JP2004071786A - 荷電粒子線露光装置及び荷電粒子線露光方法 - Google Patents

荷電粒子線露光装置及び荷電粒子線露光方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2004071786A
JP2004071786A JP2002228335A JP2002228335A JP2004071786A JP 2004071786 A JP2004071786 A JP 2004071786A JP 2002228335 A JP2002228335 A JP 2002228335A JP 2002228335 A JP2002228335 A JP 2002228335A JP 2004071786 A JP2004071786 A JP 2004071786A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reticle
charged particle
particle beam
beam exposure
stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002228335A
Other languages
English (en)
Inventor
Sumuto Shimizu
清水 澄人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2002228335A priority Critical patent/JP2004071786A/ja
Publication of JP2004071786A publication Critical patent/JP2004071786A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

【課題】パターンの転写精度や重ね合わせ精度を向上させた荷電粒子線露光方法及び装置を提供する。
【解決手段】レチクルステージ11の静電チャック13の上面の3ヶ所にZ方向に延びる穴51が開けられている。これらの穴51内には、バネ55で上方に付勢されたピン状のアース端子53が配置されている。シリコン製のレチクル10をレチクルステージ11に載置する際に、アース端子53をレチクル10の表面に押し当てると、レチクル10は静電チャック13に静電吸着されるとともに、ピン状アース端子53の先端がレチクル10の酸化層10cを突き破ってシリコン支持基板10aに達する。これにより、レチクル10を確実にアースさせることができ、レチクルのチャージアップを防ぎ、ビームドリフトやフォーカスのズレを発生させない。
【選択図】   図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路等のリソグラフィに使用される荷電粒子線露光方法及び装置に関する。特には、レチクルの帯電に伴うパターン精度不良を防止しうるよう改良を加えたレチクルステージを備えた荷電粒子線露光装置等に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年のデバイスパターンの微細化・高集積化に伴い、電子ビーム(EB)を用いた露光技術の開発が盛んになってきている。特に70nmノードに向けたリソグラフィ技術の開発として、電子線縮小投影露光方法(EPL、Electron Projection Lithography)の他、等倍プロキシミティ転写露光法を特徴とするLEEPL(Low Energy E−beam Proximity Projection Lithography)、あるいは、F2レーザを光源とする光ステッパ等が開発されつつある。この内、EPLは高いスループットもねらえ、メモリ量産にも対応できるため、特に注目されている。また、EPLは、レチクル上の回路パターンをスキャニングしながら縮小転写してウェハ(感応基板)上に焼き付けることが可能で、70nmノード以降のデバイス作製に対応する量産技術として有望視されている。このEPLには、PREVAILあるいはSCALPEL(登録商標)と呼ばれる電子光学系あるいはシステム技術が報告されている。
【0003】
このようなEB露光技術は、単純な基本図形アパーチャのパターンを重ね合わせて所望のパターンを形成するセルプロジェクション等の従来の直接描画技術の延長と異なり、所望のパターンの拡大パターンをレチクルパターン(原版パターン)として、そのレチクルパターンをそのまま縮小投影露光してデバイスパターンを形成する。この技術には、レチクルを用いた縮小転写方法、及び、大口径ビームの照射が可能なEB光学系が採用されている。これらの技術により、スループットを格段に向上させることができる。そして、パターンが形成されたレチクルを複数の小領域(サブフィールド)に分割し、サブフィールド毎に一括して露光していく方式(分割露光方式)が考え出された。
【0004】
このような方式の露光装置に用いられるレチクルの一種として、散乱ステンシル型レチクルがある。散乱ステンシル型レチクルの基本構造は、電子散乱体となるメンブレンと、このメンブレンの保持構造とからなる。そして、メンブレンに、転写すべきパターンの個別要素図形の形状に対応したパターン開口が形成される。分割転写露光方式においては、電子線が1回露光されるサブフィールドの大きさは1mm角程度であり、レチクル全体に1mm角程度のメンブレンが多数配列されている。
【0005】
このレチクルに電子線を照射すると、電子線はパターン部分である開口から透過し、非パターン部である電子散乱体では電子線を散乱させて透過させない。電子散乱体で散乱された電子は、散乱制限アパーチャでカットされ、ウェハ面上には開口を透過した電子のみが届く。そして、ウェハ上に散乱されなかった電子線を結像させてパターンのコントラストを得る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら荷電粒子線を用いてウェハ上に投影を露光した場合、隣り合うサブフィールドの露光像の位置がずれたり、フォーカスレベルが管理範囲から外れることがあり、パターンの転写精度が劣化する。
【0007】
この主な原因として、1)ウェハやレチクルのチャージアップとノイズ、2)装置補正係数(収差補正レンズ等の調整係数)の間違い、が挙げられる。この中で、2)装置補正係数の間違いは、装置性能に依存するものであってウェハ全面に影響し、ウェハの一部に発生するものではない。一方、ウェハ全面のほとんどが正常に露光されて、一部に露光位置のずれやフォーカスのずれが発生するのは、1)の「ウェハやレチクルのチャージアップ」によるものと考えられる。つまり、ウェハやレチクルがチャージアップして、ビームドリフトが起こって位置ずれが生じたり、ビーム軌道が変動してビーム毎の速度偏差が発生してボケる(フォーカスが外れる)ことがあると考えられる。
【0008】
一般に、レチクルはシリコンウェハをベースとしたレチクルブランクス基板から作製される。レチクルブランクス基板は十分な導電性を有し、露光操作時には、レチクルステージへ面で接触してアースされていることを前提としている。しかし、レチクルは、使用状態や保存状態によっては表面(シリコン薄膜層側)が汚れることがある。また、シリコン製のレチクルを大気中で保存すると、シリコン表面が酸化する。表面が汚れたり酸化したレチクル表面をレチクルステージに面接触させても、両者の間に十分な導通が得られないため、レチクルが安定にアースされなくなる。この結果、レチクルのチャージアップが発生し、ビームドリフトやフォーカスのずれが発生する場合があり得る。
なお、ビームドリフトは、電磁ノイズや電磁波等の外的要因によっても発生する。
【0009】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであって、パターンの転写精度や重ね合わせ精度を向上させた荷電粒子線露光方法及び装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明の荷電粒子線露光装置は、 感応基板上に転写すべきデバイスパターンを有するレチクルを荷電粒子線照明する照明光学系と、 該レチクルを載置して移動・位置決めするレチクルステージと、 前記レチクルを通過した荷電粒子線を前記感応基板上に投影結像する投影光学系と、 前記感応基板を載置して移動・位置決めする感応基板ステージと、を具備する荷電粒子線露光装置であって、 前記レチクルの表面に押し当てられる突起状のアース端子が前記レチクルステージ上に設けられていることを特徴とする。
レチクルをレチクルステージに載置する際に、突起状のアース端子をレチクルの表面に押し当てることにより、レチクルとレチクルステージとを確実に導通させて、レチクルをアースさせることができる。このため、レチクルのチャージアップを防ぎ、ビームドリフトやフォーカスのズレを発生させない。
【0011】
本発明においては、 前記レチクルがシリコン基板からなり、前記アース端子が該シリコン基板の表面酸化膜を突き破って安定したアースを取ることとすれば、確実にレチクルをアースできる。
【0012】
本発明においては、 前記レチクルがアースされたことを確認する手段をさらに備えることとすれば、レチクルがアースされたことを確実に知ることができる。
【0013】
本発明の荷電粒子線露光方法は、 感応基板上に転写すべきデバイスパターンをシリコン基板からなるレチクル上に形成し、 該レチクルを荷電粒子線照明し、 該レチクルを通過した荷電粒子線を前記感応基板上に投影して前記パターンを転写する荷電粒子線露光方法であって、 前記レチクルを載置して移動・位置決めするレチクルステージに突起状のアース端子を設け、 該アース端子を前記レチクルのシリコン基板の表面酸化膜を突き破らせることにより、該レチクルを安定してアースすることを特徴とする。
【0014】
本発明においては、 前記レチクルがアースされたことを確認後、露光操作を行うこととしてもよい。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。
まず、図2を参照して荷電粒子線露光装置の構成を説明する。
図2は、本発明の実施の形態に係る荷電粒子線露光装置の光学系全体における結像関係及び制御系の概要を示す図である。この図は、分割転写方式の荷電粒子線露光装置を示す。
光学系の最上流に配置されている電子銃1は、下方に向けて電子線を放射する。電子銃1の下方には2段のコンデンサレンズ2、3が備えられており、電子線は、これらのコンデンサレンズ2、3によって収束されブランキング開口7にクロスオーバーC.O.を結像する。
【0016】
二段目のコンデンサレンズ3の下には、矩形開口4が備えられている。この矩形開口(照明ビーム成形開口)4は、レチクル(マスク)10の一つのサブフィールド(露光の1単位となるパターン小領域)を照明する照明ビームのみを通過させる。この開口4の像は、レンズ9によってレチクル10に結像される。
【0017】
ビーム成形開口4の下方には、ブランキング偏向器5が配置されている。同偏向器5は、必要時に照明ビームを偏向させてブランキング開口7の非開口部に当て、ビームがレチクル10に当たらないようにする。
ブランキング開口7の下には、照明ビーム偏向器(照明光学系の主偏向器)8が配置されている。この偏向器8は、主に照明ビームを図4の横方向(X方向)に順次走査して、照明光学系の視野内にあるレチクル10の各サブフィールドの照明を行う。偏向器8の下方には、照明レンズ9が配置されている。照明レンズ9は、レチクル10上にビーム成形開口4を結像させる。
【0018】
レチクル10は、実際には光軸垂直面内(X−Y面)に広がっている。レチクル10上には、全体として一個の半導体デバイスチップをなすパターン(チップパターン)が形成されている。もちろん、複数のレチクルに1個の半導体デバイスチップをなすパターンを分割して配置しても良い。レチクル10上のパターンは、多数のサブフィールドに分割されている。
【0019】
レチクル10は、移動可能なレチクルステージ11上に載置されており(詳細後述)、レチクル10を光軸垂直方向(XY方向)に動かすことにより、照明光学系の視野よりも広い範囲に広がるレチクル上の各サブフィールドを照明することができる。
レチクルステージ11には、レーザ干渉計を用いた位置検出器12が付設されており、レチクルステージ11の位置をリアルタイムで正確に把握することができる。
【0020】
レチクル10の下方には、投影レンズ15及び19並びに投影光学系の主偏向器(像位置調整偏向器)16が設けられている。レチクル10の1つのサブフィールドを通過した電子線は、投影レンズ15、19、主偏向器16によって感応基板(ウェハ)23上の所定の位置に結像される。ウェハ23上には、適当なレジストが塗布されており、レジストに電子線のドーズが与えられ、レチクル上のパターンが縮小されてウェハ23上に転写される。
【0021】
レチクル10とウェハ23の間を縮小率比で内分する点にクロスオーバーC.O.が形成され、同クロスオーバー位置にはコントラスト開口18が設けられている。コントラスト開口18は、レチクル10の非パターン部で散乱された電子線がウェハ23に到達しないよう遮断する。
【0022】
ウェハ23は、静電チャック(図示されず)を介して、XY方向に移動可能なウェハステージ24上に載置されている。上記レチクルステージ11とウェハステージ24とを、互いに逆の方向に同期走査することにより、投影光学系の視野を越えて広がるチップパターン内の各部を順次露光することができる。なお、ウェハステージ24にも、上述のレチクルステージ11と同様の位置検出器25が装備されている。
【0023】
ウェハ23の直上には、反射電子検出器22が配置されている。この反射電子検出器22は、ウェハ23の被露光面やステージ上のマークで反射される電子の量を検出する。例えばレチクル10上のマークパターンを通過したビームでウェハ23上のマークを走査し、その際のマークからの反射電子を検出することにより、レチクル10とウェハ23の相対的位置関係や電子線(ビーム)の性状を知ることができる。
【0024】
上記各レンズ2、3、9、15、19及び各偏向器5、8、16は、各々のコイル電源制御部2a、3a、9a、15a、19a及び5a、8a、16aを介してコントローラ31によりコントロールされる。また、レチクルステージ11及びウェハステージ24も、ステージ制御部11a、24aを介して、コントローラ31により制御される。ステージ位置検出器12、25は、アンプやA/D変換器等を含むインターフェース12a、25aを介してコントローラ31に信号を送る。また、反射電子検出器22も同様のインターフェース22aを介してコントローラ31に信号を送る。
【0025】
コントローラ31は、ステージ位置の制御誤差を把握し、その誤差を主偏向器16で補正する。これにより、レチクル10上のサブフィールドの縮小像がウェハ23上の目標位置に合わせるよう制御できる。そして、ウェハ23上で各サブフィールド像が繋ぎ合わされて、レチクル10上のチップパターン全体がウェハ23上に転写される。
【0026】
次に、図1の荷電粒子線露光装置のレチクル及びレチクルステージの構成を説明する。
図1は、本発明の実施の形態に係る荷電粒子線露光装置のレチクルステージ近傍を拡大して示す図である。
レチクル10は、シリコン支持基板10aとシリコン薄膜層10bとを有するレチクルブランクスから作製される。そして、このレチクルブランクスからシリコン支持基板を部分的に除去して残されたシリコン薄膜層10bがメンブレン41となり、除去されなかったシリコン支持基板10aが保持構造(メインストラット45とマイナーストラット47)となる。このメンブレン41にサブフィールドのパターン形状に対応した形状のパターン開口43が形成される。
このシリコン薄膜層10bの表面(図の下面)が酸化して、酸化層10cが形成されることがある。
【0027】
レチクル10は、通常、シリコン支持基板10aを上側(電子銃側)、シリコン薄膜層10bを下側(感応基板側)として、レチクルステージ11の静電チャック13上に静電吸着により保持されている。このとき、レチクル10のメインストラット45の部分の下面側(シリコン薄膜層10b側)が静電チャック13に面で接触する。静電チャック13とレチクルステージ11とは導通しており、レチクルステージ11は鏡筒を介してアースされている。
【0028】
静電チャック13はリング状で、上面の周囲に沿って複数箇所(この例では3ヶ所)に、Z方向に延びる穴51が開けられている。これらの穴51内には、ピン状のアース端子53が配置されている。アース端子53は、導電性の材料で作製され、先端(上側)が先細のピン状で、基端は平坦である。そして基端と穴51の底との間には、導電性材料で作製されたバネ55が介装されている。アース端子53はバネ55によって、先端が静電チャック13の上面より上方につき出すように付勢されている。
【0029】
レチクル10をレチクルステージ11の静電チャック13に載置すると、レチクル10は静電チャック13に静電吸着されるとともに、ピン状アース端子53の先端がレチクル10の酸化層10cを突き破ってシリコン支持基板10aに達する。これによりレチクル10と静電チャック13は、面同士のみでなくアース端子53、バネ55を介しても導通するため、レチクル10を、静電チャック13、レチクルステージ11を介してアースさせることができる。これにより、レチクル表面(シリコン薄膜層10b)にゴミが付着したり、同表面が酸化した状態でも、レチクル本体は確実にアースできる。
【0030】
静電チャック13には、さらに、アース確認手段が設けられている。アース確認手段として、微小電流を流して、その抵抗値をモニターするテスター57を使用できる。このテスター57でレチクル10が完全にアースされたことを確認した後、露光操作を行う。
【0031】
次に、本発明の荷電粒子線露光方法の実施例について説明する。
まず、散乱ステンシルレチクルを作製した。レチクルブランクスとして、シリコン基板としてSOI(Silicon On Insulator)ウェハを用い、応力制御用にボロンを適当量注入した。このSOIウェハをエッチング等で処理して、メインストラット45とマイナーストラット47を作製し、レチクルブランクスとした。このレチクルブランクスのメンブレン上にEBレジスト(ZEP520)を厚さ0.5μmで塗布し、EB描画機を使用して目的のパターンを描画した。
【0032】
この散乱ステンシルレチクルを、露光装置としてニコンで開発されたEBステッパプロト機を用いて露光した。ここで同プロト機のレチクルステージは、図1に示す構造を有する。同機の主要なスペックは、電子線加速電圧100kV、縮小倍率4倍、一括露光エリア0.25mm角とし、露光基板には8インチSiウェハ(P型、抵抗率4〜6Ωcm、結晶軸(100)面)を用いた。同8インチウェハは、上面に化学増幅型EBレジストを0.3μm厚で塗布し、プリベーク処理を行った後、露光装置に搬送した。EBレジストとして、住友化学株式会社製の化学増幅型ネガ型レジストNEBシリーズ(登録商標)を用いた。
【0033】
搬送後、ウェハとレチクルのアライメントを行った。ウェハ上にはFIAマークを配し、レチクル重ね合わせアライメントを行った。その後、順次露光した。このときの電子線加速電圧100kVでの最適露光ドーズ量は約30μC/cmであった。レチクル上ビーム電流は15μAで、レチクル開口率をレイヤー全体で約10%としたため、ウェハ上ビーム電流は1.5μAであった。
【0034】
露光終了後、露光装置からウェハを取り出し、ホットプレートでPEB(PostExposure Bake)処理した。処理温度は100℃、処理時間は2分間である。その後、ウェハを現像した。現像液には2.38wt%TMAHを使用し、現像時間は1分間とした。続けて純水でリンス処理した。
【0035】
現像後のウェハ上の露光パターンの解像性、サブフィールド重ね合わせ精度をCD−SEM機で観察して評価した。その結果、ウェハ全面の露光パターンにおいて安定した解像性が得られており、サブフィールド間の重ね合わせ精度も許容範囲内に収まっていることが確認された。
【0036】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、ピン状のアース端子でレチクルとレチクルステージを導通させてレチクルをアースすることにより、レチクルを安定してアースでき、レチクルのチャージアップを防止できる。これにより、ビームドリフトやフォーカスのズレを防止でき、ウェハ全面で安定した解像性やサブフィールド間の重ね合わせ精度を向上できる。したがって、半導体デバイスの量産ラインの歩留まりを向上でき、デバイスを精度よく安価に製造できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る荷電粒子線露光装置のレチクルステージ近傍を拡大して示す図である。
【図2】本発明の実施の形態に係る荷電粒子線露光装置の光学系全体における結像関係及び制御系の概要を示す図である。
【符号の説明】
1 電子銃           2、3 コンデンサレンズ
4 矩形開口          5 ブランキング偏向器
7 ブランキング開口      9 レンズ
8 照明ビーム偏向器     10 レチクル(マスク)
11 レチクルステージ     13 静電チャック
12 位置検出器       15、19 投影レンズ
16 主偏向器        18 コントラスト開口
22 反射電子検出器     23 感応基板(ウェハ)
24 ウェハステージ     25 ステージ位置検出器
31 コントローラ
41 メンブレン        43 パターン開口
45 メインストラット     47 マイナーストラット
51 穴            53 アース端子
55 バネ           57 テスター

Claims (5)

  1. 感応基板上に転写すべきデバイスパターンを有するレチクルを荷電粒子線照明する照明光学系と、
    該レチクルを載置して移動・位置決めするレチクルステージと、
    前記レチクルを通過した荷電粒子線を前記感応基板上に投影結像する投影光学系と、
    前記感応基板を載置して移動・位置決めする感応基板ステージと、
    を具備する荷電粒子線露光装置であって、
    前記レチクルの表面に押し当てられる突起状のアース端子が前記レチクルステージ上に設けられていることを特徴とする荷電粒子線露光装置。
  2. 前記レチクルがシリコン基板からなり、前記アース端子が該シリコン基板の表面酸化膜を突き破って安定したアースを取ることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子線露光装置。
  3. 前記レチクルがアースされたことを確認する手段をさらに備えることを特徴とする請求項1又は2記載の荷電粒子線露光装置。
  4. 感応基板上に転写すべきデバイスパターンをシリコン基板からなるレチクル上に形成し、
    該レチクルを荷電粒子線照明し、
    該レチクルを通過した荷電粒子線を前記感応基板上に投影して前記パターンを転写する荷電粒子線露光方法であって、
    前記レチクルを載置して移動・位置決めするレチクルステージに突起状のアース端子を設け、
    該アース端子で前記レチクルのシリコン基板の表面酸化膜を突き破ることにより、該レチクルを安定してアースすることを特徴とする荷電粒子線露光方法。
  5. 前記レチクルがアースされたことを確認後、露光操作を行うことを特徴とする請求項4記載の荷電粒子線露光方法。
JP2002228335A 2002-08-06 2002-08-06 荷電粒子線露光装置及び荷電粒子線露光方法 Pending JP2004071786A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002228335A JP2004071786A (ja) 2002-08-06 2002-08-06 荷電粒子線露光装置及び荷電粒子線露光方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002228335A JP2004071786A (ja) 2002-08-06 2002-08-06 荷電粒子線露光装置及び荷電粒子線露光方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004071786A true JP2004071786A (ja) 2004-03-04

Family

ID=32015052

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002228335A Pending JP2004071786A (ja) 2002-08-06 2002-08-06 荷電粒子線露光装置及び荷電粒子線露光方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004071786A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006222378A (ja) * 2005-02-14 2006-08-24 Pentax Corp ステンシルマスク及びその製造方法
JP2018182289A (ja) * 2017-04-18 2018-11-15 日新イオン機器株式会社 静電チャック

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006222378A (ja) * 2005-02-14 2006-08-24 Pentax Corp ステンシルマスク及びその製造方法
JP2018182289A (ja) * 2017-04-18 2018-11-15 日新イオン機器株式会社 静電チャック
JP7011788B2 (ja) 2017-04-18 2022-01-27 日新イオン機器株式会社 静電チャック

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002075830A (ja) 荷電粒子線露光方法、レチクル及びデバイス製造方法
JP2005056923A (ja) マルチ荷電粒子線露光装置および方法ならびに該装置または方法を用いたデバイス製造方法
JPH10303125A (ja) パターン形成方法
JP2002329659A (ja) 荷電粒子線露光方法、荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法
JP2004273526A (ja) レチクル作製方法、レチクル及び荷電粒子線露光方法
US6437352B1 (en) Charged particle beam projection lithography with variable beam shaping
JP2004071786A (ja) 荷電粒子線露光装置及び荷電粒子線露光方法
US6680481B2 (en) Mark-detection methods and charged-particle-beam microlithography methods and apparatus comprising same
US7005659B2 (en) Charged particle beam exposure apparatus, charged particle beam exposure method, and device manufacturing method using the same apparatus
JP3843806B2 (ja) 電子線露光方法及びステンシルレチクル
JP2005032837A (ja) 荷電粒子描画方法及び該方法を用いたデバイス製造方法
US9557658B2 (en) Low energy electron beam lithography
US6337164B1 (en) Charged-particle-beam microlithography methods exhibiting improved pattern-feature accuracy, and device manufacturing methods comprising same
JP2001244165A (ja) 近接効果補正方法、レチクル及びデバイス製造方法
WO2021199528A1 (ja) 検査装置
JP2006210459A (ja) 荷電粒子線露光装置、荷電粒子線露光方法、およびデバイス製造方法
JP4494734B2 (ja) 荷電粒子線描画方法、荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法
US6756182B2 (en) Charged-particle-beam microlithography methods exhibiting reduced coulomb effects
JP2002075829A (ja) 荷電粒子線転写露光方法及びデバイス製造方法
JP2001237175A (ja) 近接効果補正方法、レチクル及びデバイス製造方法
JP2002076104A (ja) 静電吸着装置、その製造方法及び露光装置
JP2009146884A (ja) 電子銃及び電子線装置
JP2003347197A (ja) マスク検査方法、マスク作成方法およびマスク
JP2003068635A (ja) 電子線露光方法及びデバイス製造方法
TW202134793A (zh) 帶電粒子束微影系統

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20040315

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20040316