滑らかに進入させることができるのであるならば、先端面434は必ずしも基板9の法線方向から傾斜している必要はない。さらに、パターン形成材料の硬さ等の性質によっては、ブレード43の先端面434が、基板9の主面の法線方向から相対移動方向の後側へと傾斜していてもよい。
【0052】
上記実施の形態では、光照射部45からの紫外線は上方から基板9に向けて照射されるが、基板9がガラス基板である場合には、紫外線は基板9の裏面側から照射されてもよい。また、光照射部45は必ずしも紫外線により隔壁パターンを硬化させる必要はなく、紫外線以外の他の種類の光や熱あるいはガス等を付与することにより硬化が行われてもよい。
【0053】
また、上記実施の形態では、ブレード43が基板9に接触しながら相対的に移動するため、基板9の表面を基準面とする絶対的な高さを制御したパターン形成が容易に実現されるが、形成される隔壁パターンに応じて、基板9とブレード43の下面との間に間隙を設けてブレード43が基板9に対して相対的に移動してもよい。
【0054】
パターン形成装置1は、有機EL表示装置や液晶表示装置等の他の種類の平面表示装置(フラットパネルディスプレイ)における隔壁や配線、電極等のパターンの形成に利用されてもよい。また、基板9もガラス基板には限定されず、樹脂基板、半導体基板等であってもよい。
【0055】
【発明の効果】
請求項1ないし10の発明では、ブレードの基板に対する相対移動を円滑に行うことができるとともに精度よくパターンを形成することができる。
【0056】
また、請求項2の発明では、パターン形成材料内へのブレードの進入を円滑に行うことができる。
【0057】
また、請求項3の発明では、ブレードが撓むことを抑制することができる。
【0058】
また、請求項4および5の発明では、除去されたパターン形成材料がパターン形成に悪影響を与えることを抑制することができる。
【0059】
また、請求項6の発明では、除去されたパターン形成材料をブレードから円滑に分離することができる。
【0060】
また、請求項7および8の発明では、形成されたパターンの形状を適切に保持することができる。
【0061】
また、請求項9の発明では、除去されたパターン形成材料を重力を利用してブレードから分離することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】パターン形成装置の概略構成を示す図である。
【図2】ブレードの先端部近傍を示す斜視図である。
【図3】ブレードを示す斜視図である。
【図4】パターンが形成される様子を示す図である。
【図5】(a)および(b)はパターンが形成される様子を説明するための図である。
【図6】第2の実施の形態に係るパターン形成装置の概略構成を示す図である。
【図7】ステージが回動する様子を示す図である。
【図8】パターンが形成される様子を示す図である。
【図9】(a)および(b)はパターンが形成される様子を説明するための図である。
【図10】パターン形成システムを示す図である。
【図11】パターンが形成される様子を示す図である。
【符号の説明】
1,1a パターン形成装置
2 ステージ移動機構
2a ヘッド部移動機構
3 ステージ
9 基板
31 モータ
43 ブレード
44 吸引ノズル
45 光照射部
46 補強部材
47 分離部
48 回収部
91 パターン形成材料
431 先端部
432 上側凹部
434 先端面
471 傾斜面
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上にパターンを形成する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、プラズマ表示装置や有機EL表示装置等に用いられるパネルに隔壁や電極のパターンを形成する方法として、サンドブラスト法(フォトリソグラフィ法とも呼ばれる。)、スクリーン印刷法、リフトオフ法等が知られている。しかしながら、これらの方法は煩雑であり、生産コストを増加させる要因となっている。そこで、特開平11−283497号公報では、パターン形成材料が一様に塗布された基板上にて、くし歯形状を有するとともに基板に対して垂直な姿勢の板状のブレードを相対的に移動することにより隔壁パターンを形成する手法が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記手法では、くし歯形状を有するブレードにより掻き分けられたパターン形成材料がブレードの相対移動方向の前方に蓄積するにつれてブレードの滑らかな移動が妨げられたり、整形前のパターン形成材料が有する平坦性が乱されてしまう等の問題があった。また、ブレードの移動を滑らかに行うためには粘度の低いパターン形成材料を使用することが好ましいが、この場合、硬化処理(例えば、乾燥処理や焼成処理等)が施されるまでに形成されたパターンの形状が重力等の影響により変形してしまうおそれがある。さらに、パターン形成材料がブレード(特にブレードの後側の面)に付着した場合には、パターンの形状に異常が生じたり、ブレードの移動が妨げられる等の問題があった。
【0004】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、基板上に適切なパターンを形成することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、基板上に付与されたパターン形成材料からパターンを形成するパターン形成装置であって、基板を保持する保持部と、略波形に湾曲した薄板状の先端を有するブレードと、前記ブレードを前記先端側から基板の主面に沿って相対的に移動することにより基板上のパターン形成材料の一部を除去する移動機構と、前記ブレードにより除去されたパターン形成材料を前記ブレードから分離する分離部とを備える。
【0006】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のパターン形成装置であって、前記ブレードの先端面が、基板の主面の法線方向から相対移動方向の前側へと傾斜している。
【0007】
請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載のパターン形成装置であって、前記ブレードの相対移動方向に垂直な方向に亘って前記ブレード上に取り付けられた補強部材をさらに備える。
【0008】
請求項4に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載のパターン形成装置であって、除去されたパターン形成材料を回収する回収部をさらに備える。
【0009】
請求項5に記載の発明は、請求項4に記載のパターン形成装置であって、前記回収部が、前記分離部近傍から除去されたパターン形成材料を吸引する吸引機構を有する。
【0010】
請求項6に記載の発明は、請求項1ないし5のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記分離部が、前記ブレードの前記先端において基板とは反対側の凹部に導かれるパターン形成材料を前記凹部外へと導く傾斜面を有する。
【0011】
請求項7に記載の発明は、請求項1ないし6のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記ブレードによる除去後に基板上に残されたパターン形成材料を順次硬化する硬化部をさらに備える。
【0012】
請求項8に記載の発明は、請求項7に記載のパターン形成装置であって、前記硬化部が、基板上に残されたパターン形成材料に向けて光を出射する。
【0013】
請求項9に記載の発明は、請求項1ないし8のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記保持部が、パターン形成材料が付与された主面を水平方向よりも下側に向けて基板を保持する。
【0014】
請求項10に記載の発明は、請求項9に記載のパターン形成装置であって、保持される基板の主面を上方を向く状態から水平方向よりも下側を向く状態へと前記保持部の姿勢を変更する回動機構をさらに備える。
【0015】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の第1の実施の形態に係るパターン形成装置1の概略構成を示す図である。パターン形成装置1は、プラズマ表示装置のガラス基板(以下、「基板」という。)9上にスリットコータやロールコータ等により一様の膜厚(例えば、120〜200μm)にて塗布されたパターン形成材料91(例えば、光開始剤が1〜30%、アクリル系モノマー等のバインダが5〜50%、複数種類の低軟化点ガラスフリットが40〜90%、その他、溶剤や添加剤が混合されたもの)から隔壁パターンを形成する装置であり、隔壁パターンが形成された基板9は他の工程を介してプラズマ表示装置の組立部品であるパネル(通常、リアパネル)となる。
【0016】
パターン形成装置1では、基台11上にステージ移動機構2が設けられ、基板9を吸引吸着により保持するステージ3がステージ移動機構2により図1中に示すX方向に移動可能とされる。基台11にはステージ3を跨ぐようにしてフレーム12が固定され、フレーム12にはパターン形成ヘッド部4が取り付けられる。なお、基板9は吸引吸着以外の他の手法(例えば、チャックピンにより把持される等)によりステージ3に保持されてもよい。
【0017】
ステージ移動機構2は、モータ21にボールねじ22が接続され、さらに、ステージ3に固定されたナット23がボールねじ22に取り付けられた構造となっている。ボールねじ22の上方にはガイドレール24が固定され、モータ21が回転すると、ナット23とともにステージ3がガイドレール24に沿ってX方向に滑らかに移動する。
【0018】
パターン形成ヘッド部4は、薄板状の先端を有するブレード43、および、ブレード43を着脱可能に支持する支持部材42を有し、フレーム12に固定されたベース41の下部に支持部材42が取り付けられる。パターン形成ヘッド部4は、さらに、ブレード43の上面に位置する吸引ノズル44、および、基板9に向けて紫外線を出射する光照射部45を有する。吸引ノズル44は吸引管441を介してポンプ442へと接続され、ポンプ442が吸引動作を行うことにより、吸引ノズル44の吸引口近傍の不要なパターン形成材料が吸引される。また、光照射部45は光ファイバ451を介して紫外線を発生する光源ユニット452に接続され、基板9に向かって光を出射する。
【0019】
ステージ移動機構2のモータ21、ポンプ442、および光源ユニット452は制御部6に接続され、これらの構成が制御部6により制御されることにより、パターン形成装置1による隔壁パターンを形成する動作が行われる。
【0020】
図2はブレード43の先端部431の近傍を示す斜視図である。なお、図2では基板9上のパターン形成材料91の図示を省略している。図2に示すように、ブレード43の先端部431は略波形に湾曲した薄板状となっている。すなわち、先端部431を基板9とは反対側から観察した場合、先端部431は相対移動方向(X方向)に伸びる複数の凹部((+Z)方向に向かって開口する凹部であり、以下、「上側凹部」という。)432をY方向に配列して有し、先端部431を基板9側から観察した場合には、上側凹部432の間が相対移動方向(X方向)に伸びる凹部((−Z)方向に向かって開口する凹部であり、以下、「下側凹部」という。)433となっている。
【0021】
また、先端部431の(+X)側の端面(すなわち、パターン形成ヘッド部4の基板9に対する相対移動方向に関して前側の端面であり、以下、「先端面」という。)434は基板9の主面の法線方向から相対移動方向の前側へと傾斜している(換言すれば、先端面434の法線が相対移動方向((+X)方向)から下側へと傾斜している。)。
【0022】
ブレード43の上面には、補強部材46が基板9に対する相対移動方向に垂直な方向(かつ、ブレード43の上面に沿う方向、すなわち、Y方向)に亘って取り付けられ、補強部材46によりブレード43がZ方向へと撓むことが抑制される。各上側凹部432において補強部材46の下方には、樹脂により形成された分離部47が設けられ、分離部47の前面471は、基板9の主面の法線方向から相対移動方向後側へと傾斜した(すなわち、相対移動方向に対して上側を向く)曲面となっている(以下、前面471を「傾斜面471」という。)。なお、傾斜面471は平面であってもよい。
【0023】
補強部材46の上方には吸引ノズル44が配置され、吸引ノズル44は相対移動方向側に開口する吸引口443を有する。吸引口443は相対移動方向に垂直な方向にブレード43に沿って(すなわち、Y方向に)伸びる長い開口となっている。
【0024】
後述するように基板9上のパターン形成材料91の一部は上側凹部432に沿って切り取られて先端面434から分離部47へと送られ、分離部47から吸引口443へと吸引される。すなわち、上側凹部432および分離部47の傾斜面471により、不要なパターン形成材料を吸引口443へと導く排出路が形成される。吸引ノズル44の後方または(±Y)側には図1に示す吸引管441が接続されており、不要なパターン形成材料は吸引管441およびポンプ442を介して所定の回収場所へと回収される。
【0025】
図3は、ブレード43の先端部431の断面を示す斜視図であり、基板9上のパターン形成材料91および吸引ノズル44の図示を省略している。なお、図3では、先端部431をYZ平面に平行な面にて切断した断面を平行斜線を付して示している。図3に示すように、ブレード43の相対移動方向後方には各下側凹部433に対応して光のスポットを基板9上に形成する光照射部45が設けられる。
【0026】
下側凹部433および上側凹部432の断面形状は略台形状となっており、下側凹部433の上底(上側の辺)の長さ(すなわち、下側凹部433の底面の幅)が60μm、下底の長さ(すなわち、下側凹部433の開口側の幅)が90μm、高さ(すなわち、下側凹部433の深さ)が150μmとされ、上側凹部432の下底の長さ(すなわち、上側凹部432の基板9側の底面の幅)が300μmとされる。なお、先端部431の板厚は5μm程度であり、X方向に関するブレード43の長さは3mm程度とされる。
【0027】
次に、パターン形成装置1が基板9上のパターン形成材料91から隔壁パターンを形成する動作について説明を行う。まず、図1に示すようにパターン形成材料91が付与された基板9がパターン形成装置1に搬入されてステージ3に吸引吸着される。そして、制御部6が光源ユニット452を制御して光照射部45から紫外線の出射が開始され、ポンプ442の吸引動作が開始されて吸引ノズル44による吸引が開始される。続いて、ステージ移動機構2のモータ21が駆動制御され、基板9の表面がブレード43の下面に接触しながら(−X)方向に移動するようにステージ3が連続的に移動する。これにより、図4に示すようにブレード43が基板9上のパターン形成材料91中へと導かれて隔壁パターンの形成が行われる。
【0028】
図5(a)および(b)はブレード43により基板9上のパターン形成材料91から隔壁パターンが形成される様子を説明するための図である。ブレード43によりパターン形成材料91の一部が除去されて隔壁パターンが形成されることから、隔壁パターンの形成は、パターン形成材料91の整形と捉えられてもよい。図5(a)はブレード43によりパターン形成材料91から隔壁パターンが形成される直前の様子を(+X)側から示している。ブレード43は基板9上を主面に沿って相対的に移動するため、ブレード43が図5(a)に示すパターン形成材料91の位置を通過することにより、図5(b)に示すように、下側凹部433に対応する形状に隔壁パターン(符号91を付している。)が形成される。
【0029】
より詳細には、まず、図4に示すように、ブレード43が先端部431側からパターン形成材料91内へと進入し、先端部431において、パターン形成材料91が下側凹部433に対応する部分と上側凹部432に対応する部分(正確には、先端部431の上面側全体に対応する部分)とに分離される。このとき、先端面434と下側凹部433の底面とのなす角(先端面434の上側の角)が鋭角であるため、ブレード43のパターン形成材料91内への進入を円滑に行うことが可能となる。
【0030】
また、下側凹部433側に導かれたパターン形成材料91は、上面および側面が下側凹部433の断面形状(すなわち、図3に示す断面形状)に対応する形状に成形され、上面および側面の形状精度の高い隔壁パターンが形成される。なお、先端面434を基板9の法線方向から相対移動方向の前側へと傾斜させることにより、隔壁パターンの上部側が下部側よりも先に形成されるため、隔壁パターンの上部側の形状をより精度よく形成することも実現される。
【0031】
図4に示すように、ブレード43によるパターン形成後すぐに基板9上に残された(すなわち、隔壁パターンとされた)パターン形成材料91に向かって光照射部45から紫外線が照射され、順次硬化が行われる。これにより、パターン形成後のパターン形成材料91の形状が適切に保持される。その結果、隔壁パターンの基板9に接する部分の長さ(W)に対する高さ(H)の比(いわゆる、アスペクト比(H/W))が高く、かつ、安定した形状の(すなわち、十分に硬い)パターンが形成される。なお、紫外線照射による硬化は、形成された隔壁パターンが、重力や表面張力等により変形しない状態とされるのであれば、完全に硬化していない状態(いわゆる、半硬化状態)であってもよい。
【0032】
一方、上側凹部432側に分離されたパターン形成材料91の一部(すなわち、除去されたパターン形成材料であり、以下、「除去物」という。)は、ブレード43の相対移動に従って、上側凹部432の底面から図4に示すように分離部47の傾斜面471へと導かれる。そして、傾斜面471に沿って(すなわち、前述の排出路に沿って)滑らかに移動してブレード43から分離され、上側凹部432外の吸引口443近傍へと導かれる。これにより、パターン形成材料91からブレード43に作用する力を抑えることができ、ブレード43の基板9に対する相対移動を円滑に行うことができる。さらに、除去物は吸引ノズル44により吸引されることから、除去物が隔壁パターンの形成やブレード43の移動に悪影響を与えることも抑制される。
【0033】
隔壁パターンの形成が基板9の移動と共に連続的に行われ、基板9上のパターン形成材料91の終点がブレード43を通過すると、ステージ3の移動制御、吸引動作および紫外線の出射が停止される。その後、基板9はパターン形成装置1外へと搬出され、形成された隔壁パターンは他の工程において焼成されてパターン形成材料中の樹脂分が除去されるとともに、低軟化点ガラスフリットが融着して隔壁が形成される。なお、使用されるパターン形成材料に応じて、焼成の前に乾燥工程等が適宜行われる。
【0034】
以上のように、パターン形成装置1では、基板9上に付与されたパターン形成材料91に対して、上側凹部432および下側凹部433を一体的に有する略波形とされた薄板状の先端部431を有するブレード43が、基板9の主面に沿って相対的に移動することにより形状精度の高い隔壁パターンが形成される。また、除去物は分離部47によりブレード43から分離されることにより、ブレード43の基板9に対する相対移動を円滑に行うことが実現される。
【0035】
なお、パターン形成ヘッド部4としてY方向の幅が基板9よりも小さいものを用い、パターン形成ヘッド部4を基板9に対してX方向へと移動させる毎にY方向へと間欠的に移動させることにより、基板9の全面に隔壁パターンが形成されてもよい。
【0036】
図6は本発明の第2の実施の形態に係るパターン形成装置1aの概略構成を示す図である。パターン形成装置1aは、パターン形成ヘッド部4aにナット23aが固定され、ヘッド部移動機構2aによりパターン形成ヘッド部4aがX方向に移動可能とされる。パターン形成ヘッド部4aは、吸引ノズル44に代えて除去物を回収する回収部48が設けられ、さらに、上下が反転されているという点を除いて第1の実施の形態に係るパターン形成ヘッド部4と同様となっている。基台11にはヘッド部移動機構2aを跨ぐフレーム12aが固定され、ステージ3がフレーム12aにより支持される。また、制御部6に接続されたモータ31がフレーム12aに設けられ、モータ31によりステージ3がY軸方向に平行な中心軸を中心に回動する。他の構成は第1の実施の形態と同様であり、同符号を付している。
【0037】
パターン形成装置1aが隔壁パターンを形成する際には、まず、パターン形成材料91が付与された基板9が外部の基板搬送機構によりパターン形成装置1aに搬入され、吸引吸着によりステージ3に保持される。続いて、制御部6がモータ31を制御することにより、モータ31がステージ3を回動させ、図7に示すように、パターン形成材料91が付与された主面を下側(すなわち、(−Z)方向)に向けて基板9がステージ3に保持される。そして、光照射部45からの紫外線の出射が開始され、ヘッド部移動機構2aによりパターン形成ヘッド部4aが(−X)方向に移動する。
【0038】
図8はブレード43により隔壁パターンが形成される様子を示す拡大図である。図8に示すように、ブレード43が基板9に当接しつつ滑るように移動することにより、パターン形成材料91は第1の実施の形態と同様にブレード43の先端部431において適切に分離される。
【0039】
図9(a)および(b)は隔壁パターンが形成される様子を説明するための図であり、図9(a)はブレード43によりパターン形成材料91から隔壁パターンが形成される直前の様子を(−X)側から示している。
【0040】
図8および図9(a)に示すように、ブレード43は基板9上を主面に沿って相対的に移動することにより、先端部431側からパターン形成材料91内へと滑らかに移動する。そして、下側凹部(すなわち、基板9側に向かって開口する凹部)433へと導かれたパターン形成材料91は下側凹部433に対応する形状を有する隔壁パターンとなる。
【0041】
一方、基板9とは反対側の上側凹部432側に導かれたパターン形成材料(すなわち、除去物)は、分離部47の傾斜面471に沿いつつ重力によりブレード43から適切に分離される。除去物はブレード43の下方に設けられた回収部48へと落下して回収され、ブレード43の基板9に対する相対移動が円滑に行われるとともに、除去物が隔壁パターンの形成やブレード43の移動に与える影響を抑制することが実現される。
【0042】
また、ブレード43の後方から導出される形成後の隔壁パターンは速やかに光照射部45により紫外線が照射されることにより、隔壁パターンの形状が重力等の影響により崩れてしまうことが防止され、図9(b)に示すように、形状精度の高い隔壁パターン(符号91を付している。)が形成される。
【0043】
以上のように、パターン形成装置1aでは、ステージ3がパターン形成材料91が付与された主面を下側に向けて基板9を保持しつつ、ブレード43を基板9の主面に沿って相対的に移動することにより、除去されたパターン形成材料がブレード43から重力を利用して適切に分離され、ブレード43を円滑に移動することができる。その結果、パターン形成材料91から形状精度のよい隔壁パターンを形成することができる。
【0044】
なお、パターン形成の際に基板9はパターン形成材料91が付与された主面が真下に向けられる必要はない。例えば、パターン形成装置1a全体が傾斜した姿勢で設置されてもよい。この場合、モータ31により、基板9の主面が上方を向く状態から水平方向よりも下側を向く状態へとステージ3の姿勢が変更されることとなる。すなわち、基板9の主面が水平方向よりも下側を向く状態とされることにより、除去物を基板9から重力を利用して容易に分離することが実現される。また、モータ31が省略され、予め水平方向よりも下側に向いて固定されたステージ3に基板9が保持されてもよい。
【0045】
図10はパターン形成装置1(パターン形成装置1aであってもよい。)がパターン形成システム8内に配置される様子を示す図である。パターン形成システム8では、まず、基板搬入部81に載置されている基板9が搬送機構80aにより次の装置82へと搬送される。装置82としては、スリットコータやロールコータ等が配置され、基板9上にパターン形成材料が一様に付与される。
【0046】
次に、基板9は搬送機構80bによりパターン形成装置1へと送られ、既述のパターン形成材料からのパターン形成が行われ、基板9上に精度の高い隔壁パターンが形成される。パターン形成が完了した基板9は搬送機構80cにより基板搬出部84へと搬送される。さらに、基板9は基板搬出部84から別途設置された乾燥装置や焼成装置等へと搬送される。
【0047】
なお、技術的に可能な範囲内で装置82とパターン形成装置1(または、パターン形成装置1a)とが一体化されてもよい。例えば、パターン形成材料を一様に塗布するスリットとブレード43とを1つの装置に設けて、基板9を相対的に移動させながらパターン形成材料の塗布とパターン形成とが並行して行われてもよい。
【0048】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【0049】
上記実施の形態では、パターン形成材料91の表面が下側凹部433の底面よりも高い位置にある(すなわち、パターン形成材料91の厚みが下側凹部433の深さよりも大きい)場合について説明を行ったが、図11に示すようにパターン形成材料91の表面が下側凹部433の底面よりも低い位置(すなわち、先端部431の高さがパターン形成材料91の高さよりも高い。)とされてもよい。この場合、形成される隔壁パターンの側面のみが下側凹部433に対応する形状となるようにパターン形成が行われる。また、隔壁パターンの高さはパターン形成材料91の膜厚により決定されることから、除去されるパターン形成材料91の量を上記実施の形態の場合よりも減少させることができ、コストの削減を図ることができる。
【0050】
パターン形成装置は、必ずしも基板9上に一様に塗布されたパターン形成材料91から隔壁パターンを形成する必要はなく、基板9上に予め暫定的に形成されたパターンから形状精度の高い隔壁パターンが形成(すなわち、パターンが整形)されてもよい。例えば、パターン形成材料を多数の微小開口から吐出するノズルとブレード43とを1つの装置に設けて、パターンの形成と整形とが並行して行われてもよい。
【0051】
また、ブレード43の先端が鋭利な刃物のように実質的に先端面434を有さず、ブレード43をパターン形成材料91内に滑らかに進入させることができるのであるならば、先端面434は必ずしも基板9の法線方向から傾斜している必要はない。さらに、パターン形成材料の硬さ等の性質によっては、ブレード43の先端面434が、基板9の主面の法線方向から相対移動方向の後側へと傾斜していてもよい。
【0052】
上記実施の形態では、光照射部45からの紫外線は上方から基板9に向けて照射されるが、基板9がガラス基板である場合には、紫外線は基板9の裏面側から照射されてもよい。また、光照射部45は必ずしも紫外線により隔壁パターンを硬化させる必要はなく、紫外線以外の他の種類の光や熱あるいはガス等を付与することにより硬化が行われてもよい。
【0053】
また、上記実施の形態では、ブレード43が基板9に接触しながら相対的に移動するため、基板9の表面を基準面とする絶対的な高さを制御したパターン形成が容易に実現されるが、形成される隔壁パターンに応じて、基板9とブレード43の下面との間に間隙を設けてブレード43が基板9に対して相対的に移動してもよい。
【0054】
パターン形成装置1は、有機EL表示装置や液晶表示装置等の他の種類の平面表示装置(フラットパネルディスプレイ)における隔壁や配線、電極等のパターンの形成に利用されてもよい。また、基板9もガラス基板には限定されず、樹脂基板、半導体基板等であってもよい。
【0055】
【発明の効果】
請求項1ないし10の発明では、ブレードの基板に対する相対移動を円滑に行うことができるとともに精度よくパターンを形成することができる。
【0056】
また、請求項2の発明では、パターン形成材料内へのブレードの進入を円滑に行うことができる。
【0057】
また、請求項3の発明では、ブレードが撓むことを抑制することができる。
【0058】
また、請求項4および5の発明では、除去されたパターン形成材料がパターン形成に悪影響を与えることを抑制することができる。
【0059】
また、請求項6の発明では、除去されたパターン形成材料をブレードから円滑に分離することができる。
【0060】
また、請求項7および8の発明では、形成されたパターンの形状を適切に保持することができる。
【0061】
また、請求項9の発明では、除去されたパターン形成材料を重力を利用してブレードから分離することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】パターン形成装置の概略構成を示す図である。
【図2】ブレードの先端部近傍を示す斜視図である。
【図3】ブレードを示す斜視図である。
【図4】パターンが形成される様子を示す図である。
【図5】(a)および(b)はパターンが形成される様子を説明するための図である。
【図6】第2の実施の形態に係るパターン形成装置の概略構成を示す図である。
【図7】ステージが回動する様子を示す図である。
【図8】パターンが形成される様子を示す図である。
【図9】(a)および(b)はパターンが形成される様子を説明するための図である。
【図10】パターン形成システムを示す図である。
【図11】パターンが形成される様子を示す図である。
【符号の説明】
1,1a パターン形成装置
2 ステージ移動機構
2a ヘッド部移動機構
3 ステージ
9 基板
31 モータ
43 ブレード
44 吸引ノズル
45 光照射部
46 補強部材
47 分離部
48 回収部
91 パターン形成材料
431 先端部
432 上側凹部
434 先端面
471 傾斜面
Claims (10)
- 基板上に付与されたパターン形成材料からパターンを形成するパターン形成装置であって、
基板を保持する保持部と、
略波形に湾曲した薄板状の先端を有するブレードと、
前記ブレードを前記先端側から基板の主面に沿って相対的に移動することにより基板上のパターン形成材料の一部を除去する移動機構と、
前記ブレードにより除去されたパターン形成材料を前記ブレードから分離する分離部と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項1に記載のパターン形成装置であって、
前記ブレードの先端面が、基板の主面の法線方向から相対移動方向の前側へと傾斜していることを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項1または2に記載のパターン形成装置であって、
前記ブレードの相対移動方向に垂直な方向に亘って前記ブレード上に取り付けられた補強部材をさらに備えることを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
除去されたパターン形成材料を回収する回収部をさらに備えることを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項4に記載のパターン形成装置であって、
前記回収部が、前記分離部近傍から除去されたパターン形成材料を吸引する吸引機構を有することを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
前記分離部が、前記ブレードの前記先端において基板とは反対側の凹部に導かれるパターン形成材料を前記凹部外へと導く傾斜面を有することを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
前記ブレードによる除去後に基板上に残されたパターン形成材料を順次硬化する硬化部をさらに備えることを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項7に記載のパターン形成装置であって、
前記硬化部が、基板上に残されたパターン形成材料に向けて光を出射することを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項1ないし8のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
前記保持部が、パターン形成材料が付与された主面を水平方向よりも下側に向けて基板を保持することを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項9に記載のパターン形成装置であって、
保持される基板の主面を上方を向く状態から水平方向よりも下側を向く状態へと前記保持部の姿勢を変更する回動機構をさらに備えることを特徴とするパターン形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002242026A JP2004079479A (ja) | 2002-08-22 | 2002-08-22 | パターン形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2002242026A JP2004079479A (ja) | 2002-08-22 | 2002-08-22 | パターン形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2004079479A true JP2004079479A (ja) | 2004-03-11 |
Family
ID=32024335
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002242026A Pending JP2004079479A (ja) | 2002-08-22 | 2002-08-22 | パターン形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2004079479A (ja) |
-
2002
- 2002-08-22 JP JP2002242026A patent/JP2004079479A/ja active Pending
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