JP2004078234A

JP2004078234A - 再帰反射偏光子

Info

Publication number: JP2004078234A
Application number: JP2003317125A
Authority: JP
Inventors: Michael F Weber; ウェーバー、マイケル・エフ
Original assignee: 3M Co; Minnesota Mining and Manufacturing Co
Current assignee: 3M Co
Priority date: 1991-06-13
Filing date: 2003-09-09
Publication date: 2004-03-11
Also published as: WO1992022838A1; KR940701548A; DE69213234D1; EP0588937B1; JP2002196148A; DE69213234T2; EP0588937A1; CA2110807A1; MX9202841A; JPH06508449A; US5559634A; BR9206133A

Abstract

【課題】
　改良された再帰反射偏光子の提供。
【解決手段】
　再帰反射偏光子は、構造化材料上に塗布された光学的な薄膜からなり、入射光線を、偏光された成分（１８−ｓ，１８−ｐ）、即ち、偏光子を通る１つの成分（１８−ｐ）と、光源に戻るもう一方の成分（１８−ｓ）へ分離する。
【選択図】図２

Description

　本発明は、構造化された表面をもつ基板上に塗布された薄膜の堆積を偏光することに関する。

　マクネイル（MacNeille）偏光子は、大きな基板材料上に配置された１対の薄膜材料の交互に繰り返す層からなる。１対の薄膜材料は、１つの低屈折率材料と１つの高屈折率材料からなる。上記２つの屈折率は、マクネイル対と呼ばれ、与えられた光線の入射角に対し、ｐ−偏光（ｒｐ）に対する反射率は、各薄膜の界面において本質的に０であるように、選定される。ｒｐが０である角度は、ブリュースター角と呼ばれ、このブリュースター角を屈折率の数値に関連づける公式は、マクネイル条件と呼ばれる。ｓ−偏光（ｒｓ）の反射係数は、各薄膜の界面において０ではない。そのため、薄膜層が更に追加されるにつれ、ｓ−偏光の全反射率は増加する一方、ｐ−偏光の反射率は依然として本質的に０である。このように、偏光されていないライトビーム、即ち薄膜の堆積上への入射光は、いくらか、もしくは全てのｓ−偏光成分が反射される一方で、本質的に全てのｐ−偏光成分が透過される。

　そのような薄膜の堆積は、２つの一般的な型の基板上に蒸着される。基板は、更に液浸もしくは非液浸のいずれかとして製造され、偏光子の型を分類する。例えば、もし、薄膜が、直角（ポロ）プリズムの斜辺側を形成する平面上に蒸着され、同じ一のプリズムの同様な面に接着されるならば、偏光子は、液浸偏光子である。薄膜が、透明媒体の２つの面状平板（planer slab）の間に接着されたならば、偏光子は、非液浸偏光子である。一般的に、バルクの形成用樹脂の形状が、薄膜材料ｍｉにおける光線の液浸定数ｎｉ＊ｓｉｎ（θｉ）に影響を与えない場合、偏光子は、非液浸である。

　液浸もしくは非液浸偏光子の何れに対しても、入射光線のｐ−偏光成分は、透過される一方、ｓ−偏光成分は、入射角に等しい角度で薄膜堆積から反射される。入射方向からのｓ−偏光成分の方向における全体的な変化は、立方体偏光子に対して９０゜、及び平板偏光子に対しては通常は約６０゜である。このように、もし、追加の光学部材が、ｓ−偏光成分を再び向け直すために使用されなければ、ｓ−偏光成分は、典型的には後の使用に用いることができず、利用できる光の全体的な強度の減少を招く。例えば、（ゴールデンバーグ（Goldenberg）等による）米国特許４，９１３，５２９号には、両成分を再結合する２個の反射板、偏光回転子及びプリズムを用いる液晶支持体（ＬＣＤ）テレビジョン投影システムが開示されている。

　そのようなシステムは、オーバーヘッドプロジェクターのような多くの普通の映像表示システム、特に、薄い形状が要求されるポータブルもしくはラップトップのコンピュータの表示に用いるのには、好ましくない大きさである。

　本発明は、
　（ａ）並んで配列された本質的に直角の２等辺の係数のプリズムの直線的な配列からなる構造化表面を有し、この構造化平面と反対の平滑な表面への接面に関してほぼ４５゜の角度を形成する垂直な係数の面を有する第１の材料と、
　（ｂ）本質的に第１の材料と同じ第２の材料と、
　（ｃ）少なくとも１つの材料の構造化平面上にあり、選択された光学的な厚さの高屈折率材料及び低屈折率材料の交互に重なる層からなる少なくとも１つの光学的な堆積とからなり、
　第１及び第２の材料は、全て光学的に接合され、単一ユニットを形成し、この単一ユニットにおいて、第１及び第２の材料の屈折率及び上記光学的堆積の複数の層の上記屈折率及び光学的厚さは、偏光された光の選択的な反射を生成するように全て選ばれて、
　（ｄ）上記光学的な堆積の１部の内部において、混合された偏光の入射光線が、ｓ−偏光成分及びｐ−偏光成分に分離され、
　（ｅ）上記ｓ−偏光成分は、上記光学的な堆積の他の部分で反射され、その部分で入射光線に平行に反射されるが、入射光と逆の方向に進み、
　（ｆ）上記ｐ−偏光成分は、入射光線に対して平行に透過する
ことを特徴とする再帰反射偏光子。

　図１及び図２は、発明の再帰反射偏光子１０を示す。この再帰反射偏光子１０は、２枚の透明基板１２及び１４からなり、この２枚の基板の間には、合成光学堆積１６が存在する。

　基板１２，１４は、それぞれ（互いに面する）構造化表面及び非構造化表面とを備える。図に示すように、基板１２は、上部層であり、また基板１４は支持体であるが、全体の組立品は、機能性の低下を伴わずに逆にでき、２つの基板の役割を本質的に交換する。

　この実施例が示すように、合成光学堆積１６は、上部の基板１２の構造化表面上に蒸着され、下部の基板１４は、単一ユニットを形成するために接着剤２４により合成光学堆積１６に光学的に接合される（即ち、透明接着剤の非常に薄い層により接着される）。しかし、合成光学堆積は、接着剤２４をその間に備える２つの副堆積から構成することができる。ここで、一方の上記副堆積は上部層に接して配され、もう他方の上記副堆積が基板上に配される。

　合成光学堆積は、相互に比して低い屈折率及び高い屈折率を有する材料の複数の交互の対からなる少なくとも１組からなる。層の厚さは、１／４波長の基準が各層２０及び２２により入射平行光線１８の波長に対して満たされているように選ばれる。構造化表面の形状、基板材料の光学的特性、及び合成光学堆積の性質は、全て結合して、入射光線を２つの偏光成分に分割する。一方の成分１８−ｓは、再帰反射、即ち、光線１８の光源に沿って帰るように方向づけられるように、２回反射される。他の成分１８−ｓは、入射ビーム１８に対して平行に透過される。
（図２において、入射光１８の成分１８−ｓ及び１８−ｐへの分割は、基板及び合成光学堆積の間の最初の界面で生じるように示されているが、これは、図示のみのためである。実際には、若干の分割は、薄膜間の各界面において起こり、図示されるような正味の結果を生じる。）

　図示する本実施例では、合成光学堆積は、１対の材料が繰り返す堆積からなる。一方の材料は、比較的低い屈折率（ｎＬ）の材料２０であり、もう一方の材料は、比較的高い屈折率（ｎＨ）の材料２２である。そのような堆積１６の構成は、（ＨＬ）２と略される。一般的に、（ＨＬ）５堆積のような、より多くの層が用いられ、一般的に各材料の平均の光学的な厚さは、興味ある選ばれた波長（典型的に可視スペクトルにおいて、しかし、可視スペクトルである必要はない）に関連し、１／４波長である。しかし、機能を最も発揮させるため、全ての薄膜のそれぞれの厚さは、周知の原理に従って、所望する値を計算する商業的に利用できるソフトウェアを用い、平均の厚さからわずかに変更される。

　また、（Ｈ１Ｌ１）５＋（Ｈ２Ｌ２）５のような、材料もしくは平均の厚さの２つ以上の対が用いられてもよい。これは、発明の有用な光学的バンド幅即ち発明が本質的に全てのｓ−偏光された光を反射する角度の範囲を拡大するために使用される。

　基板１２及び１４のそれぞれは、透明の、好ましくは、並んで配列された本質的に直角の２等辺のプリズムの直線形配列からなる構造化表面を有する一体の（即ち、組立品または積層品に対するものとしての単一の連続する部品）材料を構成する。各プリズムの垂直複数の面側は、構造化表面の反対側の滑らかな表面に関して（もしくは、より一般的な可撓性基板において、構造面に接する面に関して）ほぼ４５゜の角度を形成する。４５゜以外の角度は、他の用途に利用できるが、４５゜付近（例えば、４０゜〜５０゜）の角度が、本発明において好ましい。これは、光学的な堆積の設計上の制約を課す。即ち、３つの屈折率（光学的な堆積のｎＬ及びｎＨと、基板のｎＯ）の２つだけが、独立して選択できる。（もう一つの制約は、ｐ−偏光された光の高い透過が全ての波長で要求されるならば、ｎＬは、常にｎＯよりも小さいことである。）これらの値は、各材料の界面のブリュースター角を、界面を形成する材料の屈折率の数値に関連づけるマクネイル条件により決定される。即ち、θＯをθＬ及びθＨに関連づけるスネル（Snell）の法則により、
　　　　　　　　　　　　ｔａｎ（θＬ）＝（ｎＨ／ＮＬ）
もしくは、
　　　　　　　　　　　　ｔａｎ（θＨ）＝（ｎＬ／ｎＨ）。

　理論的には、ｎＨ及びｎＬの値の無限の集合が、与えられたｎＯに対して存在する。しかし、実例では、基板及び薄膜用の材料の利用することのできる選択は、限定され、本発明の設計は、ｎＯの値あたりのｎＨ及びｎＬの値の限られた集合の中からどれが所望する結果を生成するかの選択に狭められる。ｎＨ及びｎＬの間が大きいほど、本発明が入射光を分離した偏光に分割する光学的なバンド幅が広くなる。

　基板の適切な厚さは、滑らかな表面から溝の最も低い点まで０．３６ミリメートルである。適切な溝の高さ（真正に測定されたもの）は、０．１８ｍｍである。そのような薄膜では、１センチ当たり２８個のピークが望ましいが、寸法においては広い自由度がある。

　好ましい基板材料は可撓性で、均一で、等方的である。適切な材料は、それぞれ１．４９及び１．５９の公称屈折率の市販のアクリル樹脂及びポリカーボネートを含む。他に用いることのできる材料は、要求された機能を提供するように選択され、ポリプロピレン、ポリウレタン、ポリスチレン及び塩化ビニルを含む。一般的に、ポリウレタンは、比較的高い屈折率、透明度、及び物理的性質のため、好ましい。

　より大きな屈折率の材料は、ポリスルホン（及びポリエーテルスルホン及びポリアリールスルホンのような変形)、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を含む。スルホンは、高い処理温度を必要とするが、一方で、より高い周囲温度での使用に耐える。ＰＥＴ及びＰＥＮは、結晶化し、もしくは処理パラメータに依存する複屈折を示す。全てのこれら材料は、１．６３〜１．６５の範囲内の屈折率を有し、そのため、ＳｉＯ２／ＴｉＯ２の薄膜対の使用を可能にする一方で、ｐ−偏光された光の高い透過を保持する。

　　適切な材料は、米国特許４，８０５，９８４号（コブ，ジュニア（Ｃｏｂｂ，Ｊｒ．））により開示される。しかし、この発明において、材料の光学的な性質は、この発明に用いられた際、大きく変化されるので、材料の全体の内面反射特性は、関係しない。

　薄膜２０及び２２に適した材料は、関心のあるスペクトルにおいて、（低い吸収を示す）透明などんな材料をも含む。高帯域可視光に対して適切な薄膜材料は、二酸化シリコン（ＳｉＯ２）（ｎ＝１．４５）と、非晶質水素含有窒化シリコン（ａ−ＳｉＮ：Ｈ）（ｎ＝１．６８〜２．０）と、二酸化チタン(ＴｉＯ２．）（ｎ＝２．２〜２．５）と、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）（ｎ＝１．３８）と、氷晶石（Ｎａ３ＡｌＦ６）（ｎ＝１．３５）と、硫化亜鉛（ＺｎＳ）（ｎ＝２．１〜２．４）と、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）（ｎ＝２．０５）と、酸化ハフニウム（ｎ＝２．０）と、窒化アルミニウム（ｎ＝２．２）である。窒化シリコン（Ｓｉ３Ｎ４）は、適しているが、好ましいポリカードネートの基板上でうまく形成されない。

　幾つかの薄膜蒸着技術は、基板上に合成光学堆積を蒸着するのに用いることができる。熱及び電子ビーム発散、及びイオンビームスパッターは、精密な光学的コーティングのための選択される方法であり、後者の方法は、基板への接着、硬度、及び環境の安定性に関して優れた薄膜を生成する。また、マグネトロンスパッターは、ガラス上の反射防止コーティングのような高帯域コーティングに対して広く用いられ、特に立体ガラスのような広い分野への適用に用いられる。しかし、全体的に、熱及び電子ビーム発散は、良好な品質の薄膜及び容認できる製造速度に対する十分に高い蒸着速度を提供するはずである。より重要なことは、フッ化マグネシウム及び氷晶石のような低い屈折率の薄膜は、この方法により蒸着できることである。電子ビーム蒸着は、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、及び窒化アルミニウムのような高い屈折率の材料に対し、コーティング産業において通常に用いられている。

　発明を実施するための方法は、プラズマ補助化学的蒸着（ＰＡＣＶＤ）であった。ＰＡＣＶＤの使用により、以下の手順及び結果としての生成物が可能である。

　二酸化シリコンは、約５０〜１００（watt／ft２）の電極領域で低出力ＲＦプラズマを使用し、５０及び２５０ミリTorr間にある酸素もしくは亜酸化窒素を用いたＰＡＣＶＤ処理においてシラン（ＳｉＨ４）もしくはほとんど任意の有機シランを反応して蒸着される。亜酸化窒素は、気相において一般により少ない粒子生じるため、いくぶん好ましい。

　ＴｉＯ２は、同一の出力レベルにおいて、酸素及び亜酸化窒素を用いて四塩化チタン（ＴｉＣｌ４）を反応することにより形成できる。ＴｉＣｌ４蒸気の与えられた流れに対するＯ２及びＮ２Ｏの相対的源流及び絶対的流量の双方を変化することにより、薄膜の屈折率は、容易に２．０から２．４に変化される。薄膜内の残留塩素は、ポリカーボネートへの不十分な接着を生じる。反応性気体を数倍越える酸素の流れが好ましい。

　可視的に透明なａ−ＳｉＮ：Ｈ材料は、蒸着温度の関数として主に変化する屈折率を有し、２５０℃以上の温度を要求するより高い屈折率を有する。薄膜は、シラン、アンモニア、窒素の混成物より蒸着される。高い屈折率の薄膜（即ち、シラン、不十分な窒素、存在しないアンモニア）に対して適切な状態から低い温度で形成された薄膜は、所望しない青い光の大きな吸収を生じる。低い屈折率の薄膜は幾分もろいけれども、低い光学的吸収を有し、１００℃より下でポリカーボネート上に１．６８と１．８との間の屈折率を有する薄膜を形成することは可能である。

　ＰＡＣＶＤ法は、米国特許４，８４１，９０８号及び４，８７４，６３１号（双方ともジャコブソン等による）による蒸着システムを用いで実行された。簡単に言えば、このマルチ・チャンバー蒸着システムは、異なる組成の層に対する複数の蒸着チャンバーを含む大きな容積の真空チャンバーを採用し、各チャンバーは、隣接する蒸着チャンバーからのドーパント気体の逆流を最小限にするための独立したシールを有する。基板の連続的ロールは、各蒸着チャンバーを通る供給ロールから、最終の取出しロール上へと進む。ウェブ輸送の方向は、反復する屈折率材料の多重層を生成するために繰り返し逆にされる。

　接着剤２４の屈折率（ｎＡ）は、上部及び下部基板１２及び１４の屈折率に可能な限り近くに整合されるべきである。接着剤の屈折率が隣の基板の屈折率より小さいとき、接着剤の０でない厚さは、元の光線方向から離れた光の幾つかの屈折を招く。ｎＡ＝１．５６の接着剤は、ノーランドカンパニー（Norlund Company）から入手することができる。適切な接着剤は、ノーランド番号61及び81の光セメント（ｎＡ＝１．５６）である。他の紫外線硬化性樹脂（ｎＡ＝１．５０）は、ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチュアリング・カンパニー（Minesota Mining and Manufacturing Company）の４１−４２０１−９１１８５番の、１％（重量）のスルフォニウム塩開始剤を用いて、ユニオン・カーバイド（Union Carbide）ＥＲＬ４２２１番のエポキシ樹脂から形成することができる。上記開始剤は、エポキシとの混合の前に蒸発されねばならない塩化メチレンに融解される。他のＵＶ硬化性混合物は、好ましくないが、ウレタンアクリレートに基づく樹脂、ジアクリレート希釈剤、及び適当な光開始剤から生成することができる。ＵＶ硬化性接着剤は、主にスペクトルの青色の終端において、約１〜２％の完成された偏光子において、わずかな吸収を起こすであろう。どの熱硬化性の接着剤もしくはエポキシも、もし低い光吸収及び高い屈折率を有するならば、うまくいく。

　整合された１／４波長の光学的な厚さからなる交互の薄膜の層は、（コブジュニア（Ｃｏｂｂ，Ｊｒ．）による）米国特許４，８０５，９８４号に記載される好ましい１４ミルの厚さの基板材料のポリカーボネート型の構造化された面に塗布される。例１において、コーティングは、５インチ幅及び８インチ長さの気体”シャワーヘッド”型電極を用い、上で記載されたプラズマ補助化学的蒸着（ＰＡＣＶＤ）法により実行される。再帰反射偏光子を形成するため、ＴＩＲ材料の塗布されない基板は、光学的な接着剤を用いて光学的な堆積に接着された。

　例１において、上記偏光子は、３つの光学的な堆積を備え、各光学的な堆積は、二酸化シリコン（ＳｉＯ２）もしくは二酸化チタン（ＴｉＯ２）のいずれかの１２個の層を有する。上述のＰＡＣＶＤ技術は、溝の底部に対向するプリズム先端近くに均一な薄膜厚さを生成することができなかったため、普通でない多くの層が、必須とされた。最初の堆積は、４００ｎｍを中心とする１／４波長厚さを有し、次は５５０ｎｍを中心とする１／４波長厚さを有し、３番目は７００ｎｍを中心とする１／４波長厚さを有する。偏光子の特性は、図４に示される。ｓ−偏光成分の透過率Ｔ（ｓ）は、ほとんど全ての可視スペクトル中、０もしくはほぼ０である一方、ｓ−偏光成分の反射率Ｒ（ｓ）は、最も効率的な普通の反射板の９５％のレベルに近づく。ｐ−偏光成分の透過率Ｔ（ｐ）は、非常に満足できるものであり、可視スペクトルにおいてほぼ８０％以上である。

　再帰反射偏光子の角度依存性の詳細を説明することは有益である。第１の特徴は、１つのプリズム小面を通るＰ−偏光に対する透過率の角度依存性である。角度θは、再帰反射偏光子の外部表面に対する単位ベクトル法線から空中で測定される。前提とされる薄膜堆積は、入射光の全角度で可視スペクトルを含むように設計された３つの堆積の組み合わせである。角度に対する透過スペクトルは、より大きな波長でより広くなる（６５０ｎｍで±４５゜）。この堆積は、２８の層からなる。８個の層は、６００ｎｍで中心とされ、４５゜（液浸）であり、各々１０個の層の２重堆積は、１５゜に設計され、４５０及び６００ｎｍの中心波長を有する。

　コンピュータで計算された透過率の角度依存性は、４５０ｎｍの波長に対し、θの正及び負の値に対するｐ−偏光透過の非対称性を示す。これは、基板表面から４５゜でのプリズム小面の傾斜から発生する。これに対し、角度θは、外部表面に対する法線から空中で測定される。偏光子を通る全体の透過は、相補的角度で２つの向かい合う小面を通る２つの透過の合計である。双方の項が考慮されるとき、透過曲線は対称的になる。なお、第２プリズムで側部へ透過された光からの３次の及びより高次の反射率は、同様に考慮できるが、曲線の形状に大きな影響はもたない。

　使用法
　本発明は、偏光されていない光源から得られる偏光された光の強度の増加から利益をうける偏光を要求する用途、特に、比較的広い範囲にわたる偏光された光を要求する、及び／または比較的小型（特に薄い）な用途に適する。

　例えば、本発明にかかる再帰反射偏光子は、入射光線の２つの成分を単一の偏光の成分に再結合するための１／４波長遅延板、及び反射板を用いて、非常に簡単な手法で結合できる。そのような配置は図３に示される。結合された反射板及び入射光１１８の光源は、１３０として図式的に示される。入射光１１８は、混成された偏光を有し、１／４波長遅延板により影響を受けないが、再帰反射偏光子１００により成分１１８−ｐ及び１１９−ｓに分割される。成分１１８−ｐは、表示装置１１０に直接的に伝送される。成分１１８−ｓは、１１９により示される１／４波長遅延板１２０を通って、後方に再帰反射され、１２１で示されるように再び１／４波長遅延板を通って後方に反射される（そして成分１２１として明確に上に横方向に置き換えられる）。１／４波長遅延板を通る２つの光路は、９０゜の全回転表す。即ち、成分１１８−ｓは、いま成分１１８−ｐとして同じ偏光方向を有し、そして、表示装置１１０の方へ方向づけられる。このため、偏光されていない入射光１１８のほぼ全ての強度は、表示装置１１０で偏光された形で利用することができる。

　このシステムにおける本発明の大きな利点は、全ての成分が領域内で比較的薄くかつ広く、及び実質的に同一の光軸上に存在するため、システムの外形が大幅に減少できることである。外形の減少が関心がない場合やもしくは他の理由で都合がよい場合は、光軸は、一般性を失うことなく再び方向づけることができる。

　反射光源１３０は、バックライトコンピュータ表示装置の光源でよく、もしくはミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチュアリング・カンパニーから広く利用できるモデルのようなオーバヘッドプロジェクターの光源でもよい。表示装置１１０は、１以上の複屈折性のＬＣＤパネルのグループであり、（コナー等による）米国特許４，９１７，４６５号及び（コナーによる）米国特許４，９６６，４４１号に開示されるような単色もしくはカラーの用途に使用される。

　この応用に対して、屈折率ｎＯ＝１．５８６のポリカーボネートの支持体を仮定するならは、理想的な最小の薄膜屈折率は、ｎＨ＝２．０及びｎＬ＝１．３５である。この屈折率の対を用いて、ポティック（Phototic）に対して（可視スペクトルを完全に含む）の２つの組の再帰反射偏光子のための理論的に最小の合成光学堆積は、８層、即ち、（ＨＬ）４＋（Ｈ'Ｌ'）４である。１つの組は、４２５ｎｍを中心とする帯域幅を有し、他の組は、６５０ｎｍを中心とする帯域幅を有する。氷晶石は、最も望ましい低い組（ｎＬ＝１．３５）を有するが、柔らかく、わずかに湿りやすいため、フッ化マグネシウム（ｎＬ＝１．３８）が好ましい。幾つかの他の材料が適当であるけれども、酸化亜鉛（ｎＨ＝２．０５）は、１つの好ましい高屈折率材料である。

本発明の好ましい１実施例の一部の断面図である。図１の実施例の一部の拡大断面図である。本発明を用いる光システムの概略図である。本発明の１実施例に入射する光の透過及び反射率のグラフである。

符号の説明

　１０　再帰反射偏光子
　１２　透明基板
　１４　透明基板
　１６　合成光学堆積
　２４　接着剤
　２０　層
　２２　層
　１８　入射平行光線
　１００　再帰反射偏光子
　１１０　表示装置
　１２０　１／４波長遅延板

Claims

　（ａ）並んで配列された本質的に直角の２等辺の係数のプリズムの直線的な配列からなる構造化表面を有し、この構造化平面と反対の平滑な表面への接面に関してほぼ４５゜の角度を形成する垂直な係数の面を有する第１の材料と、
　（ｂ）本質的に第１の材料と同じ第２の材料と、
　（ｃ）少なくとも１つの材料の構造化平面上にあり、選択された光学的な厚さの高屈折率材料及び低屈折率材料の交互に重なる層からなる少なくとも１つの光学的な堆積とからなり、
　第１及び第２の材料は、全て光学的に接合され、単一ユニットを形成し、この単一ユニットにおいて、第１及び第２の材料の屈折率及び上記光学的堆積の複数の層の上記屈折率及び光学的厚さは、偏光された光の選択的な反射を生成するように全て選ばれて、
　（ｄ）上記光学的な堆積の１部の内部において、混合された偏光の入射光線が、ｓ−偏光成分及びｐ−偏光成分に分離され、
　（ｅ）上記ｓ−偏光成分は、上記光学的な堆積の他の部分で反射され、その部分で入射光線に平行に反射されるが、入射光と逆の方向に進み、
　（ｆ）上記ｐ−偏光成分は、入射光線に対して平行に透過する
ことを特徴とする再帰反射偏光子。
　共通の光軸に沿って設けられた
（ａ）混合された偏光の入射光の光源と、
（ｂ）反射板と、
（ｃ）１／４波長遅延板と、
（ｄ）請求項１の再帰反射偏光子
（ｅ）偏光された光を用いる表示装置からなり、
　ｐ−偏光成分は、表示装置に伝送され、ｓ−偏光成分は、１／４波長遅延板を反射板に通り抜け、１／４波長遅延板を通って戻り、表示装置に進む前に、第２のｐ−偏光成分となる光学システム。
　薄い反射光源と、
　液晶表示パネルを含む表示装置と、
　上記の反射光源と上記の表示装置の間に位置され、第１偏光状態の光を液晶表示パネルの方に透過し、第２の偏光状態の光を反射光源の方に反射する薄い偏光膜と
　からなるバックライトコンピュータ表示装置。
　上記の偏光膜は、第１の偏光状態の可視スペクトルの光の約８０％を透過し、第２の偏光状態の可視スペクトルの光の約９５％を反射することを特徴とする請求項３に記載されたバックライトコンピュータ表示装置。